JPS6314766A - 置換３，５―ビス―（メルカプトメチル）―フェノール，その製法及び該化合物を含有する有機材料のための安定剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なｌｉ＃換された３、５−ビス−（メルカ
プトメチル）−フェノール、その製造方法及び有■旧：
１の安定化剤としての該化合物の用途に関する。

置換きれた５、５−ビス（メルカプトメチル）−フェノ
ールは公知である。従って、例えばビス（アルキルチオ
メチル）−及びビス−（アリールチオメチル）−フェノ
ールが植物保護剤の中間体として、ドイツ％許公開第２
８５８２７３号公報に記載されている。

さらに、２．４．６−）リアルキル−ビス（３，５−フ
ルキルチオメチル）−フェノール及び２，４．６−ドリ
アルキルービス（３，５−アルキルベンジルチオメチル
）−フェノールは、合衆国％許明細書第３６６０３５２
号により、酸化防止剤として知られでいる。

しかしながら、なお、熱、酸化または光によって起こる
劣化を受けやすい有機材料のための有効な安定剤が必要
とされている。

従って、本発明は次式■： （式中、 几］及びＲ２は、各々独立に水素原子、炭素原子数１な
いし２０のアルギル基、炭素原子数３ないし２０のアル
ケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基
、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、炭素
原子数１ないし４のアルキルフェニル基、フェニル−炭
素原子数１ないし４のアルキル基または次式１ａ。

Ｉｂ−またけＩｃ： （Ｉａ）　　　　　　　　　（Ｉｂ） （Ｉｃ） で表わされる基を表わし、１Ｌ１及びＲ２が同時にアル
キル基を表わす場合には、２つの置換基のうち少なくと
も一つは、少なくとも一つの二級炭素原子を有する枝分
かれ鎖アルキル基を表わし、またはＲ１及びｊ（，２は
同一または異なって次式１ｄ： で表わされる基を表わし、 ｍは０筐たは１を衣わし、 Ｒ３及びＲ４は各々独立に水素原子またはメチル基を表
わし、Ｒ６は次式ニーｏ１ｔ６゛または−Ｎ几、几。

で表わされる基を表わし、 Ｒ′は水素原子または−ＣＯ−１輸を表わし、Ｒ６及び
几、は各々独立に水素原子、−〇−１−８−　、−ＮＨ
−、−Ｎ（ＣＨ３）−もしくは−Ｎ　（ＣＨ，ＣＨ３）
−を介在させていてもよい炭素原子数１ないし２０のア
ルキル基、炭素原子数２ないし２０のアルケニル基、炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基
、１−ナフチル基、２−ナフチル基、フェニル−炭素原
子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし
４のアルキルフェニル基”ｋ表ｔ）ｔ、、 Ｒ，８，Ｒ，、及び凡１Ｇは各々独立に炭素原子数１な
いし１０のアルキル基、炭素原子数２ないし１゜のアル
ケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基
、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、炭素
原子数１ないし４のアルキルフェニル基またはフェニル
−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒｔｏは炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原
子数２ないし１０のアルケニル基、炭素原子数５ないし
１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアル
キルフェニル基またはフェニル−炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表わし、そして Ｒ１２及びＲ１３は各々独立に水素原子またはＲ１にで
定義した意味を表わす）で表わされる化合物に関する。

式■中、Ｒ１及びＲ２は好捷【７〈は水嵩原子以外の意
味を表わす。

炭素原子数１ないし２０のアルキル基としてのＲ，、Ｒ
，、Ｒ６及び１Ｌ７、並びに炭素原子数１ないし１０の
アルキル基としてのＲ，、Ｒｇ　＊　Ｒｔｏ　＋　Ｒｔ
ｔ　。

Ｒ１２及びＲＩ３は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、インプロピル基、ｎ−ブチル基、第ニブチ
ル基、第三ブチル基、ｎ−ペンチル基、インペンチル基
、ｎ−ヘキシルＮ、１　。

１−ジメチルブチル基、１，１，５．３−テトラメチル
ブチル基、１，１，３，３，５．５−ヘキサメチルヘキ
シル基、ｎ−へブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチル
ヘキシル基またはｎ−デシル基を表わす。アルキル基と
してのＲ８゜Ｒ，、Ｒｌｏ、　Ｒ，、、几１鵞及びＲｔ
ｓは、好ｉｔ、＜ｔｉｉ素ｉ子数１ないし８のアルキル
基、特に炭素原子教壇ないし４のアルキル基を表わす。

ざらに、Ｒ，、Ｂ、２．　Ｒ，及びＲ７は、例えば１−
メチルウンデシル基、ｎ−ドデシル基、テトラデシル基
、オクタデシル基またはエイコシル基でありうる。アル
キル基としてのＲ，、Ｒ，、Ｒ，及び几７は好ましくは
炭素原子数４ないし２０のアルキル基である。

一〇−，−８−、−Ｎ（ＣＨ３）−または−Ｎ　（ＣＨ
，ＣＨ３）−を介在していても介在していなくてもよい
炭素原子数１ないし２０のアルキル基としての几６及ヒ
Ｂｙ　＃ｉ、例えば２−メトキシエチレン基、２−エト
キシプロピレン基、３−エトキシプロピレン基、３．６
−ジオキサへブチル基、３，６゜９−トリオキサウンデ
シル基、４−チアヘキシル基、１１−（メチルアザ）−
ドデシル基または３−（エチルアザ）−オクタデシル基
でありうる。Ｒ６及びＲ７は好ましくは一〇−を介在さ
せた炭素原子数２ないし８のアルキル基である。

炭素原子数３ないし２０のアルケニル基としてのＲ，、
Ｒ，、Ｒ６及びＲ７並びに炭素原子数２ないし１０のア
ルケニル基としてのＲ＠　、　Ｒ，、几ｔｏｅＲ１１，
Ｒ１，及びＲ１，は、例えばビニル基、アリル基、メタ
リル基、ペンテン−１−イル基、３゜３−ジメチルペン
テン−１−イル基、オクテン−１−イル基またはデセン
−１−イル基でありうる。アリル基が好筐しい。さらに
、Ｒ１＋　Ｂ’２　＊Ｒ６及びＲ７は、例えはドデセン
−１−イル基またはオクタデセン−１−イル基でありう
る。

Ｒ＋１．　Ｒ，、Ｒ１１、ｌも、　、　３４．　、　Ｉ
Ｌ、　、ル、。Ｉ　ｋＬｓｔ　Ｉ　”１２及び几、。

の基における炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基は、例えば５ないし８個、特に５または６個の環構成
炭素原子を有し、未置換でも炭素原子数１ないし４０ア
ルキル基で置換されていてもよいシクロアルキル基でｓ
ｂうる。そのような基の例としては、シクロペンチル基
、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチル
シクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基、シクロヘ
プチル基及びシクロオクチル基が挙げられる。未置換の
シクロアルキル基が特に好ましい。しかしながら、シク
ロアルキル基は、好ましくは未置換本しくは炭素原子数
１ないし４のアルキル基で置換されたシクロヘキシル基
、ＷＥシクロヘキシル基またはメチルシクロヘキシル基
、とりわけシクロヘキシル基である。

Ｒ１、８２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒｓ　、ａｓ及びＲｌｏにお
けるフェニル基、１−ナフチル基及び２−ナフチル基の
定義の中では、フェニル基が好ましい。

炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基としてのＲ
１，ｉ（２，Ｒ，、Ｒ，、Ｒ８，Ｒ，、Ｒ，。、　Ｒ８
，、几、２及びＲ１３は、例えばトリル基、キシリル基
または４−第三ブチルフェニル基でありうる。この場合
のフェニル基は、好ましくは炭素原子数１ないし３のア
ルキル基で置換されている。

フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基としての
Ｒ，、Ｒ２，Ｒ６，几ｔ　＊　Ｉ（＋８．　Ｒ９，ＲＩ
Ｇ　＋　Ｒｓｓ　、Ｒｒｎ及びＲ１３は、例えばベンジ
ル基、α−メチルベンジル基、α、α−ジメチルベンジ
ル基またはα−メチル−α−エチルベンジル基でありう
る。

ベンジル基が好ましｂｏ 特に好ましい化合物は、上記式■中、ｌｔ！及びＲ２が
、各々独立に炭素原子数ｉ１いし２０のアルキル基、炭
素原′ｆ−数３ないし２０のアルケニル基、炭素原子数
５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、１−ナ
フチル基、２−ナフチル基、炭素原子数１ないし４のア
ルキルフェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４の
アルキル基または次式１ａ　、　ｌｂまたは１ｃ：（Ｉ
ａ）（Ｉｂ） で表わされる基を表わし、１（１１及びＲ，が同時にア
ルキル基を表わす場合には、二つの置換基の少なくとも
一方は、少なくとも１個の三級炭素原子を有する枝分か
れ鎖のアルキル基を表わし、ｍが０またけ１倉表わし、
１も’、Ｒ３，ｉｔ、、ｌも６．几、。

Ｒ７，几８．Ｒ０及びＲ，ｏは前記で定義した意味を表
わす化合物である。

式■の化合物のうち、好ましいのは、上記式１中、Ｒ１
及びＲ２が各々独立に上記式Ｉｄで表わされる基を表わ
し、特に上記式Ｉａ中、Ｒ１１及びＲ’１２が炭素原子
数１ないし１０のアルキル基を表わす化合物である。

特記すべき式■の化合物は、上記式■中、Ｒ１が炭素原
子数３ないし２０のアルケニル基、炭素原子数５ないし
１２のシクロアルキル基、フェニル基、１−ナフチル基
、２−ナフチル基、炭素原子数１ないし４のアルキルフ
ェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル
基、または上記式１ａ　、　Ｉｂまたは１ｃで表わされ
る基を表わし、セしてＲ２が炭素原子数１ないし２０の
アルキル基を表わすか、またはＲ，とは独立に鳥で定義
した意味の一つを表わす化合物である。

さらに、特筆すべき弐Ｉの化合物は、上記式１中、几ｌ
及び１ｔ２が同じ意味を表わし、且つ水素原子、少なく
とも１個の三級炭素原子を有する炭素原子数６ないし２
０のアルキル基、上記式ｌｂで表わされる基または」二
重式Ｉｄで表わされる基を表わす化合物であり、これら
の中でもとりわけ、上記式７１）中、Ｒ３及びＲ４が水
素原子を表わし、そして１輸が基ニー〇几、を表わし、
Ｒ６が炭素原子数６ないし１８のアルキル基を表わし、
上記式Ｉｄ中、ｎ＋、、が炭素原子数１ないし６のアル
ギル基を表わＩ〜、そして１ｔ１２及びＲｌｓが各各独
立に水素原子筐たけ炭素原子数１ないし６のアルキル基
を表わす化合物である。

式１の化合物のうち、型開なのは、上記式■中、Ｒ１及
び几２が同一の意味全表わし、且つ少なくとも１個の三
級炭素原子を有する炭素原子数６ないし２０のアルキル
基を表わす化合物である。

同様に重要なのは、上記式■中、几！及び１４２が各々
独立に上記式１ｃで表わされる基を表わす化合物である
。

好ましい式ｌの化合物は、式中、■ｔ１が炭素原子数５
ないし１２のシクロアルキル基、ベンジル基、フェごル
基または式１ａもしくはｌｂで表わされる基を表わし、
そしてＲ２が炭素原子数４ないし２０のアルキル基また
はＲ１とは独立してＲ１で定義した意味を表わす化合物
であり、その中でも特にＲ１とＲ２が各々独立に弐１ｂ
で表わされる基を表わす化合物である。

特に好ましい式ｆの化合物は、Ｒ１と几２が各々独立に
次式。

（式中、ｐは１または２の数を表わし、ｑは口またＶｌ
ｌを表わし、そしてＲ５は特許請求の範囲第１項で定義
した意味を表わす）で表わされる基を表わす化合物であ
り、その中でも特に、几５が一〇Ｒ６−ｆｉたけ−ＮＲ
６Ｂ、、を表わし、Ｒ６が一〇−を介在してもしなくて
もよい炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、１−
ナフチル基、２−ナフチル基、フェニル−炭素原子数１
ないし４のアルキル基筐たは炭素原子数１ないし４のア
ルキルフエニノリ１ｌｉ−ｅ表わし、Ｉ′Ｌ７がＲ６と
は独立に１１６で定義した意味を表わし、そしてＲ，８
，几、及び１４．ｏが各々独立に炭素原子数１ないし８
のアルキル基、炭素原−千載５ないし１２のシクロアル
キル基、フェニルＭ　ｉ　タＦｉ　ヘ：／　シル基を表
わす化合物である。好１しくは、几８．Ｒ０及びＲｌｏ
は炭素原子数１ないし８のアルキル基、特に炭素原子数
１ないし４のアルキル基であり、そして好ましくけ同じ
意味を有する。

特に好ましい式１の化合物は、式中、Ｒ１及びＲ２が同
一であるものである。

％筆すべき化合物は、式中、Ｒ１及びＲ２が同一であり
、それぞれ上記式Ｉｄで表わされる基を表わす化合物で
ある。（用基は、−ＣＨ２−８−結合に対して好１しく
けメタ位にある。

式中、■七、及びル、が次式ニ ー　ＣＨ，−ＣＯＯ−ＣＨ２−Ｃ１（（Ｃ１（２Ｃ１１
３）　−（ＣＨ２）ｓ　−ＣＨａで表わされる基？ｒ　
表わし、ＬＬ、　、凡９及び几１０がメチル基を表わす
化合物が特に興味深い。

式■中、Ｒｌ及びＰＬ２が水素原子である化合物も特に
有利である。

本発明による式■の化合物の代表例のうち、特筆すべき
ものの例を下記に示す。

３．５−ビス（メルカプトメチル）−２゜４゜６−ドリ
メチルフエノール、３．５−ビス（２′−ヒドロキシエ
チルチオメチル）−２，４，６−ドリメチルフエノール
、６．５−ビス（３′−メチルアミド−プロピルチオメ
チル）−２，４゜６−ドリメチルフエノール、３．５−
ビス（６′−ジメチルアミド−プロピルチオメチル）−
２゜４．６−）リメチルフェノール、３．５−ビス（１
′−シアノエチリデンチオメチル）−２，４゜６−ドリ
メチルフエノール、３．５−ビス（４′−〇−デカノイ
ルオキシブチルーチオメチル）−２，４，６−）リメチ
ルフェノール、６−（第三オクチルチオメチル）−５−
（ベンジルチオメチル）−２，４，６−ドリメチルフエ
ノ一ル　、３−（第三ドデシルチオメチル）５−　　〜
（２′−アセトキシエチル−チオメチル）−２゜４　、
６−）ジメチルフェノール２λ６．５−ビス（ベンジル
チオメチル）−２，４，６−ドリメチルフエノール、３
．５−ビス（フェニル−チオメチル）−２、６−シメチ
ルー４−第三メチルフェノール、３．５−ビス（ナフチ
−１−イル−チオメチル）−２，４，６−）！Ｊメチル
フェノール、３．５−ビス（２′−エトキシカルボニル
メチル−チオメチル）−２，４，６−）す。

メチル−フェノール、５．５−ビス（ｎ−オクタデシル
オキシカルボニルメチル−チオメチル）−２，４，６−
）リメチルーフェノール及び３゜５−ビス〔（３′−メ
チル−４′−ヒドロキシ−５′−第三メチル）ベンジル
−チオメチル）−２，４゜６−ドリメチルーフエノール
。

１）第三オクチルは、１．１．３．３−デトラメチルプ
チルを表わす、。

２）第三ドデシルｔ、１．１．１．３．３，５．５−へ
キサメチルヘギシル及び１，１，４，６゜６−ペンタメ
チルへブチ−４−イル全表わす。

本発明による式■の化合物の製造方法は、例えば次式ｌ
： Ｌ９ （式中、Ｒ，、Ｒ，、及びＲｌｔｏは前記式Ｉで定義し
た意味を表わす）で表わされる化合物を次式−１−８Ｈ で表わされるメルカプタンまたは次式：％式％ で表わされる混合物（上記式中、Ｒ１及びＲ２は前記式
１で定義した意味を表わす）と、塩基の存在下で反応き
せることからなる。

Ｒ，−８Ｈ／Ｒ２−８）ｌ混合物の場合、混合割合は好
ましくは１：１である。

適する塩基は有機及び無機の塩基である。適する有機塩
基の例としては、第三アミン、例えばトリエチルアミン
、ピリジンまたはＮ、Ｎ−ジメチルアニリン、またはア
ルコレート、例えばナトリウムエチレートが挙げられる
。固体または液体である適する無機塩基の例としては、
例えば炭酸塩、例えば重炭酸ナトリウムまたは炭酸カリ
ウム、またけアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸
化物、例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムが
挙げられる。

反応は、−２０℃ないし１６０℃の温度範囲で有利に実
施される。０℃ないし８０℃の温度範囲が好ましい。

反応は、窒素雰四下、上記の温度範囲で、０．５ないし
３時間行なうのが有利である。温度は、反応混合物が還
流温度で加熱されるように選ばれる。

また、本発明による式■の化合物は、次式：（式中、Ｒ
８，Ｒ，及びＲｌｏは前記の意味を表わす）で表わされ
る化合物を、触媒の存在下、次式：％式％ （式中、Ｒ１及びＲ２は前記の意味を表わし、Ｘはハロ
ゲン原子、トシル基、メシル基、−０Ｈ基、アルコキシ
基またはアシルオキシ基、例えばアセトキシ基を表わす
）で表わされる混合物と反応させることによっても得ら
れる。

適する触媒は、例えばブレンステッド酸またはルイス酸
、例えばＺｎＣ／、または５ｎｃ１４である。

本発明による式Ｉの化合物のうち、Ｒ１及び石がＨｌに
表わすもの、即ち次式： （式中、電、　Ｒ，及び几、。は前記の意味を表われ出 す）で表わされる化合物は、例えば上記式曹の化合物と
チオ尿素を反応させることにより製造しうる。

この反応は、適当な溶媒、例えばエーテルの存在下、窒
素雰囲気下で、８０ないし２５０℃の温度範囲で、［１
５ないし６時間かけて行なわれる。温度は反応混合物が
還流化で沸騰するように選択される。

本発明による式■の化合物のうち、’１及びＲ２が各々
独立に次式■ｄ： （式中、”１１−　ｌＬｌｍ及び皇モ１３は前記の意味
を表わす）で表わされる基を表わすものは、例えは次式
： で表わされる本発明の化合物を、次式：で表わされるフ
ェノール性マンニッヒ塩基またはその混合物と反応させ
ることによプ製造しつる。上記式中、Ｒｓ　、Ｒｇ　、
　Ｒ１６、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は前記の意味を表
わす。

この反応は、８０ないし２５０℃、好ましくは１００℃
ないし１８０℃の温度範囲で、窒素雰囲気下で、α５な
いし５時間かけて行なうのが有利である。

本発明による式１の化合物のうち、Ｒ１及びＲ２が各々
独立に式１ｄの基を表わすものは、例えば次式： で表わされる化合物を、塩基の存在下で次式：で表わさ
れる化合物と反応させることによっても製造しつる。

Ｘは脱離基、例えばハロゲン原子、アセテート基、トシ
レート基またはメシレート基を表わし、Ｒ８，鳥、几１
゜、　Ｒ、ｈ、　Ｉ輸及びｌＬ□３は前記の意味を表わ
す。

この反応において適当な塩基及び有利な条件は前記のも
のと同様である。

反応は溶媒のイを柱下でも実施しうる。適当な溶媒は、
脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素、例えばヘキサン
、シクロヘキサンもしくはトルエン、ハロゲン化炭化水
系、例えばメチレンクロライドモジくハクロロホルム、
アルコール、エーテル及び極性非プロトン性溶媒、例え
ばジメチルホルムアミドである。上記溶媒の混合物も使
用しうる。

本発明による式Ｉの化合物は、適当な方法、例えばｆ過
及び／または塩酸水溶液による洗浄により、塩酸塩及び
生じた他の固体から分離し、そして蒸発または溶媒の留
去（所望によっては減圧下で）Ｋより単離するのが有利
である。これらは適当な精製方法、例えば再結晶やカラ
ムクロマト、グラフィーによシ、さらに精製しうる。

反応を、メルカプタン混合物Ｒ１−８Ｈ／Ｒ２−８Ｈを
用いて行なう場合、通常は対称的及び非対称的に置換さ
れた式■の最終生成物のランダム混合物が得られる。こ
れらは慣用の分離方法（例えば上記の段落に記載した方
法）Ｋよシ個々の成分に分離することができる。しかし
ながら、これらを混合物の形でそのまま安定剤として使
用することもできる。

弐■の出発物質、即らフェノール性マンニッヒ塩基とメ
ルカプタンＲ、−８１１及び几、−８Ｒは公知化合物で
あり、公知方法により製造しつる。

これらの化合物の中には、市販品として入手しうるもの
もある。

本発明による化合物は、熱、酸化及び化学線による劣化
を受けやすいイ１慎材料のための有効な安定剤である。

従って、本発明は、有機材料の熱、酸化及び化学線によ
る劣化に対する安定剤としての、本発明による式■の化
合物の使用法にも関する。

本発明による式Ｉの化合物は、合成ポリマー、例えば熱
可塑性樹１？またはエラストマー中での酸化防止剤とし
て、または潤滑剤、例えば鉱物油または合成油中で使用
するのが好ましい。

ポリオレフィン、例えばポリプロピレン中で使用するの
が特に好ましい。

本発明による式１化合物によね有利に安定化され得る他
の有機材料の例をｆ記に示す。

１、　モノまたはジオレフィンから誘導されるポリマー
、例えば場合により架橋していてもよいポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、
ポリメチルペンテン−１、ポリインプレンもしくはポリ
ブタジェン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペン
タンもしくはノルボルネンのポリマー。

２．１）で示したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンおよびポリイソブチレンの混合物。

五　七ノーおよびジ−オレフィン同士または他のビニル
モノマーとのコポリマー、たとえば、エチレン／フロピ
レンコポリマー、プロピレン／フチ−１−エンコポリマ
ー、プロピレン／インブチレンコポリマー、エチレン／
フチ−１−エンコポリマー、プロピレン／ブタジェンコ
ポリマー、インブチレン／イソプレンコポリマー、エチ
レン／アルキルアクＩＪＬ／−）コポリマー、エチレン
／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニ
ルアセテートコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コ
ポリマーおよびそれらの塩（イオノマー）ならびにエチ
レンとプロピレンおよびジエン、たとえばヘキサジエン
、ジシクロペンタジェンまたはエチリデンノルボルネン
とのターポリマー。

４、　ポリスチレン及びポリ−（ｐ−メチルスチレン）
。

５　スチレンまたｔまα−メチルスチレンとジエンまた
はアクリル−導体とのコポリマー、たとえばスチレン／
ブタジェン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／
アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物
またはスチレン／アクリロニトリル／メタクリレート；
スチレンコポリマーと他のポリマー、たとえば、ポリア
クリレート、ジエンポリマーまたけエチレン／プロピレ
ン／ジェンターポリマーから得られる耐衝撃性樹脂混合
物；さらにまたスチレンのプロ・ツクコポリマー、たと
えば、スチレン／プクジエン／スチレン、スチレン／イ
ソプレン／スチレン、スチレン／エチレン−ブチレン／
スチレンまたはスチレン／エチレン−プロピレン／スチ
レン。

＆　スチレンのグラフトコポリマー、たとえばスチレン
の結合したポリブタジェン、スチレンおよびアクリロニ
トリルの結合したポリブタジェン、スチレン及びマレイ
ン酸無水物の結合したポリブタジェンスチレンおよびア
ルキルアクリレートもしくはメタクリレートの結合した
ポリブタジェン、スチレンおよびアクリロニトリルの結
合したエチレン／プロピレン／ジェンターポリマー、ス
チレンおよびアクリロニトリルの結合したポリアルキル
アクリレートもしくはポリアルキルメタクリレートまた
はスチレンおよびアクリロニトリルの結合したアクリレ
ート／ブタジェンコポリマーおよびこれらと５）に挙げ
たコポリマーとの混合物、たとえば、Ａｌ１　、ＭＢＳ
　、ＡＳＡもしくはＡＥ８ポリマーとして知られるコポ
リマー混合物。

ｌ　ハロゲン含有ポリマー、たとえばポリクロロプレン
、塩素化ゴムまたは塩素化もしくけクロロスルホン化ポ
リエチレン及びエビクロロヒドリンのホモ及びコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物から得られるポリマ
ー、たとえば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリマ・ノ化ビニル筐たはポリフッ化ビニリデン；なら
びにこれらのコポリマー、たとえば塩化ビニル／塩化ビ
ニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデ
ン／酢酸ビニルコポリマー。

ａ　α、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導される
ポリマー、たとえばポリアクリレートおよびポリメタク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。

９．８）に挙げたモノマー同士のコポリマーまたは８）
に挙げた七ツマ−と他の不飽和モノマーとのコポリマー
、たとえば、アクリロニトリル／ブタジェノコポリマー
、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー
、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレ−ト
コポリマー、アクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポ
リマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタクリレー
ト／ブタジェンターポリマー。

１Ｑ、不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはアセタールから誘導されるポリマー、
たとえばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ステアリン酸ビニル、ポリビニルベンゾエート、ポリビ
ニルマレニー゛ト、ポリビニルブチラール、ポリアリル
フタレートまたはポリアリルメラミン。

１１、ＪＪｌ状エーテルのホモポリマーおよびコポリマ
ー、たとえばポリアルキレングリコール、ポリエチレン
オキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス
−グリシジルエーテルとのコポリマー。

１２、ポリアセタール、たとえばポリオキシメチレン、
ならびにコモノマー、たとえばエチレンオキシドラ含有
するポリオキシメチレン。

１五ポリフエニレンオキシドおよびポリフェニレンスル
フィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
の混合物。

１４、末端水酸基を有するポリエーテル、ポリエステル
及びポリブタジェンと、脂肪族または芳香族ポリイノシ
アネートとから誘導されるポリウレタン、並びにそれら
の前駆物質。

１！１１．ジアミンおよびジカルボン酸から、および／
″またはアミノカルボン酸もしくは相当するラクタムか
ら誘導されるポリ゛γミドおよびコポリアミド、たとえ
ばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポ
リアミド６／１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２、
ボ１７−２　、４　、４−　トリメチルへキサメチレン
テレフタルアミドおよびポリ−ｍ−フェニレンイソフタ
ルアミド、並びにこれらとポリエーテル、たとえば、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまた
はポリテトラメチレングリコールとのコポリマー。

１＆ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよび
ポリベンズイミダゾール。

１７、ジカルボン酸およびジアルコールから、および／
またはヒドロキシカルボン酸またハ相当するラクトンか
ら誘導されるポリエステル、たとえば、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ボＩＪ−
１．４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、
およびポリヒドロキシベンゾエート、ならびに末端水酸
基をもつポリエーテルから誘導されるブロックポリエー
テル−エステル。

１ａポリカーボネート及びポリエステル−カーボネート
。

１９、ポリスルホン、ポリエーテル−スルホン並びにポ
リエーテルケトン。

２αアルデヒドと、フェノール、尿素またはメラミンと
から誘導される架橋ポリマー、たとえば、フェノール／
ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂お
よびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

２１、乾性および不乾性アルキド樹脂。

２２、飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
との、ビニル化合物を架橋剤とする、コポリエステルか
ら誘導される、不飽和ポリエステル樹脂ならびＫそのハ
ロゲン原子を含む難燃性の変性ｍ　ｔｕｔ。

２五置換アクリル酸エステル、たとえば、エポキシアク
リレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル
−アクリレートから誘導される架橋性アクリル樹脂。

２４、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリインシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂およびアクリレート樹脂。

２５、ポリエポキシド、たとえば、ビスーグリシジルエ
ーテル捷たは脂環式ジエポキシドから誘導される架橋エ
ポキシ樹脂。

２＆天然のポリマー、たとえば、セルロース、天然ゴム
、ゼラチンおよびそれらを重合同族体として化学変性し
た誘導体、たとえば、酢酸セルロース、ブロピオノ酸セ
ルロース、セルロースブチレート並びにセルロースエー
テル、タトエハメチルセルロース。

２７、上記のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例え
ばＰＰ／ＥＰＤＭ　、ポリアミド／、／ＥＰＤＭ　も１
、　（１ＡＢ８．％ＰＶＣ／ＥＶＡＸＰＶＣ／ＡＢ８．
　ＰＶＣ／ＭＢＳＳＰＣ／ＡＢＳ、　ＰＢＴＰ／ＡＢＣ
０２ａ純粋なモノマー化合物またはこれらの混合物であ
る天然および合成有機材料、たとえば、鉱油、動物およ
び植物脂肪、油およびワックス、または合成エステル（
たとえば、フタレート、アジペート、ホスフェートまた
はトリメリテート）ヲベースとする、油、ワックスおよ
び脂肪、ならびに適当な重量比で混合された合成エステ
ルと鉱油との混合物、たとえば繊維紡績油として使用さ
れるもの、ならびに上記材料の水性エマルジョンとして
使用される混合物。

２９天然または合成ゴムの水性エマルジョン、たとえば
、天然ゴムラテックスまたはカルボキシル化スチレン／
ブタジェンコポリマーのラテックス。

適する潤滑油は、専門家に公知であり、例えば”　Ｓｃ
ｂｍｉｅｒｍｉｔｔｅｌ　Ｔａ５ｃｌ＋ｅｎｂｕｃｈ″
（潤滑剤ポケットブック）　（１１−１ｉｉｔｉ　Ｖｅ
ｒｌａｇ　、　Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ　。

１９７４）　　に記載−，５ｊｉ、ている。

本発明による安宇剤Ｌｔ安定化される材料に対してα０
１ないし１０ｔｌｔｔ％の濃度でプラスチックまたは潤
滑油に添加される。好ましくは、該化合物は安定化すべ
き材料に対してα０５ないし１０重量％、特に好°まし
くは０．１ないし２．０重量係の濃度で該材料に添加さ
れる。

添加は例えば成形前またけ成形中に当該技術分野で慣用
の方法に従く）て式■の化合物及び所望により他の添加
Ｒ１１を混合することによ多行なわれるか、または溶液
もしくは分散液とした化合物をポリマーに施用し、Ｉ９
ｒ望により次段階で溶媒を留去することＫより行なわれ
る。さらに、本発明の化合物は該化合物を例えば２．５
ないし２５重量％の濃度で含有するマスター・（ツチと
して安定化すべきプラスチックに添加することもできる
。

壕だ、式１の化合物は重合または架橋反応の前または反
応中にも添加しうる。従って、直接安定化されたポリマ
ーが得られる。

安定化された材料は非常に広い範囲の形状、例えばフィ
ルム、繊維、テープ、成形組成物もしくは断面材、また
けラッカー、接着剤もしくはセメントの検合剤として使
用することができる。

さらに、本発明は熱、酸化または化学縁の作用によって
劣化しやすい有機材料と、安定化剤として、式■の化合
物少なくとも１種を含有する組成物に関する。そのよう
な有愼材料の例は上記に示したものである。

有機材料が合成ポリマーである組成物が好ましい。

ポリマーはラテックスの形態であってもよく、−その形
で安定化されつる。

ポリマーは好１しくは熱可塑性樹脂またはエラストマー
、特にポリオレフィン、例えばポリプロピレンである。

有機材料が＋１’４滑油、％に合成潤滑油または鉱物油
をベースとした潤滑油である組成物もまた、好ましい。

実際には、本発明による式Ｉの化合物は、混合物（既に
記載したように）として、及び／または他の安定剤と共
に便用することができる。

組成物は、特定の使用特性を改良するための他の添加剤
、例えば酸化防止剤、金属不動態化剤、防錆剤、粘度指
数改良剤、流動点降下剤、分散剤／ｙ１−面活性剤及び
耐摩耗剤を含有することもできる。

本発明により使用される安定剤と組合わせて使用し得る
添加／＋ｌＩＯ例を下記に示す。

１、　酸化防止剤 例えば、２．６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール
、２−第三プチル−４，６−シメチルフエノール、２．
６一シ１ｇ三フチルー４−エチルフェノール、２，６−
ジ第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ
第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２．６−シシ
クロペンチルー４−メチルフェノール、２−（α−メチ
ルシクロヘキシル）−４，６−シメチルフエノール、２
．６−シオクタデシルー４−メチルフェノール、２，４
．６−）リシクロヘキシルフェノール及び２，６−ジ第
三ブチル−４−メトキシメチルフェノール。

１．２　　フルキルヒされたヒドロキノン例えば、２，
６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−
ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒド
ロキノン、２゜６−ジフェニル−４−オクタデシルオキ
シフェノール ｔ３　ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、
２．２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノー
ル）、４．４′−チオビスＣ６−９Ｊ１．三ブチルー３
−メチルフェノール）及び４，４′−チオビス（６−第
三ブチル−２−メチルフェノール）。

１．４アルキリデンビスフエノール 例えば、２．２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２．２′−メチレンビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２．２′−メチ
レンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール〕、２．２′−メチレンビス−（４−メ
チル−６−シクロヘキジルフエノール）、２．２′−メ
チレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）　、
２．２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフエノ
ール）、２．２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブ
チルフエノール）、２．２′−エチリデンビス（６−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２．２’−メ
チレンビス（６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル
フェノール）、２．２’−メチレンビス〔６−（α、α
−ジメチルベンジル）−４−／ニルフェノール〕、４，
４′−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフエノール
Ｌ’ｔ”−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−ブタン、２．６−ビ
ス（３−第三プチル−５−メチル−２−ヒドロキシベン
ジル）−４−メチルフェノール、１，１．！！−トリス
（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）ブタン、１．１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−２−メチルフェニル）−５−ｎ−ドデシルメル
カプトブタン、エチレングリコールビス〔３，３−ビス
（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフエニル）ブチ
レート〕、ビス（３−第三プチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ジシクロペンタジェン及びビス（２
−（３’−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェ、＝ル
〕テレフタレート。

１．５　　ベンジル化合物 例えば、１．３．５−　トリス（３，５−ジ第三ブチル
ー４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチル
ベンゼン、ビス（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキ
シベンジル）スルフィド、５．５−ジ第三ブチルー４−
ヒドロキシベンシルメルカプト酢酸イソオクチルエステ
ル、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２゜６−
シメチルベンジル）−ジチオールテレフタレート、１，
３．５−トリス（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート、１．３．５−トリス（
４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−シメチルペ
ンジル）イソシアヌレート、３．５−ジ第三ブチルー４
−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジオクタデシルエステ
ル及び５．５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシベンジル
ホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。

１．６　　アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒド
ロキシステアリン酸アニリド、２．４−ビスオクチルメ
ルカプト−６−（５，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキ
シアニリノ）−８＝トリアジン、オクチル　Ｎ−（３，
５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシフェニル）カルバメ
ート。

例えばメタノール、オクタデカノール、１゜６−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエ
チル）イソシアヌレート、及びジ−ヒドロキシエチルシ
ェラ酸ジアミドとのエステル。

−３−メチルフェニル）プロピオン酸の例えばメタノー
ル、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエ
チレングリコール、１．６−ヘキサンジオール、ペンタ
エリトリトール、ネオペンチルグリコール、トリス（ヒ
ドロキシエチル）イソシアヌレート及びジヒドロキシエ
チルシュウ酸ジアミドとのエステル。

例えばＮ、　Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチルー４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）へキサメチレンジア
ミン、Ｎ、　Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三フチルー４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ、　Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

１．１０　　アミン酸化防止剤の例 Ｎ、Ｎ’−シーイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン
、Ｎ、Ｎ’−ジー第ニブチルーｐ−フヱニレンジアミン
、Ｎ、Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス−（１−エチル−
５−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、
Ｎ’−ビス（１−メチルへブチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ、　Ｎ’−シー（−７−フチルー２）−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ／−フェニル−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチ
ル）−Ｎ′−フェニルーｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−
（１−メｆルヘブチル）　−Ｎ／−フェニル−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ−シクロへキシル−Ｎ’　−フェニ
ル−ｐ−７エニレンジアミン、４−（ｐ−）ルエンスル
ホンア、ミド）−ジフェニルアミン、Ｎ、Ｎ’−ジメチ
ル−Ｎ、Ｎ’−ジー第ニブチル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、ジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニル
アミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェ
ニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミ
ン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルア
ミノ−フェノール、４−ノナノイルアミノ−フェノール
、４−ドデカノイルアミノ−フェノール、４−オクタデ
カノイルアミノ−フェノール、ジー（４−メトキシ−フ
ェニル）−アミン、２６−ジー第三ブチル−４−ジメチ
ルアミノ−メチルフェノール、２．４’−ジアミノ−ジ
フェニルメタン、４．４’−ジアミノ−ジフェニルメタ
ン、Ｎ、　Ｎ、　Ｎ’、　Ｎ’−テトラメチル−４，４
’−ジアミノ−ジフェニルメタン、１，２−ジー（（２
−メチル−フェニル）−アミノコ−エタン、１．２−ジ
ー（フェニルアミノ）−フロノくン、（〇−トリル）−
ビグアニド、ジー〔４（１１，３１−ジメチル−ブチル
）−フェニル〕−アミン、第モオクチル化Ｎ−フェニル
ー１−ナフチルアミン及びモノ−及びジアルキル化第三
ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物。

２　紫外線吸収剤及び光安定剤 例えば５′−メチル−３７５／−ジ第三ブチルー１５′
−第三プチル−１５’−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）−１Ｓ−クロロ−５１，５／−ジ第三ブチル
−１５−クロロ−３′−第三プチル−５′−メチル−１
３′−第二プチル−５′−第三ブチル−１４′−オクト
キシ−１３１，ｓ／−ジ第三アミル−５１，５／−ビス
（α、α−ジメチルベンジル）−誘導体。

２．２２−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体例えば４
−ヒドロキシ−１４−メトキシ−１４−オクトキシ−１
４−デシルオキシ−１４−ドデシルオキシ−１４−ベン
ジルオキシ−１４２’４’−）リヒドロキシー及び２′
−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−誘導体。

２．３　　置換及び非置換安息香酸エステル例えば４−
第三プチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレ
ート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレ
ゾルシノール、ビス（４１２４三ブチルベンゾイル）レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３．５−ジ
第三ブチルー４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ第三プ
チルフｒ−ニルエステル及び３．５−ジ第三ブチルー４
−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。

例えばα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリル酸エチ
ルエステル又はインオクチルエステル、α−カルボメト
キシシンナミル酸メチルエステル、α−シアノ−β−メ
チル−ｐ−メトキシ−シンナミル酸メチルエステル又ハ
ブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシー
シンナミル酸メチルエステル及びＮ−（β−カルボメト
キシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリン。

２．５　　ニッケル化合物 例えば２．２′−チオビス（４−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）フェノール〕の、所望によりｎ−ブ
チルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキ
シルジェタノールアミンのような他の配位子を含んでい
てもよい１：１錯体又は１：２錯体、ニッケルジブチル
ジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三
ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル例え
ばメチル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム
のニッケル錯体例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フ
ェニルウンデシルケトンオキシムのニッケル錯体、所望
により他の配位子を含んでいてもよい１−フェニル−４
−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル
錯体。

２．６　　立体障害アミン 例えばビス（２，２，６，６−チトラメチルビペリジル
）セパケート、ビス（’ｗ　２ｍ　２ｓ　６＊６−ペン
タメチルピペリジル）セバケート、ｎ−ブチル−３，５
−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス
−（１，２，２，６゜６−ペンタメチルピペリジル）エ
ステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合生成物、Ｎ、　Ｎ’−（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−へキサメチレンジアミン及び４
−第三オクチルアミノ−礼６−ジクロロー１．５．５−
８−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセ
テート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）　−１，２，３，４−ブタンテトラカ
ルボキシレート、１．１’−（１，２−エタンジイル）
−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ／）
。

例えば４．４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２
．２′−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブチルオ
キサニリド、　２．２’−ジ−ドデシルオキシ−５，５
′−ジ第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−
エチルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’−ビス（６−シメチルア
ミンプロビル）シュウ酸アミド、２−エトキシ−５−第
三ブチル−２′−エチルオキサニリド及びこれと２−エ
トキシ−２′−エチル−５，４′−ジ第三ブチルオキサ
ニリドとの混合物及びオルト−及びバラ−メトキシｍ＝
置換オキサニリドの混合物並びにオルト−及びバラ−エ
トキシｍ＝置換オキサニリドの混合物。

五　金属不活性化剤 例えばＮ、　Ｎ’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−
サリチラルーＮ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、　Ｎ
’−ビスサリチロイルヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス（３
，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシフェニルプロピオ
ニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，
４−トリアゾール、ビスベンジリデンシュウ酸ジヒドラ
ジド。

４、　ホスフィツト及びホスホニット 例えばトリフェニルホスフィツト、ジフヱニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィツト、トリ
（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリルホスフ
ィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジステアリル
ペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（ζ４−
ジｍ三ブチルフェニル）ホスフィツト、ジイソデシルペ
ンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ
第三ブチルフェニル）ベンタエリトリトールジホスフィ
ット、トリスデアリルソルビトールトリホスフィット、
テトラキス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）　−４
，４’−ヒフエニレンジホスホニット、！１．９−ビス
（２，４−ジ第三ブチルフェノキシ）−２，４，８，１
０−テトラオキサ−３、ｑ−シホスファスビロ［５，５
）ウンデカン。

例えばβ−チオジプロピオン酸のエステル、例としては
ラウリル、ステアリル、ミリスチル又１ｄト’Ｊｆシル
エステル、メルカプトベンズイミダゾール又け２−メル
カプトベンズイミダゾールの亜ｆｆｉ［、ジブチルジチ
オカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペ
ンタエリトリトールテトラキス＝（β−ドデシルメルカ
プト）プロピオネート。

＆　ポリアミド安定剤 例えばヨウ化物及び／又は燐化合物と共に用いる銅塩及
び２価マンガンの塩。

例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えば
ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリ
ン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム及びパルミ
チン酸カリウム、ピロカテコールアンチモン又はピロカ
テコール亜鉛。

ａ　造核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸及びジフェ
ニル酢酸。

２　充填剤及び補強剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス線維、石綿、タ
ルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物およ
び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。

１［Ｌ　　他の添化剤 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、螢光増白剤、防
炎加工剤、静電防止剤、発泡剤。

１ｔ　　金属、例えば銅のだめの不動態化剤例えばトリ
アゾール、ベンゾトリアゾール及びそれらの誘導体、２
−メルカプトベンゾチアゾール、２，５−ジメルカプト
チアジアゾール、サリチリデン−プロピレンジアミン、
及びサリチルアミノグアニジンの塩。

防錆剤 ａ）有機酸、そのエステル、金属塩及び無水物、例えば
Ｎ−オレオイル−サルコシン、ソルビタン−モノオレエ
ート、ナフタレン酸鉛、無水ドデセニルコハク酸、アル
ケニルコハク酸半エステル及び４−ノニルフェノキシ−
酢酸。

ｂ）含窒素化合物、例えば、 ■、第一、第二または第三脂肪族もしくは環状脂肪族の
アミン、及び有機酸もしくは無機酸のアミン塩、例えば
油溶性アルキルアンモニウムカルボキシレート。

■、複素環化合物、例えば置換イミダシリンまたは置換
オキサゾリン。

Ｃ）含燐化合物、例えば燐酸部分エステルのアミン塩。

ｄ）含硫黄化合物、例えばバリウム−ジノニルナフタレ
ン−スルホネート、カリウムベトロリウムースルホネー
ト。

１＆　粘度指数向上剤 ポリメタクリレート、ビニルピロリドン／メタクリレー
ト−コポリマー、ポリブテン、オレフィンコポリマー、
スチレン／アクリレート−コポリマー。

１４　　流動点低下剤 ポリメタクリレート及びアルキル化ナフタレン誘導体。

１５　　分散剤／界面活性剤 ポリブテニルコハク酸イミド、ポリブテニルホスホン酸
誘導体、塩基性マグネシウムスルホネート及びフェルレ
ート、カルシウムスルホネート及びフェルレート並びに
バリウムスルホネート及びフェルレート。

１＆　耐摩耗添加剤 硫黄及び／ま九は燐−及び／またはハロゲン−含有化合
物、例えば硫黄化された植物油ジアルキルジチオ燐酸亜
鉛、トリトリルホスフェート、塩素化パラフィン、アル
キルジスルフィド及びアリールジスルフィド。

弐■の化合物少なくとも一種を、安定剤として少なくと
も一種の硫黄含有添加剤と共に含有する組成物が、特に
興味深い。

下記の実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。

該実施例及びその他の記載及び本発明の特許請求の範囲
において、チ及び部は重量による。

製造実施例 実施例１　：　３．５−ビス（２′−エチルへキシルオ
キシカルボニルメチル−チオメチル）　−２＋　’＋６
−ドリメチルフエノールの製造 Ｈ トリエチルアミン９ｄを、３．５−ビス（クロロメチル
）メジトール５２．２−エチル−ヘキシル　２−メルカ
プト−アセテート９．５ｗ！！及びエタノール４０ｄか
らなる混合物に、室温で、窒素雰囲気下で滴下する。反
応混合物を室温で２時間攪拌し、その後、１Ｎの塩酸に
注ぎ、そして、エーテルで抽出する。

エーテル層ヲ、ロータリーエバポレーターで蒸発させた
後、３．５−ビス（２′−エチルへキシルオキシカルボ
ニルメチル−チオ−メチル）−’２．４．６−　）リメ
チルーフェノールが、白色粉末（融点：５８〜５９℃）
として、理論量の９３係の収率で得られる。

元素分析値： 計算値二　３　１１．２７チ 実測値：　　Ｓ　　１１．２７チ 実施例２　：　３．５−ビス（１−ドデシルチオメチＡ
、）−２，４，６−ト’）メチルフェノールの製造０１
１゜ １、８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセ−７−
エン１α７ｙＬ７！を６，５−ビス（クロロメチル）メ
ジトール８７、第三ドデシルメルカプタン１４．６Ｓ’
及びアセトニトリル８０−からなる混合物に、室温で、
窒素雰囲気下で滴下する。

反応混合物を室温で２時間攪拌し、その後、溶媒を留去
し、そ１．て残渣をヘキサン／エーテル（１：１）中で
処理する。牛じた塩を濾去し、そして有機層を、１ず１
Ｎ塩酸で洗浄し、その後、水洗する。ロー　タリーエバ
ポレーターで溶媒を留去すると、１７ｆの３，５−ビス
（ｔ−ドデシルチオメチル）−２，４，６−トリメチル
フエノールが、さらにカラムクロマトグラフィにより１
１１製しうる無色油状物質として得られる。

実Ｍ例３　：　３．５−ビス（メルカプトメチル）−２
，４，６−１，リメチルフェノールの製造Ｈ Ｈ３ ジエチレングリコールモノメチルエーテル５［１０−中
の３，５−ビス（クロロメチル）−２，４゜６−トリメ
チルフエノール６０２の溶液を、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル３６０コ中のチオ尿素４’）−８ｆ
の溶液に、１２５℃で、窒素雰囲気下で滴下する。混合
物を５時間還流し、その後、溶媒をロータリーエバポレ
ーターで留去する。

得られた固体残渣を２ＮのＮａＯＨ５０Ｄｄ中で処理し
、その後、混合物を２時間還流させる。

その後、得られた混合物を２Ｎ塩酸に注ぐ。沈澱した生
成物を濾取し、水で中性になるまで洗浄し、そして最後
に減圧下、９５℃で乾燥する。

３．５−ビス（メルカプトメチル）−２，４，６−トリ
メチルーフエノールが、更に再結晶により精製できる白
色粉末（融点：１５９℃）として、５６ｖ（理論量の９
６チの収率）得られる。

元素分析値： 計算値：ｓ　　２ａｏａ％ 実測値：３２ａ０９％ 実施例４　：　３．５−ビス（ｎ−オクタデシルオキシ
カルボニルエチル−チオメチル）−２，４，６−トリメ
チルフエノールの製造 Ｈ ０１１゜ トリエチルアミン１４．５ｍ／を、３．５−ビス（クロ
ロメチル）メジトール８ｆ、ｎ−オクタデシル　３−メ
ルカプトプロピオネート２６？、ジメチルアミノピリジ
ンα４３１及びアセトニトリル／クロロホルム混合物（
１：　１　）　１２０ｄからなる混合物に、１０℃で、
窒素雰囲気下で滴下する。

混合物を室温で１５時間攪拌する。溶媒を留去し残渣を
トルエン中で処理し、その後、不溶性の塩を濾去する。

トルエン層を蒸発させた後、。

３．５−ビス（ｎ−オフダブシルオキシカルボニルエチ
ル−チオメチル）　　’＋　’＋　６−トリメチル−フ
ェノール３０ノが、さらに町結晶により精製しつる白色
粉末（融点：６６〜７０℃）として得られる。

元素分析値： 計算値：Ｓ７．３１％ 実測値：Ｓ７．４９％ 実施例５　：　３．　ｓ−ビス（２′−エチルへギンル
オキシカルボニルエチルーチオメチル）−２，４゜６−
トリメチルフエノールのＨ造 ＦＩ トリエチルアミン２　＆７．ノを、３，５−ビス（クロ
ロメチル）メジトール１５ｐ、２／−エチルヘキシル　
３−メルカプトプロピオネ−）２９．３ｆ及びアセトニ
トリル１２０．ｌからなる混合物に、０℃で、窒素雰囲
気下で滴下する。

反応混合物を室温で２時間攪拌する。実施例２に記載し
たように処理した後、カラムクロマトグラフィで精製す
ると、３．５−ビス（２′−エチルへキシルオキシカル
ボニルエチル−チオメチル）　−２，４，６−）リメチ
ルーフェノール３２−５ｆが、白色粉末（融点：３０〜
３２℃）として得られる。

元素分析値二 計算値：　Ｓ　１α７４％ 実測値　　Ｓ　１α７２％ 実施例６　：　３．５−ビス（１−オクチルチオメチル
）　−２，４，６−トリメチルフェノールの製造（ＪＨ
３ Ｉ５ １．８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセ−７−
エン２１．１　ｔｘｌを、３．５−ビス（クロロメチル
）メジトール１５ｆ、ｔ−オクチルメルカプタン２α７
２及びアセトニトリル１２ｏ１からなる混合物に、０℃
で、窒素雰囲気下で滴下する。混合物を室温で１５分間
攪拌する。

実施例２に記載したように処理した後、５゜５−ビス（
ｔ−オクチルチオメチル）　−２＋　’＊６−ドリトリ
ルーフエノール２８？が、さらに再結晶により精製しう
る白色粉末（融点二９８〜１０１℃）として得られる。

元素分析値： 計算値：　　Ｓ　　１４．１６％ 実測値：　　５　１４．２４％ 実施例７　：　３．５−ビス（２′−エチルへキシルオ
キシカルボニルメチル−チオメチル）−２，４−ジメチ
ル−６−エチルフエノールの製造Ｈ スズ　テトラクロライド４．９−を、礼４−ジメチル−
６−ニチルフエノール３Ｆ、２’−エチルヘキシル　２
−クロロメチルーメルカプトアセテー）１［Ｌ６ｆ及び
メチレンクロライ）”２０ｄからなる混合物に、０℃で
、窒素雰囲気下で滴下する。反応混合物を５０℃で５時
間攪拌する。

冷却後、反応混合物を水に注ぎ、その後、メチレンクロ
ライドで抽出する。

溶媒を留去し、その後残渣をカラムクロマトグラフィで
精製すると、３．５−ビス（２′−エチルへキシルオキ
シカルボニルメチル−チオメチル）−２，４−ジメチル
−６−ニチルフ１ノール１１ｐが、淡黄色の油状物質と
して得られる。

元素分析値： 計算値：Ｓ１１．ロ　チ 実測値二　Ｓ　　１［１８９％ 実施例８　：　３．５−ビスＣ（Ｓ’−ｔ−ブチル−４
′−ヒドロキシ−５′−メチル）ベンジル−チオメチル
）−２，４，６−トリメチルフェノールの製造３．５−
ビス（メルカプトメチル）−２，４，６−ドリメチルフ
エノール６ｆ１２−第三プチル−４−（Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアミノ−メチル）−６−メチルフェノール１２．８ｆ
及びジメチルホルムアミド１５０コからなる混合物を、
２００　ａｍＨＨの圧力下、１００℃で２時間加熱する
。冷却後、反応混合物を１Ｎの塩酸に注ぎ、酢酸エチル
エステルで抽出する。

溶媒を留去した後、残渣をカラムクロマトグラフィで精
製すると、上記の生成物１２．５Ｆが粉末（融点＝８２
℃）として得られる。

元素分析値： 計算値：　　Ｓ　　１１．０４％ 実測値：　Ｓ　１α７７％ 実施例９　：　３．５−ビス〔（２′、６′−ジメチル
−４′−第三ブチル−３′−ヒドロキシ）ペンジルーチ
オメチル）　−２，４，６−）リメチルフェノールの製
造 （１，１３０１＋、　　　　　　ＯＨ。

トリエチルアミン１１．３１１ｊを、３．５−ビス（メ
ルカプトメチル）−２，４，６−）リメチルフェノール
５　ｆ、６−Ｍ三ツチル−３−クロロメチル−２，４−
ジメチル７丁ノール１Ｚ９２及びメチレンクロライド１
００＊／からなる混合物に０℃で、９索雰囲気下で滴下
する。その後、混合物を１５時間還流させる。実施例１
に記載したように処理し、カラムクロマトグラフィで精
製すると、生成物９ノが、粉末（融点８０℃）として得
られる。

元素分析値： 計算値：　８１０００％ 実測値：　８１α３２％ 使用例： 実施例Ａ：ボリブ【Ｊピレンの安定化 ステアリン酸カルシウムα１％を含有するポリプロピレ
ン粉末１００部を、下記の表に示しだ化合物と混合１〜
、その混合物をブラベンダーブラストグラ７　（Ｂｒａ
ｂｅｎｄｅｒ　Ｐｌａｓｔｏｇｒａｐｈ　）中、２００
℃で１０分間混練する。

これにより得られた組成物を、プレス中、２６０℃の表
面温度で、厚さ１Ｍのシートにプレスし、その後、これ
らのシートから巾１６ｎ１長さ１０ｆＭのストリップを
打抜く。各プレートから得たいくつかのストリップを、
１３５℃または１４９℃に加熱した循環通風炉中に下げ
、定期的な間隔をあけて観察する。これらのストリップ
の酸化的分解は、環状に始まる黄変により判断される。

劣化前の日数を試験化合物の安定化度の基準とする。

実施例Ｂ：スチレン／ブタジェンコポリマーの安定化 下記の表に示した化合物を少量のメタノールに溶解し、
その溶液を、ＳＢＲラテックス（スチレン−ブタジェン
コポリマー）１００部中に攪拌混入する。その後、厳密
に定めた量のラテックスをペトリ皿に入れ、乾燥話中、
８０℃で乾燥する。約α２ｍ＋１１の透明フィルムが得
られる。

１３５℃でオープン老化した後の試験片の安定性を、定
期的に黄変の程度（黄色度指数）を調べることにより測
定する。黄色度は、ＡＳＴＭＤ１９２５−７０に従って
測定される。結果を下記の表に要約する。

実施例Ｃ：アクリロニトリルーブタジェンースチレンコ
ボリマ−（ＡＢＳ）の安定化 試験する化合物０．２５ｆ、及び所望により添加剤α５
１をヘキサン／イソプロパツールの溶媒混合物４０ゴに
溶解する。溶液を水６００り中のＡＢＳｌｏｏｙの分散
液中に、激しく攪拌しながら添加すると、溶液は短時間
（１分間）でＡＢＳに完全に吸収される。ＡＢＳ粉末を
吸引しながら濾過し、減圧下、４０℃で４０時間乾燥す
る。チタンジオキサイド（顔料）２％及びエチレン−ビ
ス−ステアリン酸アミド（潤滑油）１％を上記の乾燥粉
末に添加する。その後、混合物２本ロールミル中、１８
０℃で４分間かけて混練する。

α８Ｉｌｌｌ＋の厚さのシートを圧延シートから１７５
℃でプレスし、これから４５Ｘ１７ａｍの試験片を打抜
く。同様の方法により、本発明による化合物を含まない
シートを製造した。添加された化合物の有効性は、１８
０℃の循環通風炉中で熱老化させることにより試験した
。９０分の試験期間後の発色を基準として、評価する。

着色度は、ＡＳＴＭＤ　１９２５−７０　Ｋ　ｊ　ル”
　黄色１１Ｊｊ指数”ＫｊＪ）調べられる。高い数字は
、黄変がより進行していることを示す。本試験により、
本発明による化合物の添加により、黄変が効果的に抑制
されることが明らかである。

実施例Ｄ：アクリロニトリルーブタジエンコボリマ−（
ＮＢＲ）の安定化 加硫物の製造：５０℃、１ｓｏｘｓｓｏのロールミル上
；摩擦１：１．２；混合時間３０分間で混合物を製造。

配合： ＮＢＲ（添加剤なし）１００部 ＺｎＯ５部 ステアリン酸　　　　　　　　　　　ａ５部活性炭　　
　　　　　　　　　　　　　７５部ジオクチルフタレー
ト　　　　　　　　５部不溶性の硫黄　　　　　　　　
　　　１．２５部加硫促進剤（Ｖｕｌｋ、　Ｔｈ１ｕｒ
ａｎ　ＭＳ　）　　　　　　０．５部本発明による安定
剤　　　　　　　　　１部２ｆｉのシートを１６６℃で
”ｌ’９５まで加硫。

安定剤を含まないザンブルを同様の方法によね製造した
。

老化試験：不活性ガス中、９５℃で３日間“老化″させ
、続いて８０℃でオーブン老化させた。

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. （１）次式１： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、 Ｒ＿１及びＲ＿２は、各々独立に水素原子、炭素原子数
   １ないし２０のアルキル基、炭素原子数３ないし２０の
   アルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
   ル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、
   炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基、フェニル
   −炭素原子数１ないし４のアルキル基または次式 I ａ
   、 I ｂまたは I ｃ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） または▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｃ） で表わされる基を表わし、Ｒ＿１及びＲ＿２が同時にア
   ルキル基を表わす場合には、２つの置換基のうち少なく
   とも一つは、少なくとも一つの三級炭素原子を有する枝
   分かれ鎖アルキル基を表わし、またはＲ＿１及びＲ＿２
   は同一または異なって次式 I ｄ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｄ） で表わされる基を表わし、 ｍは０または１を表わし、 Ｒ＿３及びＲ＿４は各々独立に水素原子またはメチル基
   を表わし、Ｒ＿５は次式：−ＯＲ＿６または−ＮＲ＿６
   Ｒ＿７で表わされる基を表わし、Ｒ′は水素原子または
   −ＣＯ−Ｒ＿６を表わし、Ｒ＿６及びＲ＿７は各々独立
   に水素原子、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ＿
   ３）−もしくは−Ｎ（ＣＨ＿２ＣＨ＿３）−を介在させ
   ていてもよい炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭
   素原子数２ないし２０のアルケニル基、炭素原子数５な
   いし１２のシクロアルキル基、フェニル基、１−ナフチ
   ル基、２−ナフチル基、フェニル−炭素原子数１ないし
   ４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルキル
   フェニル基を表わし、 Ｒ＿８、Ｒ＿９及びＲ＿１＿０は各々独立に炭素原子数
   １ないし１０のアルキル基、炭素原子数２ないし１０の
   アルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
   ル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、
   炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基またはフェ
   ニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ＿１＿１は炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭
   素原子数２ないし１０のアルケニル基、炭素原子数５な
   いし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４の
   アルキルフェニル基またはフェニル−炭素原子数１ない
   し４のアルキル基を表わし、そして Ｒ＿１＿２及びＲ＿１＿３は各々独立に水素原子または
   Ｒ＿１＿１で定義した意味を表わす）で表わされる化合
   物。
2. （２）上記式 I 中、Ｒ＿１及びＲ＿２が、各々独立に
   炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数３な
   いし２０のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシ
   クロアルキル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナ
   フチル基、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基
   、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基または
   次式 I ａ、 I ｂまたは I ｃ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） または▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｃ） で表わされる基を表わし、Ｒ＿１及びＲ＿２が同時にア
   ルキル基を表わす場合には、二つの置換基の少なくとも
   一方は、少なくとも１個の三級炭素原子を有する枝分か
   れ鎖のアルキル基を表わし、ｍが０または１を表わし、
   Ｒ′、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ＿６、Ｒ＿７、Ｒ＿
   ８、Ｒ＿９及びＲ＿１＿０は前記で定義した意味を表わ
   すことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の化合物
   。
3. （３）上記式 I 中、Ｒ＿１及びＲ＿２が各々独立に上
   記式 I ｄで表わされる基を表わすことを特徴 とする特許請求の範囲第１項記載の化合物。
4. （４）上記式 I ｄ中、Ｒ＿１＿１及びＲ＿１＿２が炭
   素原子数１ないし１０のアルキル基を表わすことを特徴
   とする特許請求の範囲第３項記載の化合物。
5. （５）上記式 I 中、Ｒ＿１が炭素原子数３ないし２０
   のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアル
   キル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基
   、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基、フェニ
   ル−炭素原子数１ないし４のアルキル基、または上記式
   I ａ、 I ｂまたは I ｃで表わされる基を表わし、そ
   してＲ＿２が炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表
   わすか、またはＲ＿１とは独立にＲ＿１で定義した意味
   の一つを表わすことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の化合物。
6. （６）上記式 I 中、Ｒ＿１及びＲ＿２が同じ意味を表
   わし、且つ水素原子、少なくとも１個の三級炭素原子を
   有する炭素原子数６ないし２０のアルキル基、上記式
   I ｂで表わされる基または上記式 I ｄで表わされる基
   を表わすことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   化合物。
7. （７）上記式 I ｂ中、Ｒ＿３及びＲ＿４が水素原子を
   表わし、そしてＲ＿５が基：−ＯＲ＿６を表わし、Ｒ＿
   ６が炭素原子数６ないし１８のアルキル基を表わし、上
   記式 I ｄ中、Ｒ＿１＿１が炭素原子数１ないし６のア
   ルキル基を表わし、そしてＲ＿１＿２及びＲ＿１＿３が
   各々独立に水素原子または炭素原子数１ないし６のアル
   キル基を表わすことを特徴とする特許請求の範囲第６項
   記載の化合物。
8. （８）上記式 I 中、Ｒ＿１及びＲ＿２が同一の意味を
   表わし、且つ少なくとも１個の三級炭素原子を有する炭
   素原子数６ないし２０のアルキル基を表わすことを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の化合物。
9. （９）上記式 I 中、Ｒ＿１及びＲ＿２が各々独立に上
   記式 I ｂで表わされる基を表わすことを特徴 とする特許請求の範囲第１項記載の化合物。
10. （１０）上記式 I 中、Ｒ＿１及びＲ＿２が各々独立に
    次式：▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式
    、化学式、表等があります▼ （式中、ｐは１または２の数を表わし、ｑは０または１
    を表わし、そしてＲ＿５は特許請求の範囲第１項で定義
    した意味を表わす）で表わされる基を表わすことを特徴
    とする特許請求の範囲第９項記載の化合物。
11. （１１）上記式 I 中、Ｒ＿５が−ＯＲ＿６または−Ｎ
    Ｒ＿６Ｒ＿７を表わし、Ｒ＿６が−Ｏ−を介在させても
    しなくてもよい炭素原子数１ないし１８のアルキル基、
    炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル
    基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、フェニル−炭素
    原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ない
    し４のアルキルフェニル基を表わし、Ｒ＿７がＲ＿６と
    は独立にＲ＿６で定義した意味を表わし、そしてＲ＿８
    、Ｒ＿９及びＲ＿１＿０が各々独立に炭素原子数１ない
    し８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロア
    ルキル基、フェニル基またはベンジル基を表わすことを
    特徴とする特許請求の範囲第１０項記載の化合物。
12. （１２）上記式 I 中、Ｒ＿１及びＲ＿２が同一であり
    、それぞれ上記式 I ｄで表わされる基を表わすことを
    特徴とする特許請求の範囲第１項記載の化合物。
13. （１３）上記式 I 中、Ｒ＿１及びＲ＿２が次式：−Ｃ
    Ｈ＿２−ＣＯＯ−ＣＨ＿２ＣＨ（ＣＨ＿２ＣＨ＿３）−
    （ＣＨ＿２）＿３−ＣＨ＿３で表わされる基を表わし、
    Ｒ＿８、Ｒ＿９及びＲ＿１＿０がメチル基を表わすこと
    を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の化合物。
14. （１４）上記式 I 中、Ｒ＿１及びＲ＿２が水素原子で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の化合
    物。
15. （１５）次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿８、Ｒ＿９及びＲ＿１＿０は後記式 I で
    定義する意味を表わす）で表わされる化合物を次式： Ｒ＿１−ＳＨ で表わされるメルカプタンまたは次式： Ｒ＿１−ＳＨ／Ｒ＿２−ＳＨ で表わされる混合物（上記式中、Ｒ＿１及びＲ＿２は後
    記式 I で定義する意味を表わす）と、塩基の存在下で
    反応させることからなる次式 I ：▲数式、化学式、表
    等があります▼（ I ） （式中、 Ｒ＿１及びＲ＿２は、各々独立に水素原子、炭素原子数
    １ないし２０のアルキル基、炭素原子数３ないし２０の
    アルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
    ル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、
    炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基、フエニル
    −炭素原子数１ないし４のアルキル基または次式 I ａ
    、 I ｂまたは I ｃ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） または▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｃ） で表わされる基を表わし、Ｒ＿１及びＲ＿２が同時にア
    ルキル基を表わす場合には、２つの置換基のうち少なく
    とも一つは、少なくとも一つの三級炭素原子を有する枝
    分かれ鎖アルキル基を表わし、またはＲ＿１及びＲ＿２
    は同一または異なって次式 I ｄ ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｄ） で表わされる基を表わし、 ｍは０または１を表わし、 Ｒ＿３及びＲ＿４は各々独立に水素原子またはメチル基
    を表わし、Ｒ＿５は次式：−ＯＲ＿６または−ＮＲ＿６
    Ｒ＿７で表わされる基を表わし、Ｒ′は水素原子または
    −ＣＯ−Ｒ＿６を表わし、Ｒ＿６及びＲ＿７は各々独立
    に水素原子、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ＿
    ３）−もしくは−Ｎ（ＣＨ＿２ＣＨ＿３）−を介在させ
    ていてもよい炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭
    素原子数２ないし２０のアルケニル基、炭素原子数５な
    いし１２のシクロアルキル基、フェニル基、１−ナフチ
    ル基、２−ナフチル基、フェニル−炭素原子数１ないし
    ４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルキル
    フェニル基を表わし、 Ｒ＿８、Ｒ＿９及びＲ＿１＿０は各々独立に炭素原子数
    １ないし１０のアルキル基、炭素原子数２ないし１０の
    アルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
    ル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、
    炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基またはフェ
    ニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ＿１＿１は炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭
    素原子数２ないし１０のアルケニル基、炭素原子数５な
    いし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４の
    アルキルフェニル基またはフェニル−炭素原子数１ない
    し４のアルキル基を表わし、そして Ｒ＿１＿２及びＲ＿１＿３は各々独立に水素原子または
    Ｒ＿１＿１で定義した意味を表わす）で表わされる化合
    物の製造方法。
16. （１６）熱または酸化または化学線により劣化しやすい
    有機材料と、少なくとも１種類の次式 I ：▲数式、化
    学式、表等があります▼（ I ） （式中、 Ｒ＿１及びＲ＿２は、各々独立に水素原子、炭素原子数
    １ないし２０のアルキル基、炭素原子数３ないし２０の
    アルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
    ル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、
    炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基、フェニル
    −炭素原子数１ないし４のアルキル基または次式 I ａ
    、 I ｂまたは I ｃ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） または▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｃ） で表わされる基を表わし、Ｒ＿１及びＲ＿２が同時にア
    ルキル基を表わす場合には、２つの置換基のうち少なく
    とも一つは、少なくとも一つの三級炭素原子を有する枝
    分かれ鎖アルキル基を表わし、またはＲ＿１及びＲ＿２
    は同一または異なって次式 I ｄ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｄ） で表わされる基を表わし、 ｍは０または１を表わし、 Ｒ＿３及びＲ＿４は各々独立に水素原子またはメチル基
    を表わし、Ｒ＿５は次式：−ＯＲ＿６または−ＮＲ＿６
    Ｒ＿７で表わされる基を表わし、Ｒ′は水素原子または
    −ＣＯ−Ｒ＿６を表わし、Ｒ＿６及びＲ＿７は各々独立
    に水素原子、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ＿
    ３）−もしくは−Ｎ（ＣＨ＿２ＣＨ＿３）−を介在させ
    ていてもよい炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭
    素原子数２ないし２０のアルケニル基、炭素原子数５な
    いし１２のシクロアルキル基、フェニル基、１−ナフチ
    ル基、２−ナフチル基、フェニル−炭素原子数１ないし
    ４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルキル
    フェニル基を表わし、 Ｒ＿８、Ｒ＿９及びＲ＿１＿０は各々独立に炭素原子数
    １ないし１０のアルキル基、炭素原子数２ないし１０の
    アルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
    ル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、
    炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基またはフェ
    ニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ＿１＿１は炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭
    素原子数２ないし１０のアルケニル基、炭素原子数５な
    いし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４の
    アルキルフェニル基またはフェニル−炭素原子数１ない
    し４のアルキル基を表わし、そして Ｒ＿１＿２及びＲ＿１＿３は各々独立に水素原子または
    Ｒ＿１＿１で定義した意味を表わす）で表わされる化合
    物を含有する組成物。