JPS6314336A - 光記録媒体 - Google Patents
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- JPS6314336A JPS6314336A JP61158248A JP15824886A JPS6314336A JP S6314336 A JPS6314336 A JP S6314336A JP 61158248 A JP61158248 A JP 61158248A JP 15824886 A JP15824886 A JP 15824886A JP S6314336 A JPS6314336 A JP S6314336A
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はレーザ光によって情報を記録再生することので
きる光記録媒体に関するものでおる。
きる光記録媒体に関するものでおる。
[従来の技術]
レーザ光によって情報を媒体に記録し、かつ再生する光
デイスクメモリは、記録密度が高いことから大容量記録
装置として優れた特徴を有している。この光記録媒体材
料としては、テルル(Te)等のカルコゲン元素又はこ
れらの化合物が使用されている(特公昭47−2689
7号公報)。とくにテルル−セレン系合金はよく使用さ
れている(特公昭54−41902号公報、特公昭57
−7919@公報、特公昭57−56058号公報〉。
デイスクメモリは、記録密度が高いことから大容量記録
装置として優れた特徴を有している。この光記録媒体材
料としては、テルル(Te)等のカルコゲン元素又はこ
れらの化合物が使用されている(特公昭47−2689
7号公報)。とくにテルル−セレン系合金はよく使用さ
れている(特公昭54−41902号公報、特公昭57
−7919@公報、特公昭57−56058号公報〉。
近年、記録装置を小型化するため、レーザ光源としては
半導体レーザが使用されてきている。半導体レーザは発
振波長がaooo入前後入射後が、テルル−セレン系合
金はこの波長帯にも比較的よく適合し、適度な反射率と
適度な吸収率が得られる(フィジカ・スティタス・ソリ
ダイ、 7,189.1964(phys、5tat、
sol、7.189.1964> )。
半導体レーザが使用されてきている。半導体レーザは発
振波長がaooo入前後入射後が、テルル−セレン系合
金はこの波長帯にも比較的よく適合し、適度な反射率と
適度な吸収率が得られる(フィジカ・スティタス・ソリ
ダイ、 7,189.1964(phys、5tat、
sol、7.189.1964> )。
このテルル−セレン系合金を光記録層として用いた光記
録媒体は第2図に示すような構成になっている。すなわ
ち基板1に隣接してテルル−セレン系合金よりなる記録
層21が設けられている。記録用レーザ光は基板1を通
して記録層21に集光照射され、ピット22が形成され
る。基板1としてはポリカーボネート、ボ1ノオレフィ
ン、ポリメチルペンテン、アクリル、エポキシ樹脂等の
合成樹脂が使用され、基板1にはピットが同心固状おる
いはスパイラル状に一定間隔で精度よく記録されるよう
に通常案内溝が設けられている。
録媒体は第2図に示すような構成になっている。すなわ
ち基板1に隣接してテルル−セレン系合金よりなる記録
層21が設けられている。記録用レーザ光は基板1を通
して記録層21に集光照射され、ピット22が形成され
る。基板1としてはポリカーボネート、ボ1ノオレフィ
ン、ポリメチルペンテン、アクリル、エポキシ樹脂等の
合成樹脂が使用され、基板1にはピットが同心固状おる
いはスパイラル状に一定間隔で精度よく記録されるよう
に通常案内溝が設けられている。
レーザビーム径程度の幅の溝に光が入射すると光は回折
され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度の
空間分布が変化するので、これを検出してレーザビーム
を溝の中心に入射ざぜるようにサーボ系が構成されてい
る。溝の幅は通常0.3〜1゜3卯でおり、溝の深さは
使用するレーザ波長の1712から174の範囲に設定
される。集光に関しても同様にサーボ系が構成されてい
る。情報の読み出しは、記録のときよりも弱いパワーの
レーザ光をピット上を通過するように照射することによ
り、ピットの有無に起因する反射率の変化を検出して行
なう。
され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度の
空間分布が変化するので、これを検出してレーザビーム
を溝の中心に入射ざぜるようにサーボ系が構成されてい
る。溝の幅は通常0.3〜1゜3卯でおり、溝の深さは
使用するレーザ波長の1712から174の範囲に設定
される。集光に関しても同様にサーボ系が構成されてい
る。情報の読み出しは、記録のときよりも弱いパワーの
レーザ光をピット上を通過するように照射することによ
り、ピットの有無に起因する反射率の変化を検出して行
なう。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、テルル−セレン系合金層のみを記録層と
して用いた光記録媒体では信号品質が充分に良好ではな
かった。
して用いた光記録媒体では信号品質が充分に良好ではな
かった。
一方、本発明者らは記録層をテルルとセレンと窒素を主
成分とすることにより、信号品質が良好となることを見
出し、すでに提案している。本発明はこれをさらに改善
したものでおり、耐候性がよくかつ高感度で信号品質の
良好な光記録媒体を提供することを目的とする。
成分とすることにより、信号品質が良好となることを見
出し、すでに提案している。本発明はこれをさらに改善
したものでおり、耐候性がよくかつ高感度で信号品質の
良好な光記録媒体を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 。
本発明は基板と、レーザ光によって一部が選択的に除去
されて情報を記録する前記基板上に形成された記録層と
からなる光記録媒体において、前記記録層が硫化物を主
成分とする前記基板側に形成された層と、この層に隣接
して前記基板の外方に形成されたテルル、セレンおよび
窒素を主成分とする層とを少なくとも有していることを
特徴とする光記録媒体である。
されて情報を記録する前記基板上に形成された記録層と
からなる光記録媒体において、前記記録層が硫化物を主
成分とする前記基板側に形成された層と、この層に隣接
して前記基板の外方に形成されたテルル、セレンおよび
窒素を主成分とする層とを少なくとも有していることを
特徴とする光記録媒体である。
本発明においては例えば第1図に示すように、基板1上
に硫化物を主成分とする層(以下硫化物層と略す)2、
テルル、セレンおよび窒素を主成分とする層(以下テル
ル−セレン−窒素層と略す)3が順次積層されて記録層
を形成する。基板1とテルル−セレン−窒素層3との間
に硫化物層2を設けることにより、記録により形成され
るピットが大きく拡がらないようになる。したがって、
ピットをつめて記録できるので高密度記録が可能となる
。又、記録パワー変動に対する余裕度も大きくなるので
実用的な光記録媒体となる。ざらに又、大きなピットが
形成されないためトラッキングやフォーカスサーボが不
安定にならないので実用的な光記録媒体となる。
に硫化物を主成分とする層(以下硫化物層と略す)2、
テルル、セレンおよび窒素を主成分とする層(以下テル
ル−セレン−窒素層と略す)3が順次積層されて記録層
を形成する。基板1とテルル−セレン−窒素層3との間
に硫化物層2を設けることにより、記録により形成され
るピットが大きく拡がらないようになる。したがって、
ピットをつめて記録できるので高密度記録が可能となる
。又、記録パワー変動に対する余裕度も大きくなるので
実用的な光記録媒体となる。ざらに又、大きなピットが
形成されないためトラッキングやフォーカスサーボが不
安定にならないので実用的な光記録媒体となる。
硫化物層としては種々の硫化物を使用することができる
が、その中では硫化亜鉛がとくに望ましい。吸収のない
硫化物の場合の膜厚は5Aから1800人の範囲が望ま
しい。吸収のおる硫化物の場合の膜厚は2人から900
人の範囲が望ましい。吸収のめる硫化物を用いた場合の
記録ピットはテルル−セレン−窒素層の孔と硫化物層の
変形(孔、凹部等〉とにより形成される。
が、その中では硫化亜鉛がとくに望ましい。吸収のない
硫化物の場合の膜厚は5Aから1800人の範囲が望ま
しい。吸収のおる硫化物の場合の膜厚は2人から900
人の範囲が望ましい。吸収のめる硫化物を用いた場合の
記録ピットはテルル−セレン−窒素層の孔と硫化物層の
変形(孔、凹部等〉とにより形成される。
テルル−セレン−窒素層の厚さは100Aから1000
Aの範囲が記録再生特性の観点から望ましい。
Aの範囲が記録再生特性の観点から望ましい。
またテルル−セレン−窒素層における窒素の含有量は原
子数パーセントで2パ一セント以上20パーセント未満
が記録再生特性、耐候性の観点から望ましく、セレンの
含有量は原子数パーセントで2パーセントから50パー
セントの範囲が耐候性の観点から望ましい。
子数パーセントで2パ一セント以上20パーセント未満
が記録再生特性、耐候性の観点から望ましく、セレンの
含有量は原子数パーセントで2パーセントから50パー
セントの範囲が耐候性の観点から望ましい。
テルル−セレン−窒素層には鉛、ヒ素、スズ、ゲルマニ
ウム、カドミウム、タリウム、アンチモン、イオウ、リ
ン、インジウム、ガリウム、亜鉛、ビスマス、アルミニ
ウム、銅、銀、マグネシウム、タンタル、金、パラジウ
ム、コバルトの群から選ばれた少なくとも1種の元素が
添加されていてもよい。この場合、ピットの形状を良好
に整える場合がある。ただし添加量は原子数パーセント
で20パ一セント未満が望ましい。
ウム、カドミウム、タリウム、アンチモン、イオウ、リ
ン、インジウム、ガリウム、亜鉛、ビスマス、アルミニ
ウム、銅、銀、マグネシウム、タンタル、金、パラジウ
ム、コバルトの群から選ばれた少なくとも1種の元素が
添加されていてもよい。この場合、ピットの形状を良好
に整える場合がある。ただし添加量は原子数パーセント
で20パ一セント未満が望ましい。
成膜方法は、スパッタリング法の他に、蒸着法、反応性
蒸着法、イオンブレーティング法、イオンビームデポジ
ション法等でもよい。
蒸着法、イオンブレーティング法、イオンビームデポジ
ション法等でもよい。
基板としてはポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリ
メチルペンテン、アクリル、エポキシ樹脂等の合成樹脂
やガラスなど通常使用されているものが用いられる。
メチルペンテン、アクリル、エポキシ樹脂等の合成樹脂
やガラスなど通常使用されているものが用いられる。
[作 用]
基板とテルル−セレン−窒素層の間に硫化物層を介在さ
せることによってピットが大きく拡がらなくなり、優れ
た光記録媒体を得ることができる。
せることによってピットが大きく拡がらなくなり、優れ
た光記録媒体を得ることができる。
これはテルル−セレン−窒素層の有無による表面エネル
ギーの差が硫化物層の形成により変化するためであると
考えられる。
ギーの差が硫化物層の形成により変化するためであると
考えられる。
[実施例]
以下本発明の実施例について説明する。
実施例
100 ’Cで2時間アニール処理した内径15簡、外
径130M、厚さ1.2Mのポリカーボネート樹脂ディ
スク基板に硫化亜鉛を約100人厚形成し、ひきつづき
この上に、テルル−セレン合金ターゲットをアルゴンと
窒素の混合ガスでマグネトロンスパッタして、テルルと
セレンと窒素の比が原子数パーセントで90対4対6の
テルル−セレン−窒素層を約240人厚形成した。
径130M、厚さ1.2Mのポリカーボネート樹脂ディ
スク基板に硫化亜鉛を約100人厚形成し、ひきつづき
この上に、テルル−セレン合金ターゲットをアルゴンと
窒素の混合ガスでマグネトロンスパッタして、テルルと
セレンと窒素の比が原子数パーセントで90対4対6の
テルル−セレン−窒素層を約240人厚形成した。
この光ディスクを95°Cの窒素雰囲気中で1時間アニ
ールしたのち、波長8300八における基板入射反射率
を測定したところ32%であった。波長8300Aの半
導体レーザ光を基板を通して入射して記録層上で1.6
柳φ程度に絞り、媒体線速度5.6m/SeC、記録周
波数3.77MH2、記録パルス幅7onsec、記録
パワー6.5m−の条件で記録し、0、’7mWで再生
した。バンド幅30kH2のキャリアーとノイズとの比
(C/N )は50dBと良好であった。
ールしたのち、波長8300八における基板入射反射率
を測定したところ32%であった。波長8300Aの半
導体レーザ光を基板を通して入射して記録層上で1.6
柳φ程度に絞り、媒体線速度5.6m/SeC、記録周
波数3.77MH2、記録パルス幅7onsec、記録
パワー6.5m−の条件で記録し、0、’7mWで再生
した。バンド幅30kH2のキャリアーとノイズとの比
(C/N )は50dBと良好であった。
この光ディスクを60℃、80%の高温高湿度の環境に
60時間保存した後、上記特性を調べたが変化はなく、
耐候性に優れた光記録媒体であることが確認された。
60時間保存した後、上記特性を調べたが変化はなく、
耐候性に優れた光記録媒体であることが確認された。
比較のための硫化亜鉛層を設けない光ディスクに比べて
、45dB以上のC/Nが得られる記録パワー範囲はお
よそ2倍大きくなり、記録パワー変動に対する余裕度の
大きいことが確認された。又、トラッキングやフォーカ
スのサーボも不安定になることはなかった。
、45dB以上のC/Nが得られる記録パワー範囲はお
よそ2倍大きくなり、記録パワー変動に対する余裕度の
大きいことが確認された。又、トラッキングやフォーカ
スのサーボも不安定になることはなかった。
[発明の効果]
以上説明したように本発明の光記録媒体は耐候性がよく
かつ高感度で信号品質の良好なものである。
かつ高感度で信号品質の良好なものである。
第1図は本発明の光記録媒体の1実施例を示す部分断面
図、第2図は従来の光記録媒体を示す部分断面図である
。 1・・・基板 2・・・硫化物層 3・・・テルル−セレン−窒素層 21・・・記録層 22・・・ピット 22ご゛1シト
図、第2図は従来の光記録媒体を示す部分断面図である
。 1・・・基板 2・・・硫化物層 3・・・テルル−セレン−窒素層 21・・・記録層 22・・・ピット 22ご゛1シト
Claims (1)
- (1)基板と、レーザ光によつて一部が選択的に除去さ
れて情報を記録する前記基板上に形成された記録層とか
らなる光記録媒体において、前記記録層が硫化物を主成
分とする前記基板側に形成された層と、この層に隣接し
て前記基板の外方に形成されたテルル、セレンおよび窒
素を主成分とする層とを少なくとも有していることを特
徴とする光記録媒体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61158248A JPH061556B2 (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 光記録媒体 |
US07/043,626 US4839208A (en) | 1986-04-30 | 1987-04-28 | Optical information recording medium |
EP87106262A EP0243958B1 (en) | 1986-04-30 | 1987-04-29 | Optical information recording medium |
DE8787106262T DE3781926T2 (de) | 1986-04-30 | 1987-04-29 | Medium fuer optische informationsaufzeichnung. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61158248A JPH061556B2 (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 光記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6314336A true JPS6314336A (ja) | 1988-01-21 |
JPH061556B2 JPH061556B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=15667486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61158248A Expired - Fee Related JPH061556B2 (ja) | 1986-04-30 | 1986-07-04 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH061556B2 (ja) |
-
1986
- 1986-07-04 JP JP61158248A patent/JPH061556B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH061556B2 (ja) | 1994-01-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |