JPS63151629A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
- Publication number
- JPS63151629A JPS63151629A JP29828186A JP29828186A JPS63151629A JP S63151629 A JPS63151629 A JP S63151629A JP 29828186 A JP29828186 A JP 29828186A JP 29828186 A JP29828186 A JP 29828186A JP S63151629 A JPS63151629 A JP S63151629A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- glass
- optical element
- molding
- hafnium boride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 30
- LRTTZMZPZHBOPO-UHFFFAOYSA-N [B].[B].[Hf] Chemical compound [B].[B].[Hf] LRTTZMZPZHBOPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 argon ion Chemical class 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/10—Die base materials
- C03B2215/12—Ceramics or cermets, e.g. cemented WC, Al2O3 or TiC
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/22—Non-oxide ceramics
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分舒]
本発明は、レンズ、プリズム等のガラスよりなる光学素
子を、ガラス素材のプレス成形により製造するのに使用
される型に関するものである。
子を、ガラス素材のプレス成形により製造するのに使用
される型に関するものである。
[従来の技術]
研磨工程を必要としないでガラス素材のプレス成形によ
ってレンズを製造する技術は従来のレンズの製造におい
て必要とされた複雑な工程をなくし、簡単且つ安価にレ
ンズを製造することを可能とし、近来、レンズのみなら
ずプリズムその他のガラスよりなる光学素子の製造に使
用されるようになってきた。
ってレンズを製造する技術は従来のレンズの製造におい
て必要とされた複雑な工程をなくし、簡単且つ安価にレ
ンズを製造することを可能とし、近来、レンズのみなら
ずプリズムその他のガラスよりなる光学素子の製造に使
用されるようになってきた。
このようなガラスの光学素子のプレス成形に使用される
型材に要求される性質としては、硬さ、耐熱性、離型性
、鏡面加工性等に(量れている事が挙げられる。従来、
この種の型材として、金属、セラミックス、及びそれら
をコーティングした材料等、数多くの提案がされている
。いくつかの例を挙げるならば、特開昭49−5111
2には13crマルテンサイト鋼が、特開昭52−45
613にはSiC及びSi3N4が、特開昭60−24
6230には超硬合金に貴金属をコーティングした材料
が提案されている。
型材に要求される性質としては、硬さ、耐熱性、離型性
、鏡面加工性等に(量れている事が挙げられる。従来、
この種の型材として、金属、セラミックス、及びそれら
をコーティングした材料等、数多くの提案がされている
。いくつかの例を挙げるならば、特開昭49−5111
2には13crマルテンサイト鋼が、特開昭52−45
613にはSiC及びSi3N4が、特開昭60−24
6230には超硬合金に貴金属をコーティングした材料
が提案されている。
しかし、13crマルテンサイト鋼は酸化しやすく、さ
らに高温でFeが硝子中に拡散して硝子が着色する欠点
をもつ。又、SiCXSi3N4は一般的には酸化され
にくいとされているが、高温ではやはり酸化がおこり、
表面に5i02の膜が形成される為硝子と融着を起こし
、さらに高硬度の為型自体の加工性が極めて悪いという
欠点を持つ。又、貴金属をコーティングした材料は融着
は起こしにくいが、極めて軟かい為、傷がつきゃすく又
変形しやすい欠点をもつ。
らに高温でFeが硝子中に拡散して硝子が着色する欠点
をもつ。又、SiCXSi3N4は一般的には酸化され
にくいとされているが、高温ではやはり酸化がおこり、
表面に5i02の膜が形成される為硝子と融着を起こし
、さらに高硬度の為型自体の加工性が極めて悪いという
欠点を持つ。又、貴金属をコーティングした材料は融着
は起こしにくいが、極めて軟かい為、傷がつきゃすく又
変形しやすい欠点をもつ。
[発明の目的コ
本発明の目的は、ガラスの光学素子の成形に適した光学
素子成形用型を提供することで、特に、高温でガラスと
融着をおこさず、鏡面研磨が可能で、適当な硬さを有し
、酸化されにくい光学素子成形用型を提供することにあ
る。
素子成形用型を提供することで、特に、高温でガラスと
融着をおこさず、鏡面研磨が可能で、適当な硬さを有し
、酸化されにくい光学素子成形用型を提供することにあ
る。
本発明者は、上記目的をもって研究の結果、超硬合金あ
るいはこれと近似した熱膨張率をもつ母材を使用し、そ
のガラス素材に接触する成形面にホウ化ハフニウムの被
覆を設けた型によって所期の目的を達成できることを発
見した。
るいはこれと近似した熱膨張率をもつ母材を使用し、そ
のガラス素材に接触する成形面にホウ化ハフニウムの被
覆を設けた型によって所期の目的を達成できることを発
見した。
[発明の概要]
上述の如く、本発明の特徴とするところは、ガラスより
なる光学素子のプレス成形に使用される光学素子成形用
型において、ガラス素材に接触する成形面をホウ化ハフ
ニウム()l f B 2 )の薄膜層によりネ皮覆し
たことにある。
なる光学素子のプレス成形に使用される光学素子成形用
型において、ガラス素材に接触する成形面をホウ化ハフ
ニウム()l f B 2 )の薄膜層によりネ皮覆し
たことにある。
型の母材としては、超高合金を使用するのがよいが、母
材は超高合金に限定されるわけではなく、熱膨張率の近
似した他の材料を使用できる。
材は超高合金に限定されるわけではなく、熱膨張率の近
似した他の材料を使用できる。
[実施例コ
以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。
。
第1図および第2図は本発明に係る光学素子成形用型の
1つの実施態様を示すもので、図中、1は超硬合金より
なる型母材、2は該型母材のガラス素材に接触する成形
面に形成されたホウ化ハフニウムの薄膜層を示す。
1つの実施態様を示すもので、図中、1は超硬合金より
なる型母材、2は該型母材のガラス素材に接触する成形
面に形成されたホウ化ハフニウムの薄膜層を示す。
第1図は光学素子のプレス成形前の状態を示し、第2図
は光学素子成形後の状態を示す。第1図に示すように、
型の間に置かれたガラス素材3をプレス成形することに
よって、第2図に示すようにレンズ等の光学素子4が成
形される。
は光学素子成形後の状態を示す。第1図に示すように、
型の間に置かれたガラス素材3をプレス成形することに
よって、第2図に示すようにレンズ等の光学素子4が成
形される。
上記のように、型の母材1の上にホウ化ハフニウムの薄
膜層を形成する方法としては、CvD法或いはPVD法
が用いられる。第3図は、このようなPVjl法の中で
、一般にスパッタリング法といわれる方法によ)てホウ
化ハフニウムの被覆を形成する方法を示す。
膜層を形成する方法としては、CvD法或いはPVD法
が用いられる。第3図は、このようなPVjl法の中で
、一般にスパッタリング法といわれる方法によ)てホウ
化ハフニウムの被覆を形成する方法を示す。
第3図において、11は装置の外壁、12はは型の母材
、13はホウ化ハフニウム、14は排気口、15はガス
導入口を示す。ホウ化ハフニウム(HfB2)膜の生成
の時に、有機溶剤によって洗滌した型母材12を装置内
に設置する。蒸着前にアルゴンガスを導入し、アルゴン
イオンfrr掌により型母材の表面を清浄する。続いて
、ホウ化ハフニウムのターゲットにアルゴンイオンで衝
撃を与えて、型母材の表面にホウ化ハフニウムの膜を生
成する。このようにして、ガラス素材に接触する成形面
にホウ化ハフニウム(I(fB2)の被膜をもつ光学素
子成形用型が得られる。
、13はホウ化ハフニウム、14は排気口、15はガス
導入口を示す。ホウ化ハフニウム(HfB2)膜の生成
の時に、有機溶剤によって洗滌した型母材12を装置内
に設置する。蒸着前にアルゴンガスを導入し、アルゴン
イオンfrr掌により型母材の表面を清浄する。続いて
、ホウ化ハフニウムのターゲットにアルゴンイオンで衝
撃を与えて、型母材の表面にホウ化ハフニウムの膜を生
成する。このようにして、ガラス素材に接触する成形面
にホウ化ハフニウム(I(fB2)の被膜をもつ光学素
子成形用型が得られる。
次に、本発明による光学素子成形用型によってガラスの
レンズのプレス成形を行なった例について詳述する。下
記の表1は実験に供した型材の種類を示す。
レンズのプレス成形を行なった例について詳述する。下
記の表1は実験に供した型材の種類を示す。
表 1
No、 1〜3は比較材であり、No、 4〜5は本
発明で提案する材料である。母材として超硬合金 (W
C90!6+GolO豹及び焼結SiCを使用した。上
記の例に使用したレンズの成形装置を第4図に示す。
発明で提案する材料である。母材として超硬合金 (W
C90!6+GolO豹及び焼結SiCを使用した。上
記の例に使用したレンズの成形装置を第4図に示す。
図中、21は真空槽本体、22はそのフタ、23は光学
素子を成形する為の上型、24はその下型、25は上型
をおさえるための上型おさえ、26は胴型、27は型ホ
ルダ−,28はヒータ、29は下型をつき上げるつき上
げ棒、30は該つき上げ棒を作動するエアシリンダ、3
1は油回転ポンプ、32.33.34はバルブ、35は
不活性ガス流入パイプ、36はバルブ、37はリークパ
イプ、38はバルブ、39は温度センサ、40は・水冷
パイプ、41は真空槽を支持する台を示す。
素子を成形する為の上型、24はその下型、25は上型
をおさえるための上型おさえ、26は胴型、27は型ホ
ルダ−,28はヒータ、29は下型をつき上げるつき上
げ棒、30は該つき上げ棒を作動するエアシリンダ、3
1は油回転ポンプ、32.33.34はバルブ、35は
不活性ガス流入パイプ、36はバルブ、37はリークパ
イプ、38はバルブ、39は温度センサ、40は・水冷
パイプ、41は真空槽を支持する台を示す。
レンズを製作する工程を次に述べる。
まず、型の母材を所定の形状に加工し、レンズ成形面を
鏡面研磨する。次にイオンブレーティング法によりSi
Cの被膜を形成し、次にスパッタリング法により1(f
B、の被膜を構成する。膜厚は0.5〜1.5μとした
。次にフリント系光学ガラス(SF14)を所定の量に
調整し、球状にしたガラス素材を型のキャビティー内に
置き、これを装置内に設置する。
鏡面研磨する。次にイオンブレーティング法によりSi
Cの被膜を形成し、次にスパッタリング法により1(f
B、の被膜を構成する。膜厚は0.5〜1.5μとした
。次にフリント系光学ガラス(SF14)を所定の量に
調整し、球状にしたガラス素材を型のキャビティー内に
置き、これを装置内に設置する。
ガラス素材を投入した型を装置内に設置してから真空槽
21のフタ22を閉じ、水、冷パイプ40に水を流し、
ヒータ28に7流を通す。この時窒素ガス用バルブ36
及び38は閉じ、排気系バルブ32.33.34も閉じ
ている。尚油回転ポンプ31は常に回転している。
21のフタ22を閉じ、水、冷パイプ40に水を流し、
ヒータ28に7流を通す。この時窒素ガス用バルブ36
及び38は閉じ、排気系バルブ32.33.34も閉じ
ている。尚油回転ポンプ31は常に回転している。
バルブ32を開は排気をはじめ10−2Torr以下に
なったらバルブ32を閉じ、バルブ36を開いて窒素ガ
スをボンベより真空槽内に導入する。所定温度になった
らエアシリンダ30を作動させて10 kg/cm’の
圧力で5分間加圧する。
なったらバルブ32を閉じ、バルブ36を開いて窒素ガ
スをボンベより真空槽内に導入する。所定温度になった
らエアシリンダ30を作動させて10 kg/cm’の
圧力で5分間加圧する。
圧力を除去した後、冷却速度を一り℃/minで転位点
以下になるまで冷却し、その後は一20t/min以上
の速度で冷却を行ない、200℃以下に下がったらバル
ブ36を閉じ、リークバルブ33を開いて真空槽21内
に空気を導入する。それからフタ22を開は上型おさえ
をはずして成形物を取り出す。
以下になるまで冷却し、その後は一20t/min以上
の速度で冷却を行ない、200℃以下に下がったらバル
ブ36を閉じ、リークバルブ33を開いて真空槽21内
に空気を導入する。それからフタ22を開は上型おさえ
をはずして成形物を取り出す。
上記のようにして、フリント系光学硝子5F14(軟化
点5p−586℃、転位点Tg−485℃)を使用して
、第2図に示すレンズ4を成形した。この時の成形条件
すなわち時間一温度関係図を第5図に示す。
点5p−586℃、転位点Tg−485℃)を使用して
、第2図に示すレンズ4を成形した。この時の成形条件
すなわち時間一温度関係図を第5図に示す。
次に成形したレンズの表面粗す及び成形前後での型の表
面粗すを測定した。その結果を表2に示す。
面粗すを測定した。その結果を表2に示す。
次に融着をおこないNo、1.4.5について同じ型を
用いて100回の成形を行なった後表面粗すを測定した
。その結果を表3に示す。
用いて100回の成形を行なった後表面粗すを測定した
。その結果を表3に示す。
表 3
[発明の効果コ
上述の表2、表3の結果から明らかなように本発明によ
る型材は硝子との離型性にすぐれ、くり返し使用しても
従来の型材に比較して表面の劣化が極めて少ない。
る型材は硝子との離型性にすぐれ、くり返し使用しても
従来の型材に比較して表面の劣化が極めて少ない。
第1図および第2図は本発明に係る光学素子成形用型の
一実施態様を示す断面図で、第1図はプレス成形前の状
態、第2図はプレス成形後の状態を示す。第3図は型母
材の成形面にホウ化ハフニウム被膜を形成するのに使用
される装置の概略図、第4図は本発明に係る光学素子成
形用型を使用するレンズの成形装置を示す断面図、第5
図はレンズ成形の際の時間温度関係図である。 1・・・型の母材 2・・・被覆材3・・・ガ
ラス素材 4・・・成形されたレンズ11・・・
蒸着装置の外壁 12・・・型の母材13・・・ホウ
化ハフニウム 14・・・排気口15・・・ガス導入口
21・・・真空槽本体22・・・フタ
23・・・上型24・・・下型 2
5・・・上型おさえ26・・・胴型 27
・・・型ホルダ−28・・・ヒーター 29・
・・つき上げ棒30・・・エアシリンダ 31・・
・油回転ポンプ32.33.34・・・バルブ 3
5・・・流入パイプ36・・・バルブ 37
・・・流出パイプ38・・・バルブ 39・
・・fur度センサ40・・・水冷パイプ 41
・・・台第4図 手続補正書 昭和b/年特許願第2qε」7号 3、補正をする者 事件との関係 出 願 人 氏 名(名称) キヤ1′/淳禾へ彦→須4、代理
人 住 所 東京都千代田区丸の内2丁目6番2号丸の内
へ重洲ビル330悄 止 畳 本願明細書および図面中下記事項を補正いた(ますO 記 1、第5頁7行目に 「13はホウ化ハフニウム、」とある次に「13Aは電
極である。」を加入する。 λ第7頁12〜13行目に 「次にイオンづレーデインク法によ一す、SiCのt覆
を形成し、」とあるを削除する。 3、第10頁「表2」中「A4」および「扁5」り欄罠 r HfN 」とあるをそれぞれ 1” HfB2Jと訂正する。 4、図面中「第3図」を別紙の如く訂正する。 シ
一実施態様を示す断面図で、第1図はプレス成形前の状
態、第2図はプレス成形後の状態を示す。第3図は型母
材の成形面にホウ化ハフニウム被膜を形成するのに使用
される装置の概略図、第4図は本発明に係る光学素子成
形用型を使用するレンズの成形装置を示す断面図、第5
図はレンズ成形の際の時間温度関係図である。 1・・・型の母材 2・・・被覆材3・・・ガ
ラス素材 4・・・成形されたレンズ11・・・
蒸着装置の外壁 12・・・型の母材13・・・ホウ
化ハフニウム 14・・・排気口15・・・ガス導入口
21・・・真空槽本体22・・・フタ
23・・・上型24・・・下型 2
5・・・上型おさえ26・・・胴型 27
・・・型ホルダ−28・・・ヒーター 29・
・・つき上げ棒30・・・エアシリンダ 31・・
・油回転ポンプ32.33.34・・・バルブ 3
5・・・流入パイプ36・・・バルブ 37
・・・流出パイプ38・・・バルブ 39・
・・fur度センサ40・・・水冷パイプ 41
・・・台第4図 手続補正書 昭和b/年特許願第2qε」7号 3、補正をする者 事件との関係 出 願 人 氏 名(名称) キヤ1′/淳禾へ彦→須4、代理
人 住 所 東京都千代田区丸の内2丁目6番2号丸の内
へ重洲ビル330悄 止 畳 本願明細書および図面中下記事項を補正いた(ますO 記 1、第5頁7行目に 「13はホウ化ハフニウム、」とある次に「13Aは電
極である。」を加入する。 λ第7頁12〜13行目に 「次にイオンづレーデインク法によ一す、SiCのt覆
を形成し、」とあるを削除する。 3、第10頁「表2」中「A4」および「扁5」り欄罠 r HfN 」とあるをそれぞれ 1” HfB2Jと訂正する。 4、図面中「第3図」を別紙の如く訂正する。 シ
Claims (1)
- ガラスよりなる光学素子のプレス成形に使用される型に
おいて、ガラス素材に接触する成形面をホウ化ハフニウ
ム(HfB_2)により被覆したことを特徴とする光学
素子成形用型。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29828186A JPS63151629A (ja) | 1986-12-15 | 1986-12-15 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29828186A JPS63151629A (ja) | 1986-12-15 | 1986-12-15 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63151629A true JPS63151629A (ja) | 1988-06-24 |
Family
ID=17857600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29828186A Pending JPS63151629A (ja) | 1986-12-15 | 1986-12-15 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63151629A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63277530A (ja) * | 1987-05-07 | 1988-11-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学ガラス素子の製造方法 |
WO1991004231A1 (en) * | 1989-09-20 | 1991-04-04 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Ceramic mold for molding glass member |
-
1986
- 1986-12-15 JP JP29828186A patent/JPS63151629A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63277530A (ja) * | 1987-05-07 | 1988-11-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学ガラス素子の製造方法 |
WO1991004231A1 (en) * | 1989-09-20 | 1991-04-04 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Ceramic mold for molding glass member |
US5306339A (en) * | 1989-09-20 | 1994-04-26 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Ceramic die for molding glass member |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS63151629A (ja) | 光学素子成形用型 | |
JPH0353260B2 (ja) | ||
JPS63151628A (ja) | 光学素子成形用型 | |
JPH04154634A (ja) | 光学素子成形用型及びその製造方法 | |
JPS6221733B2 (ja) | ||
JP3149149B2 (ja) | 光学素子成形用型 | |
JPS63151630A (ja) | 光学素子成形用型 | |
JP3011574B2 (ja) | 光学素子の成形用型 | |
JPS63151631A (ja) | 光学素子成形用型 | |
JP2785888B2 (ja) | 光学素子成形用型 | |
JPH0283221A (ja) | 光学素子成形用型 | |
JP3625295B2 (ja) | 光学素子成形用型およびその製造法 | |
JP3847805B2 (ja) | 光学素子成形用型 | |
JP2785903B2 (ja) | 光学素子成形用型 | |
JPH0477322A (ja) | 光学素子製造用ガラスブランク | |
JP2505897B2 (ja) | 光学素子成形用型 | |
JPH04154633A (ja) | 光学素子成形用型及びその製造方法 | |
JPS63288924A (ja) | 光学素子成形用型部材 | |
JPH02243523A (ja) | 光学素子成形用型 | |
JPS59123631A (ja) | 光学素子成形用型の作成方法 | |
JPH0372018B2 (ja) | ||
JPH09315826A (ja) | 光学素子用成形型 | |
JPH0717727A (ja) | 光学素子成形用型 | |
JPH0729784B2 (ja) | 光学素子成形用型 | |
JPH03153534A (ja) | 光学素子成形用型 |