JPS63150545A - 清浄雰囲気下の物体の保管及び転送装置 - Google Patents
清浄雰囲気下の物体の保管及び転送装置Info
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- JPS63150545A JPS63150545A JP62299617A JP29961787A JPS63150545A JP S63150545 A JPS63150545 A JP S63150545A JP 62299617 A JP62299617 A JP 62299617A JP 29961787 A JP29961787 A JP 29961787A JP S63150545 A JPS63150545 A JP S63150545A
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Classifications
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
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- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/6776—Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、特にマイクロエレクトロニクス産業で使用さ
れる極めて清浄な空気を要する室又は領域の換気の分野
に係る。
れる極めて清浄な空気を要する室又は領域の換気の分野
に係る。
マイクロエレクトロニクスのごとき産業においては、シ
リコンウェーハ又はチップの調製のごときある種の作業
が不純物又はダストを含まない環境、所謂ホワイトルー
ムで行なわれる必要があることは公知である。このため
には、絶対フィルタ即ち極微細ダストも含めてダストを
完全に遮断するフィルタによってｒ過された空気で室の
換気を行なう。現在の処、マイクロエレクトロニクスホ
ワイトルームの空気清浄度を維持するために４つの主な
方法が存在する。
リコンウェーハ又はチップの調製のごときある種の作業
が不純物又はダストを含まない環境、所謂ホワイトルー
ムで行なわれる必要があることは公知である。このため
には、絶対フィルタ即ち極微細ダストも含めてダストを
完全に遮断するフィルタによってｒ過された空気で室の
換気を行なう。現在の処、マイクロエレクトロニクスホ
ワイトルームの空気清浄度を維持するために４つの主な
方法が存在する。
第１のタイプのホワイトルームにおいては、空気が天井
からホワイトルームに導入されホワイトルーム内で層流
となる。作業員は室内で作業し装置も室内に設置される
。しかしながらホワイトルーム内で装置の占める容積を
小さくするのが好ましくこのための措置がいくつも提案
されている。
からホワイトルームに導入されホワイトルーム内で層流
となる。作業員は室内で作業し装置も室内に設置される
。しかしながらホワイトルーム内で装置の占める容積を
小さくするのが好ましくこのための措置がいくつも提案
されている。
例えば、種々の機械又は装置は、一部がホワイトルーム
内に存在し残りの部分は清浄度要件がホワイトルームよ
りも緩やかな室内に配置されるように気密隔壁を介して
位置決めされる。この方法の主な欠点は、極めて多量の
清浄空気が必要であり空気処理室の容積がしばしば実際
のホワイトルームの容積の３〜４倍以上にもなることで
ある。従って装置コスト及び運転コストが極めて高くま
た重量構造なので装置の交換ができない。最後に、この
タイプのホワイトルームは作業員の衣服制限が厳しいと
いう欠点をもつ。
内に存在し残りの部分は清浄度要件がホワイトルームよ
りも緩やかな室内に配置されるように気密隔壁を介して
位置決めされる。この方法の主な欠点は、極めて多量の
清浄空気が必要であり空気処理室の容積がしばしば実際
のホワイトルームの容積の３〜４倍以上にもなることで
ある。従って装置コスト及び運転コストが極めて高くま
た重量構造なので装置の交換ができない。最後に、この
タイプのホワイトルームは作業員の衣服制限が厳しいと
いう欠点をもつ。
上記の理由から、別のタイプのホワイトルームでは、粒
子即ちダストの発生源と成る作業員をロボットで代替す
る。室内の作業員数が減るのでより高い清浄度が得られ
るが、ロボット自体も人間よりも少ないにしてもやはり
ダストの発生源になる。更に、実際のシリコンチップの
操作は作業員の総作業時間のわずか１０％未満でしかな
いので削減できる作業員の数は少ない。しかも室内及び
装置のかなりの変更を必要とするのでこの方法の商業的
実用化は難しい。
子即ちダストの発生源と成る作業員をロボットで代替す
る。室内の作業員数が減るのでより高い清浄度が得られ
るが、ロボット自体も人間よりも少ないにしてもやはり
ダストの発生源になる。更に、実際のシリコンチップの
操作は作業員の総作業時間のわずか１０％未満でしかな
いので削減できる作業員の数は少ない。しかも室内及び
装置のかなりの変更を必要とするのでこの方法の商業的
実用化は難しい。
第３の方法は、自動キャリッジを内蔵し該キャリッジに
よってシリコンチップを搬送する管を使用して種々の装
置を接続する方法である。超清浄環境が管内部では維持
されるが室内で維持される必要はない。従って、作業員
の環境は、清浄度が低く制限が桜やかになり、換気系装
置のコスト及び運転コストも節約できる。しかしながら
この方法もいくつかの欠点をもつ。まず、一度装置され
た管の変更は極めて難しい。また、種々の装置又は機械
に管が接続されるので機械の変更又は交換作業も難しい
。最後に、管内で搬送されるキャリッジは構造が複雑で
ダストを発生し保守も難しい。
よってシリコンチップを搬送する管を使用して種々の装
置を接続する方法である。超清浄環境が管内部では維持
されるが室内で維持される必要はない。従って、作業員
の環境は、清浄度が低く制限が桜やかになり、換気系装
置のコスト及び運転コストも節約できる。しかしながら
この方法もいくつかの欠点をもつ。まず、一度装置され
た管の変更は極めて難しい。また、種々の装置又は機械
に管が接続されるので機械の変更又は交換作業も難しい
。最後に、管内で搬送されるキャリッジは構造が複雑で
ダストを発生し保守も難しい。
従って、シリコンチップを処理室又は加工室に転送する
なめにシリコンチップを気密箱に封入する別のシステム
が採用されている。気密箱内の雰囲気は極めて高レベル
の清浄度をもち、室内の清浄度は平均的レベルである。
なめにシリコンチップを気密箱に封入する別のシステム
が採用されている。気密箱内の雰囲気は極めて高レベル
の清浄度をもち、室内の清浄度は平均的レベルである。
箱間又は箱と機械との間の転送は、気密容器内への外部
粒子又はダストの侵入を阻止するスライドシステム又は
スライド弁システムを用いて行なわれる。この方法は室
内の清浄度が平均的レベルなので換気装置が比較的簡単
であり、また気密箱の使用によって管の存在に伴う複雑
さが全く生じないという利点を有するが、まだいくつか
の欠点が残っている。まず、箱内に配置されるシリコン
チップが等圧（ｉｓｏ−ｓｔａｔｉｃ）環境条件下に維
持され空気の移動が全く又はほどんどない。これらの条
件下でチップの近傍に存在する粒子は主としてチップの
表面と箱の内壁とに発生する静電気吸引力を受ける。シ
リコンチップの全表面積が箱の内壁の表面積よりもはる
かに大きいので、粒子は主としてチップに堆積する。こ
れは極めて重大な欠点である。何故なら、約０．２−の
直径をもつ粒子が清浄表面に付着するとこれを除去する
ことは実質的に不可能である。
粒子又はダストの侵入を阻止するスライドシステム又は
スライド弁システムを用いて行なわれる。この方法は室
内の清浄度が平均的レベルなので換気装置が比較的簡単
であり、また気密箱の使用によって管の存在に伴う複雑
さが全く生じないという利点を有するが、まだいくつか
の欠点が残っている。まず、箱内に配置されるシリコン
チップが等圧（ｉｓｏ−ｓｔａｔｉｃ）環境条件下に維
持され空気の移動が全く又はほどんどない。これらの条
件下でチップの近傍に存在する粒子は主としてチップの
表面と箱の内壁とに発生する静電気吸引力を受ける。シ
リコンチップの全表面積が箱の内壁の表面積よりもはる
かに大きいので、粒子は主としてチップに堆積する。こ
れは極めて重大な欠点である。何故なら、約０．２−の
直径をもつ粒子が清浄表面に付着するとこれを除去する
ことは実質的に不可能である。
また、チップを１つの箱から別の箱又は１つの箱から所
与の装置に転送するスライドシステムは極めて精密でな
ければならない。作業には摩擦が伴うものであり、この
摩擦によって粒子が分割され、分割された粒子がチップ
に付着するおそれもある。
与の装置に転送するスライドシステムは極めて精密でな
ければならない。作業には摩擦が伴うものであり、この
摩擦によって粒子が分割され、分割された粒子がチップ
に付着するおそれもある。
最後に、種々の製造装置は転送に使用するための気密箱
と同様のコンテナを備える必要があり、これらのコンテ
ナの設置は複雑でコストも高い。
と同様のコンテナを備える必要があり、これらのコンテ
ナの設置は複雑でコストも高い。
本発明の目的は、上記の欠点が是正され、従来技術の装
置よりも簡単で安価に製造できる清浄雰囲気下の物体の
保管及び転送装置を提供することである。
置よりも簡単で安価に製造できる清浄雰囲気下の物体の
保管及び転送装置を提供することである。
本発明の主目的は、平均的清浄度の室内に配置され極め
て清浄な雰囲気下で処理又は加工されるべき物体を保管
及び転送するために、前記物体を保管する手段と前記物
体を処理する手段と前記物体を保管手段と処理手段との
間に転送する手段とを含む装置を提供することである。
て清浄な雰囲気下で処理又は加工されるべき物体を保管
及び転送するために、前記物体を保管する手段と前記物
体を処理する手段と前記物体を保管手段と処理手段との
間に転送する手段とを含む装置を提供することである。
本発明装置の特徴は、転送手段が、保管手段及び処理手
段に結合され得る少なくとも１つの可動コンテナを含む
こと、及び、前記物体を極めて清浄なガス流で常時掃気
するために装置の内部全体を換気する手段を含むことで
ある。
段に結合され得る少なくとも１つの可動コンテナを含む
こと、及び、前記物体を極めて清浄なガス流で常時掃気
するために装置の内部全体を換気する手段を含むことで
ある。
本発明の主要素子の１つは物体保管手段を構成する通気
キャビネット又は箱である。
キャビネット又は箱である。
本発明装置の別の重要な特徴は、転送手段が更に、前記
物体を加工機に導入すべく使用される少なくとも１つの
固定コンテナを含むことである。
物体を加工機に導入すべく使用される少なくとも１つの
固定コンテナを含むことである。
本発明装置の別の重要な特徴は、固定コンテナと可動コ
ンテナとが両者間で物体を移行せしむべく互いに結合さ
れ得ることである。同様に可動コンテナは、キャビネッ
トとの間で物体を移行せしむべくキャビネットに結合さ
れ得る。
ンテナとが両者間で物体を移行せしむべく互いに結合さ
れ得ることである。同様に可動コンテナは、キャビネッ
トとの間で物体を移行せしむべくキャビネットに結合さ
れ得る。
本発明装置の第１具体例によれば、換気手段はキャビネ
ッ１〜及びコンテナに内蔵されたファンから成る。過圧
は同様の方法で得られる。
ッ１〜及びコンテナに内蔵されたファンから成る。過圧
は同様の方法で得られる。
本発明装置の第２具体例によれば、換気及び過圧手段は
装置の内部を外部加圧超清浄ガス源に接続し得るオリフ
ィスから成る。
装置の内部を外部加圧超清浄ガス源に接続し得るオリフ
ィスから成る。
添付図面に示す本発明装置の非限定具体例に基づいて本
発明をより詳細に以下に説明する。
発明をより詳細に以下に説明する。
固定及び可動コンテナ及び通路の可能な第２具体例に関
する第１０図から第１７図の図面及びその説明において
、第１具体例と同種の素子、即ち同一機能を果たす部分
、アセンブリ及び／又は物体は同じ参照符号で示す。
する第１０図から第１７図の図面及びその説明において
、第１具体例と同種の素子、即ち同一機能を果たす部分
、アセンブリ及び／又は物体は同じ参照符号で示す。
本発明装置の主要構成素子は、キャビネットから成る物
体の保管手段と、加工機又は作業ステーションから成る
物体の処理手段と、キャビネットと加工機との間で物体
を転送するための固定コンテナと可動コンテナとから成
る手段とを含む。
体の保管手段と、加工機又は作業ステーションから成る
物体の処理手段と、キャビネットと加工機との間で物体
を転送するための固定コンテナと可動コンテナとから成
る手段とを含む。
第１図及び第２図は、シリコン又はその他のある種の材
料例えばガリウムヒ素から製造されるチップを保管する
ための本発明のキャビネット１ｏを示す。このキャビネ
ッＩ・はいくつかのキャビティ又はラック１２をもち、
シリコンチップを収容したバスケット１４が各ラックに
保管されている。各ラック１２は、隣合うラック間を分
離する２つの鉛直隔壁１６と水平底部１８とによって形
成され、バスケット１４は該底部に載置される。ラック
は水平な列として配置され、同列のラックの全部の底部
が同じ高さに位置する。またラック列が複数の段として
配置され得る。列の末端に位置するラック例えばラック
１２ａは、一方の側壁が同じ列の隣接ラック１２ａとの
間の層壁１６ａによって形成され、他方の側壁が壁１５
によって形成されている。ラックの寸法は、（一般に２
５又は５０のチップを収容する）バスケットの容量とチ
ップの直径とに従属する６例えば、直径４“′のチップ
の場合、ラックは高さ１２ｃｍで幅１８ｃｍでよい。
料例えばガリウムヒ素から製造されるチップを保管する
ための本発明のキャビネット１ｏを示す。このキャビネ
ッＩ・はいくつかのキャビティ又はラック１２をもち、
シリコンチップを収容したバスケット１４が各ラックに
保管されている。各ラック１２は、隣合うラック間を分
離する２つの鉛直隔壁１６と水平底部１８とによって形
成され、バスケット１４は該底部に載置される。ラック
は水平な列として配置され、同列のラックの全部の底部
が同じ高さに位置する。またラック列が複数の段として
配置され得る。列の末端に位置するラック例えばラック
１２ａは、一方の側壁が同じ列の隣接ラック１２ａとの
間の層壁１６ａによって形成され、他方の側壁が壁１５
によって形成されている。ラックの寸法は、（一般に２
５又は５０のチップを収容する）バスケットの容量とチ
ップの直径とに従属する６例えば、直径４“′のチップ
の場合、ラックは高さ１２ｃｍで幅１８ｃｍでよい。
第３図の斜視図は、保管キャビネットと加工機との間の
転送作業中のバスケットの操作及び転送を容易にするた
めの特定のパスゲット構造を示す。
転送作業中のバスケットの操作及び転送を容易にするた
めの特定のパスゲット構造を示す。
転送作業に関しては後述する。バスケット１４は両端に
脚２０をもつ細長いサポート状に形成され、操作手段を
通過させるスロット２２が脚間に設けられている。チッ
プ２４はバスケットの上面に設けられな凹部に配置され
る。バスケットが水平サポートに載置されるとチップの
平面が鉛直になる。バスケットの形状は、サポートと接
触するチップの表面ができるだけ小さくなるような形状
である。かかるサポートは公知でありここでは詳細に説
明しない。第３図はまた、処理機又は加工機中で正確な
位置決めが容易にできるように各チップ２４がチップの
結晶配向を示す平坦切欠部２６をもつことを示す。
脚２０をもつ細長いサポート状に形成され、操作手段を
通過させるスロット２２が脚間に設けられている。チッ
プ２４はバスケットの上面に設けられな凹部に配置され
る。バスケットが水平サポートに載置されるとチップの
平面が鉛直になる。バスケットの形状は、サポートと接
触するチップの表面ができるだけ小さくなるような形状
である。かかるサポートは公知でありここでは詳細に説
明しない。第３図はまた、処理機又は加工機中で正確な
位置決めが容易にできるように各チップ２４がチップの
結晶配向を示す平坦切欠部２６をもつことを示す。
再び第１図を参照すると、保管物体が極めて清浄なガス
流を常時受けるように、該キャビネットに換気手段が内
蔵されている。即ち、１つ又は１組のフィルタ２８がラ
ック１２の後方に配置されている。
流を常時受けるように、該キャビネットに換気手段が内
蔵されている。即ち、１つ又は１組のフィルタ２８がラ
ック１２の後方に配置されている。
図示の特定具体例の゛場合、フィルタ２８は絶対フィル
タであり、上流面３０と下流面３２とをもち、フィルタ
の上流面と下流面とは鉛直方向に配置されている。隔壁
１６及び底部１８は夫々の一辺でフィルタの下流面と接
触しており、各ラックの対応する端面はフィルタによっ
て閉頭されている。
タであり、上流面３０と下流面３２とをもち、フィルタ
の上流面と下流面とは鉛直方向に配置されている。隔壁
１６及び底部１８は夫々の一辺でフィルタの下流面と接
触しており、各ラックの対応する端面はフィルタによっ
て閉頭されている。
後述するファンはキャビネット内で空気を循環させ、空
気はフィルタの上流面３０からフィルタに入り下流面３
２から出る。バスケット１４はフィルタ２８の下流面３
２の直ぐ近傍で底部１８に載置され、チップ２４の平面
即ち平坦表面がフィルタから出る空気の流出方向に平行
である。これにより二重の利点が得られる。第一に、チ
ップ、を掃引する空気が絶対フィルタを通過した空気即
ち極めて清浄な空気から成る。第二に、流出方向がチッ
プの平坦面に平行なので該面に堆積するおそれのあるダ
ストが完全に除去される。ラックを出る空気の乱流がチ
ップの近傍の雰囲気をかく乱しないように、ラックは、
空気流動方向に関してバスケット１４の下流側で約３０
ｃｍの長さをもつに十分な長さである。
気はフィルタの上流面３０からフィルタに入り下流面３
２から出る。バスケット１４はフィルタ２８の下流面３
２の直ぐ近傍で底部１８に載置され、チップ２４の平面
即ち平坦表面がフィルタから出る空気の流出方向に平行
である。これにより二重の利点が得られる。第一に、チ
ップ、を掃引する空気が絶対フィルタを通過した空気即
ち極めて清浄な空気から成る。第二に、流出方向がチッ
プの平坦面に平行なので該面に堆積するおそれのあるダ
ストが完全に除去される。ラックを出る空気の乱流がチ
ップの近傍の雰囲気をかく乱しないように、ラックは、
空気流動方向に関してバスケット１４の下流側で約３０
ｃｍの長さをもつに十分な長さである。
空気はフィルタ２８の反対側のラックの開口末端から流
出する。従って、空気はキャビネットの前部スペース３
４に到達する。このスペースのラックの反対側はキャビ
ネットの前面パネル３５によって規定されている。該パ
ネルはラック列に平行に鉛直方向に配置されている。該
パネルに関しては後述する。スペース３４はラック列の
末端に対応する各末端で開口している。従って該スペー
ス３４は、前面パネル３５と壁１５との間スペースを介
してファン内蔵ゲース３６と連通する。これらのファン
はスペース３４の空気を吸引しキャビネット１０の後方
スペース３８に排出するように位置決めされている。
出する。従って、空気はキャビネットの前部スペース３
４に到達する。このスペースのラックの反対側はキャビ
ネットの前面パネル３５によって規定されている。該パ
ネルはラック列に平行に鉛直方向に配置されている。該
パネルに関しては後述する。スペース３４はラック列の
末端に対応する各末端で開口している。従って該スペー
ス３４は、前面パネル３５と壁１５との間スペースを介
してファン内蔵ゲース３６と連通する。これらのファン
はスペース３４の空気を吸引しキャビネット１０の後方
スペース３８に排出するように位置決めされている。
スペース３８の寸法は、絶対フィルタに流入する前の空
気の圧力を均質ｆヒするように決定されている。
気の圧力を均質ｆヒするように決定されている。
この好適具体例において、ファン３６は主としてシャフ
ト４０と、該シャフトに沿って装着された複数グループ
の羽根４２とから成る。保管キャビネントに振動が伝達
されないように、駆動モータ４４とシャフトを維持する
軸受け４６とはキャビネットの外部に配置されている。
ト４０と、該シャフトに沿って装着された複数グループ
の羽根４２とから成る。保管キャビネントに振動が伝達
されないように、駆動モータ４４とシャフトを維持する
軸受け４６とはキャビネットの外部に配置されている。
シャフト４０は、シャフトの断面より大きい断面の開口
４８を介してキャビネッ１− ｕを貫通する。この構造
は、シャフトとキャビネット壁とが接触しないのでシャ
フトの回転運動による振動がキャビネットに伝達されな
い、及°び、キャビネットが多くの場合室に比較して過
圧下に維持されるので空気が開口４８を介して内部から
外部に流れるという二重の利点を与える。
４８を介してキャビネッ１− ｕを貫通する。この構造
は、シャフトとキャビネット壁とが接触しないのでシャ
フトの回転運動による振動がキャビネットに伝達されな
い、及°び、キャビネットが多くの場合室に比較して過
圧下に維持されるので空気が開口４８を介して内部から
外部に流れるという二重の利点を与える。
キャビネットの動的封止を得るなめに、該キャビネット
は処理室に対して過圧下に維持される。
は処理室に対して過圧下に維持される。
補助ファン５０が配備され、該ファンはキャビネットの
後部壁５２に装着されている。ファン５０は室の空気を
吸引し、壁５２のオリフィスに配置されたフィルタ５３
を介してキャビネットに吹き込む。ファン５０は２つの
圧力センサを介して制御される。一方の圧力センサ（図
示せず）はキャビネットの外部に配置され、他方の圧力
センサ５５はキャビネット内部即ち前部スペース３４に
配置されている。キャビネットの後部３８に温度及び相
対湿度の調整装置５７を配備するのが好ましい。
後部壁５２に装着されている。ファン５０は室の空気を
吸引し、壁５２のオリフィスに配置されたフィルタ５３
を介してキャビネットに吹き込む。ファン５０は２つの
圧力センサを介して制御される。一方の圧力センサ（図
示せず）はキャビネットの外部に配置され、他方の圧力
センサ５５はキャビネット内部即ち前部スペース３４に
配置されている。キャビネットの後部３８に温度及び相
対湿度の調整装置５７を配備するのが好ましい。
キャビネット１０のファン内蔵部は振動源になり得る。
振動自体は保管チップに害を与えはしないが、ラック内
を極めて清浄に維持する必要があるのに振動が粒子を発
生するので機械的摩擦を完全に阻止する必要がある。従
って、キャビネット１０は２つの主部、即ちラックと絶
対フィルタと前面パネルとを収納する剛性ケースの形態
の第一部分５４と第一部分の側面と背面とを包囲する第
二剛性ケースの形態の第二部分５６とから成る。ファン
によってケース５６内で発生した振動がラック収納ケー
ス５４に伝達されないように２つのケースはブロワ−又
はベローズの形態の可撓性接続手段によって互いに接合
されている。記載の特定具体例において、この接続は、
キャビネットの前部スペース３４を２つのファン内蔵領
域に接続する２つの側部ベローズ５８によって確保され
る。更に、第３ベローズ６０がフィルタ２８の前面の近
傍でケース５６の後部をケース５４の後部に接続する。
を極めて清浄に維持する必要があるのに振動が粒子を発
生するので機械的摩擦を完全に阻止する必要がある。従
って、キャビネット１０は２つの主部、即ちラックと絶
対フィルタと前面パネルとを収納する剛性ケースの形態
の第一部分５４と第一部分の側面と背面とを包囲する第
二剛性ケースの形態の第二部分５６とから成る。ファン
によってケース５６内で発生した振動がラック収納ケー
ス５４に伝達されないように２つのケースはブロワ−又
はベローズの形態の可撓性接続手段によって互いに接合
されている。記載の特定具体例において、この接続は、
キャビネットの前部スペース３４を２つのファン内蔵領
域に接続する２つの側部ベローズ５８によって確保され
る。更に、第３ベローズ６０がフィルタ２８の前面の近
傍でケース５６の後部をケース５４の後部に接続する。
この構造によって、ファン３６の作動中にキャビネット
内部の空気の不断の再循環が確保される。空気はフィル
タ２８からラックに入り、スペース３４に達し、該スペ
ースからベローズ５日を介してケース５６のファン３６
内蔵部に入り、鎖部５６から接続ゾーン５９を介してキ
ャビネ・ットの後部３８に入り、ここからベローズ６０
を介してフィルタの前面に入る。好ましくはベローズ５
８及び６０がケース５４及び５６に密封的に固定されて
いる。しかしながらたとえ封止が不完全でも、キャビネ
ットが外部に比較して過圧下に維持されるかぎり悪影響
は生じない。
内部の空気の不断の再循環が確保される。空気はフィル
タ２８からラックに入り、スペース３４に達し、該スペ
ースからベローズ５日を介してケース５６のファン３６
内蔵部に入り、鎖部５６から接続ゾーン５９を介してキ
ャビネ・ットの後部３８に入り、ここからベローズ６０
を介してフィルタの前面に入る。好ましくはベローズ５
８及び６０がケース５４及び５６に密封的に固定されて
いる。しかしながらたとえ封止が不完全でも、キャビネ
ットが外部に比較して過圧下に維持されるかぎり悪影響
は生じない。
第２図に示すように多数のラック列が棚段状に配置され
ている場合、キャビネット１０の両側に複数段のファン
３６を配備してもよい。また乱流を阻止するために任意
に、各ファン又は少なくとも各ファンの羽根４２内蔵部
を中空シリンダ６４（第２図）内に配置することも可能
である。好ましくは、ファンの羽根を研摩及び金属化し
て光沢表面を与え、シリンダ６４の内面を羽根と同様に
研摩して該部での空気の摩擦による乱流を阻止する。
ている場合、キャビネット１０の両側に複数段のファン
３６を配備してもよい。また乱流を阻止するために任意
に、各ファン又は少なくとも各ファンの羽根４２内蔵部
を中空シリンダ６４（第２図）内に配置することも可能
である。好ましくは、ファンの羽根を研摩及び金属化し
て光沢表面を与え、シリンダ６４の内面を羽根と同様に
研摩して該部での空気の摩擦による乱流を阻止する。
指摘すべきは、かかるキャビネットの内部容量がキャビ
ネット保管室の容績に比べて比較的小さいことである。
ネット保管室の容績に比べて比較的小さいことである。
更に、本発明の好適具体例によれば、キャビネットの内
面全体即ちキャビネット壁の内面だけでなくシャフト及
びファン羽根、前記ラックの隔壁及び底部を含むすべて
の表面がチップと同じ材料例えばシリコンから成る薄膜
で被覆されている。従って、キャビネット内部を循環す
る空気はシリコン以外の材料とは決して接触しない。
面全体即ちキャビネット壁の内面だけでなくシャフト及
びファン羽根、前記ラックの隔壁及び底部を含むすべて
の表面がチップと同じ材料例えばシリコンから成る薄膜
で被覆されている。従って、キャビネット内部を循環す
る空気はシリコン以外の材料とは決して接触しない。
ｍ１図及び第２図はまた、キャビネットの前面パネル３
５が複数の戸６８をもつことを示す。戸は各ラックに向
き合っている。従って、所与のラックに対応する戸を開
き、キャビネット外部に配置された挾持手段でバスケッ
ト１４を取り上げるが又は取り出すだけでよい１戸と挾
持手段とに関しては保管キャビネットと加工機との間で
のバスケットの転送に関する説明のときに後述する。例
えば、有効保管容積即ちラック全体が高さ２．４＋ｎ及
び幅４．３２ｍを有し得る。各ラックの断面が１２Ｘ１
８ｃｍのとき１列２４個のラックを２０段重ねることが
できる。
５が複数の戸６８をもつことを示す。戸は各ラックに向
き合っている。従って、所与のラックに対応する戸を開
き、キャビネット外部に配置された挾持手段でバスケッ
ト１４を取り上げるが又は取り出すだけでよい１戸と挾
持手段とに関しては保管キャビネットと加工機との間で
のバスケットの転送に関する説明のときに後述する。例
えば、有効保管容積即ちラック全体が高さ２．４＋ｎ及
び幅４．３２ｍを有し得る。各ラックの断面が１２Ｘ１
８ｃｍのとき１列２４個のラックを２０段重ねることが
できる。
即ち直径４°′のチップ用のラックを合計４８０配備し
得る。バスケットが５０個のチップを収容するときは従
って４″チツプなら２４，０００個、８′′チツプなら
６．０００個保管することが可能である。
得る。バスケットが５０個のチップを収容するときは従
って４″チツプなら２４，０００個、８′′チツプなら
６．０００個保管することが可能である。
ラック内にバスケットを配置するが又はラックからバス
ケットを取り出すとき操作ミスでバスケット又はいくつ
かのチップを落とすこともある。従って、キャビネット
の前部スペース３４の下部に破損物体又は汚損物体を回
収できるスライド７０が配備されている。該スライドの
形状及び寸法は、室に比較して過圧下に維持されたスラ
イド内部の空気がスライドの上縁から外部に逃げるが又
はスライドの上縁より下方で外一部に逃げるように選択
されている。後者の場合スライドの底面が多孔面である
。
ケットを取り出すとき操作ミスでバスケット又はいくつ
かのチップを落とすこともある。従って、キャビネット
の前部スペース３４の下部に破損物体又は汚損物体を回
収できるスライド７０が配備されている。該スライドの
形状及び寸法は、室に比較して過圧下に維持されたスラ
イド内部の空気がスライドの上縁から外部に逃げるが又
はスライドの上縁より下方で外一部に逃げるように選択
されている。後者の場合スライドの底面が多孔面である
。
いかなる直径のチップをも保管できるキャビネットを得
るためには、各ラックの幅を一定にしく幅はバスケット
内のチップの個数の関数）ラックの高さを調整自在にす
る。保管すべきチップの直径が変わるときは、着脱自在
に構成された前面パネルを取り外し、新しいラック寸法
に対応する戸をもつ別のパネルに交換する。このように
、ラックと前面パネルだけを交換すればよく、キャビネ
ットの残りの部分の交換は不要である。
るためには、各ラックの幅を一定にしく幅はバスケット
内のチップの個数の関数）ラックの高さを調整自在にす
る。保管すべきチップの直径が変わるときは、着脱自在
に構成された前面パネルを取り外し、新しいラック寸法
に対応する戸をもつ別のパネルに交換する。このように
、ラックと前面パネルだけを交換すればよく、キャビネ
ットの残りの部分の交換は不要である。
次に、第４図から第９図に基づいて保管キャビネットと
加工機との間の物体即ちチップの転送作業に関して説明
する。
加工機との間の物体即ちチップの転送作業に関して説明
する。
第４図の立面断面図は２つのコンテナを示す。
一方のコンテナ７２は保管キャビネットと機械７６との
間にチップを転送すべく使用され、他方のコンテナ７４
はコンテナ７２と機械７６との間のチップ転送用ロック
として機能する。この具体例において、コンテナ７４は
機械７６に搭載され下部壁に設けられた開ロア８を介し
て機械の内部スペースと連通ずる。
間にチップを転送すべく使用され、他方のコンテナ７４
はコンテナ７２と機械７６との間のチップ転送用ロック
として機能する。この具体例において、コンテナ７４は
機械７６に搭載され下部壁に設けられた開ロア８を介し
て機械の内部スペースと連通ずる。
この開口は機械の一部を成すエレベータ８０を通過せし
める。該エレベータはチップをコンテナ７４の内部から
機械の内部に転送し得る。
める。該エレベータはチップをコンテナ７４の内部から
機械の内部に転送し得る。
第５図の斜視図は可動コンテナ７２の構造の概略説明図
である。該コンテナは、まず保管キャビネットに配備さ
れたファン３６と同様のファン８４を内蔵する剛性ケー
ス８２を含むことが理解されよう。キャビネットの場合
と同様に、ファン８４の駆動モータ８６とシャフト８８
を保持する軸受けとがケース８２の外部に配置され、シ
ャフト８８が該シャフトの直径より大きい直径をもつ開
口を介してケース８２の壁を貫通するのが好ましい。正
方形又は長方形断面をもつケース８２は細長い形状であ
りその両端はブロワ−又はベローズ９０を介して剛性ス
リーブ９２と連通している。ベローズ９０の反対側の該
スリーブの末端はフランジ９４を備えており、該フラン
ジは別のケース９６に密封的に固定される。各フランジ
９４はケース９６に設けられた開口９８の周囲に装着さ
れる。従ってケース９６とスリーブ９２とはチップを内
蔵する第１剛性ケースを構成し、ケース８２はファンを
内蔵する第２ケースを構成する。従って、ファンはケー
ス内部で空気を常時循環させ、空気は２つのベローズ又
はブロワ−の一方９０ａから吸引され他方９０ｂから排
出される。この特定具体例において、ベローズ９０及び
スリーブ９２の全体方向はケース８２及び９６の全体方
向に垂直であるが、本発明の範囲内で別の構造を使用す
ることも可能である。
である。該コンテナは、まず保管キャビネットに配備さ
れたファン３６と同様のファン８４を内蔵する剛性ケー
ス８２を含むことが理解されよう。キャビネットの場合
と同様に、ファン８４の駆動モータ８６とシャフト８８
を保持する軸受けとがケース８２の外部に配置され、シ
ャフト８８が該シャフトの直径より大きい直径をもつ開
口を介してケース８２の壁を貫通するのが好ましい。正
方形又は長方形断面をもつケース８２は細長い形状であ
りその両端はブロワ−又はベローズ９０を介して剛性ス
リーブ９２と連通している。ベローズ９０の反対側の該
スリーブの末端はフランジ９４を備えており、該フラン
ジは別のケース９６に密封的に固定される。各フランジ
９４はケース９６に設けられた開口９８の周囲に装着さ
れる。従ってケース９６とスリーブ９２とはチップを内
蔵する第１剛性ケースを構成し、ケース８２はファンを
内蔵する第２ケースを構成する。従って、ファンはケー
ス内部で空気を常時循環させ、空気は２つのベローズ又
はブロワ−の一方９０ａから吸引され他方９０ｂから排
出される。この特定具体例において、ベローズ９０及び
スリーブ９２の全体方向はケース８２及び９６の全体方
向に垂直であるが、本発明の範囲内で別の構造を使用す
ることも可能である。
フィルタ１００はスリーブ９２ｂとの接続部の下流側近
傍でケース９６に配備されており、バスゲッ■弓４はフ
ィルタ１００の下流側近傍でコンテナ７２の下部壁に設
けられた受容部に配置されている。ここでもまた、チッ
プの平面が空気の流動方向に平行で層状空気流が各チッ
プの両面を掃引するように構成されている。保管キャビ
ネットの場合と同様に、コンテナ７２は外部空気をコン
テナ７２に吹き込むように構成された補助ファン１０２
を備える。ファン１０２は、好ましくは絶対フィルタか
ら成るフィルタ１００の上流の外部空気を吹き込むよう
に位置決めされるのが好ましい。
傍でケース９６に配備されており、バスゲッ■弓４はフ
ィルタ１００の下流側近傍でコンテナ７２の下部壁に設
けられた受容部に配置されている。ここでもまた、チッ
プの平面が空気の流動方向に平行で層状空気流が各チッ
プの両面を掃引するように構成されている。保管キャビ
ネットの場合と同様に、コンテナ７２は外部空気をコン
テナ７２に吹き込むように構成された補助ファン１０２
を備える。ファン１０２は、好ましくは絶対フィルタか
ら成るフィルタ１００の上流の外部空気を吹き込むよう
に位置決めされるのが好ましい。
第４図及び第５図はまた、ケース９６が中空平行六面体
の形状であり、一方のベローズ９０ｂがケース９６の一
端の極めて近傍に配置され他方のベローズ９０ａがケー
ス９６の他端から比較的離間して配置されるようにケー
ス８２がケース９６に装着されていることを示す。従っ
て、スリーブ９２ａの接続点とケース９６の末端との間
のケース９６の部分がノーズ１０４を形成し、該ノーズ
の第１端はコンテナの内部と連通し第２端は開口１０７
を介して外部と連通ずる。
の形状であり、一方のベローズ９０ｂがケース９６の一
端の極めて近傍に配置され他方のベローズ９０ａがケー
ス９６の他端から比較的離間して配置されるようにケー
ス８２がケース９６に装着されていることを示す。従っ
て、スリーブ９２ａの接続点とケース９６の末端との間
のケース９６の部分がノーズ１０４を形成し、該ノーズ
の第１端はコンテナの内部と連通し第２端は開口１０７
を介して外部と連通ずる。
この所謂第２端は、開口１０５の上縁に固定され図の平
面に垂直で鎖線の近傍を通る軸に関して回動自在な戸１
０６によって密閉され得る。
面に垂直で鎖線の近傍を通る軸に関して回動自在な戸１
０６によって密閉され得る。
第４図はまた、コンテナ７２内のフィルタ１００の近傍
に設けられた操作ロッド１１０の通路１０８を示す。
に設けられた操作ロッド１１０の通路１０８を示す。
好ましくは、通路１０８の幅はケース９６の幅より小さ
く、ロッドを挿通させるに適した寸法をもつ。
く、ロッドを挿通させるに適した寸法をもつ。
必要に応じて、ロッドを通過させる小開口をフィルタ１
００の底部に設けることも可能である。ロッドは第６図
に関して後述する手段によって操作される。該手段は一
端に電磁石１１２を備え該電磁石はバスゲラ１−１４の
下部に備えられた磁石１１４と協働する。従って、ロッ
ド１１０の末端がバスケット１４の下方に導入され、電
磁石１１２が励起されるとバスケラ１〜がロッドの末端
に維持され、ロッドが上昇して平行移動し得る。従って
、バスケットは、転送コンテナ７２の正常位置に存在す
る出発値ｉＨａから図に鎖線で概略的に示す位置１．４
ｂに移動する。
００の底部に設けることも可能である。ロッドは第６図
に関して後述する手段によって操作される。該手段は一
端に電磁石１１２を備え該電磁石はバスゲラ１−１４の
下部に備えられた磁石１１４と協働する。従って、ロッ
ド１１０の末端がバスケット１４の下方に導入され、電
磁石１１２が励起されるとバスケラ１〜がロッドの末端
に維持され、ロッドが上昇して平行移動し得る。従って
、バスケットは、転送コンテナ７２の正常位置に存在す
る出発値ｉＨａから図に鎖線で概略的に示す位置１．４
ｂに移動する。
ロッド１１０の長さは、バスケットを出発位置１４ａか
ら第２コンテナ７４内部の開ロア８の上方の位置１４ｃ
まで転送し得る適当な長さである。
ら第２コンテナ７４内部の開ロア８の上方の位置１４ｃ
まで転送し得る適当な長さである。
第５図は、フランジ９４を固定する開口９８がケース９
６の任意の面に設けられることを示す。必要に応じて、
固定された開口からフランジ９４を取り外しケース９６
の別の面に配置することも容易である。
６の任意の面に設けられることを示す。必要に応じて、
固定された開口からフランジ９４を取り外しケース９６
の別の面に配置することも容易である。
使用しない開口はプレー１〜９９で密閉する。同様に、
機械７６にチップを導入するために使用されるコンテナ
７４は必ずしも機械の平坦上面に配置されなくてもよい
。コンテナ７４の１つの鉛直壁が機械の鉛直壁に極めて
近接するように該コンテナを機械の側部に配置してもよ
い。この場合、開ロア８は前記鉛直壁に設けられ機械の
壁は機械に属する挾持手段を通過せしめる開口をもつ。
機械７６にチップを導入するために使用されるコンテナ
７４は必ずしも機械の平坦上面に配置されなくてもよい
。コンテナ７４の１つの鉛直壁が機械の鉛直壁に極めて
近接するように該コンテナを機械の側部に配置してもよ
い。この場合、開ロア８は前記鉛直壁に設けられ機械の
壁は機械に属する挾持手段を通過せしめる開口をもつ。
コンテナ７４はコンテナ７２と同様のＷｔ 造であるか
らここては改めて説明しない。
らここては改めて説明しない。
次に転送コンテナから機械の内部又は逆の方向のチップ
の転送、及び、転送コンテナによる機械から保存キャビ
ネットへのチップの転送について説明する。転送コンテ
ナは比較的軽量で総寸法も小さいのでオペレータによっ
て運搬され得る。例えば、該コンテナの全長（ファン１
０２から戸１０６までの長さ）は約７０ｃｍでケース９
６はキャビネット１０の保管ラックの寸法より小さい正
方形又は長方形断面をもつ。このような構造のため、ノ
ーズ１０４は戸６８の１つが開いた後キャビネットの内
部だけでなく対応するラックの内部に侵入する。しかし
ながら、明細書の冒頭に説明した理由、特に人間がダス
）・の発生源となるという理由から、転送コンテナ７２
は保管キャビネッ１〜１０からコンテナ７４までロボッ
トによって運搬されるのが好ましい。
の転送、及び、転送コンテナによる機械から保存キャビ
ネットへのチップの転送について説明する。転送コンテ
ナは比較的軽量で総寸法も小さいのでオペレータによっ
て運搬され得る。例えば、該コンテナの全長（ファン１
０２から戸１０６までの長さ）は約７０ｃｍでケース９
６はキャビネット１０の保管ラックの寸法より小さい正
方形又は長方形断面をもつ。このような構造のため、ノ
ーズ１０４は戸６８の１つが開いた後キャビネットの内
部だけでなく対応するラックの内部に侵入する。しかし
ながら、明細書の冒頭に説明した理由、特に人間がダス
）・の発生源となるという理由から、転送コンテナ７２
は保管キャビネッ１〜１０からコンテナ７４までロボッ
トによって運搬されるのが好ましい。
このようなロボットが第６図に概略的に示されている。
第６図によれは、ロボットが実質的にホイール１２０に
よって地面に支承されたキャリッジ１１８を含むことが
理解されよう。キャリッジ１１８の上部に関節アーム１
２２が装着され、該アームにサポート１２４が載置され
ている。コンテナ７２は該サポート１２４に載置され、
アーム１２２は下降位置と上昇位置との間で可動であり
、従ってコンテナ７２を所望の高さに到達させ得る。ロ
ッド１２８を操作し得る電磁石１２６がサポート１２４
に装着されている。
よって地面に支承されたキャリッジ１１８を含むことが
理解されよう。キャリッジ１１８の上部に関節アーム１
２２が装着され、該アームにサポート１２４が載置され
ている。コンテナ７２は該サポート１２４に載置され、
アーム１２２は下降位置と上昇位置との間で可動であり
、従ってコンテナ７２を所望の高さに到達させ得る。ロ
ッド１２８を操作し得る電磁石１２６がサポート１２４
に装着されている。
ロッド１２８の移動は連結デバイス１３０を介してロッ
ド１１０に伝達される。
ド１１０に伝達される。
コンテナが人間オペレータによって運搬されるときは、
制御装置全部特にファンモータの電源を内蔵するキャリ
ッジに接続ワイヤによってコンテナを接続する必要があ
る。ロボット１１６を用いて転送を行なうときは、制御
装置全部及び特にファンの電源がロボットに配備される
。
制御装置全部特にファンモータの電源を内蔵するキャリ
ッジに接続ワイヤによってコンテナを接続する必要があ
る。ロボット１１６を用いて転送を行なうときは、制御
装置全部及び特にファンの電源がロボットに配備される
。
チップのバスケットは以下の方法で転送コンテナ７２と
機械７６との間で転送される。保管キャビネットと機械
との間の転送中はバスケット１４は第４図の位置１４ａ
に存在し、コンテナ７２の戸１０６は閉鎖されている。
機械７６との間で転送される。保管キャビネットと機械
との間の転送中はバスケット１４は第４図の位置１４ａ
に存在し、コンテナ７２の戸１０６は閉鎖されている。
即ち、戸１０６は鉛直状態である。コンテナ７２はロボ
ット１１６のサポート１２４に載置されている。ロボッ
ト１１６が機械７６に接近すると、アーム１２２の位置
は、コンテナ７２のノーズ１０４がコンテナ７４のノー
ズ１０５と同じ高さになるように調整される。この時点
でコンテナ７４の戸１０９が開く。戸１０９はコンテナ
７２の戸１０６と同様に装着されている。
ット１１６のサポート１２４に載置されている。ロボッ
ト１１６が機械７６に接近すると、アーム１２２の位置
は、コンテナ７２のノーズ１０４がコンテナ７４のノー
ズ１０５と同じ高さになるように調整される。この時点
でコンテナ７４の戸１０９が開く。戸１０９はコンテナ
７２の戸１０６と同様に装着されている。
戸１０９は以下の方法で開かれる。戸１０９の外部に湾
曲アーム１３２が配備され、該アームはコンテナ７４に
対して固定された電磁石１３４のエアギャップに入る。
曲アーム１３２が配備され、該アームはコンテナ７４に
対して固定された電磁石１３４のエアギャップに入る。
戸１０９が開鎖位置即ち鉛直状態のとき、アーム１３２
の一端だけが電磁石のエアギャップ内に維持される。電
磁石が励起されると、アーム１３２が吸引されて上昇し
、その結果戸が次第に開く。
の一端だけが電磁石のエアギャップ内に維持される。電
磁石が励起されると、アーム１３２が吸引されて上昇し
、その結果戸が次第に開く。
コンテナ７２の戸１０６は、コンテナ７４のノーズ１０
５に装着された２組の磁石によって開かれる。このよう
な組磁石は、保管キャビネットの戸の開放システムに使
用され得る磁石と同様である。これらの磁石に関しては
第７図及び第８図に基づいて後述する。
５に装着された２組の磁石によって開かれる。このよう
な組磁石は、保管キャビネットの戸の開放システムに使
用され得る磁石と同様である。これらの磁石に関しては
第７図及び第８図に基づいて後述する。
コンテナ７２が適正高さに配置されコンテナ７４の戸１
０９が開くと、コンテナ７２の戸１０６が開き、ロボッ
ト１１６が作動してコンテナ７２のノーズ１０４をコン
テナ７４のノーズ１０５の内部に少し侵入させる。２つ
のコンテナか外部に対して過圧下に維持されるので、２
つのコンテナ内に存在する極めて清浄な空気が、２つの
コンテナのノーズ間のスペースを介して外部に排出され
得る。サポート１２４（第６図）の電磁石１２６が励起
されると、それまで収縮位置（即ち実質的に第４図及び
第６図の位置）に存在していたロッド１２８と１１０と
が第４図及び第６図に関して左方向に進み、ロッド１１
０の磁石１１２がバスケラＩ・１４の磁石１１４の下方
に到達する。バスケットの下部に設けられたスロット２
２（第３図）はロッド１１０の末端を挿通せしめる。磁
石１１２，１１４が互いに接触すると、電磁石１１２が
励起され、バスケット１４がロッドの末端に維持される
。ロッドは例えば連結手段１３０ヲ介して少し上昇し、
第４図に関して左方向に移動し、バスケット１４はコン
テナ７４内の開ロア８上方の位置１４ｃに到達する。次
に機械のエレベータ８０が上昇位置（第４図に示す位置
）に到達し、ロッド１１０が下降してバスケットがエレ
ベータに載置される。磁石１１２が消磁され、ロッド１
１０が収縮する。エレベータ８０は機械内で（第６図）
下降し、チップは一点鎖線で概略的に示す位置２４ａに
配置される。これらのチップは次に作業ステーション７
７に搬送される。
０９が開くと、コンテナ７２の戸１０６が開き、ロボッ
ト１１６が作動してコンテナ７２のノーズ１０４をコン
テナ７４のノーズ１０５の内部に少し侵入させる。２つ
のコンテナか外部に対して過圧下に維持されるので、２
つのコンテナ内に存在する極めて清浄な空気が、２つの
コンテナのノーズ間のスペースを介して外部に排出され
得る。サポート１２４（第６図）の電磁石１２６が励起
されると、それまで収縮位置（即ち実質的に第４図及び
第６図の位置）に存在していたロッド１２８と１１０と
が第４図及び第６図に関して左方向に進み、ロッド１１
０の磁石１１２がバスケラＩ・１４の磁石１１４の下方
に到達する。バスケットの下部に設けられたスロット２
２（第３図）はロッド１１０の末端を挿通せしめる。磁
石１１２，１１４が互いに接触すると、電磁石１１２が
励起され、バスケット１４がロッドの末端に維持される
。ロッドは例えば連結手段１３０ヲ介して少し上昇し、
第４図に関して左方向に移動し、バスケット１４はコン
テナ７４内の開ロア８上方の位置１４ｃに到達する。次
に機械のエレベータ８０が上昇位置（第４図に示す位置
）に到達し、ロッド１１０が下降してバスケットがエレ
ベータに載置される。磁石１１２が消磁され、ロッド１
１０が収縮する。エレベータ８０は機械内で（第６図）
下降し、チップは一点鎖線で概略的に示す位置２４ａに
配置される。これらのチップは次に作業ステーション７
７に搬送される。
機械内の加工又は処理が終了すると、チップを保管キャ
ビネットに入れる必要がある。以下の手順が採用される
。機械内でチップを作業位置７７から位置２４ａに搬送
し、エレベータ８０がチップをコンテナ７４に入れる。
ビネットに入れる必要がある。以下の手順が採用される
。機械内でチップを作業位置７７から位置２４ａに搬送
し、エレベータ８０がチップをコンテナ７４に入れる。
ロッド１１０の末端がバスケラ１−１４の下方を通るま
でロッド１１を移動させ、電磁石１１２を励起し、ロッ
ド１１０を少し上昇させる。次に電磁石１２６を励起し
、ロッド１２８と１１０とを第４図及び第６図に関して
右方向に移動させ、バスケット１４をコンテナ７２内の
位置１４ａに戻す。
でロッド１１を移動させ、電磁石１１２を励起し、ロッ
ド１１０を少し上昇させる。次に電磁石１２６を励起し
、ロッド１２８と１１０とを第４図及び第６図に関して
右方向に移動させ、バスケット１４をコンテナ７２内の
位置１４ａに戻す。
転送中にバスケットをコンテナ７２内に確実に維持する
ために、バスケットの脚に磁石１３６を配備し、該磁石
をコンテナの下部壁に備えられた磁石１３８と協働させ
る。
ために、バスケットの脚に磁石１３６を配備し、該磁石
をコンテナの下部壁に備えられた磁石１３８と協働させ
る。
次にロッド１１０を第４図に示す初期位置に配置する。
この位置ではロッドの末端がバスケット１４の下方に存
在しない。次にロボット１１６を移動させ、コンテナ７
２のノーズをコンテナ７４のノーズ外に出す。電磁石１
３４を消磁し、コンテナ７４の戸１０９を再度閉鎖し、
コンテナ７２の戸１０６も閉鎖する。
在しない。次にロボット１１６を移動させ、コンテナ７
２のノーズをコンテナ７４のノーズ外に出す。電磁石１
３４を消磁し、コンテナ７４の戸１０９を再度閉鎖し、
コンテナ７２の戸１０６も閉鎖する。
次にロボットを移動させて、保管キャビネット１０の前
方に到達させると、ケース９６の最も長い辺がキャビネ
ットの前面パネル３５の平面に垂直になるような位置に
コンテナ７２が配置されろく第７図）。
方に到達させると、ケース９６の最も長い辺がキャビネ
ットの前面パネル３５の平面に垂直になるような位置に
コンテナ７２が配置されろく第７図）。
選択された戸の前方にロボットを配置するためには、キ
ャビネット前面パネルの片側に配置された原点感知セン
サ（ｏｒｉｇｉｎ ｔａｒｇｅｔｉｎｇ（５ｅｎｓｏｒ
）１４０を用いる。ロボットはデテクタ１４４によって
センサに位置合わせされる。該センサは、例えば赤外線
センサ、接近センサ又はその他の等価の素子である。ロ
ボットはそれ自体をリセットし、次にそのデータ処理シ
ステムによって前記の特定位置から選択された戸例えば
第７図の戸６８ａに案内される。精密センサ（ｆｉｎｅ
ｔａｒｇｅｔｉＢ ５ｅｎｓｏｒ）たる第２センサ１
４２はデテクタ１４４を介して選択された戸の前方にロ
ボットを完全に位置合わせ及び位置決めし得る。センサ
１４２の個数はキャビネットの前面パネル３５の戸の個
数に対応する。これらのセンサは実際の戸の上に配置さ
れてもよく、又はパネル３５の別の素子の任意の位置に
配置されてもよく、ロボットのデータ処理システムはそ
の関数としてプログラムされる。
ャビネット前面パネルの片側に配置された原点感知セン
サ（ｏｒｉｇｉｎ ｔａｒｇｅｔｉｎｇ（５ｅｎｓｏｒ
）１４０を用いる。ロボットはデテクタ１４４によって
センサに位置合わせされる。該センサは、例えば赤外線
センサ、接近センサ又はその他の等価の素子である。ロ
ボットはそれ自体をリセットし、次にそのデータ処理シ
ステムによって前記の特定位置から選択された戸例えば
第７図の戸６８ａに案内される。精密センサ（ｆｉｎｅ
ｔａｒｇｅｔｉＢ ５ｅｎｓｏｒ）たる第２センサ１
４２はデテクタ１４４を介して選択された戸の前方にロ
ボットを完全に位置合わせ及び位置決めし得る。センサ
１４２の個数はキャビネットの前面パネル３５の戸の個
数に対応する。これらのセンサは実際の戸の上に配置さ
れてもよく、又はパネル３５の別の素子の任意の位置に
配置されてもよく、ロボットのデータ処理システムはそ
の関数としてプログラムされる。
キャビネット１０の前面パネル３５は、一群の鉛直支柱
１４６と水平バー１４８とから構成され得る。従って正
方形又は長方形断面をもつ開口が形成され、これらの開
口の寸法はラックの寸法に対応する。
１４６と水平バー１４８とから構成され得る。従って正
方形又は長方形断面をもつ開口が形成され、これらの開
口の寸法はラックの寸法に対応する。
戸は正方形又は長方形のパネルであり、戸の寸法は上記
のごとく形成された開口の寸法と等しい。
のごとく形成された開口の寸法と等しい。
好適具体例において、各戸の上縁が水平バー１４８の１
つに固定され、該バーに平行な水平軸のまわりで回動し
得る。従来のヒンジによって生じ粒子即ちダストを発生
を誘発する摩擦を阻止するために、可変形性の薄いシー
１〜１５０（第８図）を用いてキャビネットの前面パネ
ル３５に戸６８が装着される。
つに固定され、該バーに平行な水平軸のまわりで回動し
得る。従来のヒンジによって生じ粒子即ちダストを発生
を誘発する摩擦を阻止するために、可変形性の薄いシー
１〜１５０（第８図）を用いてキャビネットの前面パネ
ル３５に戸６８が装着される。
これらのシートの長さは、実質的に戸の上縁の長さてあ
り、各シートは一方で戸６８の上方に配置された水平バ
ーに固定され他方で戸自体の上部に固定される。従って
、戸の回動によって摩擦が全く生じることなく該シート
の変形が生じるだけである。
り、各シートは一方で戸６８の上方に配置された水平バ
ーに固定され他方で戸自体の上部に固定される。従って
、戸の回動によって摩擦が全く生じることなく該シート
の変形が生じるだけである。
更に、戸の寸法は、支柱１４６，１４８によって形成さ
れる開口の寸法と正確に等しい寸法ではなく、キャビネ
ットが室に対して過圧に維持されているときに空気をキ
ャビネットから外部に逃がすための幅約１ｍｍの通路を
形成するように開口の寸法よりもやや小さい。従って第
７図及び第８図に符号（ｉ８ａで示す戸は、実質的に鉛
直状態の閉鎖位置６８ａ１と、薄いシート１５０の変形
を伴って回動し実質的に水平状態になった開放位置６８
ａ２との間で可動である。各戸を閉鎖状態に維持し、特
にキャビネット内の支配的過圧の作用下に過度に開かな
いように磁石システムが配備される。このシステムは、
戸の下部好ましくは戸の下縁の中央の第１磁石１５２と
、パネル３５に対して固定され戸の下縁に対応する水平
バー１３８の中央に磁石１５２に向き合って配置され得
る第２磁石１５４とから成る。人間オペレータが戸を開
くときはノブによって戸が開かれ、ロボットが使用され
るときは後述するごとく磁石１５６て戸が開かれる。
れる開口の寸法と正確に等しい寸法ではなく、キャビネ
ットが室に対して過圧に維持されているときに空気をキ
ャビネットから外部に逃がすための幅約１ｍｍの通路を
形成するように開口の寸法よりもやや小さい。従って第
７図及び第８図に符号（ｉ８ａで示す戸は、実質的に鉛
直状態の閉鎖位置６８ａ１と、薄いシート１５０の変形
を伴って回動し実質的に水平状態になった開放位置６８
ａ２との間で可動である。各戸を閉鎖状態に維持し、特
にキャビネット内の支配的過圧の作用下に過度に開かな
いように磁石システムが配備される。このシステムは、
戸の下部好ましくは戸の下縁の中央の第１磁石１５２と
、パネル３５に対して固定され戸の下縁に対応する水平
バー１３８の中央に磁石１５２に向き合って配置され得
る第２磁石１５４とから成る。人間オペレータが戸を開
くときはノブによって戸が開かれ、ロボットが使用され
るときは後述するごとく磁石１５６て戸が開かれる。
かかるロボット１５８の１つの例を第７図及び第８図に
示す。第７図によればロボットはまず、キャビネットの
上部に固定された水平レール１６２に沿って移動するキ
ャリッジ１６０を含む。鉛直レール１６４がキャリッジ
１６０に装着されており、サポート１６６が該レールに
沿って移動し得る。ロボット１５８を構成する種々の素
子の寸法及び位置は、レール１６２に沿ったキャリッジ
１６０の移動中に鉛直レール１６４と可動サポート１６
６と該サポートに装着された全部の素子とがキャビネッ
トの前面パネル３５の前方に維持されるように選択され
る。可動アーム１７０を制御するモータ１６８が可動サ
ポー１−１６６に固定されている６該アームは、軸のま
わりで回転自在な水平第１部分と第１部分に垂直で末端
に磁石１７２を担持する第２部分とをもつ。該磁石１７
２は磁石１５６と協働し得る。レール１６２上のキャリ
ッジ１６０の移動とレール１６４上のサポート１６６の
移動とは制御素子１６７によって調整され得る。該制御
素子自体は任意にロボット１１６によって制御され得る
。
示す。第７図によればロボットはまず、キャビネットの
上部に固定された水平レール１６２に沿って移動するキ
ャリッジ１６０を含む。鉛直レール１６４がキャリッジ
１６０に装着されており、サポート１６６が該レールに
沿って移動し得る。ロボット１５８を構成する種々の素
子の寸法及び位置は、レール１６２に沿ったキャリッジ
１６０の移動中に鉛直レール１６４と可動サポート１６
６と該サポートに装着された全部の素子とがキャビネッ
トの前面パネル３５の前方に維持されるように選択され
る。可動アーム１７０を制御するモータ１６８が可動サ
ポー１−１６６に固定されている６該アームは、軸のま
わりで回転自在な水平第１部分と第１部分に垂直で末端
に磁石１７２を担持する第２部分とをもつ。該磁石１７
２は磁石１５６と協働し得る。レール１６２上のキャリ
ッジ１６０の移動とレール１６４上のサポート１６６の
移動とは制御素子１６７によって調整され得る。該制御
素子自体は任意にロボット１１６によって制御され得る
。
第６図のロボット１１６が、選択された戸６８ａの前方
にコンテナ７２を案内すると、キャリッジ１６０がレー
ル１６２に沿って移動し、サポート１６６はレール１６
４に沿って鉛直移動して磁石１７２を磁石１５６に対向
させる。磁石１７２は電磁石でもよく、所望の時点にロ
ボット１５８の制御素子によって励起される。
にコンテナ７２を案内すると、キャリッジ１６０がレー
ル１６２に沿って移動し、サポート１６６はレール１６
４に沿って鉛直移動して磁石１７２を磁石１５６に対向
させる。磁石１７２は電磁石でもよく、所望の時点にロ
ボット１５８の制御素子によって励起される。
モータ１６８が起動するとアーム１７０が水平軸の回り
で回転し戸を開く。キャビネット１０の前面パネル３５
に垂直な平坦プレーＩ・から成る２つのアーム１７４が
サポート１６６に配備されている。２つのアーム１７４
間の間隔は戸６８の幅よりやや大きい。アーム１７４の
各々は、コンテナ７２の戸１０６を開くため後述するご
とく使用される一連の磁石１７６を備える。
で回転し戸を開く。キャビネット１０の前面パネル３５
に垂直な平坦プレーＩ・から成る２つのアーム１７４が
サポート１６６に配備されている。２つのアーム１７４
間の間隔は戸６８の幅よりやや大きい。アーム１７４の
各々は、コンテナ７２の戸１０６を開くため後述するご
とく使用される一連の磁石１７６を備える。
ロボット１１６が、選択された戸の前方にある程度間開
してコンテナ７２を案内すると、ロボット１５８が移動
してアーム１７４が該戸を包囲する。モータ１６８が起
動し、アーム１７０が戸６８ａを開く。次にロボット１
１６が前記コンテナ７２の戸１０６をパネル３５の反対
側のアーム１７４の末端の近傍に案内する。コンテナの
戸１０６はキャビネットの戸と同様に、薄いシートを介
してその上縁のまわりで回動するように装着されている
。第８図の位置に到達すると、戸１０６の下部はキャビ
ネットの反対側のアーム１７４の末端に位置する磁石１
７６ａによって吸引される。
してコンテナ７２を案内すると、ロボット１５８が移動
してアーム１７４が該戸を包囲する。モータ１６８が起
動し、アーム１７０が戸６８ａを開く。次にロボット１
１６が前記コンテナ７２の戸１０６をパネル３５の反対
側のアーム１７４の末端の近傍に案内する。コンテナの
戸１０６はキャビネットの戸と同様に、薄いシートを介
してその上縁のまわりで回動するように装着されている
。第８図の位置に到達すると、戸１０６の下部はキャビ
ネットの反対側のアーム１７４の末端に位置する磁石１
７６ａによって吸引される。
次にこの戸は第８図に関して時計回り方向に回動し従っ
て少し開く。ロボット１１６がコンテナ７２を前進させ
るので戸が別の磁石１７６によって順次吸引されること
によって次第に開く。磁石１７６の列が水平に対してや
や傾斜し末端磁石１７６ａから順次上がっていくことに
注目されたい。しかしながら既に説明したような磁石の
吸引によって戸が閉鎖位置に戻らないように可撓性金属
チー１１７８から成る維持デバイスが配備されている。
て少し開く。ロボット１１６がコンテナ７２を前進させ
るので戸が別の磁石１７６によって順次吸引されること
によって次第に開く。磁石１７６の列が水平に対してや
や傾斜し末端磁石１７６ａから順次上がっていくことに
注目されたい。しかしながら既に説明したような磁石の
吸引によって戸が閉鎖位置に戻らないように可撓性金属
チー１１７８から成る維持デバイスが配備されている。
該テープの一端は戸１０６の外面に固定されている。戸
１．０６の開放中ばテープ１７８を不断に張力下に維持
して戸が落ちないようにするなめに電磁石１８０が前記
テープに作用する。従って戸１０６はいくつかの中間位
置１０６ａを介して実質的に水平な開放位置１０６ｂに
到達する。ロボット１１６の移動が継続し、コンテナ７
２のノーズ１０４がキャビネットの内部に侵入する。
１．０６の開放中ばテープ１７８を不断に張力下に維持
して戸が落ちないようにするなめに電磁石１８０が前記
テープに作用する。従って戸１０６はいくつかの中間位
置１０６ａを介して実質的に水平な開放位置１０６ｂに
到達する。ロボット１１６の移動が継続し、コンテナ７
２のノーズ１０４がキャビネットの内部に侵入する。
この場合、該ノーズの寸法は、コンテナ７２のノーズか
キャビネットに侵入するだけでなく任意にチップのバス
ケットを保管するラックにも侵入するように選択されて
いる。
キャビネットに侵入するだけでなく任意にチップのバス
ケットを保管するラックにも侵入するように選択されて
いる。
従って、コンテナ７２が所定位置に配置されると、ロッ
ド１１．０が移動し、コンテナ７２の内部から選択ラッ
クの底部にバスケット１４を転送する。この作業は、コ
ンテナ７２と機械７６のエレベータ８０との間のバスケ
ラ１〜の転送〈第４図）と同様に行なわれるので詳細に
は説明しない。バスケットがラック内に配置されると、
ロッド１１０か収縮し、ロボット１１６が戻り、コンテ
ナ７２の戸１０６は、テープ１７８を徐々に弛緩させる
ために磁石１８０を徐々に消磁することによって再度閉
鎖される。ロボット１５８のアーム１７０は回転し、戸
６８ａを徐々に再閉鎖し、磁石１７２は消磁される。次
にロボット１５８は別の位置即ち別の戸の前方に案内さ
れるか又は休止もしくは待機位置に案内される。
ド１１．０が移動し、コンテナ７２の内部から選択ラッ
クの底部にバスケット１４を転送する。この作業は、コ
ンテナ７２と機械７６のエレベータ８０との間のバスケ
ラ１〜の転送〈第４図）と同様に行なわれるので詳細に
は説明しない。バスケットがラック内に配置されると、
ロッド１１０か収縮し、ロボット１１６が戻り、コンテ
ナ７２の戸１０６は、テープ１７８を徐々に弛緩させる
ために磁石１８０を徐々に消磁することによって再度閉
鎖される。ロボット１５８のアーム１７０は回転し、戸
６８ａを徐々に再閉鎖し、磁石１７２は消磁される。次
にロボット１５８は別の位置即ち別の戸の前方に案内さ
れるか又は休止もしくは待機位置に案内される。
バスケットを別の場所に転送すべくキャビネットから取
り出す作業は以下のごとく行なわれる。
り出す作業は以下のごとく行なわれる。
ロボット１１６を対応する戸の前方に案内しロボット１
５８も同様にする。キャビネットの戸を前記同様に開き
、コンテナの接近作業及び戸１０６の開放作業を前記と
同様に行なう。次にロッド１１０を前進させてバスケッ
トの下方に案内し、バスケットを上昇させ、バスケット
を機械から取り出す場合と同様にコンテナ７２内の受容
部に案内する。ロボット１１６は後退し、キャビネット
の戸とコンテナ７２の戸１０６とが閉鎖される。
５８も同様にする。キャビネットの戸を前記同様に開き
、コンテナの接近作業及び戸１０６の開放作業を前記と
同様に行なう。次にロッド１１０を前進させてバスケッ
トの下方に案内し、バスケットを上昇させ、バスケット
を機械から取り出す場合と同様にコンテナ７２内の受容
部に案内する。ロボット１１６は後退し、キャビネット
の戸とコンテナ７２の戸１０６とが閉鎖される。
第９図は、保管用キャビネットラックの可能な別の構造
を示す。第１図及び第２図のラックは、隔壁１６と水平
シート１８とによって形成されておりキャビネットの前
方スペース３４が完全にフリーになるような寸法である
。しかしながら本発明の範囲内で、両端の各々が開口し
フィルタ２８の下流面とキャビネットの前面パネル３５
との間の間隔に等しい長さをもつ直方体の形状のレセプ
タクル１８２（第９図）を使用することも可能である。
を示す。第１図及び第２図のラックは、隔壁１６と水平
シート１８とによって形成されておりキャビネットの前
方スペース３４が完全にフリーになるような寸法である
。しかしながら本発明の範囲内で、両端の各々が開口し
フィルタ２８の下流面とキャビネットの前面パネル３５
との間の間隔に等しい長さをもつ直方体の形状のレセプ
タクル１８２（第９図）を使用することも可能である。
戸６８の近傍の前記レセプタクルの領域ではスペース３
４の空気を通過せしめるために両側に開口１８４が設け
られることは明らかである。この場合、バスケット１４
はスライド１８６内に収容され、該スライドの断面はレ
セプタクル１８２の断面と同様であるが、レセプタクル
の断面より小さく従ってスライド１８６がレセプタクル
１８２に侵入し得る。スライドはレセプタクル１８２と
同じ長さをもち、また戸６８の近傍に空気通過用開口１
８８をもつ。スライド１８６はキャビネットの外部で戸
６８の下縁近傍に配置されたノブ又は磁石１９０を備え
ていてもよい。この構造によれば、ノブ又は磁石１９０
によってスライドをキャビネットの外部に移動させ、バ
スケット１４をコンテナ７２の挾持手段に向かって移動
させることが可能である。
４の空気を通過せしめるために両側に開口１８４が設け
られることは明らかである。この場合、バスケット１４
はスライド１８６内に収容され、該スライドの断面はレ
セプタクル１８２の断面と同様であるが、レセプタクル
の断面より小さく従ってスライド１８６がレセプタクル
１８２に侵入し得る。スライドはレセプタクル１８２と
同じ長さをもち、また戸６８の近傍に空気通過用開口１
８８をもつ。スライド１８６はキャビネットの外部で戸
６８の下縁近傍に配置されたノブ又は磁石１９０を備え
ていてもよい。この構造によれば、ノブ又は磁石１９０
によってスライドをキャビネットの外部に移動させ、バ
スケット１４をコンテナ７２の挾持手段に向かって移動
させることが可能である。
第１０図から第１７図は本発明の固定コンテナ及び可動
コンテナの第２具体例を示す。
コンテナの第２具体例を示す。
第１０図によれば、参照符号２１０で示される第２具体
例・のコンテナは、処理又は加工すべき１つ又は複数の
物体の受容部を備える。後述するごとく該物体はサポー
ト２１２に載置されたシリコンチップでもよい。
例・のコンテナは、処理又は加工すべき１つ又は複数の
物体の受容部を備える。後述するごとく該物体はサポー
ト２１２に載置されたシリコンチップでもよい。
この第２具体例によれば、装置内で過圧を生成しガスを
循環させる手段は、外部の超清浄加圧ガス源から成る。
循環させる手段は、外部の超清浄加圧ガス源から成る。
コンテナ２１０は入口２１４をもち、パイプ２１６を介
してダクト２１８と連通し得る。該ダクトは図示しない
超清浄ガス源に接続されている。該ガス源は公知の任意
のタイプでよく、特に加圧超清浄ガスを供給し得る源で
もよい。この具体例においてパイプ２１６は、ダクト２
１８からコンテナ２１０に向かって活性炭素フィルタ２
２０と圧力調整装置２２２と１組の高圧フィルタ２２４
とを順次に含む。活性炭素フィルタ２２０とフィルタ２
２４との存在は必須ではなく、これらの使用は源によっ
て供給される空気の清浄度次第であり、超清浄加圧空気
をえるためにシステムにこれらの素子が任意に組み込ま
れることが理解されよう。重要なことは、入口２１４か
らコンテナに流入するガスが所望の用途に適した清浄度
をもつことである。圧力調整装置２２２はサーボ制御デ
バイス２２８を介してコンテナ２１０に内蔵された圧力
センサ２２６に接続されている。従って、コンテナ２１
０内の定圧を維持するためにパイプ２１６内を循環する
ガス流を操作することが可能である。
してダクト２１８と連通し得る。該ダクトは図示しない
超清浄ガス源に接続されている。該ガス源は公知の任意
のタイプでよく、特に加圧超清浄ガスを供給し得る源で
もよい。この具体例においてパイプ２１６は、ダクト２
１８からコンテナ２１０に向かって活性炭素フィルタ２
２０と圧力調整装置２２２と１組の高圧フィルタ２２４
とを順次に含む。活性炭素フィルタ２２０とフィルタ２
２４との存在は必須ではなく、これらの使用は源によっ
て供給される空気の清浄度次第であり、超清浄加圧空気
をえるためにシステムにこれらの素子が任意に組み込ま
れることが理解されよう。重要なことは、入口２１４か
らコンテナに流入するガスが所望の用途に適した清浄度
をもつことである。圧力調整装置２２２はサーボ制御デ
バイス２２８を介してコンテナ２１０に内蔵された圧力
センサ２２６に接続されている。従って、コンテナ２１
０内の定圧を維持するためにパイプ２１６内を循環する
ガス流を操作することが可能である。
保管キャビネットに関しては、該キャビネットと外部超
真空ガス源との接続は、ファン５０（第１図）を削除し
、該ファンに代替して、ガス源に接続されたダクトをも
つ継手を用いることによって行なわれる。
真空ガス源との接続は、ファン５０（第１図）を削除し
、該ファンに代替して、ガス源に接続されたダクトをも
つ継手を用いることによって行なわれる。
第１０図によれば、コンテナは入口２１４の反対側に、
処理される物体を掃引しながら該コンテナを通過する空
気の出口２３０をもつ。第１０図の位置では出口が複数
の小開口をもつパネルの形状の戸２３２によって閉鎖さ
れている。後述するごとくこの構造によれば、開口を通
過するガスが高速であり従って開口での粒子の堆積が阻
止され室内の粒子がコンテナに侵入することが阻止され
る。
処理される物体を掃引しながら該コンテナを通過する空
気の出口２３０をもつ。第１０図の位置では出口が複数
の小開口をもつパネルの形状の戸２３２によって閉鎖さ
れている。後述するごとくこの構造によれば、開口を通
過するガスが高速であり従って開口での粒子の堆積が阻
止され室内の粒子がコンテナに侵入することが阻止され
る。
このｉ造によれば、第１１図に示すごとく長さｅにわた
って「空気壁」を得ることが可能である。第１１図は圧
力Ｐ（パスカル）と速度ｖ（ｍ／秒）との変化をコンテ
ナ内部及び外部の場所Ｘの関数として示すグラフである
。例えばコンテナが長さ３００ｍｍ 、幅１２０１及び
高さ１６０Ｉで空気漏洩率は正面流（ｆｒｏｎｔｆｌｏ
ｗ）の約２０％である。空気漏洩率は、コンテナを通過
して戸から流出せずコンテナの別の間隙に入る空気流の
割合（戸とコンテナ壁との間のスペース、コンテナ壁を
貫通する素子等の処での漏洩）である。かかるコンテナ
を掃引するガス流は約２５ｍ ２７時である。第１１図
はコンテナ内部の速度Ｖが例えば０．３＋ｎ／秒である
ことを示す０戸の処で速度が急上昇し例えば長さｅの間
は３ｍ／秒であり次にコンテナ外部で速度が徐々に低下
して初期値に戻り、コンテナからかなりの距離を隔てる
と速度が零になることもある。過圧はコンテナ内部で例
えば１００Ｐ、ａであり、次に戸の処から低下し始めは
るかに低い値に達する。第１１図で留意すべきは、値Ｐ
がコンテナ内部と室との間の圧力差を示しガスの絶対圧
力を示すのではないことである。コンテナの内部と外部
との間の圧力差は約５０〜８００Ｐａである。
って「空気壁」を得ることが可能である。第１１図は圧
力Ｐ（パスカル）と速度ｖ（ｍ／秒）との変化をコンテ
ナ内部及び外部の場所Ｘの関数として示すグラフである
。例えばコンテナが長さ３００ｍｍ 、幅１２０１及び
高さ１６０Ｉで空気漏洩率は正面流（ｆｒｏｎｔｆｌｏ
ｗ）の約２０％である。空気漏洩率は、コンテナを通過
して戸から流出せずコンテナの別の間隙に入る空気流の
割合（戸とコンテナ壁との間のスペース、コンテナ壁を
貫通する素子等の処での漏洩）である。かかるコンテナ
を掃引するガス流は約２５ｍ ２７時である。第１１図
はコンテナ内部の速度Ｖが例えば０．３＋ｎ／秒である
ことを示す０戸の処で速度が急上昇し例えば長さｅの間
は３ｍ／秒であり次にコンテナ外部で速度が徐々に低下
して初期値に戻り、コンテナからかなりの距離を隔てる
と速度が零になることもある。過圧はコンテナ内部で例
えば１００Ｐ、ａであり、次に戸の処から低下し始めは
るかに低い値に達する。第１１図で留意すべきは、値Ｐ
がコンテナ内部と室との間の圧力差を示しガスの絶対圧
力を示すのではないことである。コンテナの内部と外部
との間の圧力差は約５０〜８００Ｐａである。
第１０図を再度参照すると、所与の方向を指向する加圧
された超清浄ガスジェットによってコンテナ内部洗浄し
得るシステムが配備されていることが理解されよう。こ
のシステムは、例えば、デバイスを超清浄ガス源に接続
するパイプ２１８にパイプ２３６を介して接続された複
数のノズル２３４をもつ。
された超清浄ガスジェットによってコンテナ内部洗浄し
得るシステムが配備されていることが理解されよう。こ
のシステムは、例えば、デバイスを超清浄ガス源に接続
するパイプ２１８にパイプ２３６を介して接続された複
数のノズル２３４をもつ。
この洗浄処理を行なうためには、調整装置２２２を閉鎖
しパイプ２１８のガスをまず活性炭フィルタ２２０、次
に圧力調整装置２３８、遠隔制御遮断弁２４０、最後に
１組の絶対フィルタ２４２に順次通す。コンテナ内部に
処理すべき物体が全く存在しないときはこの装置によっ
て所定の場所から超清浄空気を吹き込むことによってコ
ンテナ内部を洗浄し得る。ノズノｕ２３４の個数及び配
置はこのような洗浄が必要な場所に依存する。当業者は
個々の場合に対応してパイプ２１８とノズル２３４との
間に配置される素子の個数と配置とを容易に変更し得る
ことは理解されよう。
しパイプ２１８のガスをまず活性炭フィルタ２２０、次
に圧力調整装置２３８、遠隔制御遮断弁２４０、最後に
１組の絶対フィルタ２４２に順次通す。コンテナ内部に
処理すべき物体が全く存在しないときはこの装置によっ
て所定の場所から超清浄空気を吹き込むことによってコ
ンテナ内部を洗浄し得る。ノズノｕ２３４の個数及び配
置はこのような洗浄が必要な場所に依存する。当業者は
個々の場合に対応してパイプ２１８とノズル２３４との
間に配置される素子の個数と配置とを容易に変更し得る
ことは理解されよう。
第１０図によればまた、入口２１４と処理すべき物体が
ａ置されるサポート２１２どの間に空気拡ｔｌｌ！Ｒと
して機能する格子又はｌｊ！７２４４を配備し処理又は
加工すべき物体のレベルで層流ジェットを与えることも
可能である。後述するごとくこの格子は通電されイオン
化装置として使用されてもよい。
ａ置されるサポート２１２どの間に空気拡ｔｌｌ！Ｒと
して機能する格子又はｌｊ！７２４４を配備し処理又は
加工すべき物体のレベルで層流ジェットを与えることも
可能である。後述するごとくこの格子は通電されイオン
化装置として使用されてもよい。
第１２図は、加工機内でシリコンチップの転送を行なう
ために本発明の２つのコンテナを結合する方法を示す。
ために本発明の２つのコンテナを結合する方法を示す。
第１２図は、図示しない保管キャビネットと加工機２４
６との間でシリコンチップを転送し得るキャリッジ２４
７に装着された第１コンテナ２１０ａを示す。
６との間でシリコンチップを転送し得るキャリッジ２４
７に装着された第１コンテナ２１０ａを示す。
２１０ａと同タイプの第２コンテナ２１０ｂが機械２４
６に装着されている。コンテナ２１０ｂは該ｖ１械と一
体的な部分でもよく又は該機械に配置されるだけでもよ
い。
６に装着されている。コンテナ２１０ｂは該ｖ１械と一
体的な部分でもよく又は該機械に配置されるだけでもよ
い。
第１２図はコンテナ２１０ａを加圧ガス源に接続するパ
イプ２１６とコンテナ２１０ｂを同じ源又は例えばポン
プ２５０を介して別の源に接続するパイプ２４８とを示
す。コンテナ２１０ａ内部のサポート２１２は挾持昇降
デバイス２５２によって該コンテナ内で可動である。デ
バイス２５２の動作に関しては第１３図に基づいてより
詳細に後述する。サポート２１２の移動によってコンテ
ナ２１０ｂ内に位置するサポート２１３にシリコンチッ
プが転送され得る。コンテナ２１０ｂの下部に開口２５
４が設けられ、該開口はコンテナ２１０ｂを機械２４６
の内部に接続する。サポート２１３は、コンテナ２１０
ｂに内蔵された実線で示す位置２１３ａと機械２４６に
内蔵された一点鎖線で示す位置２１３ｂとの間で可動で
ある。機械２４６に内蔵されたデバイス２５６は、該機
械に収容されたシリコンチップをサポート２１３の位置
２１３ｂと加工ステージョン２５８との間で搬送し得る
。最後に、コンテナ２１０ａ及び２１０ｂの各々は凹部
２６０．２６２をもち、これらは夫々間いた状態の戸２
３２ 、２３３に位置合わせされる。第１２図はコンテ
ナ２１０ａに配備された格子２４４と必要に応じてコン
テナ２１０ｂに配備される同様の格子２４５とを示す。
イプ２１６とコンテナ２１０ｂを同じ源又は例えばポン
プ２５０を介して別の源に接続するパイプ２４８とを示
す。コンテナ２１０ａ内部のサポート２１２は挾持昇降
デバイス２５２によって該コンテナ内で可動である。デ
バイス２５２の動作に関しては第１３図に基づいてより
詳細に後述する。サポート２１２の移動によってコンテ
ナ２１０ｂ内に位置するサポート２１３にシリコンチッ
プが転送され得る。コンテナ２１０ｂの下部に開口２５
４が設けられ、該開口はコンテナ２１０ｂを機械２４６
の内部に接続する。サポート２１３は、コンテナ２１０
ｂに内蔵された実線で示す位置２１３ａと機械２４６に
内蔵された一点鎖線で示す位置２１３ｂとの間で可動で
ある。機械２４６に内蔵されたデバイス２５６は、該機
械に収容されたシリコンチップをサポート２１３の位置
２１３ｂと加工ステージョン２５８との間で搬送し得る
。最後に、コンテナ２１０ａ及び２１０ｂの各々は凹部
２６０．２６２をもち、これらは夫々間いた状態の戸２
３２ 、２３３に位置合わせされる。第１２図はコンテ
ナ２１０ａに配備された格子２４４と必要に応じてコン
テナ２１０ｂに配備される同様の格子２４５とを示す。
次に、コンテナ２１０ａ及び２１０ｂの細部と、これら
２つのコンテナの結合手順と、一方から他方へのシリコ
ンチップの転送とに関して第１３図及び第１５図に基づ
いて説明する。
２つのコンテナの結合手順と、一方から他方へのシリコ
ンチップの転送とに関して第１３図及び第１５図に基づ
いて説明する。
コンテナ２１０ａはバイブ２１６を介して超清浄ガス源
に接続され入口２１４とサポート２１２との間に配置さ
れた格子２４４を備えることが理解されよう。サポート
は棚段状の軌道又は通路２６２を含み各軌道にシリコン
チップ２６４が配置されている。これらのチップの各々
はエアクッションによって対応する通路に維持され、空
気は各通路の内部に吹き込まれ各通路の上面に設けられ
た開口から流出する。
に接続され入口２１４とサポート２１２との間に配置さ
れた格子２４４を備えることが理解されよう。サポート
は棚段状の軌道又は通路２６２を含み各軌道にシリコン
チップ２６４が配置されている。これらのチップの各々
はエアクッションによって対応する通路に維持され、空
気は各通路の内部に吹き込まれ各通路の上面に設けられ
た開口から流出する。
各通路の一部が（第１３図の左部分に示す）箱２６６に
内蔵され別の部分は箱の外部に位置する。
内蔵され別の部分は箱の外部に位置する。
コンテナ２１０ａの上方に配置されたカバー２６８が挾
持昇降システム２５２を内蔵している。該システムは主
として、剛性連結エレメント２７２によってサポート２
１２に接続された電磁石２７０から成る。電磁石２７０
はコンテナ２１０ａ内のサポート２１２す必要に応じて
引き付けたり放したりする。水平ロッド２７４はデバイ
ス２５２の水平方向移動のガイドとして機能する。カバ
ー２６８の上方のカバ−２７８内部で可動なピストン２
７６が、ロッド２８０によってエレメント２８２に接続
され、該エレメントは管２８４によって電磁石２７０に
接続されている。エレメント２７６．２８０゜２８２．
２８４及び２７０の全部が剛性なので、図示しないモー
タ手段によるピストン２７６の移動は電磁石２７２を同
方向に移動させる。管２８４に沿って伸びるワイヤ又は
リード２８６がサポートの作動に必要な電力と加圧ガス
とをサポート２１２の通路２６２に供給する。
持昇降システム２５２を内蔵している。該システムは主
として、剛性連結エレメント２７２によってサポート２
１２に接続された電磁石２７０から成る。電磁石２７０
はコンテナ２１０ａ内のサポート２１２す必要に応じて
引き付けたり放したりする。水平ロッド２７４はデバイ
ス２５２の水平方向移動のガイドとして機能する。カバ
ー２６８の上方のカバ−２７８内部で可動なピストン２
７６が、ロッド２８０によってエレメント２８２に接続
され、該エレメントは管２８４によって電磁石２７０に
接続されている。エレメント２７６．２８０゜２８２．
２８４及び２７０の全部が剛性なので、図示しないモー
タ手段によるピストン２７６の移動は電磁石２７２を同
方向に移動させる。管２８４に沿って伸びるワイヤ又は
リード２８６がサポートの作動に必要な電力と加圧ガス
とをサポート２１２の通路２６２に供給する。
第１３図は才な、カバー２６８が壁３０４によってコン
テナの残りの部分から隔離されていることを示す。
テナの残りの部分から隔離されていることを示す。
壁３０４はロッド２７４に実質的に平行なギャップ３０
６をもつ。連結エレメント２７２は電磁石２７０が第１
３図の左から右又は右から左の方向に移動するときに該
キャップ内で循環する。デバイスはまた、カバー２６８
と連通ずるカバー３０８の内部でリール３１２に装着さ
れたマスキングテープ３１０を含む。この場合、テープ
の一端がリール３１２に固定され他端は電磁石２７０又
は連結エレメント２７２に固定されている。システム２
５２が第１３図の左から右に移動するとコンテナ２１０
ａとカバー２６８とがギャップ３０６を介して連通ずる
。しかしながら、テープ３１０の一端が前記デバイスに
固定されているのでテープは前記移動中にギャップ３０
６を閉鎖する。従って９、カバー２６８又は３０８から
コンテナへのダストの移行は完全に阻止される。カバー
３０８が、該カバーをコンテナの外部即ちコンテナを内
蔵する室と連通させるオリフィス３１４を備えるので、
コンテナ２１０ａに流入した空気はコンテナを通過しキ
ャップ３０６を介してカバー２６８に入り、次にカバー
３０８に入り、オリフィス３１４を介して室に入る。
６をもつ。連結エレメント２７２は電磁石２７０が第１
３図の左から右又は右から左の方向に移動するときに該
キャップ内で循環する。デバイスはまた、カバー２６８
と連通ずるカバー３０８の内部でリール３１２に装着さ
れたマスキングテープ３１０を含む。この場合、テープ
の一端がリール３１２に固定され他端は電磁石２７０又
は連結エレメント２７２に固定されている。システム２
５２が第１３図の左から右に移動するとコンテナ２１０
ａとカバー２６８とがギャップ３０６を介して連通ずる
。しかしながら、テープ３１０の一端が前記デバイスに
固定されているのでテープは前記移動中にギャップ３０
６を閉鎖する。従って９、カバー２６８又は３０８から
コンテナへのダストの移行は完全に阻止される。カバー
３０８が、該カバーをコンテナの外部即ちコンテナを内
蔵する室と連通させるオリフィス３１４を備えるので、
コンテナ２１０ａに流入した空気はコンテナを通過しキ
ャップ３０６を介してカバー２６８に入り、次にカバー
３０８に入り、オリフィス３１４を介して室に入る。
第１３図はまた、コンテナ２１０ａ及び２１０ｂの各々
が凹部２６０，２６２をもち、戸２３２，２３３は開い
た位置で（第１３図は戸を閉鎖位置で示す）該凹部内に
配置されることを示す。開口２９２をもつ管２９０が凹
部２６０に内蔵され超清浄ガス源と連通している。従っ
て、戸が開いた位置でも管２９０は加圧超清浄空気を凹
部２６０に吹き込み、戸を構成するパネルのオリフィス
を高速超清浄ガスが通過する。従って、戸は極めて清浄
な状態に常時維持され、戸が開いているときにも粒子の
堆積が阻止され得る。
が凹部２６０，２６２をもち、戸２３２，２３３は開い
た位置で（第１３図は戸を閉鎖位置で示す）該凹部内に
配置されることを示す。開口２９２をもつ管２９０が凹
部２６０に内蔵され超清浄ガス源と連通している。従っ
て、戸が開いた位置でも管２９０は加圧超清浄空気を凹
部２６０に吹き込み、戸を構成するパネルのオリフィス
を高速超清浄ガスが通過する。従って、戸は極めて清浄
な状態に常時維持され、戸が開いているときにも粒子の
堆積が阻止され得る。
戸は例えば、剛性フレームに支持された透明度０．１〜
０，２の極めて薄い織布から成ってもよい。この織布（
厚さ約１５０〜２００ｐｎ）は任意のいがなる形態でも
よく例えば円筒又は球の一部の形態でもよい。
０，２の極めて薄い織布から成ってもよい。この織布（
厚さ約１５０〜２００ｐｎ）は任意のいがなる形態でも
よく例えば円筒又は球の一部の形態でもよい。
この戸は１枚戸でも２枚戸でらよく、織布の構成材料は
（織られた又はフリットされた）金属でもよく又はプラ
スチック（ＰＶＤＦ又はポリスルホン）でもよい。
（織られた又はフリットされた）金属でもよく又はプラ
スチック（ＰＶＤＦ又はポリスルホン）でもよい。
前記のごとく前記の透明戸を通過するときの空気の速度
は５〜１０倍になり、従ってパネルの外面の汚染は完全
に阻止される。コンテナ２１０ｂの戸２３３を受容する
凹部２６２はコンテナ２１０ａの戸２３２を受容する四
部２６０と全く同様なのでここでは詳細に説明しない。
は５〜１０倍になり、従ってパネルの外面の汚染は完全
に阻止される。コンテナ２１０ｂの戸２３３を受容する
凹部２６２はコンテナ２１０ａの戸２３２を受容する四
部２６０と全く同様なのでここでは詳細に説明しない。
第１３図はまた、凹部２６０に内蔵され戸２３２が開い
ているときに該凹部の壁と戸２３２との間に配置される
電極２９４を示す、この電極は戸に偶発的に堆積し得る
粒子を吸引するために所与の電位に上昇し得、従って戸
を極めて清浄な状態に維持し得る。
ているときに該凹部の壁と戸２３２との間に配置される
電極２９４を示す、この電極は戸に偶発的に堆積し得る
粒子を吸引するために所与の電位に上昇し得、従って戸
を極めて清浄な状態に維持し得る。
第１３図及び第１４図によれば、コンテナ２１０ａの戸
２３２はスピンドル２９７を介して歯車２９６と一体的
である。歯車２９６はビニオン２９８と係合し、該ビニ
オンはスピンドル３０１を介して、コンテナＺ１０ｂの
戸２３３と一体的な歯車３００と係合する。歯車２９８
，３００及びビニオン２９８はコンテナ２１０ａ及び２
１０ｂの外部に配置されており、歯車３００を回動させ
その結果としてビニオン２９８及び歯車２９６を回動さ
せるモータ３０２も同様にコンテナ外部に配置されてい
る。
２３２はスピンドル２９７を介して歯車２９６と一体的
である。歯車２９６はビニオン２９８と係合し、該ビニ
オンはスピンドル３０１を介して、コンテナＺ１０ｂの
戸２３３と一体的な歯車３００と係合する。歯車２９８
，３００及びビニオン２９８はコンテナ２１０ａ及び２
１０ｂの外部に配置されており、歯車３００を回動させ
その結果としてビニオン２９８及び歯車２９６を回動さ
せるモータ３０２も同様にコンテナ外部に配置されてい
る。
スピンドル２９７，３０１は、例えば運動用シール装置
又はその池の任意の公知のコンテナ壁貫通システムを介
してコンテナの壁を密封的に貫通している。
又はその池の任意の公知のコンテナ壁貫通システムを介
してコンテナの壁を密封的に貫通している。
従って、モータ３０２は戸２３２，２３３の同時開放を
制御する。この具体例において、凹部２６０はコンテナ
２１（ｌａの下部に配置され、凹部２６２はコンテナ２
１０ｂの上部に配置されている。従って２つの戸は逆方
向に移動して同時に開閉するが移動する。本発明の範囲
内で別の横道を使用することも可能である。
制御する。この具体例において、凹部２６０はコンテナ
２１（ｌａの下部に配置され、凹部２６２はコンテナ２
１０ｂの上部に配置されている。従って２つの戸は逆方
向に移動して同時に開閉するが移動する。本発明の範囲
内で別の横道を使用することも可能である。
コンテナ２１０ａと２１０ｂとの間のシリコンチップの
転送作業は以下のごとく行なわれる。最初に、キャリッ
ジ２４７に載置されたコンテナ２１０ａは機械２４６か
ら遠く、従ってコンテナ２１０ｂから遠い。２つのコン
テナの戸は閉鎖しており、コンテナ２１０ａ内部のサポ
ートＺ１２は第１３図の位置、即ち第１３図の左側に存
在する。図示しない保管キャビネッＩ・に最初は収納さ
れていたチップはサポート２１２の軌道又は通路２６２
に載置される。キャリッジ２４７と機械２４６とが一緒
に移動しコンテナ２１０ａのノーズ３１６がコンテナ２
１０ｂのノーズ３１７に到達する。
転送作業は以下のごとく行なわれる。最初に、キャリッ
ジ２４７に載置されたコンテナ２１０ａは機械２４６か
ら遠く、従ってコンテナ２１０ｂから遠い。２つのコン
テナの戸は閉鎖しており、コンテナ２１０ａ内部のサポ
ートＺ１２は第１３図の位置、即ち第１３図の左側に存
在する。図示しない保管キャビネッＩ・に最初は収納さ
れていたチップはサポート２１２の軌道又は通路２６２
に載置される。キャリッジ２４７と機械２４６とが一緒
に移動しコンテナ２１０ａのノーズ３１６がコンテナ２
１０ｂのノーズ３１７に到達する。
この明細書の記載において、コンテナの「ノーズ」なる
用語は、戸が閉鎖位置のときコンテナ内部でガス流方向
に関して戸の下流側に位置するコンテナの実質的に円筒
状の部分を意味する。第１３図の具体例において、コン
テナ２１０ａのノーズ３１６の断面はコンテナ２１０ｂ
のノーズ３１７の断面よりやや小さい。従って、結合中
にコンテナ２１０ａのノーズ３１６がコンテナ２１０ｂ
のノーズ３１７の内部に嵌合しノーズ３１６の外面とノ
ーズ３１７の内面との間にスペースが形成される。
用語は、戸が閉鎖位置のときコンテナ内部でガス流方向
に関して戸の下流側に位置するコンテナの実質的に円筒
状の部分を意味する。第１３図の具体例において、コン
テナ２１０ａのノーズ３１６の断面はコンテナ２１０ｂ
のノーズ３１７の断面よりやや小さい。従って、結合中
にコンテナ２１０ａのノーズ３１６がコンテナ２１０ｂ
のノーズ３１７の内部に嵌合しノーズ３１６の外面とノ
ーズ３１７の内面との間にスペースが形成される。
２つの戸の間のスペースを洗浄し掃気するために、２つ
のコンテナはこの位置（即ち戸が閉鎖した位置）に暫時
維持される。これは、各コンテナに導入される加圧空気
によって行なわれる。この空気は戸を通過し戸の間のス
ペースを通過しノーズ３１６とを１７との間のギャップ
から排出される。このスペースが十分に清浄なとき、即
ちコンテナ内部の清浄度に等しい清浄度をもつとき、モ
ータ３０２が起動し、歯車３００、ピニオン２９８及び
歯車２９６を介して両方の戸が開く、従って戸の各々は
凹部２６０及び２６２に夫々案内される。
のコンテナはこの位置（即ち戸が閉鎖した位置）に暫時
維持される。これは、各コンテナに導入される加圧空気
によって行なわれる。この空気は戸を通過し戸の間のス
ペースを通過しノーズ３１６とを１７との間のギャップ
から排出される。このスペースが十分に清浄なとき、即
ちコンテナ内部の清浄度に等しい清浄度をもつとき、モ
ータ３０２が起動し、歯車３００、ピニオン２９８及び
歯車２９６を介して両方の戸が開く、従って戸の各々は
凹部２６０及び２６２に夫々案内される。
次に電磁石２フＯが励起され、サポート２１２が上昇し
、システム２５２が第１３図の左から右に移動する。
、システム２５２が第１３図の左から右に移動する。
この移動中にテープ３１０がギャップ３０６を次第に閉
鎖する。この移動は箱２６６の外部に位置する通路２６
２の部分がサポート２１３の内部に案内されるまで継続
する。チップ２６４を支持するために使用される圧縮ガ
スジェットは、該チップが第１３図の左から右に移動す
る方向で与えられる。サポート２１３の寸法及び形状は
、この移動中にチップがサポート２１２の軌道２６２を
離れてサポート２１３に設けられたスポークの上方に到
達すると、チップは圧縮空気に支持された上昇位置に維
持されずスポークに載置されるように選択される。全部
のチップがこのようにして転送されると、サポート２１
３をＲ械２４６内で操作し、チップを作業ステーション
に案内する。
鎖する。この移動は箱２６６の外部に位置する通路２６
２の部分がサポート２１３の内部に案内されるまで継続
する。チップ２６４を支持するために使用される圧縮ガ
スジェットは、該チップが第１３図の左から右に移動す
る方向で与えられる。サポート２１３の寸法及び形状は
、この移動中にチップがサポート２１２の軌道２６２を
離れてサポート２１３に設けられたスポークの上方に到
達すると、チップは圧縮空気に支持された上昇位置に維
持されずスポークに載置されるように選択される。全部
のチップがこのようにして転送されると、サポート２１
３をＲ械２４６内で操作し、チップを作業ステーション
に案内する。
チップの処理作業中はコンテナ２１０ａは結合位置に維
持されてもよく又は例えば別の転送を行なうべくコンテ
ナ２１０ｂから分離されしてもよい。この分離を行なう
前に、サポート２１２を出発位置に戻し、２つのコンテ
ナの戸を閉鎖する必要があることは明らかである。この
手順は、チップを機械２４６からコンテナ２１０ａに移
す以下に記載の手順と同様である。
持されてもよく又は例えば別の転送を行なうべくコンテ
ナ２１０ｂから分離されしてもよい。この分離を行なう
前に、サポート２１２を出発位置に戻し、２つのコンテ
ナの戸を閉鎖する必要があることは明らかである。この
手順は、チップを機械２４６からコンテナ２１０ａに移
す以下に記載の手順と同様である。
逆方向の転送を行なう前に２つのコンテナを第１３図に
示す結合位置に案内し戸を開く前に２つの戸の間のスペ
ースを掃気する。
示す結合位置に案内し戸を開く前に２つの戸の間のスペ
ースを掃気する。
次に、デバイス２５６を起動してチップをコンテナ２１
３の位置２１３ｂに案内しく第１２図）、エレベータで
コンテナ２１３を位１２１３ａに案内する。システム２
５２を起動し、サポート２１２を作業位置、即ち第１３
図の通路２６２の右端がサポート２１３内部に配置され
る位置まで案内する０次に各通路の土壁から圧縮空気を
吹き込んでチップをサボー１−２１３のスポークの上方
で上昇させ、サポート２１２の通路２６２の上の初期位
置に戻すべく右から左に移動させる。次にデバイス２５
２を右から左に移動させ、サポート２１２を出発位置２
１２ａに戻す０次に戸２３２，２３３を閉鎖しキャリッ
ジ２４４を機械２４６から離間させる。
３の位置２１３ｂに案内しく第１２図）、エレベータで
コンテナ２１３を位１２１３ａに案内する。システム２
５２を起動し、サポート２１２を作業位置、即ち第１３
図の通路２６２の右端がサポート２１３内部に配置され
る位置まで案内する０次に各通路の土壁から圧縮空気を
吹き込んでチップをサボー１−２１３のスポークの上方
で上昇させ、サポート２１２の通路２６２の上の初期位
置に戻すべく右から左に移動させる。次にデバイス２５
２を右から左に移動させ、サポート２１２を出発位置２
１２ａに戻す０次に戸２３２，２３３を閉鎖しキャリッ
ジ２４４を機械２４６から離間させる。
第１５図から第１７図は、透明な戸に代替してエアカー
テンを使用した本発明コンテナの別の具体例を示す。
テンを使用した本発明コンテナの別の具体例を示す。
第１５図によればコンテナ２１０は、図の左側に入口２
１４をもつ。超清浄圧縮ガス又は空気がパイプ２１６を
介してコンテナノ入口２１４に供給され得る。
１４をもつ。超清浄圧縮ガス又は空気がパイプ２１６を
介してコンテナノ入口２１４に供給され得る。
処理又は搬送すべき物体例えばシリコンチップが載置さ
れるサポート２１２も図示されている。留意すべきはこ
の変形具体例では、サポート２１２をコンテナ２１０に
対して固定できることである。コンテナを通過した空気
は第１５図の右側に配置された出口２３０から排出され
得る。
れるサポート２１２も図示されている。留意すべきはこ
の変形具体例では、サポート２１２をコンテナ２１０に
対して固定できることである。コンテナを通過した空気
は第１５図の右側に配置された出口２３０から排出され
得る。
しかしながら、この変形具体例において、戸は削除され
ており、出口２３０は、開口２１４から開口２３０に向
かってコンテナを横断するガスの方向に実質的に垂直な
方向で超清浄ガスと吹き込むように配置された一連のノ
ズル３１８によって完全に包囲されている。パイプ２１
６を介してコンテナ２１０にガスが供給されないときノ
ズル３１８をでたガスは開口２３０と同じ高さにエアカ
ーテンを形成するであろう。
ており、出口２３０は、開口２１４から開口２３０に向
かってコンテナを横断するガスの方向に実質的に垂直な
方向で超清浄ガスと吹き込むように配置された一連のノ
ズル３１８によって完全に包囲されている。パイプ２１
６を介してコンテナ２１０にガスが供給されないときノ
ズル３１８をでたガスは開口２３０と同じ高さにエアカ
ーテンを形成するであろう。
バイ１２１６を介してコンテナ２１０にガスが供給され
るとき、２つのガスジェッ１〜即ちパイプ２１６から供
給されるガスジェットとノズル３１８から吹き込まれる
ガスジェットとが一緒になり、図中に点線矢印で示すご
とく開口２３０からコンテナ２１０から排出されるガス
流を構成する。
るとき、２つのガスジェッ１〜即ちパイプ２１６から供
給されるガスジェットとノズル３１８から吹き込まれる
ガスジェットとが一緒になり、図中に点線矢印で示すご
とく開口２３０からコンテナ２１０から排出されるガス
流を構成する。
第１６図の断面図は、開口２３０の高さにエアカーテン
を形成するデバイスの構造をより詳細に示す。
を形成するデバイスの構造をより詳細に示す。
コンテナ２１０の壁３２２がいくつかの場所に超清浄ガ
ス源と接続した内部スペース３２４をもっことが理解さ
れよう。このスペース３２４はバイブ２１６又は別の手
段によって源と連通し得る６開ロ２３０の全周囲でコン
テナ２１０の壁３２２の内面に中空形材３２６が固定さ
れている。この形材は壁３２２の側にスペース３２４と
連通し得る１つ以上の開口をもち、反対側にノズル３１
８を形成する複数の開口をもつ。
ス源と接続した内部スペース３２４をもっことが理解さ
れよう。このスペース３２４はバイブ２１６又は別の手
段によって源と連通し得る６開ロ２３０の全周囲でコン
テナ２１０の壁３２２の内面に中空形材３２６が固定さ
れている。この形材は壁３２２の側にスペース３２４と
連通し得る１つ以上の開口をもち、反対側にノズル３１
８を形成する複数の開口をもつ。
第１７図は第１５図の具体例に従って構成された２つの
コンテナの結合を示す。第１７図の左側の第１コンテナ
は符号２１０ａで示されており、一部が一点鎖線で示さ
れた右側の第２コンテナは符号２１０ｂで示される。コ
ンテナ２１０ｂの断面はコンテナ２１０ａの断面よりや
や大きく、従って２つのコンテナは相互に貫入し得る４
２つのコンテナの各々は、夫々の外周にフランジ３３０
を備えており、該フランジはチップ転送のために２つの
コンテナを互いに完全に位置合わせするための位置決め
及び位置合わせシステム３３２をもつ。コンテナ２１０
ａは第１３図と同様のサポート２１２を内蔵し、該サポ
ートはシリコンチップ２６４が載置される軌道又は通路
２６２をもつ。コンテナ２１０ｂは第１３図と全く同様
のサポート２１３を内蔵し、該サポートはコンテナ２１
０ｂに対して任意に固定され得る。これらのコンテナの
寸法及びフランジ３３０の位置及びこれらコンテナ内の
サポート２１２，２１３の位置は、コンテナ２１０ａと
２１０ｂとが結合されたときサポート２１２と２１３と
が前記の手順に従って一方から他方にチップを転送し得
る位置に案内されるように選択される。
コンテナの結合を示す。第１７図の左側の第１コンテナ
は符号２１０ａで示されており、一部が一点鎖線で示さ
れた右側の第２コンテナは符号２１０ｂで示される。コ
ンテナ２１０ｂの断面はコンテナ２１０ａの断面よりや
や大きく、従って２つのコンテナは相互に貫入し得る４
２つのコンテナの各々は、夫々の外周にフランジ３３０
を備えており、該フランジはチップ転送のために２つの
コンテナを互いに完全に位置合わせするための位置決め
及び位置合わせシステム３３２をもつ。コンテナ２１０
ａは第１３図と同様のサポート２１２を内蔵し、該サポ
ートはシリコンチップ２６４が載置される軌道又は通路
２６２をもつ。コンテナ２１０ｂは第１３図と全く同様
のサポート２１３を内蔵し、該サポートはコンテナ２１
０ｂに対して任意に固定され得る。これらのコンテナの
寸法及びフランジ３３０の位置及びこれらコンテナ内の
サポート２１２，２１３の位置は、コンテナ２１０ａと
２１０ｂとが結合されたときサポート２１２と２１３と
が前記の手順に従って一方から他方にチップを転送し得
る位置に案内されるように選択される。
第１７図のコンテナ２１０ａと２１０ｂとを結合すると
きに、ノズル３１８からの空気の吹き込みが停止され、
２つのコンテナの共通スペースの掃気は、超清浄空気源
から供給される空気だけによって行なわれる。該空気は
各コンテナの入口から導入され、これらのコンテナが結
合状態に維持されているときにコンテナ壁間に形成され
るスペースを介して第１７図に矢印３３４で示すように
排出される。フランジ３３０及び３３２は複数部分から
構成されてもよくまたは一体部材であってもよいが、コ
ンテナが互いに結合されているときにフランジ３３０と
を３２との間に空気通路が常時形成される。
きに、ノズル３１８からの空気の吹き込みが停止され、
２つのコンテナの共通スペースの掃気は、超清浄空気源
から供給される空気だけによって行なわれる。該空気は
各コンテナの入口から導入され、これらのコンテナが結
合状態に維持されているときにコンテナ壁間に形成され
るスペースを介して第１７図に矢印３３４で示すように
排出される。フランジ３３０及び３３２は複数部分から
構成されてもよくまたは一体部材であってもよいが、コ
ンテナが互いに結合されているときにフランジ３３０と
を３２との間に空気通路が常時形成される。
前記のごとく本発明装置の特に重要な利点は、不可避の
摩擦によってダスト及び固体粒子の発生源となり易いコ
ンテナ内蔵素子の数を低減できるので、コンテナ内部で
極めて高レベルの清浄度を得ることが可能である。従っ
て、これらのコンテナを使用する装置においてはチップ
を常に清浄な環境に維持することが保証され、該装置で
製造されたマイクロエレクトロニック回路はすぐれた品
質をもつ。更に、作業を行なう室の容積に比較して最高
清浄度を維持すべき容積が小さいので製造コストも節約
できる。
摩擦によってダスト及び固体粒子の発生源となり易いコ
ンテナ内蔵素子の数を低減できるので、コンテナ内部で
極めて高レベルの清浄度を得ることが可能である。従っ
て、これらのコンテナを使用する装置においてはチップ
を常に清浄な環境に維持することが保証され、該装置で
製造されたマイクロエレクトロニック回路はすぐれた品
質をもつ。更に、作業を行なう室の容積に比較して最高
清浄度を維持すべき容積が小さいので製造コストも節約
できる。
更に、異なる直径のチップを加工するときはキャビネジ
１〜内のラックと前面パネルとを交換するだけでよい。
１〜内のラックと前面パネルとを交換するだけでよい。
従って、装置を異なる直径のチップに適応させるのが極
めて容易である。第５図のコンテナの構造によれば、ケ
ース８２がケース９６の任意の面に固定でき、加工機へ
の導入用ロックとして機能する固定コンテナフ４が任意
の機械に適応できるように各面に開口をもつので、コン
テナがすべてのタイプの位置に適応できる。
めて容易である。第５図のコンテナの構造によれば、ケ
ース８２がケース９６の任意の面に固定でき、加工機へ
の導入用ロックとして機能する固定コンテナフ４が任意
の機械に適応できるように各面に開口をもつので、コン
テナがすべてのタイプの位置に適応できる。
また、第１０図から第１７図に基づいて説明した第２具
体例においては、装置内部で第１具木例よりも高いレベ
ルの清浄度を得ることが可能である。従って、外部超清
浄ガス源が加圧下に貯蔵されたガスタンクのとき、窒素
のごとき空気以外のガスを使用することも可能である。
体例においては、装置内部で第１具木例よりも高いレベ
ルの清浄度を得ることが可能である。従って、外部超清
浄ガス源が加圧下に貯蔵されたガスタンクのとき、窒素
のごとき空気以外のガスを使用することも可能である。
このように貯蔵されたガスは発生ステーションから供給
される空気源よりも高いレベルの清浄度をもつ。
される空気源よりも高いレベルの清浄度をもつ。
Ｍ後に、本発明が記載の具体例に限定されないこと、本
発明の範囲内で多くの変更及び変形が可能なことは明ら
かである。従って、特定用途に対応してコンテナ、供給
手段、チップサポート、コンテナ間のチップ転送手段等
の形状や寸法を変更することが可能である。
発明の範囲内で多くの変更及び変形が可能なことは明ら
かである。従って、特定用途に対応してコンテナ、供給
手段、チップサポート、コンテナ間のチップ転送手段等
の形状や寸法を変更することが可能である。
第１図は本発明装置で使用される保管キャビネットの概
略断面図、第２図は第１図のキャビネットの概略側面縦
断面図、第３図は加工物体特にシリコンチップを支持す
るために使用されるバスゲットの概略斜視図、第４図は
本発明の第１具体例の２つのコンテナ、即ちシリコンチ
ップ搬送用可動コンテナと機械にチップを導入するロッ
クとして機能する固定コンテナとの概略立面断面図、第
５図は第４図のコンテナのいくつかの構成素子を示す概
略斜視図、第６図は本発明の転送用可動コンテナの第１
具体例と機械との間のチップの転送を示す部分断面側面
概略図、第７図はキャビネットからチップを出し入れす
る作業中の第１図のキャビネットの前面パネルの概略斜
視図、第８図はキャビイ・ットの戸の前面パネルの開は
方を示す拡大概略立面断面図、第９図はキャビネットに
チップを保管するラック又はキャビティの構造の別の具
体例の概略立面断面図、第１０図は本発明のコンテナの
第２具体例と該コンテナと超清浄ガス源との接続手段を
示す概略説明図、第１１図は第１０図のコンテナの内部
を循環するガスの圧力及び速度の変化を示すグラフ、第
１２図は本発明の第２具体例の２つのコンテナ、即ち室
内で可動なコンテナと加工機にシリコンチップを転送す
るロックとして機能するコンテナとの結合を示す概略立
面図、第１３図は結合状態の第１２図の２つのコンテナ
を示す拡大概略断面図、第１４図はコンテナの戸が開い
た状態を示す第１３図のＸ■−ＸＩＶ線に沿った概略断
面図、第１５図は戸がエアカーテンで代替された本発明
の第２具体例のコンテナの概略立面断面図、第１６図は
第１５図のコンテナのエアカーテンを形成すべく機能す
、るノズル配置を示す概略断面図、第１７図は第２具体
例の２つのコンテナの結合を示す第１５図同様の概略立
面断面図である。 １０・・・・・・キャビネット、１２・・・・・・ラッ
ク、１４・・・・・・バスケット、２４・・・・・・チ
ップ、２８，１００・・・・・・フィルタ、３５・・・
・・・前面パネル、３６．８４・・・・・・ファン、４
０・・・・・・シャフト、４２・・・・・・羽根、４４
・・・・・・モータ、５５・・・・・・圧力センサ、７
２．７４・・・・・・コンテナ、７６・・・・・・加工
機、１１６・・・・・・ロボット。
略断面図、第２図は第１図のキャビネットの概略側面縦
断面図、第３図は加工物体特にシリコンチップを支持す
るために使用されるバスゲットの概略斜視図、第４図は
本発明の第１具体例の２つのコンテナ、即ちシリコンチ
ップ搬送用可動コンテナと機械にチップを導入するロッ
クとして機能する固定コンテナとの概略立面断面図、第
５図は第４図のコンテナのいくつかの構成素子を示す概
略斜視図、第６図は本発明の転送用可動コンテナの第１
具体例と機械との間のチップの転送を示す部分断面側面
概略図、第７図はキャビネットからチップを出し入れす
る作業中の第１図のキャビネットの前面パネルの概略斜
視図、第８図はキャビイ・ットの戸の前面パネルの開は
方を示す拡大概略立面断面図、第９図はキャビネットに
チップを保管するラック又はキャビティの構造の別の具
体例の概略立面断面図、第１０図は本発明のコンテナの
第２具体例と該コンテナと超清浄ガス源との接続手段を
示す概略説明図、第１１図は第１０図のコンテナの内部
を循環するガスの圧力及び速度の変化を示すグラフ、第
１２図は本発明の第２具体例の２つのコンテナ、即ち室
内で可動なコンテナと加工機にシリコンチップを転送す
るロックとして機能するコンテナとの結合を示す概略立
面図、第１３図は結合状態の第１２図の２つのコンテナ
を示す拡大概略断面図、第１４図はコンテナの戸が開い
た状態を示す第１３図のＸ■−ＸＩＶ線に沿った概略断
面図、第１５図は戸がエアカーテンで代替された本発明
の第２具体例のコンテナの概略立面断面図、第１６図は
第１５図のコンテナのエアカーテンを形成すべく機能す
、るノズル配置を示す概略断面図、第１７図は第２具体
例の２つのコンテナの結合を示す第１５図同様の概略立
面断面図である。 １０・・・・・・キャビネット、１２・・・・・・ラッ
ク、１４・・・・・・バスケット、２４・・・・・・チ
ップ、２８，１００・・・・・・フィルタ、３５・・・
・・・前面パネル、３６．８４・・・・・・ファン、４
０・・・・・・シャフト、４２・・・・・・羽根、４４
・・・・・・モータ、５５・・・・・・圧力センサ、７
２．７４・・・・・・コンテナ、７６・・・・・・加工
機、１１６・・・・・・ロボット。
Claims (36)
- （１）平均的清浄度の室内に配置され極めて清浄な雰囲
気下で処理又は加工されるべき物体を保管及び転送する
装置であって、前記物体を保管する手段と前記物体を処
理する手段と前記物体を保管手段と処理手段との間で転
送する手段とを含み、転送手段が、保管手段及び処理手
段に結合され得る少なくとも１つの可動コンテナを含む
こと、及び、前記物体が極めて清浄なガス流を常時受け
るように装置の内部全体を換気する手段を含むことを特
徴とする物体の保管及び転送装置。 - （２）動的封止を得るために装置の内部が室に比較して
過圧下に維持されていることを特徴とする特許請求の範
囲第１項に記載の装置。 - （３）前記物体が平坦表面をもち、換気手段が物体の平
坦面に平行な層流を与えるように構成されていることを
特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の装
置。 - （４）保管手段がキャビネットから成り、該キャビネッ
トが、上流面と下流面とをもつ少なくとも１つのフィル
タとフィルタの下流面の近傍の前記物体の受容部とを含
み、ガス流はフィルタの上流面から下流面に向かってフ
ィルタを通過することを特徴とする特許請求の範囲第１
項から第３項のいずれか一項に記載の装置。 - （５）キャビネットが、前記物体の受容部をもつ第１剛
性ケースとキャビネット内部のガスを循環させる手段を
内蔵する少なくとも１つの第２剛性ケースとを含み、前
記２つのケースが振動を吸収し得る少なくとも１つの可
撓性中空部材によって互いに接続されていることを特徴
とする特許請求の範囲第４項に記載の装置。 - （６）キャビネットが、コンテナの内部と外部との間で
前記物体を移行させる少なくとも１つの開口をもち、前
記開口はコンテナの内部から外部にガスを通過せしめる
閉鎖位置との間で可動な戸によって閉鎖され得ることを
特徴とする特許請求の範囲第４項又は第５項に記載の装
置。 - （７）戸が、一方でキャビネットに固定され他方で戸に
固定された薄い可変形性シートを介してキャビネットに
装着されていることを特徴とする特許請求の範囲第６項
に記載の装置。 - （８）キャビネットが更に、戸を閉鎖位置に維持する手
段を含むことを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載
の装置。 - （９）戸を閉鎖位置に維持する手段が、戸に固定された
第１磁石とキャビネットに固定された第２磁石とから成
り、戸が閉鎖位置のとき２つの磁石が互いに接近してい
ることを特徴とする特許請求の範囲第８項に記載の装置
。 - （１０）キャビネットは、各々が前部磁石を備えたキャ
ビネットの各戸と可動コンテナの戸とを磁石を介して開
くために前面パネルの前方を移動し得るロボットを含む
ことを特徴とする特許請求の範囲第６項から第９項のい
ずれか一項に記載の装置。 - （１１）転送手段が更に、物体を加工機に導入するため
の少なくとも１つの固定コンテナを含み、該固定コンテ
ナは可動コンテナに結合され得ることを特徴とする特許
請求の範囲第１項から第１０項のいずれか一項に記載の
装置。 - （１２）固定コンテナが、上流面と下流面とをもつ少な
くとも１つのフィルタとフィルタの下流面の近傍の物体
受容部と前記コンテナ内部のガスを循環させる手段とを
含み、前記ガスがフィルタの上流面から下流面に向かっ
てフィルタを通過すること、前記コンテナの壁の少なく
とも１つが前記物体を通過せしめかつ機械の一部を成す
挾持手段を通過せしめる開口をもつことを特徴とする特
許請求の範囲第１１項に記載の装置。 - （１３）固定及び可動コンテナが中空平行六面体の形状
のノーズをもち、該ノーズの一端はコンテナの内部と連
通し、該ノーズの他端は前記物体を通過せしめるオリフ
ィスをもち、前記オリフィスが戸によって閉鎖されるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項から第１２項のい
ずれか一項に記載の装置。 - （１４）可動コンテナが平行六面体ノーズの断面をもち
、２つのコンテナの一方が他方に嵌入し得るように固定
コンテナのノーズの断面が可動コンテナのノーズの断面
と等しくないことを特徴とする特許請求の範囲第１３項
に記載の装置。 - （１５）可動コンテナが、上流面と下流面とをもつ少な
くとも１つのフィルタとフィルタの下流面の近傍の前記
物体の受容部と前記コンテナ内部のガスを循環させる手
段とを含み、ガスはフィルタの上流面から下流面に向か
ってフィルタを通過することを特徴とする特許請求の範
囲第１項から第１４項のいずれか一項に記載の装置。 - （１６）可動コンテナが更に、コンテナの内部と外部と
の間で物体を転送する手段を含むことを特徴とする特許
請求範囲第１４項に記載の装置。 - （１７）前記転送手段が、一端に物体挾持手段をもつロ
ッドと該ロッドを並進運動せしめる手段とを含み、前記
ロッドは、物体がコンテナの受容部に維持される収縮位
置と物体がコンテナ外部に案内される伸長位置との間で
並進運動し得ることを特徴とする特許請求の範囲第１６
項に記載の装置。 - （１８）コンテナが更に、該コンテナ内部に過圧を生成
する手段をもつことを特徴とする特許請求の範囲第１２
項から第１５項のいずれか一項に記載の装置。 - （１９）過圧生成手段が、前記コンテナの壁に設けられ
たオリフィスを介してコンテナにガスを吹き込むように
配置された少なくとも１つのファンを含むことを特徴と
する特許請求の範囲第１８項に記載の装置。 - （２０）装置内のガスを循環させる手段が、軸のまわり
で回転自在なシャフトとシャフトに装着された少なくと
も一群の羽根とシャフトの回転及び／又は支持手段とを
含む少なくとも１つのファンを含むことを特徴とする特
許請求の範囲第１２項又は第１５項に記載の装置。 - （２１）シャフトの回転及び／又は支持手段が装置の外
部に配置されており、シャフトがシャフトより大きい断
面をもつオリフィスを介して該手段の少なくとも１つの
壁を貫通することを特徴とする特許請求の範囲第２０項
に記載の装置。 - （２２）ファンが更に、両端で開口した少なくとも１つ
の中空シリンダを含み、前記羽根群が該シリンダに内蔵
されていることを特徴とする特許請求の範囲第２０項に
記載の装置。 - （２３）装置の内面が、処理すべき物体の材料と同じ材
料から成る薄い層で被覆されていることを特徴とする特
許請求の範囲第１２項又は第１５項に記載の装置。 - （２４）更に、温度及び／又は相対湿度の調整装置を含
むことを特徴とする特許請求に範囲第１２項又は第１５
項に記載の装置。 - （２５）過圧生成手段とガス循環手段とが、装置の内部
を外部加圧超清浄ガス源に接続し得る入口と、前記物体
がコンテナ内部を循環するガスによって掃気されるよう
に配置されたコンテナの物体受容部とから成ることを特
徴とする特許請求の範囲第１８項に記載の装置。 - （２６）コンテナが更に、加圧ガス洗浄システムをもつ
ことを特徴とする特許請求の範囲第２５項に記載の装置
。 - （２７）洗浄システムが、前記加圧ガス源に接続された
少なくとも１つのノズルとノズルを通してガスを吹き込
む手段とを含み、該ノズルは、超清浄ガスがコンテナ内
の所与の場所を指向するように配置されていることを特
徴とする特許請求の範囲第２６項に記載の装置。 - （２８）コンテナが更に、内面と外面と小開口とをもつ
パネルを組み込んだ戸と、パネルで出口が閉鎖された閉
鎖位置と出口が閉鎖されない開放位置との間で戸を移動
させる手段とを含むことを特徴とする特許請求の範囲第
２５項に記載の装置。 - （２９）コンテナが更に、コンテナの残りの部分から分
離された凹部と戸が凹部に位置して開放位置にあるとき
パネルの内面に超清浄ガスを吹き込む手段とを含み、前
記凹部は、戸を通過させる第１開口によってコンテナの
残りの部分と連通し第２開口によって室と連通すること
を特徴とする特許請求の範囲第２８項に記載の装置。 - （３０）コンテナが更に、戸が開放位置のときパネルの
外面に対向する凹部に配置される電極と該電極に電位を
印加する手段とを含むことを特徴とする特許請求の範囲
第２９項に記載の装置。 - （３１）コンテナが更に、入口と前記物体受容部との間
に配置された格子を含み、前記物体を掃引するガスが前
記格子を通過することを特徴とする特許請求の範囲第２
５項に記載の装置。 - （３２）更に、前記格子に電位を印加する手段を含むこ
とを特徴とする特許請求の範囲第３１項に記載の装置。 - （３３）１つ又は複数の物体がサポートに配置され、更
に前記サポートをコンテナ内で移動させる手段を含むこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２５項に記載の装置。 - （３４）移動手段が、コンテナの一部の上方に配置され
壁によって該コンテナから分離されたカバーと、前記カ
バーと室とを連通させる少なくとも１つのオリフィスと
、カバー内に配置されており壁に設けられたギャップを
通る連結部材を介してサポートに接続された挾持昇降シ
ステムと、移動中の連結部材をギャップ内部に維持しカ
バー内部で挾持昇降システムを休止位置と作業位置との
間に移動させる手段と、リールに固定された第１末端と
挾持昇降システムに固定された第２末端とをもつマスキ
ングテープとを含み、挾持昇降システムが休止位置から
作業位置に移行するときに前記テープが壁からやや離間
した状態でギャップを次第に閉鎖することを特徴とする
特許請求の範囲第３３項に記載の装置。 - （３５）コンテナが更に、出口と同じ高さの超清浄ガス
カーテンを形成する手段を含むことを特徴とする特許請
求の範囲第２５項に記載の装置。 - （３６）１つ又は複数のフィルタが絶対フィルタである
ことを特徴とする特許請求の範囲第４項、第１２項又は
第１５項のいずれか一項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8616653A FR2607406B1 (fr) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | Procede de traitement d'un objet dans une atmosphere de haute proprete et conteneur pour la mise en oeuvre de ce procede |
| FR8616653 | 1986-11-28 | ||
| FR8712292 | 1987-09-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63150545A true JPS63150545A (ja) | 1988-06-23 |
Family
ID=9341351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62299617A Pending JPS63150545A (ja) | 1986-11-28 | 1987-11-27 | 清浄雰囲気下の物体の保管及び転送装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63150545A (ja) |
| FR (1) | FR2607406B1 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02117512A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-05-02 | Hitachi Ltd | 多品種搬送方法及び装置 |
| JPH0323109A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-31 | Nec Corp | ウェーハ搬送システム |
| JP2008218687A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Asyst Technologies Japan Inc | 半導体基板用ストッカ |
| JP2012153492A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Daikin Industries Ltd | 搬送装置 |
| JP2013522930A (ja) * | 2010-03-24 | 2013-06-13 | ラム リサーチ コーポレーション | 処理ツールにおいて移動メカニズムによって生成される粒子汚染の削減 |
| JP2014033222A (ja) * | 2006-11-15 | 2014-02-20 | Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh | 環状に配置されているワークピースストッカ |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2578474B1 (fr) * | 1985-03-08 | 1989-05-05 | Calhene | Installation pour travaux hors poussiere, notamment pour la fabrication et le controle de composants electroniques, et son procede de mise en oeuvre |
-
1986
- 1986-11-28 FR FR8616653A patent/FR2607406B1/fr not_active Expired
-
1987
- 1987-11-27 JP JP62299617A patent/JPS63150545A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02117512A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-05-02 | Hitachi Ltd | 多品種搬送方法及び装置 |
| JPH0323109A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-31 | Nec Corp | ウェーハ搬送システム |
| JP2014033222A (ja) * | 2006-11-15 | 2014-02-20 | Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh | 環状に配置されているワークピースストッカ |
| JP2008218687A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Asyst Technologies Japan Inc | 半導体基板用ストッカ |
| JP2013522930A (ja) * | 2010-03-24 | 2013-06-13 | ラム リサーチ コーポレーション | 処理ツールにおいて移動メカニズムによって生成される粒子汚染の削減 |
| JP2012153492A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Daikin Industries Ltd | 搬送装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2607406B1 (fr) | 1989-01-27 |
| FR2607406A1 (fr) | 1988-06-03 |
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