JPS63150384A - 潤滑剤 - Google Patents
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- JPS63150384A JPS63150384A JP29654586A JP29654586A JPS63150384A JP S63150384 A JPS63150384 A JP S63150384A JP 29654586 A JP29654586 A JP 29654586A JP 29654586 A JP29654586 A JP 29654586A JP S63150384 A JPS63150384 A JP S63150384A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は潤滑剤に関し、さらに詳しくはプラスチックス
の摺動耐久性向上に優れた効果を発揮するフッ素系潤滑
剤に関する。
の摺動耐久性向上に優れた効果を発揮するフッ素系潤滑
剤に関する。
〔発明に最も近い公知例:特開昭5O−126586)
従来より多数のフッ素系界面活性剤が知られており、比
較的潤滑性に優れたものとして注目されている。その為
良好な潤滑効果を利用した種々の用途に広く利用されて
、磁気ディスク等の磁気記録媒体においても、その有機
塗膜の摺動耐久性向上を目的に多くの試みがなされてい
る(特開昭59−126586、同58−29147、
同58−41431) 、これらに記載のフッ素系界面
活性剤はいずれも特開昭50−126586又は58−
29149で詳しく述べられている下記一般式の化合物
であり、フッ素系潤滑油を均質に塗布するための下地処
理又はそれ自体の潤滑)効果を期待して提案されたもの
である。
従来より多数のフッ素系界面活性剤が知られており、比
較的潤滑性に優れたものとして注目されている。その為
良好な潤滑効果を利用した種々の用途に広く利用されて
、磁気ディスク等の磁気記録媒体においても、その有機
塗膜の摺動耐久性向上を目的に多くの試みがなされてい
る(特開昭59−126586、同58−29147、
同58−41431) 、これらに記載のフッ素系界面
活性剤はいずれも特開昭50−126586又は58−
29149で詳しく述べられている下記一般式の化合物
であり、フッ素系潤滑油を均質に塗布するための下地処
理又はそれ自体の潤滑)効果を期待して提案されたもの
である。
coFzn+t(OR)lI−X
C式中n=4−13、Rは炭素数2−3のアルキル基、
m=o−50,Xは極性基で一0H1−COOH,−8
OaMe (MeはK又はNa)。
m=o−50,Xは極性基で一0H1−COOH,−8
OaMe (MeはK又はNa)。
= S OzF 、−COON8番又は−8Os H)
あるいは、炭素数が21〜65程度の含フツ素ポリオキ
シアルキル基を分子の骨格とし、末端に−COOH1を
有するパーフルオロポリエーテルカルボン酸を磁性暦表
面に塗布しく特開昭58−85929 )磁性層の耐久
性を向上させようとする試みがなされている。
あるいは、炭素数が21〜65程度の含フツ素ポリオキ
シアルキル基を分子の骨格とし、末端に−COOH1を
有するパーフルオロポリエーテルカルボン酸を磁性暦表
面に塗布しく特開昭58−85929 )磁性層の耐久
性を向上させようとする試みがなされている。
ところが、上記界面活性剤を実際に磁気ディスクに塗布
しても、磁気ディスクの耐久性は充分には向上しない、
これは、含フツ素アルキル基の炭素数が4−13と小さ
すぎる為、潤滑性がそれ程良好でなく、これを磁性層に
被着しても磁気ディスクの耐久性は充分に向上されない
。また、炭素数が21〜65程度の含フツ素ポリオキシ
アルキル基を骨格とし、末端に一〇〇OHを含有したパ
ーフルオロアルキルポリエーテルカルボン酸は、含フツ
素ポリオキシアルキル基の炭素数が大きいために、良好
な潤滑機構を有し、これを磁性層表面に塗布すると、か
なり磁性層の耐久性が向上されるが、まだ未だ、充分で
はない。
しても、磁気ディスクの耐久性は充分には向上しない、
これは、含フツ素アルキル基の炭素数が4−13と小さ
すぎる為、潤滑性がそれ程良好でなく、これを磁性層に
被着しても磁気ディスクの耐久性は充分に向上されない
。また、炭素数が21〜65程度の含フツ素ポリオキシ
アルキル基を骨格とし、末端に一〇〇OHを含有したパ
ーフルオロアルキルポリエーテルカルボン酸は、含フツ
素ポリオキシアルキル基の炭素数が大きいために、良好
な潤滑機構を有し、これを磁性層表面に塗布すると、か
なり磁性層の耐久性が向上されるが、まだ未だ、充分で
はない。
この発明はかかる事情に鑑み種々検討を行った結果、潤
滑効果を良好にするためには分子内に潤滑性の良い含フ
ツ素アルキル基又は含フツ素ポリオキシアルキル基と磁
性塗膜と相溶性の良いフェニルエーテル基や、オキシア
ルキレン基を備えていることが好ましいことがわかりな
されたもので、一般式 (式中Rfは含フツ素アルキル基又は含フツ素ポリオキ
シアルキル基、R′は−CHx−1又は−CO+、R’
は炭素数2〜3のオキシアルキレン基、mは0以上の整
数、nは0〜5の整数)で表される新規な潤滑剤とする
ことによって、潤滑−効果を一段と向上させ、磁気ディ
スク等の磁気記、・録媒体の磁性層表面に被着して使用
する際、優れた潤滑効果を長期にわたって接続させ、耐
久性が充分に向上されるようにしたものである。
滑効果を良好にするためには分子内に潤滑性の良い含フ
ツ素アルキル基又は含フツ素ポリオキシアルキル基と磁
性塗膜と相溶性の良いフェニルエーテル基や、オキシア
ルキレン基を備えていることが好ましいことがわかりな
されたもので、一般式 (式中Rfは含フツ素アルキル基又は含フツ素ポリオキ
シアルキル基、R′は−CHx−1又は−CO+、R’
は炭素数2〜3のオキシアルキレン基、mは0以上の整
数、nは0〜5の整数)で表される新規な潤滑剤とする
ことによって、潤滑−効果を一段と向上させ、磁気ディ
スク等の磁気記、・録媒体の磁性層表面に被着して使用
する際、優れた潤滑効果を長期にわたって接続させ、耐
久性が充分に向上されるようにしたものである。
この発明で使用される前記一般式でしめされる潤滑剤は
、一般に常温常圧において粘稠な油状の潤滑剤で、長鎖
の含フツ素アルキル基又は含フツ素ポリオキシアルキル
基とフッ素を含まないフェニルエーテル基やオキシアル
キレン基を結合し、二つの異なった性質の分子鎖を兼ね
備えている。
、一般に常温常圧において粘稠な油状の潤滑剤で、長鎖
の含フツ素アルキル基又は含フツ素ポリオキシアルキル
基とフッ素を含まないフェニルエーテル基やオキシアル
キレン基を結合し、二つの異なった性質の分子鎖を兼ね
備えている。
本発明の潤滑剤は、炭素数が比較的大きな含フツ素アル
キル基又は含フツ素ポリオキシアルキル基を含有してい
る為に優←た潤滑効果が発揮され、さらにフッ素を含ま
ないフェニルエーテル基やオキシアルキレン基は磁性層
の結合剤樹脂となじみが良いため、磁性層表面に強固に
被着され、磁性層の耐久性が一段と向上できる。これに
対して。
キル基又は含フツ素ポリオキシアルキル基を含有してい
る為に優←た潤滑効果が発揮され、さらにフッ素を含ま
ないフェニルエーテル基やオキシアルキレン基は磁性層
の結合剤樹脂となじみが良いため、磁性層表面に強固に
被着され、磁性層の耐久性が一段と向上できる。これに
対して。
前記一般式で表されるフッ素系界面活性剤は、潤滑性を
高めるために直鎖の含フツ素アルキル基の本発明に係る
潤滑剤であって、磁性塗料との親和性が良くしかも潤滑
性の良い実用的に好適なものの一例は下式で示される化
合物である。
高めるために直鎖の含フツ素アルキル基の本発明に係る
潤滑剤であって、磁性塗料との親和性が良くしかも潤滑
性の良い実用的に好適なものの一例は下式で示される化
合物である。
CF s CF3
又は、
又は、
(式中又は1以上の整数、mは0以上の整数、nはO〜
5の整数) 以下、実施例で本発明の詳細な説明する。
5の整数) 以下、実施例で本発明の詳細な説明する。
〔実施例1〜4〕
脱気、脱水した5 00 m 11の三ロフラスコに1
規定のLiA Q H4溶液(ジメチルエーテル溶液)
をさ、50m、n (0,025モル)封入する。一方
、り6身ドックス157FS (L)(デュポン社製フ
ッ素系潤滑剤50 g (0,02モル)をトリクロロ
トリフロロエタン200gとジメチルエーテル50gの
混合溶媒に分散させ、三ロフラスコに滴下した。三ロフ
ラスコを室温で撹はんし5時間反応させた後、希塩酸で
反応物を洗浄する。この時得られた式(1)の変成物2
5 g (0,01モル)を充分に脱水後反応容器に入
れる。
規定のLiA Q H4溶液(ジメチルエーテル溶液)
をさ、50m、n (0,025モル)封入する。一方
、り6身ドックス157FS (L)(デュポン社製フ
ッ素系潤滑剤50 g (0,02モル)をトリクロロ
トリフロロエタン200gとジメチルエーテル50gの
混合溶媒に分散させ、三ロフラスコに滴下した。三ロフ
ラスコを室温で撹はんし5時間反応させた後、希塩酸で
反応物を洗浄する。この時得られた式(1)の変成物2
5 g (0,01モル)を充分に脱水後反応容器に入
れる。
(式中nは平均14)
反応容器内は乾燥した窒素ガスで置換後、 NaH(S
O%溶液)を0.5 g (0,012モル)、及び脱
水したトリフロロトリクロロエタン20 m Qを反応
容器に入れ充分にかく拌する。
O%溶液)を0.5 g (0,012モル)、及び脱
水したトリフロロトリクロロエタン20 m Qを反応
容器に入れ充分にかく拌する。
その後、脱水したブロムベンゼン、又はm−フェノキシ
−ブロムベンゼン、(又はm (m−フェノキシフェノ
キシ)ブロムベンゼン、又はm−ペン30naの混合溶
液を滴下し、20℃で5時間反応し、さらに、その後5
0℃で1時間反応する。
−ブロムベンゼン、(又はm (m−フェノキシフェノ
キシ)ブロムベンゼン、又はm−ペン30naの混合溶
液を滴下し、20℃で5時間反応し、さらに、その後5
0℃で1時間反応する。
反応終了後、反応物を口過し、凍に反応溶液の濃縮及び
、酢酸エチルでの洗浄を2〜3回繰り返し、最後に真空
脱気して充分に濃縮すると、第1表の潤滑剤を得た。
、酢酸エチルでの洗浄を2〜3回繰り返し、最後に真空
脱気して充分に濃縮すると、第1表の潤滑剤を得た。
〔実施例5〜6〕
500mMの三ロフラスコにクラフイトツクス157F
S (グレードL、デュポン社製パーフルオロアルキル
ポリエーテルカルボン酸、分子量2500) 50 g
(0,02モル)を入れ、充分に脱気脱水後、トリク
ロロトリフロロエタン20゛OgとS OCQ xを2
00 m Q 、及びピリジン5mQを入れ、80℃で
4時間撹拌反応する。その後、真空蒸留でトリクロロト
リフロロエタン及び未反応のS OCQ zを除去後、
脱水したトリクロロトリフロロエタン100gとトリエ
タノールアミン1gを入れ溶液[11を作成する。
S (グレードL、デュポン社製パーフルオロアルキル
ポリエーテルカルボン酸、分子量2500) 50 g
(0,02モル)を入れ、充分に脱気脱水後、トリク
ロロトリフロロエタン20゛OgとS OCQ xを2
00 m Q 、及びピリジン5mQを入れ、80℃で
4時間撹拌反応する。その後、真空蒸留でトリクロロト
リフロロエタン及び未反応のS OCQ zを除去後、
脱水したトリクロロトリフロロエタン100gとトリエ
タノールアミン1gを入れ溶液[11を作成する。
一方、100mffの三ロフラスコにテトラエチレング
リコール(分子t:194)20gと、水酸化カリウム
粒5.5g を入れ、この混合物を真空下で100℃に
加熱し、かく拌しながら水分を除去する。次に、銅粉1
gを三ロフラスコに入れ、この混合物を窒素気中で23
0℃に加熱かく拌した。その後、脱水したm−フェノキ
シ−ブロムベンゼン〔又はm (m−フェノキシフェノ
キシ)ブロムベンゼン〕を0.1 モル当量を混合物中
に滴下し、230℃で10時間かく拌した0反応生成物
をベンゼンで抽出し、5%塩酸水溶液、水酸化カリウム
水溶液及び水で洗浄した。得られたベンゼン溶液を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥し、更にベンゼンを真空中で
除去して、式(2)、 (3)の反応物を得た。
リコール(分子t:194)20gと、水酸化カリウム
粒5.5g を入れ、この混合物を真空下で100℃に
加熱し、かく拌しながら水分を除去する。次に、銅粉1
gを三ロフラスコに入れ、この混合物を窒素気中で23
0℃に加熱かく拌した。その後、脱水したm−フェノキ
シ−ブロムベンゼン〔又はm (m−フェノキシフェノ
キシ)ブロムベンゼン〕を0.1 モル当量を混合物中
に滴下し、230℃で10時間かく拌した0反応生成物
をベンゼンで抽出し、5%塩酸水溶液、水酸化カリウム
水溶液及び水で洗浄した。得られたベンゼン溶液を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥し、更にベンゼンを真空中で
除去して、式(2)、 (3)の反応物を得た。
式(2)、 (3)の反応物0.03モル当量と、トリ
クロロトリフロルエタン50gとの混合溶液を300
m Qの三ロフラスコに入れ、充分に脱水後。
クロロトリフロルエタン50gとの混合溶液を300
m Qの三ロフラスコに入れ、充分に脱水後。
50℃に温度を上げ撹拌しながら溶液[1]をゆっくり
と滴下する1滴下終了後、3時間加熱撹拌する。
と滴下する1滴下終了後、3時間加熱撹拌する。
反応物をメタノール、水及び、ベンゼンで洗浄し、その
後真空蒸留すると、第2表の構造の潤滑剤を得た。
後真空蒸留すると、第2表の構造の潤滑剤を得た。
〔実施例7〜8〕
下記構造のパーフルオロアルキル(分子量448)36
g (0,08モル)を F−(CFx)n−CHz−CHzOH−(n=平均7
) 100gのトリフロロトリクロロエタンと5gのシクロ
ヘキシル18クラウン6の混合溶液に溶解し、500m
Mの三ロフラスコに入れる。その後、過マンガン酸カリ
ウム1ogを三ロフラスコに入・、れ、室温で3時間積
はんを続ける0反応後充分にノ杢洗後、真空蒸留で下式
構造の化合物を30g(0,07モル)得た。
g (0,08モル)を F−(CFx)n−CHz−CHzOH−(n=平均7
) 100gのトリフロロトリクロロエタンと5gのシクロ
ヘキシル18クラウン6の混合溶液に溶解し、500m
Mの三ロフラスコに入れる。その後、過マンガン酸カリ
ウム1ogを三ロフラスコに入・、れ、室温で3時間積
はんを続ける0反応後充分にノ杢洗後、真空蒸留で下式
構造の化合物を30g(0,07モル)得た。
F−(CFz)n−CHz−COOH
(n=平均7)
次に、こうして得られた化合物を17 g (0,04
モル)とトリフロロトリクロロエタン100m1mを入
れ、充分に脱気脱水後、SOCΩ2を250m12、及
びピリジン8mQをλれ、80℃で4時間撹拌反応する
。その後、真空蒸留で未反応のS OCQ xを除去後
、脱水したトリクロロトリフロロエタン100gとトリ
エタノールアミン1gを入れ溶液[1]を作成する。
モル)とトリフロロトリクロロエタン100m1mを入
れ、充分に脱気脱水後、SOCΩ2を250m12、及
びピリジン8mQをλれ、80℃で4時間撹拌反応する
。その後、真空蒸留で未反応のS OCQ xを除去後
、脱水したトリクロロトリフロロエタン100gとトリ
エタノールアミン1gを入れ溶液[1]を作成する。
一方、100mMの三ロフラスコにポリエチレングリコ
ール(分子量:600)60gと、水酸化カリウム粒5
.5g を入れ、この混合物を真空下で100’Cに加
熱し、かく拌しながら水分を除去する0次に、銅粉1g
を三ロフラスコに入れ、この混合物を窒素気中で230
℃に加熱かく拌した。その後、脱水したm−フェノキシ
−ブロムベンゼン、又はm (m−フェノキシフェノキ
シ)ブロムベンゼン0.1 モルを混合物量に滴下し。
ール(分子量:600)60gと、水酸化カリウム粒5
.5g を入れ、この混合物を真空下で100’Cに加
熱し、かく拌しながら水分を除去する0次に、銅粉1g
を三ロフラスコに入れ、この混合物を窒素気中で230
℃に加熱かく拌した。その後、脱水したm−フェノキシ
−ブロムベンゼン、又はm (m−フェノキシフェノキ
シ)ブロムベンゼン0.1 モルを混合物量に滴下し。
230℃で10時間かく拌した0反応生成物をベンゼン
で抽出し、その後5%塩酸水溶液、水酸化カリウム水溶
液及び水で洗浄した。得られたベンゼン溶液を無水硫酸
マグネシウム上で乾燥し、ベンゼンを真空中で除去し、
式(4)、 (5)の反応物を得た。
で抽出し、その後5%塩酸水溶液、水酸化カリウム水溶
液及び水で洗浄した。得られたベンゼン溶液を無水硫酸
マグネシウム上で乾燥し、ベンゼンを真空中で除去し、
式(4)、 (5)の反応物を得た。
(式中、nは平均13)
式(4)、 (5)の反応物0.03 モル当量と、ト
リクロロトリフロロエタン70gとの混合溶液を300
m Qの三ロフラスコに入れ、充分に脱水後、50℃
に温度を上げ撹拌しながら、ゆっくりとこれに溶液[I
[]を滴下する0滴下後、3時間加熱撹拌する6反応物
をメタノール、水及び、ベンゼンで洗浄し、その後真空
蒸留すると、第3表の構造の潤滑剤を得た。
リクロロトリフロロエタン70gとの混合溶液を300
m Qの三ロフラスコに入れ、充分に脱水後、50℃
に温度を上げ撹拌しながら、ゆっくりとこれに溶液[I
[]を滴下する0滴下後、3時間加熱撹拌する6反応物
をメタノール、水及び、ベンゼンで洗浄し、その後真空
蒸留すると、第3表の構造の潤滑剤を得た。
〔応用例11
一般の構造用鋼材である5S41を軸受材料とし、摺動
部をトリクロロエチレンで超音波洗浄する。その後、空
気中で380℃で20分空焼きを行う6次に、摺動部を
サンドペーパーで表面を均質に鏡面仕上げし、軸受材料
(1)を作成する。
部をトリクロロエチレンで超音波洗浄する。その後、空
気中で380℃で20分空焼きを行う6次に、摺動部を
サンドペーパーで表面を均質に鏡面仕上げし、軸受材料
(1)を作成する。
充分に脱水したp−フ二二レンジアミン54g(0,5
0モル)をN−メチル−2−ピロリドン1000gに完
全に溶解させた後、3.3’ 。
0モル)をN−メチル−2−ピロリドン1000gに完
全に溶解させた後、3.3’ 。
4.4′−ビスフェニルテトラカルボン酸二無水物14
7 g (0,50モル)を加える。これらの混合物を
充分に撹はんし、下式に示したポリアミド酸溶液を作成
する。
7 g (0,50モル)を加える。これらの混合物を
充分に撹はんし、下式に示したポリアミド酸溶液を作成
する。
このポリアミド酸溶液に実施例3及び、実施例6の化合
物を1g加え均質に撹はんした溶液を作成する。軸受材
料(I)は良く撹はんした溶液中、に浸した後、50℃
の清浄な大気中に2時間放置する。その後、350℃−
30分の加熱硬化を行う0本発明の実施例3及び、実施
例6の化合物を含むプラスチックコーティング軸受と、
比較例として、実施例3及び、実施例6の化合物を含ま
ないプラスチックコーティング軸受の性能を第4表に示
すが、本発明は摩擦係数が低く、シかも250℃の高温
度でも軸受の摺動性能の指標となる限界pv値が高く優
れていた。
物を1g加え均質に撹はんした溶液を作成する。軸受材
料(I)は良く撹はんした溶液中、に浸した後、50℃
の清浄な大気中に2時間放置する。その後、350℃−
30分の加熱硬化を行う0本発明の実施例3及び、実施
例6の化合物を含むプラスチックコーティング軸受と、
比較例として、実施例3及び、実施例6の化合物を含ま
ないプラスチックコーティング軸受の性能を第4表に示
すが、本発明は摩擦係数が低く、シかも250℃の高温
度でも軸受の摺動性能の指標となる限界pv値が高く優
れていた。
〔応用例2〕
実施例1〜8で得られた潤滑剤をフェノールエポキシ系
樹脂の未硬化の磁性塗膜上に塗布する。
樹脂の未硬化の磁性塗膜上に塗布する。
その後磁性塗膜を熱硬化する。この磁性層の摺動耐久性
を試験した。
を試験した。
摺動耐久性試験は1球面摺動試験機で実施した。
すなわち、サファイヤ球面摺動子に荷重logを加え9
周速10 m / s、雰囲気温度25℃、の条件でデ
ィスクを回転させ、磁性塗膜が破損するまでの総回転数
で評価した。第5表はその結果である。比較例として、
表面を清浄にしたアルミ板に磁性塗膜を作成後、この塗
膜上にフッ素系潤滑剤であるU S P 34909
46記載の磁気ディスク用潤滑剤であるタライトツクス
143 AC(デュポン社製フッ素系潤滑剤)を単に塗
布したものを用いた。
周速10 m / s、雰囲気温度25℃、の条件でデ
ィスクを回転させ、磁性塗膜が破損するまでの総回転数
で評価した。第5表はその結果である。比較例として、
表面を清浄にしたアルミ板に磁性塗膜を作成後、この塗
膜上にフッ素系潤滑剤であるU S P 34909
46記載の磁気ディスク用潤滑剤であるタライトツクス
143 AC(デュポン社製フッ素系潤滑剤)を単に塗
布したものを用いた。
表5
第5表から明らかなように、この発明でえられた潤滑剤
を磁気ディスクに含有することにより、従来の潤滑剤を
塗布した磁気ディスク(比較例)に比べ、その寿命が格
段に優れている。
を磁気ディスクに含有することにより、従来の潤滑剤を
塗布した磁気ディスク(比較例)に比べ、その寿命が格
段に優れている。
(発明の効果〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rfは含フッ素アルキル基又は含フッ素ポリオキ
シアルキル基、R′は−CH_2−、又は−CO−、R
″は炭素数2〜3のオキシアルキレン基、mは0以上の
整数、nは0〜5の整数)で示される化合物を主成分と
する潤滑剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29654586A JPS63150384A (ja) | 1986-12-15 | 1986-12-15 | 潤滑剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29654586A JPS63150384A (ja) | 1986-12-15 | 1986-12-15 | 潤滑剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63150384A true JPS63150384A (ja) | 1988-06-23 |
Family
ID=17834915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29654586A Pending JPS63150384A (ja) | 1986-12-15 | 1986-12-15 | 潤滑剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63150384A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9082957B2 (en) | 2006-01-20 | 2015-07-14 | Allegro Microsystems, Llc | Arrangements for an integrated sensor |
US10935612B2 (en) | 2018-08-20 | 2021-03-02 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor having multiple sensitivity ranges |
US11567108B2 (en) | 2021-03-31 | 2023-01-31 | Allegro Microsystems, Llc | Multi-gain channels for multi-range sensor |
-
1986
- 1986-12-15 JP JP29654586A patent/JPS63150384A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9082957B2 (en) | 2006-01-20 | 2015-07-14 | Allegro Microsystems, Llc | Arrangements for an integrated sensor |
US9859489B2 (en) | 2006-01-20 | 2018-01-02 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit having first and second magnetic field sensing elements |
US10069063B2 (en) | 2006-01-20 | 2018-09-04 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit having first and second magnetic field sensing elements |
US10935612B2 (en) | 2018-08-20 | 2021-03-02 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor having multiple sensitivity ranges |
US11567108B2 (en) | 2021-03-31 | 2023-01-31 | Allegro Microsystems, Llc | Multi-gain channels for multi-range sensor |
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