JPS63154504A - 板状ワ−ク搬送装置 - Google Patents

板状ワ−ク搬送装置

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Publication number
JPS63154504A
JPS63154504A JP29664086A JP29664086A JPS63154504A JP S63154504 A JPS63154504 A JP S63154504A JP 29664086 A JP29664086 A JP 29664086A JP 29664086 A JP29664086 A JP 29664086A JP S63154504 A JPS63154504 A JP S63154504A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
guide
shaped work
carrier
rolling member
Prior art date
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Pending
Application number
JP29664086A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiro Kato
和博 加藤
Hiroshi Suzuki
弘 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP29664086A priority Critical patent/JPS63154504A/ja
Publication of JPS63154504A publication Critical patent/JPS63154504A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、rc(集積回路)などの半導体デバイスを搭
載するキャリア、または半導体チップをマウン1〜する
ためのり一1〜フレームの連続形成物、あるいはプリン
1〜配線基板等の板状ワークを搬送経路に沿って案内す
る板状ワーク搬送装置に関し、特に搬送時の塵の発生を
防止することができる板状ワーク搬送装置に関する。
従来の技術 従来のこの種の板状ワーク搬送装置は、第3図及び第4
図に示すように、例えば半導体デバイス1を搭載したキ
ャリア2を板状ワークとし、この板状ワークの搬送経路
に沿って水平に設置されたシュート3を有し、このシュ
ート3の長手方向の両側部に設けられたガイド壁4,4
によって上記板状ワークの通過を案内するようになって
いた。
すなわち、第3図に示すように、ガイド壁4,4の内側
面の上部に凹段部5,5をそれぞれ形成し、この凹段部
5,5の」三方を覆うようにして上記ガイド壁4,4の
上端面にキャリア押え部i、i’6.6を取り付け、こ
のキャリア押え部材6,6と上記凹段部5,5との間に
できた直線状の凹溝を搬送用溝7,7としていた。そし
て、この搬送用’(7IJ7 r7にギヤリア2の両側
辺部を挿入し、第4図に示すように、上記ギヤリア2の
後端部を送り爪などで矢印Aのように送ることにより、
該キャリア2を」1記搬送用溝7,7内ですへらせ、板
状ワークとしてのキャリア2を矢印■3方向へ搬送して
いた。
発明が解決しようとする問題点 しかし、このような従来の板状ワーク搬送装置において
は、板状ワークとしての例えばキャリア2がシュート3
の搬送用溝7,7内をすべりながら通過するので、」1
記キャリア2の両側辺部とガイド壁4,4の凹段部5,
5の金属部材のすベリ接触により、金属粉が発生するも
のであった。そして、これが塵となって浮遊し、キャリ
ア2に搭載された半導体デバイス1に異物として付着す
ることがあった。ここで、上記シュート3は、例えばI
C洗浄機へICなどの半導体デバイス1をキャリア2に
より搬送したり、洗浄後のI Cなどを後工程へ搬送し
たりするが、特に洗浄し乾燥した後において、上記の金
属粉等の異物が半導体デバイス1に付着すると、その半
導体デバイス1の品質が低下することがあり、製品とし
ての歩留まりが低下するものであった。
そこで、本発明は、このような問題点を解決することが
できる板状ワーク搬送装置を提供することを目的とする
問題点を解決するための手段 」−記の問題点を解決する本発明の手段は、板状ワーク
の搬送経路に沿って水平に設置されたシュー1−を有し
、このシュー1〜の長手方向の両側部に設けられたガイ
ド壁によって板状ワークの通過を案内する板状ワーク搬
送装置において、−1−記ガイト壁の内側面にて板状ワ
ークの通過部位には、該板状ワークの下面を支える下ガ
イドころがり部材を設け、この下ガイドころがり部材に
対向する」三方位置にはその間に上記板状ワークを挟む
と共に下向きに押える上ガイドころがり部材を設け、か
つ上記板状ワークの両側辺部の通過位置には該板状ワー
クの横幅方向の案内をする横ガイ1くころがり部材を設
けた板状ワーク搬送装置によってなされる。
実施例 以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて詳細に説明
する。
第1図は本発明による板状ワーク搬送装置の実施例を示
す中央横断面図であり、第2図はその全体を示す平面図
である。この板状ワーク搬送装置は、例えばICなどの
半導体デバイスを搭載するキャリア、または半導体チッ
プをマウン1−するためのリードフレームの連続形成物
、あるいはプリント配線」、(板等の板状ワークを搬送
経路に沿って案内するもので、その板状ワークの搬送経
路に沿って水平に設置されたシュー1〜10を有してい
る。
このシュー1−1. Oは、例えば半導体デバイス1を
搭載したキャリア2などの板状ワークを通過させるもの
で、細長板状の基部材1]と、その長手方向の両側部に
存設されたガイド壁12.12とから成る。
上記ガイド壁12,1.2は、板状ワークとしてのキャ
リア2の通過を案内するもので、本発明においては、側
面視にて連続する凹凸形状に形成されている。すなわち
、凸部12aと凹部12bとが交互に形成されている。
そして、そのガイド壁1.2.12の内側面にて」1記
キャリア2の通過部位には、第1図に示すように、下ガ
イ1くころがり部材13が設けられている。この下ガイ
ドころがり部材13は、」1記キャリア2の下面をころ
がり接触で支えて搬送ラインを確保するもので、」二記
ガイド壁12の凸部12aの下部にて内方に突出するピ
ン14の周りにベアリングで回転自在に保持されたロー
ラから成る。
上記下ガイ1へころがり部材13に対向する」三方位置
には、」ニカイドころがり部材15が設けられている。
この上ガイドころがり部材15は、」二記Fカイトころ
がり部材]3との間にキャリア2をころがり接触で挟む
と共に該キャリア2を一ト向きに押えるもので、上記ガ
イド壁12の凸部1.2 aの上部にて内方に突出する
ピン16の周りにベアリンクで回転自在に保持されたロ
ーラから成り、かつ上記ピン]6はバネ等によりその全
体が下向きに付勢されている。従って、このピン16の
下向きの付勢力により、上記上ガイドころがり部材15
はキャリア2を下向きに押え、該キャリア2のはね」二
がりを防止する。
上記下ガイドころがり部材13と上ガイドころがり部材
15との間に挟まれて通過するキャリア2の両側辺部の
位置には横ガイドころがり部材17が設けられている。
この横ガイドころがり部材]7は、」1記キャリア2が
搬送の軸線に沿って真直ぐ進むようにその両側辺部のず
れをころがり接触で規制し、横幅方向の案内をするもの
で、第1図に示すように、]二二記イド壁12の凹部、
+−2bの」二面にて」二カに突出するピン1−8の周
りにベアリングで回転自在に保持されたローラから成る
なお、左右の横カイトころがり部材17.17とキャリ
ア2の横幅との間には、若干のすき間(例えは0.2〜
0.3nm程度)を設けておくのが望ましい。
そして、」二記トガイドころかり部月13及び」ニガイ
1くころがり部材15並びに横ガイドころがり部材17
の配置は、第2図に示すように、ガイド壁12に交互に
形成された凸部12aと凹部]−2bとに対応して、」
二下一対とされた下ガイドころがり部材13及び上ガイ
ドころがり部材15と、横ガイドころがり部材]−7と
が所定の間隔で交互に設けられている。
次に、このように構成された板状ワーク搬送装置を使用
して、板状ワークとしてのキャリア2を搬送する状態に
ついて説明する。まず、上記シュート10の一側端にお
いてキャリア2の前端側の両側辺部を、左右の横ガイド
ころがり部材17゜17の間にて下ガイドころがり部材
13と上ガイドころがり部材]5との間に挿入する。次
に、第2図に示すように、上記キャリア2の後端部を送
り爪などで矢印Aのように送り、該キャリア2をガイド
壁12,12の案内でシュー1〜10内を通過させる。
このとき、上記キャリア2は、その両側辺部の」二下面
を下ガイドころがり部材13及び」ニガイ1くころかり
部材15によって挟まれると共にローラによるころがり
接触で搬送され、かつその横幅方向のずれを左右の横ガ
イドころがり部材17.1.7のローラによるころがり
接触で規制しながら搬送される。これにより、キャリア
2は、上記シュート10内をその軸線に沿って真直ぐに
進み、矢印B方向へ搬送される。
なお、以上の説明においては、下ガイドころがり部材1
3及び上ガイドころがり部材15並びに横ガイドころが
り部材17は、それぞれローラとして述べたが、本発明
はこれに限らず、板状ワークをころがり接触によりその
通過を案内できるものなら他の手段であってもよい。
また、第1図及び第2図においては、板状ワークは、半
導体デバイス1を搭載したキャリア2として示したが、
これに限られず、例えば半導体チップをマウン1−する
ためのリードフレームの連続形成物、またはプリント配
線基板、あるいはその他の塵の発生をきらう細長い薄板
状のものであってもよい。
発明の効果 本発明は以上のように構成されたので、板状ワ−クを下
ガイドころがり部月13及び」ニカイ1くころがり部材
15並びに横ガイ1くころがり部材]7によって案内す
ることにより、上記板状ワークをころがり接触のみで搬
送経路に沿って搬送することができる。従って、従来の
ような板状ワークに対するすべり接触を無くすことがで
き、金属部材同士のすベリによる金属粉の発生を防止す
ることができる。このことから、搬送部における塵の発
生を防ぎ、例えば板状ワークとしてのキャリア2に搭載
された半導体デバイス1に異物が付着するのを防止する
ことができる。従って、塵の付着をきらう板状ワークに
ついてその品質が低下するのを防止できると共に、製品
としての歩留まりを向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による板状ワーク搬送装置の実施例を示
す中央横断面図、第2図はその全体を示す平面図、第3
図は従来の板状ワーク搬送装置を示す中央横断面図、第
4図はその全体を示す平面図である。 」・半導体デバイス、  2・ キャリア(板状ワーク
)、  10・シュート、  12・ ガイド壁、12
a・・・ガイド壁の凸部、  12b  ガイlへ壁の
凹部、  13 下カイトころがり部材、  15・・
」ニガイドころがり部イj、  47・・横ガイiくこ
ろがり部月。 出願人 日立電子エンジニアリンク株式会社第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 板状ワークの搬送経路に沿って水平に設置されたシュー
    トを有し、このシュートの長手方向の両側部に設けられ
    たガイド壁によって板状ワークの通過を案内する板状ワ
    ーク搬送装置において、上記ガイド壁の内側面にて板状
    ワークの通過部位には、該板状ワークの下面を支える下
    ガイドころがり部材を設け、この下ガイドころがり部材
    に対向する上方位置にはその間に上記板状ワークを挟む
    と共に下向きに押える上ガイドころがり部材を設け、か
    つ上記板状ワークの両側辺部の通過位置には該板状ワー
    クの横幅方向の案内をする横ガイドころがり部材を設け
    たことを特徴とする板状ワーク搬送装置。
JP29664086A 1986-12-15 1986-12-15 板状ワ−ク搬送装置 Pending JPS63154504A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29664086A JPS63154504A (ja) 1986-12-15 1986-12-15 板状ワ−ク搬送装置

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JP29664086A JPS63154504A (ja) 1986-12-15 1986-12-15 板状ワ−ク搬送装置

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Publication Number Publication Date
JPS63154504A true JPS63154504A (ja) 1988-06-27

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ID=17836152

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29664086A Pending JPS63154504A (ja) 1986-12-15 1986-12-15 板状ワ−ク搬送装置

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JP (1) JPS63154504A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996015862A1 (en) * 1994-11-18 1996-05-30 Advanced Chemill Systems Method and apparatus for cleaning thin substrates
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US5891509A (en) * 1995-03-13 1999-04-06 Fujitsu Limited Method of applying a coating material to a plate with conveying rollers clamping side edges of the plate

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