JPS63142003A - α−オレフイン重合体の製造方法 - Google Patents
α−オレフイン重合体の製造方法Info
- Publication number
- JPS63142003A JPS63142003A JP28835486A JP28835486A JPS63142003A JP S63142003 A JPS63142003 A JP S63142003A JP 28835486 A JP28835486 A JP 28835486A JP 28835486 A JP28835486 A JP 28835486A JP S63142003 A JPS63142003 A JP S63142003A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- ether
- titanium
- solid
- olefin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- -1 ester compound Chemical class 0.000 claims abstract description 63
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims abstract description 22
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 239000012265 solid product Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 17
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 23
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 claims description 19
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 12
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 19
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 abstract description 16
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 15
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 9
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 7
- CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;chloride Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Cl-] CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000306 component Substances 0.000 description 20
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 11
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical group [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 7
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine Substances CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N Diisoamyl ether Chemical compound CC(C)CCOCCC(C)C AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 5
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MGWAVDBGNNKXQV-UHFFFAOYSA-N diisobutyl phthalate Chemical compound CC(C)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(C)C MGWAVDBGNNKXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000282326 Felis catus Species 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 3
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 1,1'-Oxybisoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCCCC NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FHUODBDRWMIBQP-UHFFFAOYSA-N Ethyl p-anisate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 FHUODBDRWMIBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- XSIFPSYPOVKYCO-UHFFFAOYSA-N butyl benzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 XSIFPSYPOVKYCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-methylpropane Chemical compound CCOCC(C)C RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQAYBCWERYRAMF-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-3-methylbutane Chemical compound COCCC(C)C ZQAYBCWERYRAMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxybutane Chemical compound CCCCOC CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CITAJXRBKWJHJR-UHFFFAOYSA-N 2,5-di(propan-2-yl)pyrrolidine Chemical compound CC(C)C1CCC(C(C)C)N1 CITAJXRBKWJHJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POWUJINVZSHIGY-UHFFFAOYSA-N 2,6-di(propan-2-yl)piperidine Chemical compound CC(C)C1CCCC(C(C)C)N1 POWUJINVZSHIGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGERXYZHJFOFNE-UHFFFAOYSA-N 2-o-ethyl 1-o-methyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC HGERXYZHJFOFNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAMKNLFIHBMGQT-UHFFFAOYSA-N 3-hexadecanoyloxy-4-(trimethylazaniumyl)butanoate;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC(CC(O)=O)C[N+](C)(C)C GAMKNLFIHBMGQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XULNZSSCZUFNHE-UHFFFAOYSA-N CC(C)[Mg]C(C)C Chemical compound CC(C)[Mg]C(C)C XULNZSSCZUFNHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000283153 Cetacea Species 0.000 description 1
- YUXIBTJKHLUKBD-UHFFFAOYSA-N Dibutyl succinate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(=O)OCCCC YUXIBTJKHLUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKMROQRQHGEIOW-UHFFFAOYSA-N Diethyl succinate Chemical compound CCOC(=O)CCC(=O)OCC DKMROQRQHGEIOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWDBCIAVABMJPP-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl phthalate Chemical compound CC(C)OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC(C)C QWDBCIAVABMJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICMAFTSLXCXHRK-UHFFFAOYSA-N Ethyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OCC ICMAFTSLXCXHRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDKFWIMBZAUBRS-UHFFFAOYSA-M [I-].CC[Mg+] Chemical compound [I-].CC[Mg+] CDKFWIMBZAUBRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IPBVNPXQWQGGJP-UHFFFAOYSA-N acetic acid phenyl ester Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1 IPBVNPXQWQGGJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical compound [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 125000000853 cresyl group Chemical group C1(=CC=C(C=C1)C)* 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004796 dialkyl magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N dibutyl (z)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 1
- OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N dibutyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCCCC OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFKGQHYUYGYHIS-UHFFFAOYSA-N dibutyl propanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(=O)OCCCC NFKGQHYUYGYHIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002097 dibutylsuccinate Drugs 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical group CCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCC ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLUSGESADDINBX-UHFFFAOYSA-N diethyl-bis(triethylsilyloxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)CC YLUSGESADDINBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N diethylalumane Chemical compound CC[AlH]CC HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWBWGOJHWAARSS-UHFFFAOYSA-N diethylalumanyloxy(diethyl)alumane Chemical compound CC[Al](CC)O[Al](CC)CC LWBWGOJHWAARSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- DWNAQMUDCDVSLT-UHFFFAOYSA-N diphenyl phthalate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC=2C=CC=CC=2)C=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 DWNAQMUDCDVSLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CC DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- MGDOJPNDRJNJBK-UHFFFAOYSA-N ethylaluminum Chemical compound [Al].C[CH2] MGDOJPNDRJNJBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- UKZCGMDMXDLAGZ-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].C[C-](C)C UKZCGMDMXDLAGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[C-](C)C CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WRYKIHMRDIOPSI-UHFFFAOYSA-N magnesium;benzene Chemical compound [Mg+2].C1=CC=[C-]C=C1.C1=CC=[C-]C=C1 WRYKIHMRDIOPSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M magnesium;benzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C1=CC=[C-]C=C1 IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KJJBSBKRXUVBMX-UHFFFAOYSA-N magnesium;butane Chemical compound [Mg+2].CCC[CH2-].CCC[CH2-] KJJBSBKRXUVBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWLPYZUDBNFNAH-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CCC[CH2-] LWLPYZUDBNFNAH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WSHFRLGXCNEKRX-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CC[CH-]C WSHFRLGXCNEKRX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH2-]C YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UGVPKMAWLOMPRS-UHFFFAOYSA-M magnesium;propane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CC[CH2-] UGVPKMAWLOMPRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000012533 medium component Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKUUVVYMPUDTGJ-UHFFFAOYSA-N methyl 5-hydroxy-4-methoxy-2-nitrobenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(O)=C(OC)C=C1[N+]([O-])=O ZKUUVVYMPUDTGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- YWWHKOHZGJFMIE-UHFFFAOYSA-N monoethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O YWWHKOHZGJFMIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N o-dicarboxybenzene Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002734 organomagnesium group Chemical group 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N phenetole Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1 DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940049953 phenylacetate Drugs 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N phthalic acid diheptyl ester Natural products CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQHNKCZKNAJROC-UHFFFAOYSA-N phthalic acid dipropyl ester Natural products CCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCC MQHNKCZKNAJROC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007613 slurry method Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000576 tactic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N triethyl(triethylsilyloxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)CC WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N trihexylalumane Chemical compound CCCCCC[Al](CCCCCC)CCCCCC ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHQZLUVCZCAMFU-UHFFFAOYSA-N tripropyl(tripropylsilyloxy)silane Chemical compound CCC[Si](CCC)(CCC)O[Si](CCC)(CCC)CCC KHQZLUVCZCAMFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004736 wide-angle X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分骨〉
本発明は、α−オレフィン重合体の製造方法に関する。
更に詳しくは固体触謀当りおよびチタン原子当りの
。
。
の触媒活性が非常に高い新規な触媒系を用いて触媒残渣
および無定形重合体が極めて少ない機械的性質と加工性
に優れたα−オレフィン重合体の製造方法に関する。
および無定形重合体が極めて少ない機械的性質と加工性
に優れたα−オレフィン重合体の製造方法に関する。
〈従来の技術〉
一般に、プロピレン、ブテン−1等のα−オレフィン重
合体を製造する方法として、周期律表の■〜■族の遷移
金属化合物と1〜■族の有機金属化合物とからなるいわ
ゆるチーグラ・ナツタ触媒を使用することは良く知られ
ている。
合体を製造する方法として、周期律表の■〜■族の遷移
金属化合物と1〜■族の有機金属化合物とからなるいわ
ゆるチーグラ・ナツタ触媒を使用することは良く知られ
ている。
特に、α−オレフィン重合体を工業的に製造する場合に
は、三塩化チタン触媒が広く使用されている。
は、三塩化チタン触媒が広く使用されている。
しかしながら、該製造法においては工業的に利用価値の
高い高立体規則性α−オレフィン重合体の他に無定形重
合体が副生する。
高い高立体規則性α−オレフィン重合体の他に無定形重
合体が副生する。
この無定形重合体は工業的利用価値が少なく、α−オレ
フィン重合体をフィルム繊維、その他の加工品に加工し
て使用する際の機械的性質に大きく悪影響を及ぼす。
フィン重合体をフィルム繊維、その他の加工品に加工し
て使用する際の機械的性質に大きく悪影響を及ぼす。
又、上記無定形重合体の生成は原料モノマーの損失を招
き、同時に無定形重合体の除去に必要な製造設備が必須
となる等、工業的に見ても極めて大きな不利益を招く。
き、同時に無定形重合体の除去に必要な製造設備が必須
となる等、工業的に見ても極めて大きな不利益を招く。
従って、この様な無定形重合体の生成が全く無いか、或
は有っても極めて僅かであれば非常に大きな利点となり
得る。
は有っても極めて僅かであれば非常に大きな利点となり
得る。
一方、かかる重合法において得られたα−オレフィン重
合体中に触媒残渣が残留し、この触媒残渣はα−オレフ
ィン重合体の安定性、加工性など種々の点において問題
を引きおこし、触媒残渣除去と安定化のための設備が必
要となる。
合体中に触媒残渣が残留し、この触媒残渣はα−オレフ
ィン重合体の安定性、加工性など種々の点において問題
を引きおこし、触媒残渣除去と安定化のための設備が必
要となる。
この欠点は単位重量触媒当りの生成α−オレフィン重合
体重量で表わされる触媒活性が大きくなれば改善するこ
とができ、又上記触媒残渣除去のための設備も不要とな
り、α−オレフィン重合体の製造に必要な生産コストの
引き下げも可能となる。
体重量で表わされる触媒活性が大きくなれば改善するこ
とができ、又上記触媒残渣除去のための設備も不要とな
り、α−オレフィン重合体の製造に必要な生産コストの
引き下げも可能となる。
三塩化チタンの製造法としては、四塩化チタンを1)水
素で還元したのち、ボールミルで粉砕して活性化する。
素で還元したのち、ボールミルで粉砕して活性化する。
2)金属アルミニウムで還元した後、ボールミル粉砕し
て活性化する。8)有機アル疋ニウム化合物で一80〜
80℃の温度で還元する事によって得られた還元固体を
120〜180°Cの温度で熱処理する等がある。
て活性化する。8)有機アル疋ニウム化合物で一80〜
80℃の温度で還元する事によって得られた還元固体を
120〜180°Cの温度で熱処理する等がある。
しかしながら、上記三塩化チタンは触媒活性、立体規則
性いずれの点においても充分満足すべきものではない。
性いずれの点においても充分満足すべきものではない。
又、四塩化チタンを有機アルミニウム化合物で還元する
ことにより製造される還元固体を錯化剤で処理し更に四
塩化チタンと反応させる方法(特公昭5B−8856号
公報)、更に本出願人が先に提案した一般式Ti(OR
)nX4Hで表わされるチタン化合物を有機アルミニウ
ム化合物で還元した後、エーテル化合物と四塩化チタン
の混合物で処理する方法(特開昭69−126401号
公報)等で得られる固体触媒成分と有機アルミニウム化
合物からなる触媒系を用い、α−オレフィンの重合を行
なうと、得られるα−オレフィン重合体の立体規則性は
高いものの、触媒活性は満足できるほど高くない。
ことにより製造される還元固体を錯化剤で処理し更に四
塩化チタンと反応させる方法(特公昭5B−8856号
公報)、更に本出願人が先に提案した一般式Ti(OR
)nX4Hで表わされるチタン化合物を有機アルミニウ
ム化合物で還元した後、エーテル化合物と四塩化チタン
の混合物で処理する方法(特開昭69−126401号
公報)等で得られる固体触媒成分と有機アルミニウム化
合物からなる触媒系を用い、α−オレフィンの重合を行
なうと、得られるα−オレフィン重合体の立体規則性は
高いものの、触媒活性は満足できるほど高くない。
三塩化チタンの製造法として、四塩化チタンを有機マグ
ネシウム化合物、例えばグリニヤール試薬で還元するこ
とによって合成されることも公知である。
ネシウム化合物、例えばグリニヤール試薬で還元するこ
とによって合成されることも公知である。
本出願人は先に、四塩化チタンを有機マグネシウム化合
物で還元して得られる反応固体をルイス酸で処理する方
法を提案した(特公昭57−24861号公報)。
物で還元して得られる反応固体をルイス酸で処理する方
法を提案した(特公昭57−24861号公報)。
しかしながら、かかる方法で得られた触媒を用いてもα
−オレフィンの重合における触媒活性は高いものの、得
られたα−オレフィン重合体の立体規則性はいまだ満足
できるほど高いものではない。
−オレフィンの重合における触媒活性は高いものの、得
られたα−オレフィン重合体の立体規則性はいまだ満足
できるほど高いものではない。
〈発明が解決しようとする問題点〉
かかる現状において、本発明の解決すべき問照点、即ち
本発明の目的は触媒残渣および無定形重合体の除去が不
必要となるほど充分高い触媒活性と立体規則性を有する
α−オレフィン重合体の製造方法を提供することにある
。
本発明の目的は触媒残渣および無定形重合体の除去が不
必要となるほど充分高い触媒活性と立体規則性を有する
α−オレフィン重合体の製造方法を提供することにある
。
く問題点を解決するための手段〉
本発明は、
A)Si−0結合を有する有機ケイ素化合物の共び下、
一般式 Ti(OR1)nX4−nX4ns (R1は
炭素数が1〜20の炭化水素基、Xはハロゲン原 (
。
一般式 Ti(OR1)nX4−nX4ns (R1は
炭素数が1〜20の炭化水素基、Xはハロゲン原 (
。
子、nはo<n≦4の数字を表わす。)で表わされるチ
タン化合物を有機マグネシウム化合物で還元して得られ
る固体生成物を、エステル化合物及び、エーテル化合物
と四塩化チタンとの混合物で処理して得られる三価のチ
タン化合物含有固体触媒成分、 B)有機アル疋ニウム化合物、 表6 (但しn−1或は2で、R”〜R” i、を炭素数1〜
4の炭化水素基もしくはアルコキシル基である。)で示
される構造を有する複素環化合物、 よりなる触媒系を用いることによるα−オレフィン重合
体の製造方法である。
タン化合物を有機マグネシウム化合物で還元して得られ
る固体生成物を、エステル化合物及び、エーテル化合物
と四塩化チタンとの混合物で処理して得られる三価のチ
タン化合物含有固体触媒成分、 B)有機アル疋ニウム化合物、 表6 (但しn−1或は2で、R”〜R” i、を炭素数1〜
4の炭化水素基もしくはアルコキシル基である。)で示
される構造を有する複素環化合物、 よりなる触媒系を用いることによるα−オレフィン重合
体の製造方法である。
本触媒系の使用により前記目的が達成される。
以下、本発明について具体的に説明する。
l)チタン化合物
本発明において使用されるチタン化合物は一般式Ti(
OR1)nX4−n(R1は炭素数が1〜20の炭化水
素基、Xはハロゲン原子、nはOwn≦4の数字を表わ
す。)で表わされる。R1の具体例としては、メチル、
エチル、n−プロピル、1so−プロピル、n−ブチル
、1so−ブチル、n−アミル、1so−アミル、n−
ヘキシル、n−へブチル、n−オクチル、n−デシル、
n−ドデシル等のアルキル基、フェニル、クレジル、キ
シリル、ナフチル等のアリール基、シクロヘキシル、シ
クロペンチル等のシクロアルキル基、プロペニル等のフ
リル基、ベンジル等のアラルキル基等が例示される。
OR1)nX4−n(R1は炭素数が1〜20の炭化水
素基、Xはハロゲン原子、nはOwn≦4の数字を表わ
す。)で表わされる。R1の具体例としては、メチル、
エチル、n−プロピル、1so−プロピル、n−ブチル
、1so−ブチル、n−アミル、1so−アミル、n−
ヘキシル、n−へブチル、n−オクチル、n−デシル、
n−ドデシル等のアルキル基、フェニル、クレジル、キ
シリル、ナフチル等のアリール基、シクロヘキシル、シ
クロペンチル等のシクロアルキル基、プロペニル等のフ
リル基、ベンジル等のアラルキル基等が例示される。
炭素数2〜18のアルキル基及び炭素数6〜18のアリ
ール基が好ましい。特に炭素数2〜18の直鎮状アルキ
ル基が好ましい。
ール基が好ましい。特に炭素数2〜18の直鎮状アルキ
ル基が好ましい。
2種以上の異なるOR1基を有するチタン化合物を用い
ることも可能である。
ることも可能である。
Xで表わされるハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ
素が例示できる。特に塩素が好ましい結果を与える。
素が例示できる。特に塩素が好ましい結果を与える。
一般式 Ti(OR1)nX4−nX4.で表わされる
チタン化合物のnの値としてはo < n≦4、好まし
くは2≦n≦4、特に好ましくはn=4である。
チタン化合物のnの値としてはo < n≦4、好まし
くは2≦n≦4、特に好ましくはn=4である。
一般式 Ti (OR’ )IX4−n (O<n≦4
)で表わされるチタン化合物の合成方法としては公知の
方法が使用できる。例えば ’I’i (OR’ )4
と TiX4を所定の割合で反応させる方法、戊・はT
iX4と対応するアルコール類を所定爪反応させる方法
が使用できる。
)で表わされるチタン化合物の合成方法としては公知の
方法が使用できる。例えば ’I’i (OR’ )4
と TiX4を所定の割合で反応させる方法、戊・はT
iX4と対応するアルコール類を所定爪反応させる方法
が使用できる。
(b) Si−0結合を有する有機ケイ素化合物本発
明のA)成分の合成に使用されるSi−0結合を有する
有機ケイ素化合物としては、下記の一般式で表わされる
ものである。
明のA)成分の合成に使用されるSi−0結合を有する
有機ケイ素化合物としては、下記の一般式で表わされる
ものである。
S 1 (ORlりmR”4 m
R” (R” S iO) p S I R”!又は、
(R16,SiO)q ここに、R11は炭素数が1〜20の炭化水素基、R1
2,(<18. R14、Rta及びR16は炭素数が
1〜20の炭化水素基又は水素原子であり、m#、to
<m≦4の数字であり、pは1〜1oo。
(R16,SiO)q ここに、R11は炭素数が1〜20の炭化水素基、R1
2,(<18. R14、Rta及びR16は炭素数が
1〜20の炭化水素基又は水素原子であり、m#、to
<m≦4の数字であり、pは1〜1oo。
の整数であり、qは2〜1000の整数である。
有機ケイ素化合物の具体例としては下記のようなものを
例示することができる。
例示することができる。
テトラメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、トリエトキシエテルシラン、ジエ
トキシジェブ・ルシラン、エトキシトリエチルシラン、
テトライソプロポキシシラン、ジイソブ口ボキシジイソ
プロピルシラン、テトラプロポキシシラン、ジブ口がキ
シジプロピルシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、ジ
ー!l−ブトキシジーn−ブチルシラン、ジシクロペン
トキシジエチルシラン、ジェトキシジフェニルシラン、
シクロヘキシロキシトリメナルシラン、テトラフェノキ
シシラン、トリエトキシフェニルシラン、ヘキサメチル
ジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサプロ
ピルジシロキサン、オクタエチルトリシロキサン、ジメ
チルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、メチ
ルヒドロポリシロキサン等を例示することができる。
トラエトキシシラン、トリエトキシエテルシラン、ジエ
トキシジェブ・ルシラン、エトキシトリエチルシラン、
テトライソプロポキシシラン、ジイソブ口ボキシジイソ
プロピルシラン、テトラプロポキシシラン、ジブ口がキ
シジプロピルシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、ジ
ー!l−ブトキシジーn−ブチルシラン、ジシクロペン
トキシジエチルシラン、ジェトキシジフェニルシラン、
シクロヘキシロキシトリメナルシラン、テトラフェノキ
シシラン、トリエトキシフェニルシラン、ヘキサメチル
ジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサプロ
ピルジシロキサン、オクタエチルトリシロキサン、ジメ
チルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、メチ
ルヒドロポリシロキサン等を例示することができる。
これらの有機ケイ素化合物のうち好ましいものは一般式
Si(OR”)mR”4−mで表わされるアルコキシ
シラン化合物であり、好ましくは1≦m≦4であり、特
に!n=4のテトラアルコキシシラン化合物が好ましい
。
Si(OR”)mR”4−mで表わされるアルコキシ
シラン化合物であり、好ましくは1≦m≦4であり、特
に!n=4のテトラアルコキシシラン化合物が好ましい
。
(C) 有機マグネシウム化合物
次に本発明で用いる有機マグネシウムは、マグネシウム
−炭素の結合を含有する任意の型の有機マグネシウム化
合物を使用することができる。特に一般式R17MgX
(式中、Rl?は炭素数1〜20の炭化水素基を、Xは
ハロゲン原子を表わす。)で表わされるグリニヤール化
合物及び一般式R”R”Mg(式中、R18及びR1″
は炭素数1〜20の炭化水素基を表わす。)で表わされ
るジアルキルマグネシウム化合物又はジアリールマグネ
シウム化合物が好適に使用される。ここでR1?、 R
18、R194よ同一でも異なっていてもよく、メチル
、エチル、n −プロピル、1so−プロピル、n−ブ
チル、5eC−ブチル、tert−ブチル、n−アミル
、is。
−炭素の結合を含有する任意の型の有機マグネシウム化
合物を使用することができる。特に一般式R17MgX
(式中、Rl?は炭素数1〜20の炭化水素基を、Xは
ハロゲン原子を表わす。)で表わされるグリニヤール化
合物及び一般式R”R”Mg(式中、R18及びR1″
は炭素数1〜20の炭化水素基を表わす。)で表わされ
るジアルキルマグネシウム化合物又はジアリールマグネ
シウム化合物が好適に使用される。ここでR1?、 R
18、R194よ同一でも異なっていてもよく、メチル
、エチル、n −プロピル、1so−プロピル、n−ブ
チル、5eC−ブチル、tert−ブチル、n−アミル
、is。
−ア【ル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチルヘ
キシル、フェニル、ベンジル等の炭素数1〜20のアル
キル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基を示
す。
キシル、フェニル、ベンジル等の炭素数1〜20のアル
キル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基を示
す。
具体的には、グリニヤール化合物として、メチルマグネ
シウムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、エチル
マグネシウムプロミド、エチルマグネシウムアイオダイ
ド、n −プロピルマグネシウムクロリド、n−プロピ
ルマグネシウムプロミド、n−ブチルマグネシウムクロ
リ11n−ブチルマグネシウムクロリド、n−ブチルマ
グネシウムプロミド、5ec−ブチルマグネシウムクロ
リド、sec −ブチルマグネシウムプロミド、ter
t−ブチルマグネシウムクロリド、tert−ブチルマ
グネシウムプロミド、n−アミルマグネシウムクロリド
、 1so−アミルマグネシウムクロリド、フェニル
マグネシウムクロリド、フェニルマグネシウムプロミド
等が、R”R”Mg で表わされる化合物としてジエ
チルマグネシウム、ジ−n−プロピルマグネシウム、ジ
ーiso −プロピルマグネシウム、ジ−n−ブチルマ
グネシウム、ジー5ec−ブチルマグネシウム、ジーt
ert−ブチルマグネシウム、n−ブチル−5ec−ブ
チルマグネシウム、ジ−n−アミルマグネシウム、ジフ
ェニルマグネシウム等が挙げられる。
シウムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、エチル
マグネシウムプロミド、エチルマグネシウムアイオダイ
ド、n −プロピルマグネシウムクロリド、n−プロピ
ルマグネシウムプロミド、n−ブチルマグネシウムクロ
リ11n−ブチルマグネシウムクロリド、n−ブチルマ
グネシウムプロミド、5ec−ブチルマグネシウムクロ
リド、sec −ブチルマグネシウムプロミド、ter
t−ブチルマグネシウムクロリド、tert−ブチルマ
グネシウムプロミド、n−アミルマグネシウムクロリド
、 1so−アミルマグネシウムクロリド、フェニル
マグネシウムクロリド、フェニルマグネシウムプロミド
等が、R”R”Mg で表わされる化合物としてジエ
チルマグネシウム、ジ−n−プロピルマグネシウム、ジ
ーiso −プロピルマグネシウム、ジ−n−ブチルマ
グネシウム、ジー5ec−ブチルマグネシウム、ジーt
ert−ブチルマグネシウム、n−ブチル−5ec−ブ
チルマグネシウム、ジ−n−アミルマグネシウム、ジフ
ェニルマグネシウム等が挙げられる。
上記の有機マグネシウム化合物の合成溶媒としては、ジ
エチルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジー1S
O−プロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジー
1so−ブチルエーテル、ジ−n−アミルエーテル、ジ
ー1SO−アミルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル
、ジ−n−オクチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジ
ベンジルエーテル、フェネトール、アニソール、テトラ
ヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテルを用い
ることができる。又、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の炭化水素、或はエーテルと炭化水
素との混合溶媒を用いてもよい。有機マグネシウム化合
物はエーテル溶液の状態で使用することが好ましい。こ
の場合のエーテル化合物としては、分子内に炭素数6個
以上を含有するエーテル化合物又は環状構造を有するエ
ーテル化合物が用いられる。
エチルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジー1S
O−プロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジー
1so−ブチルエーテル、ジ−n−アミルエーテル、ジ
ー1SO−アミルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル
、ジ−n−オクチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジ
ベンジルエーテル、フェネトール、アニソール、テトラ
ヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテルを用い
ることができる。又、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の炭化水素、或はエーテルと炭化水
素との混合溶媒を用いてもよい。有機マグネシウム化合
物はエーテル溶液の状態で使用することが好ましい。こ
の場合のエーテル化合物としては、分子内に炭素数6個
以上を含有するエーテル化合物又は環状構造を有するエ
ーテル化合物が用いられる。
特にRMgC1で表わされるグリニヤール化合物をエー
テル溶液の状態で使用することが触媒性能の点から好ま
しい。
テル溶液の状態で使用することが触媒性能の点から好ま
しい。
上記の有機マグネシウム化合物と有機金属化合物との反
応生成物である炭化水素可溶性錯体を炭化水素に溶解し
て使用することもできる。有機金属化合物の例としては
、Li。
応生成物である炭化水素可溶性錯体を炭化水素に溶解し
て使用することもできる。有機金属化合物の例としては
、Li。
Be、B、Al又はZnの有機化合物が挙げられる。
(d) エステル化合物
本発明において、成分A)の合成に使用されるエステル
化合物としては、モノ又は多価のカルボン酸エステルで
あり、脂肪族カルボン酸エステル、オレフィンカルボン
酸エステル、脂環式カルボン酸エステル、芳香族カルボ
ン酸エステル等が用いられる。具体例としては酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸フェニル、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル占酸エチル、吉草酸エチル、アクリ
ル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル
、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、アニス酸エチ
ル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジブチル、マロン酸ジ
エチル、マロン酸ジブチル、マレイン酸ジメチル、マレ
イン酸ジブチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブ
チル、フタル酸モノエチル、フタル酸ジメチル、フタル
酸メチルエチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジ−n−
プロピル、フタル酸ジイソプロピル、フタル酸ジ−n−
ブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジーn−へブ
チル、フタル酸ジ−n−オクチル、フタル酸ジフェニル
等をあげることができる。
化合物としては、モノ又は多価のカルボン酸エステルで
あり、脂肪族カルボン酸エステル、オレフィンカルボン
酸エステル、脂環式カルボン酸エステル、芳香族カルボ
ン酸エステル等が用いられる。具体例としては酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸フェニル、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル占酸エチル、吉草酸エチル、アクリ
ル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル
、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、アニス酸エチ
ル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジブチル、マロン酸ジ
エチル、マロン酸ジブチル、マレイン酸ジメチル、マレ
イン酸ジブチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブ
チル、フタル酸モノエチル、フタル酸ジメチル、フタル
酸メチルエチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジ−n−
プロピル、フタル酸ジイソプロピル、フタル酸ジ−n−
ブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジーn−へブ
チル、フタル酸ジ−n−オクチル、フタル酸ジフェニル
等をあげることができる。
これらエステル化合物のうち、メタクリル酸エステル、
マレイ酸エステル等のオレフィンカルボン酸エステル、
安息香酸エステル等の芳香族カルボン酸エステル及びフ
タル酸エステルが好ましい。
マレイ酸エステル等のオレフィンカルボン酸エステル、
安息香酸エステル等の芳香族カルボン酸エステル及びフ
タル酸エステルが好ましい。
(e) エーテル化合物
次に本発明で使用するエーテル化合物としては、ジエチ
ルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジ−n−アミル
エーテル、ジイソアミルエーテル、ジイソアミルエーテ
ル、ジ−n−ヘキシルエーテル、ジーn −オクチルエ
ーテル、メチル−n−ブチルエーテル、メチル−イソア
ミルエーテル、エチル−イソブチルエーテルなどのジア
ルキルエーテルが好ましい。
ルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジ−n−アミル
エーテル、ジイソアミルエーテル、ジイソアミルエーテ
ル、ジ−n−ヘキシルエーテル、ジーn −オクチルエ
ーテル、メチル−n−ブチルエーテル、メチル−イソア
ミルエーテル、エチル−イソブチルエーテルなどのジア
ルキルエーテルが好ましい。
これらのうちジ−n−ブチルエーテルとジイソアミルエ
ーテルが特に好ましい。
ーテルが特に好ましい。
(f) 固体触媒成分A)の合成
本発明の固体触媒成分A)は、有機ケイ素化合物の共存
下、チタン化合物を有機マグネシウム化合物で還元して
得られる固体生成物を、エステル化合物及び、エーテル
化合物と四塩化チタンとの混合物で処理して合成される
。好ましくは還元して得られる固体生成物ヲ、エステル
化合物で処理したのち、エーテル化合物と四塩化チタン
との混合物で処理して合成される。
下、チタン化合物を有機マグネシウム化合物で還元して
得られる固体生成物を、エステル化合物及び、エーテル
化合物と四塩化チタンとの混合物で処理して合成される
。好ましくは還元して得られる固体生成物ヲ、エステル
化合物で処理したのち、エーテル化合物と四塩化チタン
との混合物で処理して合成される。
合成反応はすべて窒素、アルゴン等の不活性気体雰囲気
下°で行なわれる。
下°で行なわれる。
先ず、有機マグネシウム化合物によるチタン化合物の還
元反応の方法としては、チタン化合物と有機ケイ素化合
物の混合物に、有機マグネシウム化合物を添加する方法
、或は逆に有機マグネシウム化合物の溶液中にチタン化
合物と有機ケイ素化合物の混合物を添加してもよい。チ
タン化合物と有機ケイ素化合物の混合物に、有機マグネ
シウム化合物を添加する方法が鯨媒活性の点から好まし
い。
元反応の方法としては、チタン化合物と有機ケイ素化合
物の混合物に、有機マグネシウム化合物を添加する方法
、或は逆に有機マグネシウム化合物の溶液中にチタン化
合物と有機ケイ素化合物の混合物を添加してもよい。チ
タン化合物と有機ケイ素化合物の混合物に、有機マグネ
シウム化合物を添加する方法が鯨媒活性の点から好まし
い。
チタン化合物と有機ケイ素化合物は適当な溶媒に溶解も
しくは希釈して使用するのが好ましい。
しくは希釈して使用するのが好ましい。
かかる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
デカン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
、デカリン等の脂環式炭化水素、ジ°エチルエ−チル、
ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル化合物が挙げられる。
デカン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
、デカリン等の脂環式炭化水素、ジ°エチルエ−チル、
ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル化合物が挙げられる。
還元反応温度は、−50〜7Q’C,好ましくは一80
〜50°C1特に好ましくは一25〜85°Cの温度範
囲である。還元反応温度が高すぎると触媒活性が低下す
る。
〜50°C1特に好ましくは一25〜85°Cの温度範
囲である。還元反応温度が高すぎると触媒活性が低下す
る。
滴下時間は特に制限はないが、通常80分〜6時間程度
である。還元反応終了後、更に2O−S−120°Cの
温度で後反応を行なってもよい。
である。還元反応終了後、更に2O−S−120°Cの
温度で後反応を行なってもよい。
Th tMケイ素化合物の使用量は、チタン化合物中の
チタン原子に対するケイ素原子の原子比で、Si/Ti
=1〜50、好ましくは、a〜aO1特に好ましくは
5〜25の範囲である。
チタン原子に対するケイ素原子の原子比で、Si/Ti
=1〜50、好ましくは、a〜aO1特に好ましくは
5〜25の範囲である。
又、有機マグネシウム化合物の使用量は、チタン原子と
ケイ素原子の和とマグネシウム原子の原子比で、’l”
i:+−3i/Mg=0.1〜lO1好ましくは0.
2〜5.01特に好ましくは0.5〜2、0の範囲であ
る。
ケイ素原子の和とマグネシウム原子の原子比で、’l”
i:+−3i/Mg=0.1〜lO1好ましくは0.
2〜5.01特に好ましくは0.5〜2、0の範囲であ
る。
還元反応で得られる固体生成物は固液分離し、ヘキサン
、ヘプタン等の不活性炭化水素溶媒で数回洗浄を行なう
。
、ヘプタン等の不活性炭化水素溶媒で数回洗浄を行なう
。
このようにして得られた固体生成物は三価のチタン、マ
グネシウム及びハイドロカルビルオキシ基を含有し、一
般に非品性もしくは極めて弱い結晶性を示す。触媒性能
の点から特に非結晶性の構造が好ましい。
グネシウム及びハイドロカルビルオキシ基を含有し、一
般に非品性もしくは極めて弱い結晶性を示す。触媒性能
の点から特に非結晶性の構造が好ましい。
次に、上記方法で得られた固体生成物はエステル化合物
で処理を行なう。
で処理を行なう。
エステル化合物の使用量は固体生成物中のチタン原子1
モル当り、0.1〜50モル、更に好ましくは0.8〜
20モル、特に好ましくは0.1〜10モルである。
モル当り、0.1〜50モル、更に好ましくは0.8〜
20モル、特に好ましくは0.1〜10モルである。
又、固体生成物中のマグネシウム原子1モル当りのエス
テル化合物の使用量は、o、oi〜1. oモル、好ま
しくは0.08〜0.5モルである。エステル化合物の
使用量が過度に多い場合には粒子の崩壊が起こる。
テル化合物の使用量は、o、oi〜1. oモル、好ま
しくは0.08〜0.5モルである。エステル化合物の
使用量が過度に多い場合には粒子の崩壊が起こる。
エステル化合物による固体生成物の処理は、スラリー法
やボールミル等による機械的粉砕手段など両者を接触さ
せうる公知のいかなる方法によっても行なうことができ
るが、機械的粉砕を行なうと固体触媒成分に微粉が多量
に発生し、粒度分布が広くなり、工業的観点から好まし
ない。希釈剤の存在下で両者を接触させるのが好ましい
。
やボールミル等による機械的粉砕手段など両者を接触さ
せうる公知のいかなる方法によっても行なうことができ
るが、機械的粉砕を行なうと固体触媒成分に微粉が多量
に発生し、粒度分布が広くなり、工業的観点から好まし
ない。希釈剤の存在下で両者を接触させるのが好ましい
。
希釈剤としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素、シクロヘキサン、シクロペンタ
ンなどの脂環式炭化水素、1,2−ジクロルエタン、モ
ノクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素が使用できる
。
ン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素、シクロヘキサン、シクロペンタ
ンなどの脂環式炭化水素、1,2−ジクロルエタン、モ
ノクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素が使用できる
。
これらのうち芳香族炭化水素及びハロゲン化炭化水素が
特に好ましい。
特に好ましい。
希釈剤の使用量は固体生成物1v当り0.1ytl’〜
1000屑lである。好ましくは1g当りl mlへ1
00 mlである。処理温度は一50〜150°Cであ
るが、好ましくはO〜120 ’Cである。処理時間は
10分以上であるが、好ましくは80分〜3時間である
。処理終了後静置し、固成分離した後、不活性炭化水素
溶媒で数回洗浄を行ないエステル処理固体が得られる。
1000屑lである。好ましくは1g当りl mlへ1
00 mlである。処理温度は一50〜150°Cであ
るが、好ましくはO〜120 ’Cである。処理時間は
10分以上であるが、好ましくは80分〜3時間である
。処理終了後静置し、固成分離した後、不活性炭化水素
溶媒で数回洗浄を行ないエステル処理固体が得られる。
次のエーテル化合物と四塩化チタンとの混合物による処
理の際、エステル化合物を共存させて同時に行なうこと
も可能である。
理の際、エステル化合物を共存させて同時に行なうこと
も可能である。
次に、エーテル化合物と四塩化チタンとの混合物による
エステル処理固体の処理は、スラリー状態で行なうのが
好ましい。スラリー化するのに用いる溶媒としては、ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、テ゛カン尋の
脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ亭りデカリン等
の脂環式炭化水素、ジクロルエタン、トリクロルエタン
、トリクロルエチレン、モノクロルベンゼン、ジクロル
ベンゼン、トリクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素
が挙げられるが、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素
が特に好ましい。
エステル処理固体の処理は、スラリー状態で行なうのが
好ましい。スラリー化するのに用いる溶媒としては、ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、テ゛カン尋の
脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ亭りデカリン等
の脂環式炭化水素、ジクロルエタン、トリクロルエタン
、トリクロルエチレン、モノクロルベンゼン、ジクロル
ベンゼン、トリクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素
が挙げられるが、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素
が特に好ましい。
スラリーQ度は0.05〜0.51固体/ ml溶媒、
特に0.1〜0.8y固体/ ml溶媒が好ましい。
特に0.1〜0.8y固体/ ml溶媒が好ましい。
反応温度は80〜150″C1好ましくは45〜120
°C1特に好ましくは60〜100°Cである。
°C1特に好ましくは60〜100°Cである。
反応時間は特に制限は無いが、通常80分から6時間が
好適である。
好適である。
エステル処理固体、エーテル化合物及び四塩化チタンを
添加する方法としては、エステル処理固体にエーテル化
合物と四塩化チタンを加える方法、逆に、エーテル化合
物と四塩化チタンの溶液中にエステル処理固体を加える
方法いずれの方法でもよい。
添加する方法としては、エステル処理固体にエーテル化
合物と四塩化チタンを加える方法、逆に、エーテル化合
物と四塩化チタンの溶液中にエステル処理固体を加える
方法いずれの方法でもよい。
エステル処理固体をこエーテル化合物と四塩化チタンを
加える方法においては、予めエーテルと四塩化チタンを
混合した後加える方法、或いエーテル化合物と四塩化チ
タンを同時に添加する方法が特に好ましい。
加える方法においては、予めエーテルと四塩化チタンを
混合した後加える方法、或いエーテル化合物と四塩化チ
タンを同時に添加する方法が特に好ましい。
エステル処理固体のエーテル化合物と四塩化チタンによ
る反応は2回以上繰返し行なってもよい。触媒活性及び
立体規則性の点からエーテル化合物と四塩化チタンとの
混合物による反応を少なくとも2回繰り返し行なうのが
好ましい。
る反応は2回以上繰返し行なってもよい。触媒活性及び
立体規則性の点からエーテル化合物と四塩化チタンとの
混合物による反応を少なくとも2回繰り返し行なうのが
好ましい。
エーテル化合物の使用量は、固体生成物中に含有される
チタン原子1モルに対し、0.1〜100モル、好まし
くは0.5〜50モル、特に好ましくは1〜20モルで
ある。
チタン原子1モルに対し、0.1〜100モル、好まし
くは0.5〜50モル、特に好ましくは1〜20モルで
ある。
四塩化チタンの添加量は、固体生成物中に含有されるチ
タン原子1モルに対し、1〜1000モル、好ましくは
8〜500モル、特番ζ好ましくは1O−S−800モ
ルである。又、エーテル化合物1モルに対する四塩化チ
タンの添加量は1〜100モル、好ましくは1.5〜7
5モル、特に好ましくは2〜50モルである。
タン原子1モルに対し、1〜1000モル、好ましくは
8〜500モル、特番ζ好ましくは1O−S−800モ
ルである。又、エーテル化合物1モルに対する四塩化チ
タンの添加量は1〜100モル、好ましくは1.5〜7
5モル、特に好ましくは2〜50モルである。
上記方法で得られた三価のチタン化合物含有固体触媒成
分は、固液分曝した後、ヘキサン、ヘプタン等の不活性
炭化水素溶媒で数回洗浄した後重合に用いる。
分は、固液分曝した後、ヘキサン、ヘプタン等の不活性
炭化水素溶媒で数回洗浄した後重合に用いる。
固液分離後、多量のトルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素もしくはモノクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水
素溶媒で、60〜120°Cの温度で1回以上洗浄し、
更にヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒で数回洗浄を繰り
返した後重合に用いるのが触媒活性、立体規則性の点で
好ましい。
水素もしくはモノクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水
素溶媒で、60〜120°Cの温度で1回以上洗浄し、
更にヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒で数回洗浄を繰り
返した後重合に用いるのが触媒活性、立体規則性の点で
好ましい。
位)有機アルミニウム化合物B)
本発明において、上述した固体触媒成分A)と組合せて
使用する有機アルミニウム化合物B)は、少なくとも分
子内に1個のA/−炭素結合を有するものである。代表
的なものを一般式で下記に示す。
使用する有機アルミニウム化合物B)は、少なくとも分
子内に1個のA/−炭素結合を有するものである。代表
的なものを一般式で下記に示す。
R20rAIY3 。
R”R22Ae−0−A/R28R24ここで、R20
、R21、R22、R28及びR24は炭素数が1〜8
個の炭化水素基、Yはハロゲン原子、水素原子又はアル
コキシ基を表わす。rは2≦r≦8で表わされる数字で
ある。
、R21、R22、R28及びR24は炭素数が1〜8
個の炭化水素基、Yはハロゲン原子、水素原子又はアル
コキシ基を表わす。rは2≦r≦8で表わされる数字で
ある。
有機アルミニウム化合物の具体例としては、!・リエチ
ルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘ
キシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジ
エチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイド
ライド、トリアルキルアルミニウムとジアルキルアルミ
ニウムハライドの混合物、テトラエチルジアルモキサン
、テトラブチルジアルモキサン等のアルキルアルモキサ
ンが例示できる。
ルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘ
キシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジ
エチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイド
ライド、トリアルキルアルミニウムとジアルキルアルミ
ニウムハライドの混合物、テトラエチルジアルモキサン
、テトラブチルジアルモキサン等のアルキルアルモキサ
ンが例示できる。
これら有機アルミニウム化合物のうちトリアルキルアル
ミニウム、トリアルキルアルミニウムとジアルキルアル
ミニウムハライドの混合物、アルキルアルモキサンが好
ましく、とりわけトリエチルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、トリエチルアルミニウムとジエチル
アルミニウムクロリドの混合物及びテトラエチルジアル
モキサンが好ましい。
ミニウム、トリアルキルアルミニウムとジアルキルアル
ミニウムハライドの混合物、アルキルアルモキサンが好
ましく、とりわけトリエチルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、トリエチルアルミニウムとジエチル
アルミニウムクロリドの混合物及びテトラエチルジアル
モキサンが好ましい。
有機アルミニウム化合物の使用量は、固体触媒中のチタ
ン原子1モル当り1〜1000モルのごとく広範囲に選
ぶことができるが、特に5〜600モルの範囲が好まし
い。
ン原子1モル当り1〜1000モルのごとく広範囲に選
ぶことができるが、特に5〜600モルの範囲が好まし
い。
th)複素環化合物C)
本発明において、重合時に触媒成分C)とし(但しn=
1或は2で、R2〜R10Lt炭素数1〜4の炭化水素
基もしくはアルコキシル基である。又、同−炭素土の置
換基のうちの一組(R2,R’或はR8,k<6)が2
級或は8級の炭化水素基である場合には、信組(RIl
、R6或いR%R4)は水素原子であってもかまわない
。)で表わされる複素環化合物が用いられる。
1或は2で、R2〜R10Lt炭素数1〜4の炭化水素
基もしくはアルコキシル基である。又、同−炭素土の置
換基のうちの一組(R2,R’或はR8,k<6)が2
級或は8級の炭化水素基である場合には、信組(RIl
、R6或いR%R4)は水素原子であってもかまわない
。)で表わされる複素環化合物が用いられる。
具体的な化合物としては、
などの2,6
リジン
等の2,6−及び2.6.N−置換ピペリジンこれらの
化合物の中では2,6ジイソプロピルピペリジン、2.
2’ 、 6.6’−テトラメチルピペリジン、2.2
’、 5.5’−テトラメチルピペリジン、2,5−ジ
イソプロピルピロリジン、2.2’、5.5’−テトラ
メチルテトラヒドロフラン、2.2’、 5.5’−テ
トラメチルピラン等の化合物が好ましく、特に2.2’
、 6゜6′−テトラメチルピペリジンが好ましい。尚
C)成分の使用量はB)成分である有機アルミニウム化
合物1モルに対し0.01モル、好ましくは0.01〜
4.0モル、特に好ましくは0、1〜8.0モルの範囲
で用いられる。
化合物の中では2,6ジイソプロピルピペリジン、2.
2’ 、 6.6’−テトラメチルピペリジン、2.2
’、 5.5’−テトラメチルピペリジン、2,5−ジ
イソプロピルピロリジン、2.2’、5.5’−テトラ
メチルテトラヒドロフラン、2.2’、 5.5’−テ
トラメチルピラン等の化合物が好ましく、特に2.2’
、 6゜6′−テトラメチルピペリジンが好ましい。尚
C)成分の使用量はB)成分である有機アルミニウム化
合物1モルに対し0.01モル、好ましくは0.01〜
4.0モル、特に好ましくは0、1〜8.0モルの範囲
で用いられる。
(i)α−オレフィンの重合方法
各触媒成分を重合槽に供給する方法としては、窒素、ア
ルゴン等の不活性ガス中で水分のない状r際で供給する
以外は特に制限すべき条件はない。
ルゴン等の不活性ガス中で水分のない状r際で供給する
以外は特に制限すべき条件はない。
触媒成分A)、B)、C)は個別に供給してもいいし、
いずれか2者を予め接触させて供給してもよい。
いずれか2者を予め接触させて供給してもよい。
重合は一80〜200°C迄にわたって実施することが
できるが、0°Cより低温の領域では重合速度の低下を
招き、又100°C以上では高度に立体規則性を有する
重合体が得られない等の理由によって通常θ〜100℃
の範囲で行なうのが好適である。重合圧力に関しては特
に制限はないが、工業的かつ経済的であるという点で8
〜100気圧程度気圧力が望ましい。重合法は連続式で
もバッチ式でもいずれも可能である。又プロパン、ブタ
ン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンの如き不
活性炭化水素溶媒によるスラリー重合或は無溶媒による
液相重合又は 気相重合も可能である。
できるが、0°Cより低温の領域では重合速度の低下を
招き、又100°C以上では高度に立体規則性を有する
重合体が得られない等の理由によって通常θ〜100℃
の範囲で行なうのが好適である。重合圧力に関しては特
に制限はないが、工業的かつ経済的であるという点で8
〜100気圧程度気圧力が望ましい。重合法は連続式で
もバッチ式でもいずれも可能である。又プロパン、ブタ
ン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンの如き不
活性炭化水素溶媒によるスラリー重合或は無溶媒による
液相重合又は 気相重合も可能である。
次に本発明に適用できるアルファ・オレフィンは、炭素
数が8以上のものであり、具体例としてはプロピレン、
ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1,8−メチル
−ペンテン−1,4−メチル−ペンテン−1等があげら
れるが、本発明は上記化合物に限定されるべき性質の6
のではない。本発明による重合は、単独重合でも共重合
(エチレンとの共重合を含む)でもいずれも可能である
。
数が8以上のものであり、具体例としてはプロピレン、
ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1,8−メチル
−ペンテン−1,4−メチル−ペンテン−1等があげら
れるが、本発明は上記化合物に限定されるべき性質の6
のではない。本発明による重合は、単独重合でも共重合
(エチレンとの共重合を含む)でもいずれも可能である
。
共重合に際しては2種類、又はそれ以上の種類のオレフ
ィンを混合した状態で接触させることにより、共重合体
を得ることができろ。
ィンを混合した状態で接触させることにより、共重合体
を得ることができろ。
又、重合を2段以上にして行なうペテロブロック共重合
も容易に行なうことができる。
も容易に行なうことができる。
重合体の分子爪を調節するために水素等の連鎖移動剤を
添加することも可能である。
添加することも可能である。
〈実施例〉
以下、実施例及び比較例によって本発明を更に詳細に説
明する。
明する。
実施例中のチタン化合物の価数は、ボ□−ラログラムの
測定から求めた。
測定から求めた。
(ポーラログラムの測定条件)
装置: POLAROGRAPHICANALYZER
P−1100(柳本製作所) 試料=1.6モル/lの濃度の泗石酸水溶液とIN硫酸
からなる基W!!液約Bowlに触脚約70#を溶解さ
せて調製した。
P−1100(柳本製作所) 試料=1.6モル/lの濃度の泗石酸水溶液とIN硫酸
からなる基W!!液約Bowlに触脚約70#を溶解さ
せて調製した。
測定法:直流電流法
実施例1
(ハ)有椙マグオシウム七合つの合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート、混度計を備えた内容
積11のフラスコをアルゴンで置換した後、グリニヤー
ル用削状マグネシウム82.Ofを投入した。滴下ロー
トにn−ブチルクロリド120fとジ−n−ブチルエー
テル500 友iを仕込み、フラスコ中のマグネシウム
に約80g/i下し、反応を開始させた。
積11のフラスコをアルゴンで置換した後、グリニヤー
ル用削状マグネシウム82.Ofを投入した。滴下ロー
トにn−ブチルクロリド120fとジ−n−ブチルエー
テル500 友iを仕込み、フラスコ中のマグネシウム
に約80g/i下し、反応を開始させた。
反応開始後、60℃で4時間かけて滴下を続け、滴下終
了後60°Cで更に1時間反応を続けた。その後反応溶
液を室温に冷却し、固形分を炉別した。
了後60°Cで更に1時間反応を続けた。その後反応溶
液を室温に冷却し、固形分を炉別した。
ジ−n−ブチルエーテル中のn−ブチルマグネシウムク
ロリドを1規定硫酸で加水分解し、1規定水酸化ナトリ
ウム水溶液で逆滴定して濃度を決定したところ(指示薬
としてフェノールフタレインを使用) 、濃度ハ2.2
−11−ル/lであった。
ロリドを1規定硫酸で加水分解し、1規定水酸化ナトリ
ウム水溶液で逆滴定して濃度を決定したところ(指示薬
としてフェノールフタレインを使用) 、濃度ハ2.2
−11−ル/lであった。
(ハ)固体生成物の合成
撹拌機、滴下ロートを備えた内容積5001Ilのフラ
スコをアルゴンで置換した後、n−ヘプタン800g/
、テトラブトキシチタン4.1f (12,1ミリモル
)及びテトラエトキシシラン42.9f(206ミリモ
ル)を投入し、均一溶液とした。次に、(ハ)で合成し
た有機マグネシウム化合物10(1+/を、フラスコ内
の温度を6°Cに保ちながら、滴下ロートから2時間表
)けて徐々に滴下した。滴下終了後、室温で更に1時間
撹拌した後、室温で固液分離し、n−へブタン800m
1で8回洗浄を繰り返したのち減圧乾燥して、茶褐色の
固体生成物32.0’を得た。固体生成物中に含有され
るチタン原子の価数は、ポーラログラムの測定より8価
であった。
スコをアルゴンで置換した後、n−ヘプタン800g/
、テトラブトキシチタン4.1f (12,1ミリモル
)及びテトラエトキシシラン42.9f(206ミリモ
ル)を投入し、均一溶液とした。次に、(ハ)で合成し
た有機マグネシウム化合物10(1+/を、フラスコ内
の温度を6°Cに保ちながら、滴下ロートから2時間表
)けて徐々に滴下した。滴下終了後、室温で更に1時間
撹拌した後、室温で固液分離し、n−へブタン800m
1で8回洗浄を繰り返したのち減圧乾燥して、茶褐色の
固体生成物32.0’を得た。固体生成物中に含有され
るチタン原子の価数は、ポーラログラムの測定より8価
であった。
固体生成物中には三価のチタン原子が1.7重量%、マ
グネシウム原子が18.2重置%、ケイ素原子が2.2
f爪%、n−ブチルエーテルが0.8重h%、エトキシ
基が38.5重置%、ブトキシ基が2.4重塁%含有さ
れていた。
グネシウム原子が18.2重置%、ケイ素原子が2.2
f爪%、n−ブチルエーテルが0.8重h%、エトキシ
基が38.5重置%、ブトキシ基が2.4重塁%含有さ
れていた。
また、この固体生成物のCu−KCX11!による広角
X線回折図には、明瞭な回折ピークは全く認められず、
非晶構造であった。
X線回折図には、明瞭な回折ピークは全く認められず、
非晶構造であった。
0 エステル処理固体の合成
内容積200 mlのフラスコをアルゴンで置換した後
、(ト)で合成した同体生成物15y。
、(ト)で合成した同体生成物15y。
モノクロルベンゼン90耐及びフタル酸ジイソブチル2
.7 weを加え、80°Cで1時間反応を行なった。
.7 weを加え、80°Cで1時間反応を行なった。
vtlで8回洗浄を行なった。エステル処理固体中には
、フタル酸エステルが6.2%含有されていた。
、フタル酸エステルが6.2%含有されていた。
0 固体触媒成分の合成
上記(Qでの洗浄終了後、フラスコにモノクロルベンゼ
ン90 we 、ジイソアミルエーテル6、6 ml
(82,6ミリモル)及び四塩化チタン49、8 ml
(450ミリモル)を加え、80℃で1時間反応を行
なった。反応終了後、80°Cで固液分離した後、同温
度でモノクロルベンゼン90rtで2回洗浄を行なった
後、更に室温で、n−へブタン120 ylで4回洗浄
を繰り返した。
ン90 we 、ジイソアミルエーテル6、6 ml
(82,6ミリモル)及び四塩化チタン49、8 ml
(450ミリモル)を加え、80℃で1時間反応を行
なった。反応終了後、80°Cで固液分離した後、同温
度でモノクロルベンゼン90rtで2回洗浄を行なった
後、更に室温で、n−へブタン120 ylで4回洗浄
を繰り返した。
上述したn−ブチルエーテルと四j;、5化チタンとの
混合物による処理を同一条件で更にもう一度繰り返して
、黄土色の固体触媒成分18、Ofを得た。
混合物による処理を同一条件で更にもう一度繰り返して
、黄土色の固体触媒成分18、Ofを得た。
V・1体触媒成分中に含有されるチタン原子の価数は、
ポーラログラムの測定より3価であつた。
ポーラログラムの測定より3価であつた。
固体層′媒成分中にはチタン原子が1.8重量%、マグ
ネシウム原子が21.1mff1%、ケイ素原子が0.
2重量%、ブトキシ基が0.8重量%、エトキシ基が1
.1重量%、フタル酸エステルが6.2 m 量%、ジ
イソアミルエーテルが0.2重量%、塩素が66.7重
電%含有されていた。
ネシウム原子が21.1mff1%、ケイ素原子が0.
2重量%、ブトキシ基が0.8重量%、エトキシ基が1
.1重量%、フタル酸エステルが6.2 m 量%、ジ
イソアミルエーテルが0.2重量%、塩素が66.7重
電%含有されていた。
■ プロピレンの重合
内容8!180 ml、のマグネチックスターラーによ
る撹拌方式のステカス製オートクし−ブをアルゴン置換
した後、トリエチルアル寅ニウム0.57ミリモル、2
.2’、6.6’−テトラメチルピペリジン1.71ミ
リモルと上記0で得た固体触媒成力1,6111T+1
及び液化プロピレン80g?をオートクレーブに仕込ん
だ。
る撹拌方式のステカス製オートクし−ブをアルゴン置換
した後、トリエチルアル寅ニウム0.57ミリモル、2
.2’、6.6’−テトラメチルピペリジン1.71ミ
リモルと上記0で得た固体触媒成力1,6111T+1
及び液化プロピレン80g?をオートクレーブに仕込ん
だ。
オートクレーブを撹拌しながら60°(jに1時間保っ
た。過剰のプロピレンを放出したのち、得られたポリプ
ロピレンは一昼夜風乾した。6.66)のポリプロピレ
ンが得られた。
た。過剰のプロピレンを放出したのち、得られたポリプ
ロピレンは一昼夜風乾した。6.66)のポリプロピレ
ンが得られた。
従って、固体触媒成分11当りのポリプロピレンの収量
(の(以下PP/catと略す)はPP/cat=87
70であった。
(の(以下PP/catと略す)はPP/cat=87
70であった。
又、得られたポリプロピレン粉末を1IllIffln
−へブタンで6時間抽出した残渣の百分率(以下IY(
%)と略す)はIY=95.5%であった。
−へブタンで6時間抽出した残渣の百分率(以下IY(
%)と略す)はIY=95.5%であった。
実施例2
2、2’、 6.6’−テトラメチルピペリジンを0、
57 ’i、リモル、又固体触媒成分1.7qとした以
外は実施例1の(ハ)と同様な方法で重合を行なった。
57 ’i、リモル、又固体触媒成分1.7qとした以
外は実施例1の(ハ)と同様な方法で重合を行なった。
この結果9.71のポリプロピレンが得られた。従って
PP/cat=5760であり、又IY=94.0%で
あった。
PP/cat=5760であり、又IY=94.0%で
あった。
実施例8
実施例1の0の2.2’、6.6’テトラメチルピペリ
ジンの代りに、2.2’、 5.5’−テトラメチルテ
トラヒドロフランを0.57ミリモル使用し、又固体触
媒成分を8.8qとした以外は実施例1の0と同様な方
法で重合を行なつた。その結果10.2Fのポリプロピ
レンが得られた。従ってPP/CAT=2680 、
IY=80.4%であった。
ジンの代りに、2.2’、 5.5’−テトラメチルテ
トラヒドロフランを0.57ミリモル使用し、又固体触
媒成分を8.8qとした以外は実施例1の0と同様な方
法で重合を行なつた。その結果10.2Fのポリプロピ
レンが得られた。従ってPP/CAT=2680 、
IY=80.4%であった。
〈発明の効果〉
以上の如く、本発明の触媒系を使用することにより下記
のような効果が得られる。
のような効果が得られる。
(1)固体触媒当り及びチタン原子当りの触媒活性が非
常に高いため、なんら特別の触媒残渣除去操作をしなく
ても、重合体の着色、安定性及び腐蝕性に密接に関係す
るハロゲン原子、チタン原子の含有坦が極めて少ない。
常に高いため、なんら特別の触媒残渣除去操作をしなく
ても、重合体の着色、安定性及び腐蝕性に密接に関係す
るハロゲン原子、チタン原子の含有坦が極めて少ない。
即ち、触媒残渣除去のための設備が不要となり、α−オ
レフィン重合体の生産コストの引き下げが可能となる。
レフィン重合体の生産コストの引き下げが可能となる。
(2)本発明の触媒系を用いれば、立体規則性が非常に
高いα−オレフィン重合体の製造が可能となる。従って
、副生ずる怨定形重合体の生成が極めて少ないために魚
定形重合体を除去することなく機械的性員に優れたα−
オレフィン重合体が製造できる。
高いα−オレフィン重合体の製造が可能となる。従って
、副生ずる怨定形重合体の生成が極めて少ないために魚
定形重合体を除去することなく機械的性員に優れたα−
オレフィン重合体が製造できる。
(8)重合媒体に可溶な立体規則性の低い重合体の生成
が著しく少ないため、反応槽、配管及びフラッシュホッ
パー等への重合体の付着といったプロセス上の問題が発
生しない。又、可溶な重合体の生成量が著しく少、7C
いため、原材モノマーが有効に利用できる。
が著しく少ないため、反応槽、配管及びフラッシュホッ
パー等への重合体の付着といったプロセス上の問題が発
生しない。又、可溶な重合体の生成量が著しく少、7C
いため、原材モノマーが有効に利用できる。
第1図は、本発明の理解を助けるためのフローチャート
図である。本フローチャート図は、本発明の実施態様の
代表例であり、本発明は何らこれに限定されるものでは
ない。 ゛−8、 ゛へ、−3 手続補正口(自兄ン 昭和62年12月9日・
図である。本フローチャート図は、本発明の実施態様の
代表例であり、本発明は何らこれに限定されるものでは
ない。 ゛−8、 ゛へ、−3 手続補正口(自兄ン 昭和62年12月9日・
Claims (2)
- (1)A)Si−O結合を有する有機ケイ素化合物の共
存下、一般式Ti(OR^1)_nX_4_−_n(R
^1は炭素数が1〜20の炭化水素基、Xはハロゲン原
子、nは0<n≦4の数字を表わす。)で表わされるチ
タン化合物を有機マグネシウム化合物で還元して得られ
る固体生成物を、エステル化合物及び、エーテル化合物
と四塩化チタンとの混合物で処理して得られる三価のチ
タン化合物含有固体触媒成分、 B)有機アルミニウム化合物、 C)一般式▲数式、化学式、表等があります▼或いは▲
数式、化学式、表等があります▼ (但しn=1あるいは2で、R^2〜R^1^0は炭素
数1〜4の炭化水素基もしくはアルコキシル基である。 )で示される構造を有する複素環化合物、 よりなる触媒系を用いてα−オレフィンを単独重合また
は共重合することを特徴とするα−オレフィン重合体の
製造方法。 - (2)三価のチタン化合物含有固体触媒成分(A)がS
i−O結合を有する有機ケイ素化合物の共存下、一般式
Ti(OR^1)_nX_4_−_n(R^1は炭素数
が1〜20の炭化水素基、Xはハロゲン原子、nは0<
n≦4の数字を表わす。)で表わされるチタン化合物を
、有機マグネシウム化合物で還元して得られる固体生成
物を、エステル化合物で処理した後、エーテル化合物と
四塩化チタンとの混合物で、更に処理して得られる三価
のチタン化合物含有固体触媒であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のα−オレフィン重合体の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28835486A JPH0739449B2 (ja) | 1986-12-03 | 1986-12-03 | α−オレフイン重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28835486A JPH0739449B2 (ja) | 1986-12-03 | 1986-12-03 | α−オレフイン重合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63142003A true JPS63142003A (ja) | 1988-06-14 |
JPH0739449B2 JPH0739449B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=17729122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28835486A Expired - Fee Related JPH0739449B2 (ja) | 1986-12-03 | 1986-12-03 | α−オレフイン重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0739449B2 (ja) |
-
1986
- 1986-12-03 JP JP28835486A patent/JPH0739449B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0739449B2 (ja) | 1995-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0376084B1 (en) | Process for producing highly stereospecific alpha-olefin polymers | |
US4743665A (en) | Process for producing α-olefin polymers | |
JP5127696B2 (ja) | プロピレンポリマー触媒供与体成分 | |
EP1866347B1 (en) | Propylene polymer catalyst donor component | |
JPH0343284B2 (ja) | ||
EP0417346B1 (en) | Process for producing solid catalyst for use in polymerization of olefins | |
JPS61218606A (ja) | α−オレフイン重合体の製造法 | |
CA1293497C (en) | Process for producing alpha-olefin polymer | |
JPH0780968B2 (ja) | オレフィン重合体の製造法 | |
JP4624986B2 (ja) | 電子供与体としてシクロアルカンジカルボキシレートを含むオレフィン重合触媒 | |
JPH05117317A (ja) | オレフイン重合体の製造方法 | |
EP0604401B1 (en) | Production of a catalyst component for producing crystalline polymers | |
JPH059443B2 (ja) | ||
EP0314169B1 (en) | Catalyst system and process for producing alpha-olefin polymer | |
US5189124A (en) | Process for producing α-olefin polymers | |
JPS63142003A (ja) | α−オレフイン重合体の製造方法 | |
US5215951A (en) | Process for producing α-olefin polymer | |
JP3413917B2 (ja) | オレフィン(共)重合用固体触媒成分、該触媒成分からなる触媒及び該触媒を用いるオレフィン(共)重合体の製法 | |
JPH0251505A (ja) | オレフィン重合体の製造法 | |
JPH0437084B2 (ja) | ||
JP3294112B2 (ja) | オレフィン重合用触媒およびこれを用いるオレフィン重合体の製造法 | |
JPH06122717A (ja) | α−オレフィン重合体の製造法 | |
JPH0959311A (ja) | オレフィン重合用触媒およびこれを用いるオレフィン重合体の製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |