JPS63142202A - 高周波トンネル顕微鏡 - Google Patents

高周波トンネル顕微鏡

Info

Publication number
JPS63142202A
JPS63142202A JP29014286A JP29014286A JPS63142202A JP S63142202 A JPS63142202 A JP S63142202A JP 29014286 A JP29014286 A JP 29014286A JP 29014286 A JP29014286 A JP 29014286A JP S63142202 A JPS63142202 A JP S63142202A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
specimen
sample
current
distance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29014286A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasutaka Tamura
泰孝 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP29014286A priority Critical patent/JPS63142202A/ja
Publication of JPS63142202A publication Critical patent/JPS63142202A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (概 要〕 トンネル類m&liのプローブ、試料間に高周波電圧を
印加し、その高周波電流の大きさの変化率を一定に保つ
ようにプローブ、試料間の距離を間接して、絶縁性試料
の観察を可能とした高周波トンネル顕微鏡。
〔産業上の利用分野〕
本発明はトンネル現象を利用したトンネル顕微鏡に関し
、絶縁性試料の観察を可能にしようとするものである。
〔従来の技術〕
試料とプローブの間に直流電圧を印加し、プローブ先端
を試料表面から数10人程度の距離に接近させると、ト
ンネル現象によって試料表面とプローブ先端との間を電
子が移動する。このトンネル現象による電流(トンネル
電流)の値はプローブ、試料間の距離に太き(左右され
る。そこモ尖鋭な先端を持つプローブをトンネル電流が
一定になるように該プローブ先端を上下させながら試料
表面に沿って移動させると、プローブ上下位置は試料表
面の凹凸に追従し、該凹凸を表わしていることになる。
トンネル顕微鏡はこの原理に基づ(もので、その分解能
は従来の電子顕微鏡よりはるかに高い。
第3図にこの種のトンネル顕微鏡の原理図を示す。
同図において、30はプローブ、31は試料、32はプ
ローブのアクチュエータ(一般に圧電素子)、34はプ
ローブ電流の増幅器、37はフィードバック用の差動増
幅器、EIはプローブ30と試料31に電圧を印加する
直流電圧源、E2は差動増幅器37の基準電圧源である
圧電素子32は上下に電極(斜線部)を有し、該電極に
印加される電圧に応じて伸縮する。この伸縮量は微小な
ので、数10人という前記微小距離の調節に通光である
。プローブ30はこの圧電素子32に取付けられている
ので、該素子の伸縮に伴ない上下動をする。トンネル現
象で試料31の表面とプローブ30の先端との間を電子
○が移動すると、トンネル電流iが流れ、検出抵抗Rs
に電圧降下が生じる。増幅器34はこの電圧を増幅して
差動増幅器37の一方の入力端に入力する。
差動増幅器37の他方の入力端には基準電圧E2が入力
され、該増幅器はこの入力電圧と基準電圧E2を比較し
、その差に応じた制御電圧Vおよびその逆相の電圧Vを
発生する。この電圧V、Vは、トンネル電流lの値が一
定となるように圧電素子32を伸縮させるので、プロー
ブ30の先端と試料31の表面との間の間隔(δとする
)は一定になり、プローブ30を試料表面に沿って水平
移動(例えば図面で左右方向へ移動させるとプローブは
試料31表面の凹凸に応じて上下動する。プローブの上
下移動量は、圧電素子に加わる電圧がこれを示している
。そこで、プローブ30を水平方向に2次元的に走査し
、該走査と同期してCRTを走査し、差動増幅器37の
出力電圧■で該CRTの輝度変調を行なえば、該CRT
の管面に凹凸を濃淡で表わした像が表示され、これによ
り試料31表面の凹凸を観察することができる。
トンネル顕微鏡は最近提案されたものであるがその進歩
は著しく、テレビ画面と同様な視覚を与え、CRTの管
面に原子が数個見える、などの状態になっている。本来
は化学的興味から考えられたもので、シリコン表面など
半導体材料の表面の観察が目的とされるが、用途は通常
の顕微鏡と変らず、しかも高性能であるから、モデルと
しては考えられているが現状では見ることは不可能とい
ったものへも利用が考えられる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら第3図に示す従来のトンネル顕微鏡では試
料31に直流電流を流す必要があるため、絶縁体の表面
や導電性物質ではあっても周囲が絶縁体で囲まれてリー
ド線を取り出せない構造のものは観察できず、従って生
体組織の観察などには利用できない欠点がある。
本発明はこの点を改良し、絶縁物の表面観察も可能にし
ようとするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
第1図は本発明の原理図で、10はプローブ、11は試
料、12はプローブのアクチュエータ(圧電素子)、1
3は高周波信号源、14は回路に流れるこの高周波数の
電流を増幅する増幅器、15はアクチュエータ12の制
御信号Vに小さな変化を繰り返し与えるための交流信号
源、16はこの信号源の信号と増幅器14からの高周波
電流の値から、高周波電流のアクチュエータ駆動信号に
対する変化率を出力する回路、17は回路16の出力が
一定となるようにアクチュエータ12にフィードバンク
するための差動増幅器、18は信号源15の交流信号を
回路(同期検波)16の出力に重畳させるトランスであ
る。
〔作用〕
試料11が絶縁体であっても、その表面にはプローブ1
0と電子をトンネル現象で交換できるような準位が存在
する。従って交流を印加すると電子がプローブ先端より
試料表面の該準位へ及びその逆に移動しトンネル電流が
測定できる。このトンネル電流の大きさの上限は表面に
あるトンネル可能な準位の密度をN5SCIII  e
V  、交流電圧の振幅をV RF * プローブと電
子のやりとりをする試料上の領域の面積を5C11!、
交流周波数をfとするとf N 5SVHp S e程
度となる。−例としてN ss= 10”cm−2eV
−”、  VRF = l OV、  S =  (1
0人)  、f=100MHzとするとトンネル電流の
大きさは約160PAとなり測定可能な値となる。上記
のVRFおよびfは信号源13の電圧振幅および周波数
である。
但し、プローブIOと試料11の間は容量により結合さ
れているため、この容量に流れる交流成分がある。従っ
て、容量に流れる電流とトンネル電流を区別しなければ
ならないが、これには次の性質を利用できる。つまり、
容量に流れる電流はプローブ10と試料11の距離の変
化に対してさほど変化しないのに対し、トンネル電流は
距離の微小変化に対して急激に変化する。従ってプロー
ブ10と試料11の距離を意図的に変化させたときの交
流(高周波)電流の変化率を測定すれば、これはほぼト
ンネル電流からの寄与と考えてよい。
この変化率そのものもプローブと試料の距離により急激
に変化する値であり、この値を一定に保つことで試料の
凹凸の測定ができる。
プローブ10と試料との間の距離の規則的な変化(揺動
)は、交流信号源15の交流信号(例えば100KHz
)を圧電素子12に印加することで発生する。この揺動
により回路1O−11−Es−13−Rsに流れる電流
が変化し、これは増幅814の出力変化となるが、これ
を信号源15の信号周波数で同期検波すれば、上記揺動
による回路電流の変化、ひいては容量電流を除いてトン
ネル電流のみを抽出することができる。この回路16の
出力(トンネル電流)を増幅器17へ加え、基準値E2
に等しくなるようにアクチュエータ12を制御すれば前
記間隙δの一定制御が行なわれる。本回路では回路16
の出力に信号源15の出力が重畳されるので間隙δは一
定ではなく該信号源の周波数で変動するが、この変動の
周波数(100KHz)は高いので目視観察はされない
。顕微鏡としての出力はやはり増幅器17の出力■とし
、これをCRTの輝度変調に用い、CRTの走査はプロ
ーブ10のX−Y方向走査と同期させる。
これによりCRTに試料10の表面の凹凸像を濃淡像と
して表示することができる。プローブ10と試料11の
間に印加する直流バイアス電圧E3はプローブ10先端
と試料11表面との間の電子のトンネル可能を後述のよ
うに補助するものである。
〔実施例〕
第2図は本発明の一実施例を示す図で、20はプローブ
、21は試料、22はアクチュエータ(圧電素子)、2
3は100MHzの高周波信号源、24は該100MH
zを参照波とする同期検波回路、25は100 K H
zの交流信号源、26は該100KHzを参照波とする
同期検波増幅器、27は差動増幅器、28はトランス、
29は金属製のステージである。同期検波回路24は、
検出抵抗Rsに流れる電流(トンネル電流+容量電流)
を電圧換算して増幅する増幅器Aとその増幅出力を10
0MHzで同期検波する同期検波増幅器Bとからなり、
回路電流のうちのloOMH2成分を出力する。第1図
では増幅器14を用いて単純に回路電流に比例する電圧
を回路16へ入力したが、この回路電流には信号源15
の100KHz成分も含まれているから、トンネル電流
検出には第2図のようにこれを除いておいた方がよい。
また本回路の測定原理は本質的にはインピーダンスの変
化検出であり、このインピーダンスはプローブ先端とそ
の直下の試料表面との間の間隙のインピーダンスZ1と
、該直下の試料表面と電?TAE:+の接続点との間の
試料部分のインピーダンスZ2との和であるから、Z2
が大きいと21の変化検出が困難になる。そこで導電性
ステージ29を用いて試料21をこれにのせ、゛電源E
3は該ステージに接続し、試料21は薄くする等の方法
をとるとよい。
プローブ20は試料21に対してX、Y方向で移動させ
2次元走査するが、これはステージ29の移動と合わせ
て行なうとよい。例えばプローブ20の走査は微小範囲
でのX、Y方向走査のみとし、大きな距離でのX、Y方
向移動はステージ29により行なう。
プローブ先端と試料表面準位との間の電子のトンネリン
グはエネルギレベルによっても変る。即ちエネルギの高
い電子が入れる単位、逆にエネルギの低い電子が入れる
準位などがある。第2図はこれを説明する図で縦軸は状
態密度E、横軸は電子の個数N (R)である。この曲
線の範囲から外れた電子はトンネリングできない。直流
バイアス電圧E3はエネルギレベルをトンネリング可能
な値に設定する。この電圧E3を変えて表面準位の情報
を取出すことも可能である。なお、上記ではCRTの濃
淡像は試料表面の凹凸を表わすとしたが、電子のトンネ
リングが関与しているので、詳しくはトンネリングの容
易/困難°性、表面の電子の状態(結合の手)なども表
わしている。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、直流電流を流せない
試料表面の状態をトンネル現象を利用して観察でき、ト
ンネル顕微鏡の用途を拡大できる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基本構成図、 第2図は本発明の実施例を示す構成図、第3図は従来の
トンネル顕微鏡の原理図である。 図面で10.20はプローブ、11.21は試料、12
.22はアクチュエータ、13.23は高周波信号源、
14.24は同期検波回路、15゜25は交流信号源、
16.26は同期検波回路、17.27は差動増幅器、
E3は直流バイアス源である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 試料(11)に微小距離をおいて対向配置され、アクチ
    ュエータ(12)により該距離を調整されるプローブと
    、 試料(11)とプローブ(10)の間に直流バイアス(
    E_3)に重畳して高周波電圧(13)を印加する手段
    と、 プローブ(10)と試料(11)との間に流れる高周波
    電流の大きさを検出する手段(Rs、14)と、プロー
    ブ(10)と試料(11)の距離を周期的に変化させる
    交流信号を発生する手段(15)と、該距離の周期的な
    変化に対する前記高周波電流の大きさの変化率を測定す
    る手段(16)と、該変化率が一定値となるようにアク
    チュエータ(12)に制御信号を送るフィードバック回
    路(17)とを有することを特徴とする高周波トンネル
    顕微鏡。
JP29014286A 1986-12-05 1986-12-05 高周波トンネル顕微鏡 Pending JPS63142202A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29014286A JPS63142202A (ja) 1986-12-05 1986-12-05 高周波トンネル顕微鏡

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29014286A JPS63142202A (ja) 1986-12-05 1986-12-05 高周波トンネル顕微鏡

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63142202A true JPS63142202A (ja) 1988-06-14

Family

ID=17752328

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29014286A Pending JPS63142202A (ja) 1986-12-05 1986-12-05 高周波トンネル顕微鏡

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63142202A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0361932A2 (en) * 1988-09-30 1990-04-04 Canon Kabushiki Kaisha Scanning tunnel-current-detecting device and method
JPH02285203A (ja) * 1989-03-23 1990-11-22 Internatl Business Mach Corp <Ibm> トンネル顕微鏡測定回路
JPH03110402A (ja) * 1989-09-25 1991-05-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 表面観察方法及び表面観察装置
WO2007102324A1 (ja) * 2006-03-07 2007-09-13 Osaka Industrial Promotion Organization 位相ロックイン型高周波走査トンネル顕微鏡
JP2011515694A (ja) * 2008-03-25 2011-05-19 デルファイ・テクノロジーズ・ホールディング・エス.アー.エール.エル. センサ構成

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0361932A2 (en) * 1988-09-30 1990-04-04 Canon Kabushiki Kaisha Scanning tunnel-current-detecting device and method
JPH02285203A (ja) * 1989-03-23 1990-11-22 Internatl Business Mach Corp <Ibm> トンネル顕微鏡測定回路
JPH03110402A (ja) * 1989-09-25 1991-05-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 表面観察方法及び表面観察装置
WO2007102324A1 (ja) * 2006-03-07 2007-09-13 Osaka Industrial Promotion Organization 位相ロックイン型高周波走査トンネル顕微鏡
JPWO2007102324A1 (ja) * 2006-03-07 2009-07-23 財団法人大阪産業振興機構 位相ロックイン型高周波走査トンネル顕微鏡
JP4590574B2 (ja) * 2006-03-07 2010-12-01 財団法人大阪産業振興機構 位相ロックイン型高周波走査トンネル顕微鏡
JP2011515694A (ja) * 2008-03-25 2011-05-19 デルファイ・テクノロジーズ・ホールディング・エス.アー.エール.エル. センサ構成

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4841191A (en) Piezoelectric actuator control apparatus
EP0245660B1 (en) Scanning thermal profiler and method for investigating surface structures
US5222396A (en) Tunnelling acoustic microscope
JP2837083B2 (ja) 形状を除く表面のパラメータを正確に測定し、または形状に関連した仕事を行うための方法および相互作用装置
JP3402512B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JP3594927B2 (ja) 物性値の測定方法および走査型プローブ顕微鏡
JPH1048224A (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JPS63142202A (ja) 高周波トンネル顕微鏡
US5036196A (en) Surface microscope
US10132831B2 (en) Electrostatic force balance microscopy
JPH0483104A (ja) 走査型トンネル顕微鏡
JP2002116132A (ja) 信号検出装置、該信号検出装置によって構成した走査型原子間力顕微鏡、および信号検出方法
JPH1130622A (ja) 走査型静電容量顕微鏡
JP3264735B2 (ja) 電位分布測定機能を備える走査型トンネル顕微鏡
JP4342739B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JP3106239B2 (ja) プローブ走査装置
CN113092825B (zh) 原子力显微镜系统及其电流检测方法
JP2016023952A (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JPS63204672A (ja) 圧電素子制御装置
JP4590574B2 (ja) 位相ロックイン型高周波走査トンネル顕微鏡
JPH03180702A (ja) 走査制御方法
US5481529A (en) Scanning probe microscope for observing a sample surface while applying an AC bias voltage between the sample and a probe
JP2003057163A (ja) 走査型プローブ顕微鏡とそれを用いたp−n接合位置検出方法
JPH06273110A (ja) 走査型トンネル顕微鏡
JP2624008B2 (ja) 走査型トンネル顕微鏡