JPS63151619A - 導電性を有する透明粉体の処理方法 - Google Patents
導電性を有する透明粉体の処理方法Info
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- JPS63151619A JPS63151619A JP61297006A JP29700686A JPS63151619A JP S63151619 A JPS63151619 A JP S63151619A JP 61297006 A JP61297006 A JP 61297006A JP 29700686 A JP29700686 A JP 29700686A JP S63151619 A JPS63151619 A JP S63151619A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、可視光の透過率が高く、かつ、導電性を具備
する粉体の処理方法に関するものであり、例えば、透明
性を有するプラスチックフィルム上における透明導電性
層形成用のインキの配合成分として利用される導電性を
有する透明粉体を得る方法を提供するものである。
する粉体の処理方法に関するものであり、例えば、透明
性を有するプラスチックフィルム上における透明導電性
層形成用のインキの配合成分として利用される導電性を
有する透明粉体を得る方法を提供するものである。
例えば、液晶用の透明電極、EL面発光用の透明電極、
タッチパネルやメンブレンスイッチ等の照光型スイッチ
等に加工される透明導電性フィルムは、低抵抗、高透明
度の透明導電性フィルムが得られるという理由で、透明
性を有するプラスチックフィルム上に金属及び金属酸化
物による透明導電性層が蒸着、スパッタ法にて形成され
ている所謂透明導電性フィルムが多用されている。
タッチパネルやメンブレンスイッチ等の照光型スイッチ
等に加工される透明導電性フィルムは、低抵抗、高透明
度の透明導電性フィルムが得られるという理由で、透明
性を有するプラスチックフィルム上に金属及び金属酸化
物による透明導電性層が蒸着、スパッタ法にて形成され
ている所謂透明導電性フィルムが多用されている。
ところで、前記透明導電性フィルムは、透明導電性層が
蒸着、スパッタ法にて形成されているものであるため、
製造価格が高いばかりでなく、蒸着、スパッタ法にて得
られた透明導電性層の表面堅牢性が低く、加工時の傷の
発生による断線や透過率の低下等が生じ易く、更にはパ
ターンニングに際してはエツチング等の複雑な工程が必
要である等の欠点を有している。
蒸着、スパッタ法にて形成されているものであるため、
製造価格が高いばかりでなく、蒸着、スパッタ法にて得
られた透明導電性層の表面堅牢性が低く、加工時の傷の
発生による断線や透過率の低下等が生じ易く、更にはパ
ターンニングに際してはエツチング等の複雑な工程が必
要である等の欠点を有している。
このため、透明なプラスチックフィルム上ニ、透明皮膜
形成能を有するバインダー用樹脂と導電性を有する透明
粉体とを含有する透明導電性層形成用のインキによる透
明導電性層を形成することからなる透明導電性フィルム
の製造が種々試みられているが、こ\で使用される導電
性を有する透明粉体たる金属酸化物のインキ中における
分散安定性が不十分なために、得られる透明導電性層は
プラスチックフィルムに対して密着不良が生じ易いばか
りでなく、抵抗値が高くなり易く、また透明度が低下す
る等の欠点が現出される結果、未だ透明導電性層形成用
のインキを利用した透明導電性フィルムは得られていな
いのが実情である。
形成能を有するバインダー用樹脂と導電性を有する透明
粉体とを含有する透明導電性層形成用のインキによる透
明導電性層を形成することからなる透明導電性フィルム
の製造が種々試みられているが、こ\で使用される導電
性を有する透明粉体たる金属酸化物のインキ中における
分散安定性が不十分なために、得られる透明導電性層は
プラスチックフィルムに対して密着不良が生じ易いばか
りでなく、抵抗値が高くなり易く、また透明度が低下す
る等の欠点が現出される結果、未だ透明導電性層形成用
のインキを利用した透明導電性フィルムは得られていな
いのが実情である。
これに対して本発明においては、例えば透明皮膜形成能
を有するバインダー用樹脂と共に透明導電性層形成用の
インキ配合成分として使用された場合に、該インキ中の
無機質粉体に要求されるに好適な分散性能を発揮する導
電性透明粉体となる導電性を有する透明粉体の処理方法
を提供するものであり、プラスチックフィルムに対して
の密着性能が良く、低抵抗で、しかも高透明度を有する
透明導電性層形成能を呈するインキ配合成分となる導電
性を有する透明粉体が得られる方法を提供し得たもので
ある。
を有するバインダー用樹脂と共に透明導電性層形成用の
インキ配合成分として使用された場合に、該インキ中の
無機質粉体に要求されるに好適な分散性能を発揮する導
電性透明粉体となる導電性を有する透明粉体の処理方法
を提供するものであり、プラスチックフィルムに対して
の密着性能が良く、低抵抗で、しかも高透明度を有する
透明導電性層形成能を呈するインキ配合成分となる導電
性を有する透明粉体が得られる方法を提供し得たもので
ある。
本発明の導電性を有する透明粉体の処理方法は、分散剤
を含有する溶剤液からなる処理液中にて、導電性を有す
る透明な金属酸化物の粉体、一般的には、平均粒径0.
01〜2.0μ、体積固有抵抗1×10°〜I X 1
0−3Ωmを有する透明な金属酸化物の粉体を処理する
ものである。
を含有する溶剤液からなる処理液中にて、導電性を有す
る透明な金属酸化物の粉体、一般的には、平均粒径0.
01〜2.0μ、体積固有抵抗1×10°〜I X 1
0−3Ωmを有する透明な金属酸化物の粉体を処理する
ものである。
前記構成からなる本発明の導電性を有する透明粉体の処
理方法において、処理液中にて処理される金属酸化物の
粉体ば、例えば、酸化イ/ジウム、1〜20重量%の三
酸化アンチモ/を含有している酸化錫、1〜20重量%
の酸化錫を含有している酸化インジウム等の粉体で、平
均粒径が2μ以下、好ましくは1μ以下で、体積固有抵
抗がI X I 00Ωα以下、好ましくはI X 1
0−2Ω口以下のものが使用される。前記金属酸化物の
粉体は一般的シては、金属の塩から合成される湿式法や
真空ガス蒸着法に代表される乾式超微粉製造法等によっ
て得られるが、前記以外の製造法によって得られたもの
でも差し支えないことは勿論である。
理方法において、処理液中にて処理される金属酸化物の
粉体ば、例えば、酸化イ/ジウム、1〜20重量%の三
酸化アンチモ/を含有している酸化錫、1〜20重量%
の酸化錫を含有している酸化インジウム等の粉体で、平
均粒径が2μ以下、好ましくは1μ以下で、体積固有抵
抗がI X I 00Ωα以下、好ましくはI X 1
0−2Ω口以下のものが使用される。前記金属酸化物の
粉体は一般的シては、金属の塩から合成される湿式法や
真空ガス蒸着法に代表される乾式超微粉製造法等によっ
て得られるが、前記以外の製造法によって得られたもの
でも差し支えないことは勿論である。
前記金属酸化物の粉体を処理するだめの処理液中の分散
剤は、処理される透明な粉体が酸化物であることから、
アニオン系の界面活性剤。
剤は、処理される透明な粉体が酸化物であることから、
アニオン系の界面活性剤。
脂肪族カルボン酸、チタネート系カップリング剤等であ
り、例えば、式RO(CH2CH20)nS03M〔式
中のRは水素または炭素数8〜22のアルキルもしくは
アルキルフェニル基ヲ、n ハ8〜20の整数を、Mは
Na、 K、またはNH4をそれぞれ表わす〕で表示さ
れるアルキル(アルキルフェニル)エーテル硫酸エステ
ル塩ヤ式R1○(CH2CH20)弓(○H)OR2[
:式中のR1及びR2は水素または炭素数8〜22のア
ルキルもしくはアルキルフェニル基を、nは8〜20の
整数をそれぞれ表わす〕で表示されるリン酸エステル等
のアニオン系の界面活性剤、式RCOOH[式中のRは
炭素数8〜22のアルキル基を表わす〕で表示される脂
肪族カルボン酸、更には、式R’O−Ti −f 0R
2)3(式中のR1はイソプロピル基。
り、例えば、式RO(CH2CH20)nS03M〔式
中のRは水素または炭素数8〜22のアルキルもしくは
アルキルフェニル基ヲ、n ハ8〜20の整数を、Mは
Na、 K、またはNH4をそれぞれ表わす〕で表示さ
れるアルキル(アルキルフェニル)エーテル硫酸エステ
ル塩ヤ式R1○(CH2CH20)弓(○H)OR2[
:式中のR1及びR2は水素または炭素数8〜22のア
ルキルもしくはアルキルフェニル基を、nは8〜20の
整数をそれぞれ表わす〕で表示されるリン酸エステル等
のアニオン系の界面活性剤、式RCOOH[式中のRは
炭素数8〜22のアルキル基を表わす〕で表示される脂
肪族カルボン酸、更には、式R’O−Ti −f 0R
2)3(式中のR1はイソプロピル基。
テトラオクチル基、またはオキシアセテート基を、Rは
ステアリル基、ドデシルベンゼンスルホニル基、または
ジオクチルパイル基をそれぞれ表わす〕で表示されるチ
タネート系カップリング剤等の1種または2種以上が使
用される。
ステアリル基、ドデシルベンゼンスルホニル基、または
ジオクチルパイル基をそれぞれ表わす〕で表示されるチ
タネート系カップリング剤等の1種または2種以上が使
用される。
前記分散剤を含有する溶剤液における溶剤は、一般の汎
用性溶剤が使用されるが、極性基を有する溶剤、例えば
、アルコール系、ケトン系。
用性溶剤が使用されるが、極性基を有する溶剤、例えば
、アルコール系、ケトン系。
アミド系、エステル系等の溶剤が使用される場合には、
処理液中における導電性を有する透明粉体の分散安定性
は良好であるが、分散剤であるアニオン系界面活性剤や
脂肪族カルざン酸の前記透明粉体表面への吸着が不十分
であったり、またチタネート系カップリング剤の前記透
明粉体表面への反応が不十分である等のため、処理後の
透明粉体を利用して得られる透明導電性層形成用のイン
キにおいて、該粉体のバインダー用樹脂に対する分散性
能が不十分となることかう、例えば、キ/レン、トルエ
ン、ベンゼン等の芳香族系炭化水素、/クロヘキサンな
どの脂環式炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の脂肪族炭化水素等の溶剤が使用される。
処理液中における導電性を有する透明粉体の分散安定性
は良好であるが、分散剤であるアニオン系界面活性剤や
脂肪族カルざン酸の前記透明粉体表面への吸着が不十分
であったり、またチタネート系カップリング剤の前記透
明粉体表面への反応が不十分である等のため、処理後の
透明粉体を利用して得られる透明導電性層形成用のイン
キにおいて、該粉体のバインダー用樹脂に対する分散性
能が不十分となることかう、例えば、キ/レン、トルエ
ン、ベンゼン等の芳香族系炭化水素、/クロヘキサンな
どの脂環式炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の脂肪族炭化水素等の溶剤が使用される。
分散剤を含有する溶剤液からなる処理液は、例えば、処
理される透明粉体に対して0.1〜lO重量係、好まし
くは0.5〜5重量%の処理剤と、同じく前記透明粉体
に対して1〜10倍重量の溶剤とで構成されるものが使
用されるが、処理液中における透明粉体の分散を補助す
る作用を果す粒径1fl程度のガラスピーズが透明粉体
と溶剤との合計体積と略同体積量添加されている処理液
を利用し、サンドミル等の一般の分散処理機による分散
剤処理を行なうのが好ましい。
理される透明粉体に対して0.1〜lO重量係、好まし
くは0.5〜5重量%の処理剤と、同じく前記透明粉体
に対して1〜10倍重量の溶剤とで構成されるものが使
用されるが、処理液中における透明粉体の分散を補助す
る作用を果す粒径1fl程度のガラスピーズが透明粉体
と溶剤との合計体積と略同体積量添加されている処理液
を利用し、サンドミル等の一般の分散処理機による分散
剤処理を行なうのが好ましい。
尚、前記導電性を有する透明粉体を処理するための処理
液中における分散剤の量が僅少すぎる場合には、得られ
る粉体を利用して透明導電性層形成用のインキを作製す
る際の透明粉体のバインダー用樹脂に対する分散性能が
不十分となるだけでなく、透明粉体同士の凝集等が生じ
易く、前記インキの経時安定性が悪くなるため、得られ
る透明導電性層の抵抗値が高くなり易く、また透明性も
悪くなる等の弊害を現出するし、他方、前記処理液中に
おける分散剤の量が過量すぎる場合には、前述のインキ
中における沈降速度が遅くかつ沈降体積も小さくなるた
め、分散安定性の高いものとなるが、得られる透明粉体
が処理剤にて完全に被覆されたものとなっているため、
形成される透明導電性層における導電性を有する前記透
明粉体同士の接触が少なくなってしまい、低抵抗の透明
導電性層の形成が不可能となる。従って、前記透明粉体
を処理するための処理液中における分散剤の量は、その
適切範囲内に管理されていることが必要である。
液中における分散剤の量が僅少すぎる場合には、得られ
る粉体を利用して透明導電性層形成用のインキを作製す
る際の透明粉体のバインダー用樹脂に対する分散性能が
不十分となるだけでなく、透明粉体同士の凝集等が生じ
易く、前記インキの経時安定性が悪くなるため、得られ
る透明導電性層の抵抗値が高くなり易く、また透明性も
悪くなる等の弊害を現出するし、他方、前記処理液中に
おける分散剤の量が過量すぎる場合には、前述のインキ
中における沈降速度が遅くかつ沈降体積も小さくなるた
め、分散安定性の高いものとなるが、得られる透明粉体
が処理剤にて完全に被覆されたものとなっているため、
形成される透明導電性層における導電性を有する前記透
明粉体同士の接触が少なくなってしまい、低抵抗の透明
導電性層の形成が不可能となる。従って、前記透明粉体
を処理するための処理液中における分散剤の量は、その
適切範囲内に管理されていることが必要である。
前記処理液における浸漬処理後の導電性を有する透明粉
体は、処理液中からガラスピーズが除去された後に溶剤
がエバポレーター等で除去され、必要に応じて真空オー
ブン等の乾燥工程に付されるのが一般的である。
体は、処理液中からガラスピーズが除去された後に溶剤
がエバポレーター等で除去され、必要に応じて真空オー
ブン等の乾燥工程に付されるのが一般的である。
本発明の導電性を有する透明粉体の処理方法は、透明で
且つ導電性を有する金属酸化物の粉体を分散剤を含有す
る溶剤液からなる処理液中で処理することからなるもの
で、処理された導電性を有する透明粉体を透明皮膜形成
能を有するバインダー用樹脂と共にインキ配合成分とし
て使用した場合に、透明導電性層形成用のインキが得ら
れるものであり、該インキによって得られる透明導電性
層がプラスチックフィルム上で形成された場合には、該
プラスチックフィルムに対しての密着度が高く、低抵抗
で、しかも透明度の高い透明導電性層が得られるもので
ある。
且つ導電性を有する金属酸化物の粉体を分散剤を含有す
る溶剤液からなる処理液中で処理することからなるもの
で、処理された導電性を有する透明粉体を透明皮膜形成
能を有するバインダー用樹脂と共にインキ配合成分とし
て使用した場合に、透明導電性層形成用のインキが得ら
れるものであり、該インキによって得られる透明導電性
層がプラスチックフィルム上で形成された場合には、該
プラスチックフィルムに対しての密着度が高く、低抵抗
で、しかも透明度の高い透明導電性層が得られるもので
ある。
尚、前記処理後の導電性を有゛する透明粉体をインキ配
合成分として使用する透明導電性層形成用のインキ、及
び該インキによる透明導電性層形成工程について以下に
説明する。
合成分として使用する透明導電性層形成用のインキ、及
び該インキによる透明導電性層形成工程について以下に
説明する。
先ず、前記透明導電性層形成用のインキにおいて、前記
処理後の透明粉体と共に使用される透明皮膜形成能を有
するバインダー用樹脂は、前記透明粉体の分散性能が向
上しているため広範囲の樹脂の使用が可能であり、例え
ば、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酢ビ共重合物、ブチラール
樹脂、ポリスチロール樹脂、(メタ)アクリル、樹脂、
飽和ポリエステル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂等の
熱可塑性樹脂及びそれらのスルホン酸又はカルボン酸変
性樹脂(変性量0.1〜5 mole % )の分子量
3000〜5000αのものが、1種類もしくは2種類
以上で用いられる。
処理後の透明粉体と共に使用される透明皮膜形成能を有
するバインダー用樹脂は、前記透明粉体の分散性能が向
上しているため広範囲の樹脂の使用が可能であり、例え
ば、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酢ビ共重合物、ブチラール
樹脂、ポリスチロール樹脂、(メタ)アクリル、樹脂、
飽和ポリエステル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂等の
熱可塑性樹脂及びそれらのスルホン酸又はカルボン酸変
性樹脂(変性量0.1〜5 mole % )の分子量
3000〜5000αのものが、1種類もしくは2種類
以上で用いられる。
特に、前記透明導電性層形成用のインキが適用されるプ
ラスチックフィルムがポリエステルフィルムの場合には
、バインダー用樹脂として、飽和ポリエステル樹脂及び
そのスルホン酸又はカルボン酸変性樹脂が好ましく使用
される。
ラスチックフィルムがポリエステルフィルムの場合には
、バインダー用樹脂として、飽和ポリエステル樹脂及び
そのスルホン酸又はカルボン酸変性樹脂が好ましく使用
される。
また、前記透明導電性層形成用のインキに使用される溶
剤は、一般的には、沸点が100°C以上の蒸発速度の
遅いスクリーン印刷用インキに使用される溶剤、例えば
、シクロヘキサノ/。
剤は、一般的には、沸点が100°C以上の蒸発速度の
遅いスクリーン印刷用インキに使用される溶剤、例えば
、シクロヘキサノ/。
イソホロン、MIBK等のケト/系溶剤、エチルセルソ
ルフ、ブチルセルソルブ、エチルカルピトール、ブチル
カルピトール等グリコール系溶剤及びそのアセテート誘
導体、トルエン、キシレン等芳香族炭化水素系溶剤等が
使用できる。
ルフ、ブチルセルソルブ、エチルカルピトール、ブチル
カルピトール等グリコール系溶剤及びそのアセテート誘
導体、トルエン、キシレン等芳香族炭化水素系溶剤等が
使用できる。
前記透明導電性層形成用のインキは、前述の分散剤を含
有する溶剤液からなる処理液による処理を受けた透明粉
体とバインダー用樹脂との量比が、透明粉体60〜90
重量係バイ食上−用樹脂40〜10重量%の範囲内にな
るように調製′されたインキ各配合成分が、三本ロール
ミル等で分散、混練され、更に溶剤で稀釈されて粘度5
00〜4000 cps程度のインキとして得られるも
のであるが、バインダー用樹脂は、該バインダー用樹脂
が溶剤に予め溶解されている20〜50重量係程度食上
脂溶液として使用するのが好ましい。尚、前記透明導電
性層形成用のインキの粘度が500 cps未溝になる
と、透明導電性層形成の際の印刷時にニジミ、ダレ等が
発生するため、適性な透明導電性層の形成が困難となる
し、また、粘度が4000 cpsを超える場合には、
前記印刷時に泡の発生があり、平滑表面を有する透明導
電性層が得られなくなシ、いずれにしても得られる透明
導電性層の抵抗値が高くなったり、また透明性が悪くな
る等の弊害が発生する。
有する溶剤液からなる処理液による処理を受けた透明粉
体とバインダー用樹脂との量比が、透明粉体60〜90
重量係バイ食上−用樹脂40〜10重量%の範囲内にな
るように調製′されたインキ各配合成分が、三本ロール
ミル等で分散、混練され、更に溶剤で稀釈されて粘度5
00〜4000 cps程度のインキとして得られるも
のであるが、バインダー用樹脂は、該バインダー用樹脂
が溶剤に予め溶解されている20〜50重量係程度食上
脂溶液として使用するのが好ましい。尚、前記透明導電
性層形成用のインキの粘度が500 cps未溝になる
と、透明導電性層形成の際の印刷時にニジミ、ダレ等が
発生するため、適性な透明導電性層の形成が困難となる
し、また、粘度が4000 cpsを超える場合には、
前記印刷時に泡の発生があり、平滑表面を有する透明導
電性層が得られなくなシ、いずれにしても得られる透明
導電性層の抵抗値が高くなったり、また透明性が悪くな
る等の弊害が発生する。
前記得られた透明導電性層形成用のインキは、該インキ
中における透明粉体の分散安定性が良好であシ、通常室
温で1か月以上の経時安定性を存しているものである。
中における透明粉体の分散安定性が良好であシ、通常室
温で1か月以上の経時安定性を存しているものである。
前記透明導電性層形成用のインキを使用してプラスチッ
クフィルム上に透明導電性層を形成する際には、一般の
印刷、コーティング法が利用し得るが、使用されるイン
キ中における粉体の含有量が多量である等の理由により
、スクリーン印刷方式が利用されることが好ましい。こ
の際のスクリーン印刷版は、ポリエステル、ナイロン、
ステンレスメツシュがそれぞれ使用でき、20013/
1nch〜400−13/ 1nch 、 ゾル厚
5〜40μのものが使用されるが、印刷条件によっては
この限りではない。一般の印刷、コーティング法によっ
てプラスチックフィルム上に適用されたインキは、50
〜150℃のオーブン中にて乾燥され、一般的には、1
03Ω/口以下の低抵抗値を有し、かつ70%以上の可
視光透過率を有する高透明性の透明導電性層となるもの
で、プラスチックフィルムに対する密着性が高く、且つ
耐スクツラツチ性に優れた作用を奏する透明導電性層が
得られるものである。
クフィルム上に透明導電性層を形成する際には、一般の
印刷、コーティング法が利用し得るが、使用されるイン
キ中における粉体の含有量が多量である等の理由により
、スクリーン印刷方式が利用されることが好ましい。こ
の際のスクリーン印刷版は、ポリエステル、ナイロン、
ステンレスメツシュがそれぞれ使用でき、20013/
1nch〜400−13/ 1nch 、 ゾル厚
5〜40μのものが使用されるが、印刷条件によっては
この限りではない。一般の印刷、コーティング法によっ
てプラスチックフィルム上に適用されたインキは、50
〜150℃のオーブン中にて乾燥され、一般的には、1
03Ω/口以下の低抵抗値を有し、かつ70%以上の可
視光透過率を有する高透明性の透明導電性層となるもの
で、プラスチックフィルムに対する密着性が高く、且つ
耐スクツラツチ性に優れた作用を奏する透明導電性層が
得られるものである。
以下、本発明の導電性を有する透明粉体の処理方法の具
体的な構成を実施例に基いて説明し、併せ、処理された
前記導電性を有する透明粉体の使用方法を、該透明粉体
を配合成分とする透明導電性層形成用のインキによって
説明する。
体的な構成を実施例に基いて説明し、併せ、処理された
前記導電性を有する透明粉体の使用方法を、該透明粉体
を配合成分とする透明導電性層形成用のインキによって
説明する。
実施例1
添加物としての酸化錫を含有している酸化インジウム粉
体〔触媒化成■製:TL−130)501と、リン酸エ
ステル系界面活性剤〔第一工業薬品■製ニブライサーク
u)1.5y−ト、トルエン150fPと、ガラスピー
ズ(黒1)20Of%トヲサンドミルペセルに入れ、サ
ンドミル忙て200 Orpm 、 2時間の分散処理
を行なった。
体〔触媒化成■製:TL−130)501と、リン酸エ
ステル系界面活性剤〔第一工業薬品■製ニブライサーク
u)1.5y−ト、トルエン150fPと、ガラスピー
ズ(黒1)20Of%トヲサンドミルペセルに入れ、サ
ンドミル忙て200 Orpm 、 2時間の分散処理
を行なった。
次いで、ガラスピーズを除去し、更にエバポレーターに
より溶剤を除去した後、真空オーブン中にて100’C
,2時間の乾燥を行ない、目的物質である分散剤処理済
みの導電性を有する透明粉体〔1〕を得た。
より溶剤を除去した後、真空オーブン中にて100’C
,2時間の乾燥を行ない、目的物質である分散剤処理済
みの導電性を有する透明粉体〔1〕を得た。
前記得られた透明粉体Ci〕10 Li−と、バインダ
ー用樹脂たるスルホン酸変性飽和ポリエステル系樹脂の
40重量%溶液〔ポリエスタ−TP−249二日本合成
化学■製:溶剤;ブチルセルソルブアセテート/アノン
(重量比)=1〕6.25 Pとを三本ロールにて混練
した後、更にプチルセルンルブアセテート7CCを添加
し、粘度1000 cps (B型粘度計A4 : 2
Orpm:1のスクリーンインキ〔A〕を得た。
ー用樹脂たるスルホン酸変性飽和ポリエステル系樹脂の
40重量%溶液〔ポリエスタ−TP−249二日本合成
化学■製:溶剤;ブチルセルソルブアセテート/アノン
(重量比)=1〕6.25 Pとを三本ロールにて混練
した後、更にプチルセルンルブアセテート7CCを添加
し、粘度1000 cps (B型粘度計A4 : 2
Orpm:1のスクリーンインキ〔A〕を得た。
前記得られたスクリーンインキ〔A〕によるスクリーン
印刷〔テトロンメツシュ300.g、ゾル厚25μ〕を
厚さ100μのポリエステルフィルムに施した後、風乾
し、更に100°C130分間の乾燥に付して厚さ4μ
の透明導電性層を有する積層フィルム(1)を得た。
印刷〔テトロンメツシュ300.g、ゾル厚25μ〕を
厚さ100μのポリエステルフィルムに施した後、風乾
し、更に100°C130分間の乾燥に付して厚さ4μ
の透明導電性層を有する積層フィルム(1)を得た。
得られた積層フィルム(1)の表面抵抗は800Ω/口
であシ、可視光透過率は72%であった。
であシ、可視光透過率は72%であった。
また、前記透明粉体[:i) 109−と、バインダー
用樹脂たる飽和ポリエステル系樹脂の40重量%溶液〔
バイロン200:東洋紡績(樽製:溶剤;ブチルセルソ
ルブアセテート/アノン(重量比) = 1 ) 6.
25 ?とを三本ロールにて混練した後、以後、前記ス
クリーンインキ〔A〕を得るのと同じ工程、及び前記積
層フィルム〔I〕を得るのと同じ工程を順次施し、厚さ
4μの透明導電層を有する積層フィルム〔■〕を得た。
用樹脂たる飽和ポリエステル系樹脂の40重量%溶液〔
バイロン200:東洋紡績(樽製:溶剤;ブチルセルソ
ルブアセテート/アノン(重量比) = 1 ) 6.
25 ?とを三本ロールにて混練した後、以後、前記ス
クリーンインキ〔A〕を得るのと同じ工程、及び前記積
層フィルム〔I〕を得るのと同じ工程を順次施し、厚さ
4μの透明導電層を有する積層フィルム〔■〕を得た。
得られた積層フィルム[11〕の表面抵抗は2.1にΩ
/口、可視光透過率は70%であった。
/口、可視光透過率は70%であった。
実施例2
酸化錫−三酸化アンチモン粉体〔三菱金属■、M:T−
1〕507と、アルキル硫酸塩系界面活性剤〔第一工業
薬品■製:ハイテノールNF13 ) 1.5 %と、
オクタン150g−と、がラスヒ−ス(A 1 ) 2
00 Pとをサンドミルペセルに入れ、サンドミルにて
200 Orpm 、 2時間の分散処理を行なった。
1〕507と、アルキル硫酸塩系界面活性剤〔第一工業
薬品■製:ハイテノールNF13 ) 1.5 %と、
オクタン150g−と、がラスヒ−ス(A 1 ) 2
00 Pとをサンドミルペセルに入れ、サンドミルにて
200 Orpm 、 2時間の分散処理を行なった。
分散処理後は前記実施例1の場合と全く同様に処置し、
厚さ4μの透明導電性層を有する積層フィルム[111
)を得た。
厚さ4μの透明導電性層を有する積層フィルム[111
)を得た。
得られた積層フィルム〔■〕の表面抵抗は8.OKΩ/
口であり、可視光透過率は70%であった。
口であり、可視光透過率は70%であった。
実施例3
添加物としての酸化錫を含有している酸化インジウム粉
体〔触媒化成■製:TL−130350?と、ステアリ
ン酸〔純正化学■製)1.55)−と、ンクロヘキサン
150g−と、ガラスピーズ(A1)200%とをサン
ドミルベセルに入れ、サンドミルにて2000 rpm
、 2時間の分散処理を行なった。
体〔触媒化成■製:TL−130350?と、ステアリ
ン酸〔純正化学■製)1.55)−と、ンクロヘキサン
150g−と、ガラスピーズ(A1)200%とをサン
ドミルベセルに入れ、サンドミルにて2000 rpm
、 2時間の分散処理を行なった。
以後、前記実施例1におけるスクリーンインキ(A)を
得る場合のインキの粘度調整用の[ブチルセルソルブア
セテート7CCの添加」に代えて「ブチルセルソルブア
セテート8ccを添加する」以外は全て前記実施例1の
積層用フィルムCI’]を得る場合と全く同様にして処
置し、厚さ4μの透明導電性層を有する積層フィルム[
IV)を得た。
得る場合のインキの粘度調整用の[ブチルセルソルブア
セテート7CCの添加」に代えて「ブチルセルソルブア
セテート8ccを添加する」以外は全て前記実施例1の
積層用フィルムCI’]を得る場合と全く同様にして処
置し、厚さ4μの透明導電性層を有する積層フィルム[
IV)を得た。
得られた積層フィルムIJ/)の表面抵抗は1.3にΩ
/口であり、可視光透過率は76%であった。
/口であり、可視光透過率は76%であった。
実施例4
添加物としての酸化錫を含有している酸化インジウム粉
体〔触媒化成■製:TL−130:)501と、チタネ
ート系カップリング剤〔味の素■製:プレンアクト13
85 ) 0.5 fi’と、トルエン1501と、ガ
ラスピーズ(黒1)2005’とをサンrミルベセルに
入れ、サンドミルにて2000 rpm 、 2時間の
分散処理を行なった。
体〔触媒化成■製:TL−130:)501と、チタネ
ート系カップリング剤〔味の素■製:プレンアクト13
85 ) 0.5 fi’と、トルエン1501と、ガ
ラスピーズ(黒1)2005’とをサンrミルベセルに
入れ、サンドミルにて2000 rpm 、 2時間の
分散処理を行なった。
以後、実施例1における透明粉体〔1〕を得る場合と同
一の分散剤処理工程を施し、更に、スクリーンインキ〔
A〕を得る場合のインキの粘度調整用の「ブチルセルソ
ルブアセテート7CCの添加」に代えて「ブチルセルソ
ルブアセテート6ccを添加する」以外は全て前記実施
例1の積層用フィルムCI)を得る場合と同様に処置し
、厚さ4μの透明導電性層を有する積層フィルム〔■を
得た。
一の分散剤処理工程を施し、更に、スクリーンインキ〔
A〕を得る場合のインキの粘度調整用の「ブチルセルソ
ルブアセテート7CCの添加」に代えて「ブチルセルソ
ルブアセテート6ccを添加する」以外は全て前記実施
例1の積層用フィルムCI)を得る場合と同様に処置し
、厚さ4μの透明導電性層を有する積層フィルム〔■を
得た。
得られた積層フィルム〔V〕の表面抵抗は1.9にΩ/
口であり、可視光透過率は80チであった。
口であり、可視光透過率は80チであった。
実施例5
酸化錫−三酸化アンチモン粉体〔三菱金属■製:T−1
)5054と、アルキル硫酸塩系界面活性剤〔第一工業
薬品■製:)・イテノールNF13)15Pと、ガラス
ピース(潟1)2001とをサンドミルベセルに入れ、
サンドミルにて200 Orpm 、 2時間の分散処
理を施した。
)5054と、アルキル硫酸塩系界面活性剤〔第一工業
薬品■製:)・イテノールNF13)15Pと、ガラス
ピース(潟1)2001とをサンドミルベセルに入れ、
サンドミルにて200 Orpm 、 2時間の分散処
理を施した。
次いで、ガラスピーズを除去し、更にエバポレーターに
より溶剤を除去した後、真空オーブン中にて100°C
,2時間の乾燥を行ない、目的物質である分散剤処理済
みの導電性を有する透明粉体〔■〕を得た。
より溶剤を除去した後、真空オーブン中にて100°C
,2時間の乾燥を行ない、目的物質である分散剤処理済
みの導電性を有する透明粉体〔■〕を得た。
前記得られた透明粉体1jT) 10 Pと、バインダ
ー用樹脂たるアクリル系樹脂の32重量%溶液〔大成化
工■製:アクリツ)6HY−315:溶剤;トルエン/
セルメルフアセテ−ト) 10.41とを三本ロールに
て混練した後、更にブチルセルソルブアセテート7CC
を添加し、粘度1000 cps (B型粘度計)ff
i4 : 2 Orpm:]のスクリーンインキCF)
を得た。
ー用樹脂たるアクリル系樹脂の32重量%溶液〔大成化
工■製:アクリツ)6HY−315:溶剤;トルエン/
セルメルフアセテ−ト) 10.41とを三本ロールに
て混練した後、更にブチルセルソルブアセテート7CC
を添加し、粘度1000 cps (B型粘度計)ff
i4 : 2 Orpm:]のスクリーンインキCF)
を得た。
前記得られたスクリーンインキCF)によるスクリーン
印刷〔テトロンメツシュ30(1,ゾル厚20μ〕を厚
さ100μのポリエステルフィルムに施した後、風乾し
、更に100°C230分間の乾燥に付して厚さ4μの
透明導電性層を有する積層フィルム〔■〕を得た。
印刷〔テトロンメツシュ30(1,ゾル厚20μ〕を厚
さ100μのポリエステルフィルムに施した後、風乾し
、更に100°C230分間の乾燥に付して厚さ4μの
透明導電性層を有する積層フィルム〔■〕を得た。
得られた積層フィルム〔■〕の表面抵抗は7.5にΩ/
口であり、可視光透過率は70%であった。
口であり、可視光透過率は70%であった。
以上の各積層フィルムの表面抵抗は、該積層フィルムに
おける透明導電性層面の表面抵抗であり、市販のA?ペ
ーストにて、前記透明導電性層表面にICrn間隔のI
Crn長のリード線二本を形成し、テスターにて測定し
た結果であり、また、積層フィルムの可視光透過率は高
滓製作所製のuVV−260にて測定した6 50 n
mの値である。
おける透明導電性層面の表面抵抗であり、市販のA?ペ
ーストにて、前記透明導電性層表面にICrn間隔のI
Crn長のリード線二本を形成し、テスターにて測定し
た結果であり、また、積層フィルムの可視光透過率は高
滓製作所製のuVV−260にて測定した6 50 n
mの値である。
本発明は透明性が高く、かつ、導電性を具備する粉体の
処理方法に関するものであり、例えば、透明性を有する
プラスチックフィルム上に形成される透明導電性層を得
るためのインキの配合成分として使用されるものである
。
処理方法に関するものであり、例えば、透明性を有する
プラスチックフィルム上に形成される透明導電性層を得
るためのインキの配合成分として使用されるものである
。
本発明の方法によって処理された導電性を有する透明な
金属酸化物の粉体は、透明皮膜形成能を有するバインダ
ー用樹脂と共に得られる透明導電性層形成用インキにお
いて、良好なる分散性を有しているもので、密着強度の
高い、低抵抗値の、かつ透明度の高い透明導電性層を、
該透明導電性層が必要とされる部分のみに、通常の印刷
手段やコーティング手段等で簡単に形成され得るインキ
成分となるものである。
金属酸化物の粉体は、透明皮膜形成能を有するバインダ
ー用樹脂と共に得られる透明導電性層形成用インキにお
いて、良好なる分散性を有しているもので、密着強度の
高い、低抵抗値の、かつ透明度の高い透明導電性層を、
該透明導電性層が必要とされる部分のみに、通常の印刷
手段やコーティング手段等で簡単に形成され得るインキ
成分となるものである。
Claims (4)
- (1)導電性を有する透明な金属酸化物の粉体を、分散
剤を含有する溶剤液中にて処理することを特徴とする導
電性を有する透明粉体の処理方法。 - (2)導電性を有する透明な金属酸化物の粉体が、酸化
インジウム、1〜20重量%の三酸化アンチモンを含有
している酸化錫、または1〜20重量%の酸化錫を含有
している酸化インジウムの中から選択される粉体である
特許請求の範囲第1項記載の導電性を有する透明粉体の
処理方法。 - (3)分散剤を含有する溶剤液中の前記分散剤が、式R
O(CH_2CH_2O)_nSO_3M〔式中Rは水
素または炭素数8〜22のアルキルもしくはアルキルフ
ェニル基を、nは8〜20の整数を、MはNa、K、ま
たはNH_4をそれぞれ表わす〕で表示されるアルキル
(アルキルフェニル)エーテル硫酸エステル塩、式R^
1O(CH_2CH_2O)_nP(OH)OR^2〔
式中のR^1及びR^2は水素または炭素数8〜22の
アルキルもしくはアルキルフェニル基を、nは8〜20
の整数をそれぞれ表わす〕で表示されるリン酸エステル
、式RCOOH〔式中のRは炭素数8〜22のアルキル
基を表わす〕で表示される脂肪族カルボン酸、式R^1
O−Ti−(OR^2)_3〔式中のR^1はイソプロ
ピル基、テトラオクチル基、またはオキシアセテート基
を、R^2はステアリル基、ドデシルベンゼンスルホニ
ル基、またはジオクチルパイル基をそれぞれ表わす〕で
表示されるチタネート系カップリング剤の中から選択さ
れる分散剤である特許請求の範囲第1項または第2項記
載の導電性を有する透明粉体の処理方法。 - (4)分散剤を含有する溶剤液が、該溶剤液中にて処理
される金属酸化物の粉体の0.1〜10重量%の分散剤
を含有する溶剤液である特許請求の範囲第3項記載の導
電性を有する透明粉体の処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61297006A JPS63151619A (ja) | 1986-12-13 | 1986-12-13 | 導電性を有する透明粉体の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61297006A JPS63151619A (ja) | 1986-12-13 | 1986-12-13 | 導電性を有する透明粉体の処理方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63035586A Division JPS63284277A (ja) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | 透明導電性インキ,および透明導電性プラスチックフィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63151619A true JPS63151619A (ja) | 1988-06-24 |
Family
ID=17841027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61297006A Pending JPS63151619A (ja) | 1986-12-13 | 1986-12-13 | 導電性を有する透明粉体の処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63151619A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04296362A (ja) * | 1991-03-26 | 1992-10-20 | Toshiba Silicone Co Ltd | 導電性シリコーンゴム組成物 |
JPH05128492A (ja) * | 1991-10-11 | 1993-05-25 | Columbia Magune Prod Kk | 磁気記録媒体 |
WO2000020519A3 (de) * | 1998-10-07 | 2001-11-29 | Bayer Ag | Präparationen, enthaltend feinpartikuläre anorganische oxide |
JP2008231367A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Mitsubishi Materials Corp | 紫外線熱線遮蔽性を有する透明層形成用組成物、その透明層およびその用途 |
JP2009013358A (ja) * | 2007-07-07 | 2009-01-22 | Mitsubishi Materials Corp | 紫外線および熱線に対する遮蔽層を形成する組成物、およびその用途 |
JP2010235352A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Mitsubishi Materials Corp | 表面改質透明導電性酸化アンチモン錫粉末およびその製造方法 |
JP2015511575A (ja) * | 2012-03-28 | 2015-04-20 | 廈門納諾泰克科技有限公司 | ナノスズ含有金属酸化物粒子及び分散体、並びに製造法及びその適用 |
-
1986
- 1986-12-13 JP JP61297006A patent/JPS63151619A/ja active Pending
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---|---|---|---|---|
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WO2000020519A3 (de) * | 1998-10-07 | 2001-11-29 | Bayer Ag | Präparationen, enthaltend feinpartikuläre anorganische oxide |
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JP2015511575A (ja) * | 2012-03-28 | 2015-04-20 | 廈門納諾泰克科技有限公司 | ナノスズ含有金属酸化物粒子及び分散体、並びに製造法及びその適用 |
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