JPS63140989A - 位置決め装置 - Google Patents
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- JPS63140989A JPS63140989A JP62120339A JP12033987A JPS63140989A JP S63140989 A JPS63140989 A JP S63140989A JP 62120339 A JP62120339 A JP 62120339A JP 12033987 A JP12033987 A JP 12033987A JP S63140989 A JPS63140989 A JP S63140989A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、パターン発生、パターン印刷、およびσ11
1定装置において加工物を保持する部品ボルダに関する
。
1定装置において加工物を保持する部品ボルダに関する
。
集積回路のフォト・リソグラフィツク製造においては、
輻射または粒子エネルギに対して感応するフィルムを、
回路特徴を形成している所定のパターンで露出させてい
る。また、パターンを有しているマスクにエネルギを通
過させ、半導体本体上のこのフォト・レジスト・フィル
ムを選択的に露出させるようにする場合もよくある。
輻射または粒子エネルギに対して感応するフィルムを、
回路特徴を形成している所定のパターンで露出させてい
る。また、パターンを有しているマスクにエネルギを通
過させ、半導体本体上のこのフォト・レジスト・フィル
ムを選択的に露出させるようにする場合もよくある。
このようなマスクを作り出すのに、従来様々な方法が用
いられてきた。たとえば、拡大してマスク・パターンを
描いてから、その後、写真的に縮小して最終的なマスク
を形成することも可能であるし、オだ、最近では、エレ
クトロン・ビームを電子的に指向し、ガラスI−上にパ
ターンを形成することにより、マスクを形成している。
いられてきた。たとえば、拡大してマスク・パターンを
描いてから、その後、写真的に縮小して最終的なマスク
を形成することも可能であるし、オだ、最近では、エレ
クトロン・ビームを電子的に指向し、ガラスI−上にパ
ターンを形成することにより、マスクを形成している。
エレクトロン・ビームの他、現在ではレーザを用いて、
対壕のパターンを形成するような方法で加工物にビーム
を向けることによって、マスクを作っている。
対壕のパターンを形成するような方法で加工物にビーム
を向けることによって、マスクを作っている。
このような方法の1つとしては、たとえば本発明の出願
人に譲渡さnた、1985年7月24日出願の米国特許
願第758,344号、発明の名称「レーザ・パターン
発生装置」が挙げられる。
人に譲渡さnた、1985年7月24日出願の米国特許
願第758,344号、発明の名称「レーザ・パターン
発生装置」が挙げられる。
可動加工物と固定ビームを用いて正確にマスクを作り出
すには、ビームに関する加工物の位置をX−Y平面にお
いて決定できなければならない。
すには、ビームに関する加工物の位置をX−Y平面にお
いて決定できなければならない。
加工物の相対位置を決定する1つの方法としては差動干
渉計があり、これについては上述した特許明細書におい
て述ぺら扛ている。差動干渉計において、信号(この場
合、レーザ光線)は固定源から、部品ホルダに取りつけ
られたミラーを介して、ビーム・レンズに送られる。こ
の信号は反射されて、固定源近くのレシーバに戻され、
かつ比較することにより、ビームと部材との間の相対距
離を計算することができる。ある用途では、差動干渉計
アセンブリは、XおよびY軸のそれぞれに携りつけられ
、両方向の並進運動を測定するように構成されている。
渉計があり、これについては上述した特許明細書におい
て述ぺら扛ている。差動干渉計において、信号(この場
合、レーザ光線)は固定源から、部品ホルダに取りつけ
られたミラーを介して、ビーム・レンズに送られる。こ
の信号は反射されて、固定源近くのレシーバに戻され、
かつ比較することにより、ビームと部材との間の相対距
離を計算することができる。ある用途では、差動干渉計
アセンブリは、XおよびY軸のそれぞれに携りつけられ
、両方向の並進運動を測定するように構成されている。
しかし、差動干渉計の1つの問題点は、加工物の位置を
示すため使用さnているミラーと加工物との間の一定関
係を表わすことができないことである。このことは、差
動干渉計の精度に限界を生じさせてしまう。また、加工
物を保持する部品ホルタ−は、熱線膨張の影響を受ける
。さらに、基準ミラーが部品ホルダに携りつけられてい
る場合、ミラーと、加工物のある点との間の距離は温度
によって変化してしまう。
示すため使用さnているミラーと加工物との間の一定関
係を表わすことができないことである。このことは、差
動干渉計の精度に限界を生じさせてしまう。また、加工
物を保持する部品ホルタ−は、熱線膨張の影響を受ける
。さらに、基準ミラーが部品ホルダに携りつけられてい
る場合、ミラーと、加工物のある点との間の距離は温度
によって変化してしまう。
従来、このような問題を解決する様々な試みがなされて
きた。たとえば、温度制御環境にパターン発生装置を配
置して、線熱膨張をなくすようにしていた。しかし、こ
の方法は、環境制御が不十分々ためかなりの誤差を生じ
てしまう他、一定温度を保持する経常費が高くつくとい
う欠点を有していた。
きた。たとえば、温度制御環境にパターン発生装置を配
置して、線熱膨張をなくすようにしていた。しかし、こ
の方法は、環境制御が不十分々ためかなりの誤差を生じ
てしまう他、一定温度を保持する経常費が高くつくとい
う欠点を有していた。
したがって、本発明の目的は、加工物と、部品ホルダに
関して空間的に固定された基準点と、測定用に使用され
る基準ミラーとの間に一定距離を保持する装置を提供す
ることである。
関して空間的に固定された基準点と、測定用に使用され
る基準ミラーとの間に一定距離を保持する装置を提供す
ることである。
本発明の他の目的は、広い温度範囲にわたって動作する
部品ホルダを提供することである。
部品ホルダを提供することである。
本発明の他の目的は、部品ホルダ/基板の境界における
膨張%性の差から生じた並進差をなくす装置を提供する
ことである。
膨張%性の差から生じた並進差をなくす装置を提供する
ことである。
本発明の他の目的は、特徴の測定がこれら特徴を有して
いる平面ではない平面において行なわれる時に生じる、
アツベ(Abbe)オフセット・エラーとして知られて
いる測定誤差をなくすことである。
いる平面ではない平面において行なわれる時に生じる、
アツベ(Abbe)オフセット・エラーとして知られて
いる測定誤差をなくすことである。
本発明のさらに他の目的は、容易に411[定し得る部
品ホルダを提供することである。
品ホルダを提供することである。
本発明は、パターン装置において、さらに一般的にはそ
れ自身および部品ホルダに取りつけられた加工物との間
に一定の空間関係を有している固定基準を有するプリン
ト装置において使用される部品ホルダを提供する。基準
ミラー(測定)は、この基準点に関して一定の空間関係
を有している。
れ自身および部品ホルダに取りつけられた加工物との間
に一定の空間関係を有している固定基準を有するプリン
ト装置において使用される部品ホルダを提供する。基準
ミラー(測定)は、この基準点に関して一定の空間関係
を有している。
したがって、加工物と基準ミラーとの間にも一定の空間
関係が存在する。部品ホルダは、低い熱線膨張率を有す
る材料で出来ている。簡単な構造にするため、部品ホル
ダは、低ガス発生エポキシのような適当な接着剤で接着
することにより接合されたいくつかのセクションから形
成されているが、単一構造であってもよい。また、並進
差、および部品ホルダとそnが取りつけられている基板
との間の膨張率の差から生じる他の歪をなくすため、運
動学的(Kinema11c)取付装置を使用している
。
関係が存在する。部品ホルダは、低い熱線膨張率を有す
る材料で出来ている。簡単な構造にするため、部品ホル
ダは、低ガス発生エポキシのような適当な接着剤で接着
することにより接合されたいくつかのセクションから形
成されているが、単一構造であってもよい。また、並進
差、および部品ホルダとそnが取りつけられている基板
との間の膨張率の差から生じる他の歪をなくすため、運
動学的(Kinema11c)取付装置を使用している
。
その結果、部品ホルダは、基準点、加工物および基準ミ
ラーとの間に一定の関係を保持することができる。
ラーとの間に一定の関係を保持することができる。
以下、添付の図面に基づいて、本発明の実施例について
説明する。
説明する。
書込みレンズに関して部品ホルダ上に取りつけられた加
工物を正確にリファレンス(reference)する
ことができる、パターン発生装置に関連して使用さnる
部品ホルダについて説明する。以下の説明において、材
料の成分などの詳細な記載は、本発明の理解を助けるた
めのものであって、本発明はこれら記載に限定されない
ことは当業者には明白であろう。また、周知の構造につ
いては、本発明を不必要に不明瞭なものとしないよう詳
細な記載は省略する。
工物を正確にリファレンス(reference)する
ことができる、パターン発生装置に関連して使用さnる
部品ホルダについて説明する。以下の説明において、材
料の成分などの詳細な記載は、本発明の理解を助けるた
めのものであって、本発明はこれら記載に限定されない
ことは当業者には明白であろう。また、周知の構造につ
いては、本発明を不必要に不明瞭なものとしないよう詳
細な記載は省略する。
第1図は、取りつけられた加工物に対する書込みビーム
・レンズの相対的位置を決定するのに差動干渉計を使用
した図である。差動干渉計システムは、光源およびレシ
ーバ10、ビーム・スプリッタ+IBおよび変向ミラー
11A1 およびミラー16゜31とから成っている。
・レンズの相対的位置を決定するのに差動干渉計を使用
した図である。差動干渉計システムは、光源およびレシ
ーバ10、ビーム・スプリッタ+IBおよび変向ミラー
11A1 およびミラー16゜31とから成っている。
装置は、x−y並進台13、部品ホルダ14、部品ホル
ダと並進台との間の結合装#17、および加工物15を
含んでいる。加工物は、書込みレンズ12からのビーム
29により書込まれる。
ダと並進台との間の結合装#17、および加工物15を
含んでいる。加工物は、書込みレンズ12からのビーム
29により書込まれる。
代表的な並進台は、標準面交座標基準フレームの3つの
相関垂直軸に沿って移動できる。通常、XY平面は水平
に配置され、かつ(水平に配置された)部品を大きく移
動できる。(ビーム29と同軸の)Z軸に沿った移動は
通常小さく、また部品にビーム29の焦点を合わし、か
つビーム29に関して部品を水平に置くことができる。
相関垂直軸に沿って移動できる。通常、XY平面は水平
に配置され、かつ(水平に配置された)部品を大きく移
動できる。(ビーム29と同軸の)Z軸に沿った移動は
通常小さく、また部品にビーム29の焦点を合わし、か
つビーム29に関して部品を水平に置くことができる。
したがって、ビームと部品を目標の空間的関係にし、か
つそnを維持することができる。
つそnを維持することができる。
部品ホルダ14は、その表面に形成されているか、また
は取りつけられている校正マークを有している。このマ
ークは、パターン源からの既知変位を有している。シス
テムの動作を初期設定するため、書込みビーム29を校
正マークの1つの上に配置する。マークの反射は、パタ
ーン発生システムの光学システムにより検出される。こ
れはパターン源およびビームの相対位置に関する正確な
データを与える。加工物をX方向またはY方向のいずれ
かに移動する時、正確な位置データは本発明の差動干渉
計システムを使用することにより得ることができる。
は取りつけられている校正マークを有している。このマ
ークは、パターン源からの既知変位を有している。シス
テムの動作を初期設定するため、書込みビーム29を校
正マークの1つの上に配置する。マークの反射は、パタ
ーン発生システムの光学システムにより検出される。こ
れはパターン源およびビームの相対位置に関する正確な
データを与える。加工物をX方向またはY方向のいずれ
かに移動する時、正確な位置データは本発明の差動干渉
計システムを使用することにより得ることができる。
ミラー16.31は、並進台13とレンズ12とにそn
ぞれ取9つけられている。光線30は、差動干渉計10
によりビーム・スプリッタIIBに照射さnる。光線3
0は2つの成分30B、30Aに分割される。光線30
Bは、四分の一波長プレート110を介してミラー16
に照射される。光線30Aは、変向ミラー11Aに照射
され、さらに四分の一波長プレート11cを介してレン
ズ12のミラー31に照射される。四分の一波長プレー
トIIC,IIDは、そnぞれ光線30A、 30Bを
偏光(回転)する。これは、光線を差動干渉計10によ
り区別できるように光線を適切な状態にする。すなわち
、光線30A。
ぞれ取9つけられている。光線30は、差動干渉計10
によりビーム・スプリッタIIBに照射さnる。光線3
0は2つの成分30B、30Aに分割される。光線30
Bは、四分の一波長プレート110を介してミラー16
に照射される。光線30Aは、変向ミラー11Aに照射
され、さらに四分の一波長プレート11cを介してレン
ズ12のミラー31に照射される。四分の一波長プレー
トIIC,IIDは、そnぞれ光線30A、 30Bを
偏光(回転)する。これは、光線を差動干渉計10によ
り区別できるように光線を適切な状態にする。すなわち
、光線30A。
30Bは、互いに90 だけ偏光される。この2つの光
線はミラー31.16で反射されて、ビーム・スプリッ
タ11Bおよび最終的にはレシーバ10に戻される。こ
のレシーバは、光線間のドツプラー・シフトを測定し、
これによりレンズ12に関する部品ホルダ14の相対的
移動を決定する。
線はミラー31.16で反射されて、ビーム・スプリッ
タ11Bおよび最終的にはレシーバ10に戻される。こ
のレシーバは、光線間のドツプラー・シフトを測定し、
これによりレンズ12に関する部品ホルダ14の相対的
移動を決定する。
しかし、差動干渉計の最終目的は、加工物15に関する
ビーム29の位置をリファレンスすることである。しか
し、これは、ミラー16と加工物15との間に一定距離
Xがある場合だけ行なうことができる。従来のいくつか
の部品ホルダにおいては、並進台の線熱膨張によりこの
距離は変化してしまうため、差動干渉計は加工物15に
関するビーム29の位置を正しく表示していなかった。
ビーム29の位置をリファレンスすることである。しか
し、これは、ミラー16と加工物15との間に一定距離
Xがある場合だけ行なうことができる。従来のいくつか
の部品ホルダにおいては、並進台の線熱膨張によりこの
距離は変化してしまうため、差動干渉計は加工物15に
関するビーム29の位置を正しく表示していなかった。
本発明は、基準ミラーと、部品ホルダに取りつけられた
加工物との間に一定の関係が保持されている部品ホルダ
を提供する。こnは、低い線熱膨張率を有する材料を使
用し、部品ホルダに直接的に取りつけられたミラーを使
用し、かつX−Y並進台に部品ホルダを運動学的に(K
i nemat ic )取りつけることにより、熱膨
張により生じる、並進台に関する部品ホルダの横方向移
動の感受性をなくし、かつ部品ホルダに対する差膨張歪
の影響をなくしている。
加工物との間に一定の関係が保持されている部品ホルダ
を提供する。こnは、低い線熱膨張率を有する材料を使
用し、部品ホルダに直接的に取りつけられたミラーを使
用し、かつX−Y並進台に部品ホルダを運動学的に(K
i nemat ic )取りつけることにより、熱膨
張により生じる、並進台に関する部品ホルダの横方向移
動の感受性をなくし、かつ部品ホルダに対する差膨張歪
の影響をなくしている。
第3図は、本発明の部品ホルダの実施例を示している。
構成しやすくするため、部品ホルダ20は、3つのセク
ション20m、20b、20cから構成されているが、
要求に応じて単一の構造であってもよい。なお、本発明
の思想から離れることなく本発明の部品ホルダを構成す
るのに、部品をいくつ使用してもよいことは、当業者に
は明白であろう。
ション20m、20b、20cから構成されているが、
要求に応じて単一の構造であってもよい。なお、本発明
の思想から離れることなく本発明の部品ホルダを構成す
るのに、部品をいくつ使用してもよいことは、当業者に
は明白であろう。
本発明の実施例では、部品ホルダはZERODUR。
すなわち低い熱膨張率を有する二相ガラスセラミックか
ら成っている。パターン発生システムにおける代表的な
動作温度範囲は、183〜24,5℃(65〜76下)
である。この温度範囲において、ZERODURの熱膨
張率は±0゜05X10 インチ/インチ/cケルピ
ンである。
ら成っている。パターン発生システムにおける代表的な
動作温度範囲は、183〜24,5℃(65〜76下)
である。この温度範囲において、ZERODURの熱膨
張率は±0゜05X10 インチ/インチ/cケルピ
ンである。
本発明の実施例では、部品ホルダ20の個別部品は、低
ガス発生エポキシを使用して接合されている。エポキシ
層の厚さは、部品ホルダの全寸法、接合ラインの配置、
およびセラミック材料間の大きい剛性差に較べて、非常
に薄いので、エポキシが特別の膨張特性を持っている必
要け々い。
ガス発生エポキシを使用して接合されている。エポキシ
層の厚さは、部品ホルダの全寸法、接合ラインの配置、
およびセラミック材料間の大きい剛性差に較べて、非常
に薄いので、エポキシが特別の膨張特性を持っている必
要け々い。
加工物は、供給ライン25と複数の吸引開口26とから
成る真空装置を使用することにより、本発明の部品ホル
ダ20上に保持される。動作において、感光性レジスト
を備えたガラス・プレートから成る加工物を、開口26
上の部品ホルダ上に配置し、ディバイスを適切な位置に
保持するよう減圧する。
成る真空装置を使用することにより、本発明の部品ホル
ダ20上に保持される。動作において、感光性レジスト
を備えたガラス・プレートから成る加工物を、開口26
上の部品ホルダ上に配置し、ディバイスを適切な位置に
保持するよう減圧する。
第1図において、ビーム29は、レンズ12に関して既
知の空間関係を保持しているので、レンズ12の位置が
既知であるならば、ビーム29の位置もまた既知である
。レンズ12とミラー31との間に常に一定の空間関係
が存在するように、レンズ12上にミラー3゛1を取り
つけることにより、ミラー31に関する光線29の位置
をいつでも決定することができる。したがって、その位
置もまた既知である第2対象物に関する光線29の相対
運動も決定できる。
知の空間関係を保持しているので、レンズ12の位置が
既知であるならば、ビーム29の位置もまた既知である
。レンズ12とミラー31との間に常に一定の空間関係
が存在するように、レンズ12上にミラー3゛1を取り
つけることにより、ミラー31に関する光線29の位置
をいつでも決定することができる。したがって、その位
置もまた既知である第2対象物に関する光線29の相対
運動も決定できる。
本実施例では、ビーム29の相対運動を加工物15と比
較することが要求されている。ビーム29と加工物15
との間の相対運動を正確に測定するため、本発明は部品
ホルダ20に一体的に取りつけられたミラー16を使用
している。上述したように、基準ミラー16と加工物1
5との間には一定の空間関係がなければならない。部品
ホルダ20としてZERODURtたは他の低熱膨張材
料を使用することにより、ミラー16と加工物との間の
空間関係を一定に保つことができる。
較することが要求されている。ビーム29と加工物15
との間の相対運動を正確に測定するため、本発明は部品
ホルダ20に一体的に取りつけられたミラー16を使用
している。上述したように、基準ミラー16と加工物1
5との間には一定の空間関係がなければならない。部品
ホルダ20としてZERODURtたは他の低熱膨張材
料を使用することにより、ミラー16と加工物との間の
空間関係を一定に保つことができる。
部品ホルダ20に直接的に取りつけられたミラーを使用
する1つの利点は、測定座標システムの平面が加工物と
同じ平面にあるように、基準ミラーを位置決めすること
ができることである。これにより、目標の対末物、たと
えば加工物が測定座標システムの平面とは異なる平面に
ある場合にどの測定システムにも生じるアツベ(、Ab
be) オフセット・エラーをなくすことができる。
する1つの利点は、測定座標システムの平面が加工物と
同じ平面にあるように、基準ミラーを位置決めすること
ができることである。これにより、目標の対末物、たと
えば加工物が測定座標システムの平面とは異なる平面に
ある場合にどの測定システムにも生じるアツベ(、Ab
be) オフセット・エラーをなくすことができる。
パターン発生装置と関連して使用する場合、部品ホルダ
20は、パターンが加工物15上に発生されるよう、ビ
ーム29の下でXY並進台により移動される。本発明の
装置により、差動測定装置は、台捷たはビームの運動を
検出し、かつ正確なパターンを生ずるようこのような運
動に基づいて動作するのに使用できる。
20は、パターンが加工物15上に発生されるよう、ビ
ーム29の下でXY並進台により移動される。本発明の
装置により、差動測定装置は、台捷たはビームの運動を
検出し、かつ正確なパターンを生ずるようこのような運
動に基づいて動作するのに使用できる。
並漣台の線熱膨張の影響をなくすため、部品ホルダ20
は、独特の取付装置により並進台から分離されている。
は、独特の取付装置により並進台から分離されている。
第3図において、本発明の部品ホルダ20は、運動学的
取付装置21A、 21B、 21Cを介して本発明の
X−Y並進台23(第4図)に取りつけられている。運
動学的取付装置の動作について、第4図について説明す
る。本発明の実施例において、運動学的取付装置は、3
つの同じ構成部材から成り、各部材はチャネル+9Aと
嵌合コーン19I3との間に配置されたベアリング18
を含んでいる。コーン19BはX−Y並進台23に取り
つけられ、一方チャネル19Aは部品ホルダ20に取り
つけられている。運動学的取付装置の構成部材は、第2
図に示されているように互いに120 を成して配置
されている。このように、運動学的取付装fりに取りつ
けられた部品ホルダの並進台の線熱膨張作用は、3方向
に等しく分割されるので、部品ホルダ20は空間的に同
じ絶対位置に保持される。
取付装置21A、 21B、 21Cを介して本発明の
X−Y並進台23(第4図)に取りつけられている。運
動学的取付装置の動作について、第4図について説明す
る。本発明の実施例において、運動学的取付装置は、3
つの同じ構成部材から成り、各部材はチャネル+9Aと
嵌合コーン19I3との間に配置されたベアリング18
を含んでいる。コーン19BはX−Y並進台23に取り
つけられ、一方チャネル19Aは部品ホルダ20に取り
つけられている。運動学的取付装置の構成部材は、第2
図に示されているように互いに120 を成して配置
されている。このように、運動学的取付装fりに取りつ
けられた部品ホルダの並進台の線熱膨張作用は、3方向
に等しく分割されるので、部品ホルダ20は空間的に同
じ絶対位置に保持される。
このように、本発明の部品ホルダに取りつけられたミラ
ーと本発明の部品ホルダになりつけられた加工物との間
の相対距離と配置は、一定の関係に保持されている。こ
れにより、部品ホルダに取りつけられた加工物を正確に
リファレンスすることができる。
ーと本発明の部品ホルダになりつけられた加工物との間
の相対距離と配置は、一定の関係に保持されている。こ
れにより、部品ホルダに取りつけられた加工物を正確に
リファレンスすることができる。
以上のように、本発明は、加工物に対するポインタ・ビ
ームを正確に測定することができる。すなわちパターン
発生を正確にリファレンスすることができる優れた部品
ホルダを提供する。
ームを正確に測定することができる。すなわちパターン
発生を正確にリファレンスすることができる優れた部品
ホルダを提供する。
第1図は従来の部品保持装置における差動干渉計の使用
を示している。 第2図は本発明の運動学的取付方法を示している。 第3図は本発明の部品ホルダの底面図を示している。 第4図は第3図の部品ホルダの側面図を示している。 10・・・・光源およびレシーバ、11A・・・・変向
ミラー、11B・・・・ビーム・スプリッタ。 12・・・・書込みレンズ、16.31・・・・ミラー
、13・・・・X−Y並進台、14・・・・部品ホルダ
、15・・・・加工物、19A・・・・チャネル、19
B・・・・嵌合コーン、 21A、21B。
を示している。 第2図は本発明の運動学的取付方法を示している。 第3図は本発明の部品ホルダの底面図を示している。 第4図は第3図の部品ホルダの側面図を示している。 10・・・・光源およびレシーバ、11A・・・・変向
ミラー、11B・・・・ビーム・スプリッタ。 12・・・・書込みレンズ、16.31・・・・ミラー
、13・・・・X−Y並進台、14・・・・部品ホルダ
、15・・・・加工物、19A・・・・チャネル、19
B・・・・嵌合コーン、 21A、21B。
Claims (12)
- (1)少くとも2つの直交座標方向に沿つた加工物の目
標位置を確立する基準面を有する、加工物を支持する支
持装置と; 上記加工物に関する並進運動を生じる基板装置と; 上記基板装置の熱膨張が上記支持装置から分離されるよ
うに上記支持装置を上記基板装置に結合する結合装置と から成ることを特徴とする、加工物を位置決めする位置
決め装置。 - (2)特許請求の範囲第1項記載の装置において、結合
装置は、複数の運動学的取付台から成ることを特徴とす
る装置。 - (3)特許請求の範囲第2項記載の装置において、各運
動学的取付台は、介在ボールを備えた溝/コーン部材か
ら成ることを特徴とする装置。 - (4)特許請求の範囲第1項記載の装置において、支持
装置は±0.05×10^−^6インチ/インチ/^c
ケルピンの範囲の熱線膨張率を有する材料から成ること
を特徴とする装置。 - (5)特許請求の範囲第1項記載の装置において、各基
準平面は、支持装置に取りつけられかつそれに対応する
座標方向に垂直なミラーから成ることを特徴とする装置
。 - (6)並進段に取りつけられた加工物を保持する部品ホ
ルダと、書込みビームを上記加工物に向けるレンズとを
含んでいるシステムにおける上記加工物に対する上記書
込みビームの位置を決定する位置決め装置において: 上記レンズに取りつけられた第1ミラーと;上記部品ホ
ルダに取りつけられた第2ミラーと;上記第1および第
2ミラーに光線を向け、上記第1および第2ミラーから
の上記光線の反射を受け、かつ上記第2ミラーに関する
上記第1ミラーの相対位置を決定する差動干渉計と; 上記部品ホルダを上記並進装置に結合し、かつ上記部品
ホルダに対する上記並進装置の線熱膨張の影響をなくし
て、上記加工物の絶対位置が並進装置の熱的な寸法の変
化により影響されないようにする運動力学的取付装置と から成り、上記加工物に対する上記書込みビームの位置
を正確に決定できるようにしたことを特徴とする、加工
物に関する書込みビームの位置を決定する位置決め装置
。 - (7)特許請求の範囲第6項記載の装置において、部品
ホルダは、±0.05×10^−^6インチ/インチ/
^cケルピンの範囲の熱線膨張率を有する材料から成る
ことを特徴とする装置。 - (8)特許請求の範囲第6項記載の装置において、部品
ホルダはZERODURから成ることを特徴とする装置
。 - (9)特許請求の範囲第6項記載の装置において、運動
力学的取付装置は、部品ホルダに結合したチャネルと並
進装置に結合したコーンとの間に配置された変動装置か
ら成ることを特徴とする装置。 - (10)特許請求の範囲第6項記載の装置において、運
動力学的取付装置は互いに120^cを成して配置され
た3つの取付台から成ることを特徴とする装置。 - (11)特許請求の範囲第6項記載の装置において、部
品ホルダは、低ガス発生エポキシにより接合された複数
の部材から成ることを特徴とする装置。 - (12)特許請求の範囲第6項記載の装置において、部
品ホルダは単一の装置から成ることを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/933,461 US4758091A (en) | 1986-11-20 | 1986-11-20 | Pattern generator part holder |
US933461 | 1986-11-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63140989A true JPS63140989A (ja) | 1988-06-13 |
JPH0814631B2 JPH0814631B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=25464007
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62120339A Expired - Lifetime JPH0814631B2 (ja) | 1986-11-20 | 1987-05-19 | 位置決め装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4758091A (ja) |
JP (1) | JPH0814631B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002530880A (ja) * | 1998-11-20 | 2002-09-17 | ライカ マイクロシステムス リトグラフィー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 基板支持装置 |
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US5555470A (en) * | 1993-10-12 | 1996-09-10 | The Regents Of The University Of Michigan | Single wave linear interferometric force transducer |
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JPS6335989U (ja) * | 1986-08-25 | 1988-03-08 |
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-
1986
- 1986-11-20 US US06/933,461 patent/US4758091A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-05-19 JP JP62120339A patent/JPH0814631B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6335989U (ja) * | 1986-08-25 | 1988-03-08 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4758091A (en) | 1988-07-19 |
JPH0814631B2 (ja) | 1996-02-14 |
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