JPS63139905A - ビニリデン基を有するスチレン系重合体およびその製造方法 - Google Patents
ビニリデン基を有するスチレン系重合体およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本攬」B砿昆量
本発明は、ベンゼン環上にビニリデン基を有するスチレ
ン系重合体およびその製造方法に関する。
ン系重合体およびその製造方法に関する。
本発明の重合体は、金属化した後これを高分子開始剤と
し、例えばアクリル系モノマーをグラフト重合し、多官
能グラフト共重合体を合成するための幹ポリマーとして
有用である。
し、例えばアクリル系モノマーをグラフト重合し、多官
能グラフト共重合体を合成するための幹ポリマーとして
有用である。
金属化ポリマーを高分子開始剤とし、アニオン重合法に
より多官能グラフト共重合体を合成するためには、 i)金属化ポリマーが汎用溶媒に可溶であること ii )金属化効率が良い(好ましくは100%)こと iii )開始剤効果が良いこと iv)枝ポリマーの重合がリビング重合系であること が必要である。
より多官能グラフト共重合体を合成するためには、 i)金属化ポリマーが汎用溶媒に可溶であること ii )金属化効率が良い(好ましくは100%)こと iii )開始剤効果が良いこと iv)枝ポリマーの重合がリビング重合系であること が必要である。
本発明者らは先に、ポリパラメチルスチレン(PPMS
)またはスチレンーバラメチルスヂレン−スチレン三元
共重合体のメチル基をn−ブチルリチウム/テトラメチ
ルエチレンジアミン系等でリチウム化し、該金属化幹ポ
リマーを開始剤として枝ポリマーをグラフト重合によっ
て合成する際に、幹ポリマーのゲル化物ないし沈澱を一
旦1.1=ジフェニルエチレンなどのビニリデンモノマ
ーと反応させると汎用溶媒に均一に溶解し、該金属化幹
ポリマーのビニリデンモノマー付加物を開始剤として用
いることにより、成長アニオン末端のカルボニル付加な
どの副反応を抑制しつつアクリル糸上ツマ−をグラフト
共重合できることを見出した。特願昭60−23922
3号参照。
)またはスチレンーバラメチルスヂレン−スチレン三元
共重合体のメチル基をn−ブチルリチウム/テトラメチ
ルエチレンジアミン系等でリチウム化し、該金属化幹ポ
リマーを開始剤として枝ポリマーをグラフト重合によっ
て合成する際に、幹ポリマーのゲル化物ないし沈澱を一
旦1.1=ジフェニルエチレンなどのビニリデンモノマ
ーと反応させると汎用溶媒に均一に溶解し、該金属化幹
ポリマーのビニリデンモノマー付加物を開始剤として用
いることにより、成長アニオン末端のカルボニル付加な
どの副反応を抑制しつつアクリル糸上ツマ−をグラフト
共重合できることを見出した。特願昭60−23922
3号参照。
しかしながらこの方法では、金属化効率が10%でない
ため未反応金属化試薬から重合したホモポリマーがグラ
フトポリマー中に混在する。従ってホモポリマーの混在
を避けようとすれば、1.1−ジフェニルエチレン等を
反応させる前に、生じた沈澱を洗浄し、未反応金属化試
薬を除去する必要があった。
ため未反応金属化試薬から重合したホモポリマーがグラ
フトポリマー中に混在する。従ってホモポリマーの混在
を避けようとすれば、1.1−ジフェニルエチレン等を
反応させる前に、生じた沈澱を洗浄し、未反応金属化試
薬を除去する必要があった。
そこで本発明者らは、先に述べた要件を満たす、金属化
して多官能グラフト共重合体の合成に高分子開始剤とし
て使用し得る新しい幹ポリマーの合tc ヲ81み、1
−フェニル−1−(4−ビニルフェニル)エチレン(P
V P E)およびその類縁体のホモポリマー、また
はそれらとスチレン系および/または共役ジエン系モノ
マーとの共重合体がこの目的に通うものであることを知
り、本発明を完成するに至った。PVPEおよびその類
縁体の重合体もしくは共重合体は、金属化点がベンゼン
環上のペンダントビニリデン基にあり、かつ該金属化点
はかさ高い置換基にはさまれている。そのためこれを金
属化してアニオン重合法によって多官能グラフト共重合
体を合成する場合、多種類の七ツマ−を選択することが
できる。またビニリデン基がポリマー主鎖にないため、
1.4−結合の共役ジエン系ポリマーのように金属化に
より主鎖切断等の副反応を生じない。さらにかさ高い置
換基を有する有機リチウム等は、メチルメタクリレート
等のアクリル糸上ツマ−の重合においてカルボニル付加
などの副反応を抑制する働きを有する。その上前記重合
体の重合収率が高いので、多官能グラフト共重合体の合
成工程の簡略化を目的として、幹ポリマーの重合、その
金属化およびグラフト重合を引き続いて実施した場合、
未反応モノマーが重合して生成するホモポリマーがグラ
フトポリマー中に混入する割合が少なくなる。
して多官能グラフト共重合体の合成に高分子開始剤とし
て使用し得る新しい幹ポリマーの合tc ヲ81み、1
−フェニル−1−(4−ビニルフェニル)エチレン(P
V P E)およびその類縁体のホモポリマー、また
はそれらとスチレン系および/または共役ジエン系モノ
マーとの共重合体がこの目的に通うものであることを知
り、本発明を完成するに至った。PVPEおよびその類
縁体の重合体もしくは共重合体は、金属化点がベンゼン
環上のペンダントビニリデン基にあり、かつ該金属化点
はかさ高い置換基にはさまれている。そのためこれを金
属化してアニオン重合法によって多官能グラフト共重合
体を合成する場合、多種類の七ツマ−を選択することが
できる。またビニリデン基がポリマー主鎖にないため、
1.4−結合の共役ジエン系ポリマーのように金属化に
より主鎖切断等の副反応を生じない。さらにかさ高い置
換基を有する有機リチウム等は、メチルメタクリレート
等のアクリル糸上ツマ−の重合においてカルボニル付加
などの副反応を抑制する働きを有する。その上前記重合
体の重合収率が高いので、多官能グラフト共重合体の合
成工程の簡略化を目的として、幹ポリマーの重合、その
金属化およびグラフト重合を引き続いて実施した場合、
未反応モノマーが重合して生成するホモポリマーがグラ
フトポリマー中に混入する割合が少なくなる。
水弁皿■瓜盟
本発明は、
(a)一般式、
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖もし
くは分岐アルキル基を表し、R2は炭素数2〜IOの直
鎖もしくは分岐アルキル基またはアルコキシ基、置換基
を有することもあるフェニル基、またはアルキル基の炭
素数が1〜4のトリアルキルシリル基を表す。) で表される繰り返し単位0.1〜100モル%;(b)
一般式 %式%() (式中、R1は前記に同じであり、R3は炭素数1〜4
の直鎖もしくは分岐アルキル基、または置換基を有する
こともあるフェニル基を表し、R4は炭素数1〜4の直
鎖もしくは分岐アルキル基またはハロゲンを表し、一般
式(III)はその位置異性構造を含むものとする。) で表される繰り返し単位0〜99.9モル%を含み、数
平均分子量が1000〜t、ooo、oooであるベン
ゼン環上にビニリデン基を有するスチレン系重合体を提
供する。
くは分岐アルキル基を表し、R2は炭素数2〜IOの直
鎖もしくは分岐アルキル基またはアルコキシ基、置換基
を有することもあるフェニル基、またはアルキル基の炭
素数が1〜4のトリアルキルシリル基を表す。) で表される繰り返し単位0.1〜100モル%;(b)
一般式 %式%() (式中、R1は前記に同じであり、R3は炭素数1〜4
の直鎖もしくは分岐アルキル基、または置換基を有する
こともあるフェニル基を表し、R4は炭素数1〜4の直
鎖もしくは分岐アルキル基またはハロゲンを表し、一般
式(III)はその位置異性構造を含むものとする。) で表される繰り返し単位0〜99.9モル%を含み、数
平均分子量が1000〜t、ooo、oooであるベン
ゼン環上にビニリデン基を有するスチレン系重合体を提
供する。
本発明はまた、前記重合体の製造方法を提供し該方法は
、 (1)(a)一般式 (式中、R1およびR2は前記に同じ。)で表される単
量体0.1−100モル%; (b)一般式 %式%) (式中、Rs、 RaおよびR4は前記に同じ、)で表
される単量体0〜99.9モル% よりなる単量体成分を、アニオン重合開始剤またはカチ
オン重合開始剤を用いて重合し、数平均分子量1000
〜t、ooo、oooの重合体を得ることよりなる。
、 (1)(a)一般式 (式中、R1およびR2は前記に同じ。)で表される単
量体0.1−100モル%; (b)一般式 %式%) (式中、Rs、 RaおよびR4は前記に同じ、)で表
される単量体0〜99.9モル% よりなる単量体成分を、アニオン重合開始剤またはカチ
オン重合開始剤を用いて重合し、数平均分子量1000
〜t、ooo、oooの重合体を得ることよりなる。
好まユ」5uLi様
式1−aの単量体の具体例には、■−フェニルー1−(
4−ビニルフェニル)エチレン、1−(4−メチルフェ
ニル)−1−(4−ビニルフェニル)エチレン、1−(
4−プロピルフェニル)−1−(4−ビニルフェニル)
エチレン、1−トリメチルシリル−1−(4−ビニルフ
ェニル)エチレンなどがある。
4−ビニルフェニル)エチレン、1−(4−メチルフェ
ニル)−1−(4−ビニルフェニル)エチレン、1−(
4−プロピルフェニル)−1−(4−ビニルフェニル)
エチレン、1−トリメチルシリル−1−(4−ビニルフ
ェニル)エチレンなどがある。
式11−aの単量体の具体例には、スチレン、p−メチ
ルスチレン、m−メチルスチレン、p−クロロスチレン
、α−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、イソブ
テン等がある。
ルスチレン、m−メチルスチレン、p−クロロスチレン
、α−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、イソブ
テン等がある。
式m−aの単量体の具体例には、ブタジェン。
イソプレン、クロロプレン、t−ブチルブタジエンなど
がある0式m−aの単量体は、重合した場合1.4−結
合、l、2−結合または3.4−結合(R4が水素以外
の場合)によって重合体の主鎖に取り入れられるが、本
発明の重合体はそのいずれでもよい。
がある0式m−aの単量体は、重合した場合1.4−結
合、l、2−結合または3.4−結合(R4が水素以外
の場合)によって重合体の主鎖に取り入れられるが、本
発明の重合体はそのいずれでもよい。
前記1−a@l]体は必須であるが、その99.9モル
%までを前記n −aおよびm−a単量体のいずれか一
方または両方で置き換えることができる。
%までを前記n −aおよびm−a単量体のいずれか一
方または両方で置き換えることができる。
本発明の重合体は、上記単量体成分を常法によりアニオ
ン重合またはカチオン重合することによって製造するこ
とができる。
ン重合またはカチオン重合することによって製造するこ
とができる。
アニオン重合開始剤としては、n−ブチルリチウム、5
ec−ブチルリチウム、 tert−ブチルリチウム、
ナフタレンナトリウム、クミルカリウム。
ec−ブチルリチウム、 tert−ブチルリチウム、
ナフタレンナトリウム、クミルカリウム。
クミルセシウムなどの有機アルカリ金属化合物を挙げる
ことができる。
ことができる。
アニオン重合は、−100℃〜+80℃、好ましくは一
80℃〜+50℃の温度において、不活性ガス雰囲気下
、好ましくは高真空下において不活性溶媒中で行うのが
一般的である。開始剤の使用量には特に制限はない。使
用し得る溶媒の例としては、ジエチルエーテル、メチル
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン。
80℃〜+50℃の温度において、不活性ガス雰囲気下
、好ましくは高真空下において不活性溶媒中で行うのが
一般的である。開始剤の使用量には特に制限はない。使
用し得る溶媒の例としては、ジエチルエーテル、メチル
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン。
シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類が挙げられる。
カチオン重合開始剤としては、スチレン誘導体を重合可
能な公知の開始剤が挙げられる。その具体例としては、
過塩素酸、過塩素酸アセチル、硫酸、p−1ルエンスル
ホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸
類、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素、四塩化スズ等
のハロゲン化金属類に共触媒を用いた開始剤系、トリエ
チルアルミニウム5 ジエチルアルミニウムフロライド
。
能な公知の開始剤が挙げられる。その具体例としては、
過塩素酸、過塩素酸アセチル、硫酸、p−1ルエンスル
ホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸
類、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素、四塩化スズ等
のハロゲン化金属類に共触媒を用いた開始剤系、トリエ
チルアルミニウム5 ジエチルアルミニウムフロライド
。
エチルアルミニウムジフロライド等の有機金属化合物類
に共触媒を用いた開始剤系等が挙げられる。
に共触媒を用いた開始剤系等が挙げられる。
カチオン重合は不活性ガス雰囲気下、好ましくは真空下
において重合反応に対して不活性な溶媒中で行うのが一
般的である。使用し得る溶媒の例としては、ベンゼン、
トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン
等の芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン
、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、四塩化炭素、
クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン等のハ
ロゲン化脂肪族炭化水素類が挙げられる。また溶媒は二
種以上混合して用いることもできる。
において重合反応に対して不活性な溶媒中で行うのが一
般的である。使用し得る溶媒の例としては、ベンゼン、
トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン
等の芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン
、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、四塩化炭素、
クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン等のハ
ロゲン化脂肪族炭化水素類が挙げられる。また溶媒は二
種以上混合して用いることもできる。
重合温度は一100℃から80℃の温度範囲内で任意に
選択することができるが、望ましい重合温度は一り0℃
〜θ℃である。なお、この重合反応温度が高いとビニリ
デン基による橋かけ反応を励起するため上記温度範囲の
中でも低い温度範囲の方がより好ましい。
選択することができるが、望ましい重合温度は一り0℃
〜θ℃である。なお、この重合反応温度が高いとビニリ
デン基による橋かけ反応を励起するため上記温度範囲の
中でも低い温度範囲の方がより好ましい。
重合時間はその重合温度に応じ、1分ないし72時間が
採用できる。なお前述のように重合時間もビニリデン基
による橋かけ反応に影響を与えるため、必要以上の重合
時間は好ましくない。
採用できる。なお前述のように重合時間もビニリデン基
による橋かけ反応に影響を与えるため、必要以上の重合
時間は好ましくない。
使用する開始剤量は単量体1モルに対し0.05〜10
0ミリモルの範囲が好ましい。この範囲外の量でも使用
できるが、少量では反応に長時間を費やし、また必要以
上に多量に使用した場合には触媒除去に手間を費やすの
で経済的に不利である。
0ミリモルの範囲が好ましい。この範囲外の量でも使用
できるが、少量では反応に長時間を費やし、また必要以
上に多量に使用した場合には触媒除去に手間を費やすの
で経済的に不利である。
かくして、かさ高いペンダントビニリデン基を有する溶
媒可溶な(共)重合体を得ることができる。これらは主
としてホモポリマーを含まない多官能グラフト共重合体
の幹ポリマーとして使用することができるが、その用途
はこれに限定されない0例えば該ポリマーは、ペンダン
トビニリデン基に各種の反応性試薬を反応させることに
より、ポリマー鎖に多様な官能基を容易に導入できるこ
とから機能性高分子としての応用性が非常に高い。
媒可溶な(共)重合体を得ることができる。これらは主
としてホモポリマーを含まない多官能グラフト共重合体
の幹ポリマーとして使用することができるが、その用途
はこれに限定されない0例えば該ポリマーは、ペンダン
トビニリデン基に各種の反応性試薬を反応させることに
より、ポリマー鎖に多様な官能基を容易に導入できるこ
とから機能性高分子としての応用性が非常に高い。
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらの実施
例のみに限定されるものではない。なお実施例中ポリマ
ーのキャラクタリゼーションは次の方法で測定を行った
。
例のみに限定されるものではない。なお実施例中ポリマ
ーのキャラクタリゼーションは次の方法で測定を行った
。
ポリマーの分子量および分子量分布は、示差屈折計、紫
外線分光光度計、レーザー小角光散乱針を有するGPC
および蒸気圧オスモメトリーを用いて行った。
外線分光光度計、レーザー小角光散乱針を有するGPC
および蒸気圧オスモメトリーを用いて行った。
またポリマーの組成比、残存二重結合量はtH−NMR
,1”C−NMRおよび紫外線吸収スペクトル法により
定量を行った。さらに残存二重結合の量を正確に定量す
るための二重結合に対し過剰量のn−BuLiを加えポ
リマーとリチウム化した後、トリメチルクロルシランで
シリル化を行い、IH−NMRでそのリチウム化率を間
接的に測定した。
,1”C−NMRおよび紫外線吸収スペクトル法により
定量を行った。さらに残存二重結合の量を正確に定量す
るための二重結合に対し過剰量のn−BuLiを加えポ
リマーとリチウム化した後、トリメチルクロルシランで
シリル化を行い、IH−NMRでそのリチウム化率を間
接的に測定した。
実施例
本発明に用いたかさ高いビニリデン基を有するスチレン
誘導体の一例として、1−フェニル−1−(4−ビニル
フェニル)エチレン(P V P E)の合成方法を先
ず示す。
誘導体の一例として、1−フェニル−1−(4−ビニル
フェニル)エチレン(P V P E)の合成方法を先
ず示す。
合成例
攪拌器、環流冷却器および滴下ロートの付いた21の反
応容器中にマグネシウム粉24.8gを入れ、滴下ロー
トよりTHF424d、p−クロロスチレン120献を
滴下し、65℃で反応させることによりグリニヤール試
薬を調製する。30℃に冷却した後THF1001Le
、アセトフェノン106献を同様に滴下ロートより滴下
する0反応終了後、水500mff1、塩酸20献を加
える。エーテル抽出を行った後反応生成物としてアルコ
ールを得る。この生成物を硫酸水素カリウムで脱水減圧
蒸留することにより常温で白色固体の1−フェニル−1
−(4−ビニルフェニル)エチレンを得た。
応容器中にマグネシウム粉24.8gを入れ、滴下ロー
トよりTHF424d、p−クロロスチレン120献を
滴下し、65℃で反応させることによりグリニヤール試
薬を調製する。30℃に冷却した後THF1001Le
、アセトフェノン106献を同様に滴下ロートより滴下
する0反応終了後、水500mff1、塩酸20献を加
える。エーテル抽出を行った後反応生成物としてアルコ
ールを得る。この生成物を硫酸水素カリウムで脱水減圧
蒸留することにより常温で白色固体の1−フェニル−1
−(4−ビニルフェニル)エチレンを得た。
(収率50%)
生成物の化学構造はIRスペクトル、IH−NMR,I
”C−NMCおよびガスクロマトグラフィーにより同定
した。
”C−NMCおよびガスクロマトグラフィーにより同定
した。
実施例1 (PVPEのアニオン重合)高真空下ブレ
ークシール法を用い、室温で7−7スコに充分に親水精
製したベンゼンおよび5ec−ブチルリチウムのへブタ
ン溶液を入れ、次に1−フェニル−1−(4−ビニルフ
ェニル)エチレン(P V P E)をベンゼンに溶解
した七ツマー熔ン&(約lOν/V%)を加え重合を開
始した。所定時間反応後メタノールを加え重合を停止さ
せた。
ークシール法を用い、室温で7−7スコに充分に親水精
製したベンゼンおよび5ec−ブチルリチウムのへブタ
ン溶液を入れ、次に1−フェニル−1−(4−ビニルフ
ェニル)エチレン(P V P E)をベンゼンに溶解
した七ツマー熔ン&(約lOν/V%)を加え重合を開
始した。所定時間反応後メタノールを加え重合を停止さ
せた。
ポリマーはベンゼン/メタノール系で数回再沈精製後、
室温で真空乾燥を行い、目的とするポリ 〔l−フェニ
ル−1−(4−ビニルフェニル)エチレン)(VP)を
得た。詳しい反応条件およびポリマーの数平均分子!(
Mn)(ポリスチレン換算)、収率を表1に示した。
室温で真空乾燥を行い、目的とするポリ 〔l−フェニ
ル−1−(4−ビニルフェニル)エチレン)(VP)を
得た。詳しい反応条件およびポリマーの数平均分子!(
Mn)(ポリスチレン換算)、収率を表1に示した。
実施例2 (PVPEのカチオン重合(窒素雰囲気下)
〕窒素雰囲気下、三方コックを付けた3 00dのナス
フラスコに常法により精製したトルエンと開始剤を入れ
所定温度に保った後、PVPEトルエン溶液(約50ν
/V%)を加え重合を開始させた。所定時間反応後少量
のメタノールを加え重合を停止させた。得られたポリマ
ーはベンゼン/メタノール系で再沈精製後、室温で真空
乾燥を行い目的とするVPを得た。詳しい反応条件およ
び収率、Mnを表2に示した。なお魚2−2は七ツマー
添加後瞬時にゲル化した。
〕窒素雰囲気下、三方コックを付けた3 00dのナス
フラスコに常法により精製したトルエンと開始剤を入れ
所定温度に保った後、PVPEトルエン溶液(約50ν
/V%)を加え重合を開始させた。所定時間反応後少量
のメタノールを加え重合を停止させた。得られたポリマ
ーはベンゼン/メタノール系で再沈精製後、室温で真空
乾燥を行い目的とするVPを得た。詳しい反応条件およ
び収率、Mnを表2に示した。なお魚2−2は七ツマー
添加後瞬時にゲル化した。
(以下余白)
実施例3 (pvpgのカチオン重合(高真空下)〕高
真空下ブレークシール法を用い所定温度でフラスコに充
分に脱水精製したトルエンおよびトリフルオロメタンス
ルホン酸を入れ、次にPVPEをトルエンに溶解した七
ツマー溶液(約10v/V%)を加え重合を開始させた
。所定時間反応後、少量のメタノールを加え重合を停止
させた。ポリマーはベンゼン/メタノール系で数回再沈
精製後室温で真空乾燥を行い目的とするvpを得た。詳
しい反応条件およびポリマーのMn、収率を表3に示し
た。
真空下ブレークシール法を用い所定温度でフラスコに充
分に脱水精製したトルエンおよびトリフルオロメタンス
ルホン酸を入れ、次にPVPEをトルエンに溶解した七
ツマー溶液(約10v/V%)を加え重合を開始させた
。所定時間反応後、少量のメタノールを加え重合を停止
させた。ポリマーはベンゼン/メタノール系で数回再沈
精製後室温で真空乾燥を行い目的とするvpを得た。詳
しい反応条件およびポリマーのMn、収率を表3に示し
た。
(以下余白)
実施例4 (PVPEとスチレンのカチオン共重合)高
真空下ブレークシール法を用い、所定温度でフラスコに
充分に脱水精製したトルエンおよびトリフルオロメタン
スルホン酸を入れ、次にPVPEとスチレンをトルエン
に熔解したモノマー溶液(約10v/v%)を加え重合
を開始させた。所定時間反応後、少量のメタノールを加
え重合を停止きせた。ポリマーはベンゼン/メタノール
系で数回再沈精製後、室温で真空乾燥を行い目的とする
P V P E/スチレンランダム共重合体(V P
S)を得た。詳しい反応条件およびポリマーのMn。
真空下ブレークシール法を用い、所定温度でフラスコに
充分に脱水精製したトルエンおよびトリフルオロメタン
スルホン酸を入れ、次にPVPEとスチレンをトルエン
に熔解したモノマー溶液(約10v/v%)を加え重合
を開始させた。所定時間反応後、少量のメタノールを加
え重合を停止きせた。ポリマーはベンゼン/メタノール
系で数回再沈精製後、室温で真空乾燥を行い目的とする
P V P E/スチレンランダム共重合体(V P
S)を得た。詳しい反応条件およびポリマーのMn。
収率、ポリマー中のPVPEの組成比を表4に示した。
ここでPVPEの組成比は紫外線吸収スペクトル法によ
りvPSの28On11のモル吸光係数より算出した。
りvPSの28On11のモル吸光係数より算出した。
なお、検量線はvpと標準ポリスチレンより作成した。
(以下余白)
実施例5 (PVPEとp−メチルスチレンのカチオン
共重合) 高真空下ブレークシール法を用い所定温度でフラスコに
充分に脱水精製したトルエンおよびトリフルオロメタン
スルホン酸を入れ、次にPVPEとp−メチルスチレン
をトルエンに熔解した七ツマー溶液(約10v/v%)
を加え重合を開始させた。所定時間反応後、少量のメタ
ノールを加え重合を停止させた。ポリマーはベンゼン/
メタノール系で数回再沈精製後、室温で真空乾燥を行い
目的とするP V P E/p−メチルスチレンランダ
ム共重合体(VPS)を得た。詳しい反応条件およびポ
リマーのMn、収率、ポリマー中のPvPEの組成比並
びに二重結合残存率を表5に示した。
共重合) 高真空下ブレークシール法を用い所定温度でフラスコに
充分に脱水精製したトルエンおよびトリフルオロメタン
スルホン酸を入れ、次にPVPEとp−メチルスチレン
をトルエンに熔解した七ツマー溶液(約10v/v%)
を加え重合を開始させた。所定時間反応後、少量のメタ
ノールを加え重合を停止させた。ポリマーはベンゼン/
メタノール系で数回再沈精製後、室温で真空乾燥を行い
目的とするP V P E/p−メチルスチレンランダ
ム共重合体(VPS)を得た。詳しい反応条件およびポ
リマーのMn、収率、ポリマー中のPvPEの組成比並
びに二重結合残存率を表5に示した。
(以下余白)
第1〜4図は、実施例において得られたポリマーのGP
Cの熔出曲線のグラフであり、第5図はP V P E
(7)1B−NMR(7)チャート、第6図は実施例5
のポリマー陽5−2のIH−N M Rのチャートであ
る。 第1図 EV(ml) 14 16 15 lL
J it第3図 Mn(10’) 1.005 0.1第4図 Mn(10’)10 1 0.1特許庁長官 殿
昭和63年 3月2 日1. 事件の表示 昭和61年特許願第287478号 2、 発明の名称 ビニリデン基を有するスチレン系重合体およびその製造
方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 日本ペイント株式会社 4、代理人 自発 6、補正により増加する発明の数 なし7、補正の対象 補正の内容 1、特許請求の範囲を以下のように訂正する。 r (1) (a)一般式 (式中、R1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖もし
り番ヨ分岐フルキル基を表し、R2は炭素数2〜10の
直鎖もしくは分岐アルキル基またはアルコキシ基、置換
基を有することもあるフェニル基、またはアルキル基の
炭素数が1〜4のトリアルキルシリル基を表す。) で表される繰り返し単位0.1〜100モル%;(b)
一般式 R1 CC)+2 (■)および/
または −CH2−C= Cll −CHz −(II)(式中
、R1は前記に同じであり、R3は炭素数1〜4の直鎖
もしくは分岐アルキル基、アルコキシ基または置換基を
有することもあるフェニル基を表し、R4は炭素数1〜
4の直鎖もしくは分岐アルキル基またはハロゲンを表し
、一般式(III)はその位置異性構造を含むものとす
る。) で表される繰り返し単位0〜99.9モル%を含み、数
平均分子量が1000〜1,000,000であるベン
ゼン環上にビニリデン基を有するスチレン系重合体。 (2) 式(1)の繰り返し単位が、式−CH2−C
H− で表される第1項の重合体。 (3)式(■)の繰り返し単位において、R1が水素で
あり、R3がフェニルまたはp−メチルフェニル基であ
る第1項または第2項の重合体。 (4)式(III)の繰り返し単位において、R4が水
素、メチル、t−ブチルまたは塩素である第1項ないし
第3項のいずれかの重合体。 (5) (a)一般式 (式中、R1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖もし
くは分岐アルキル基を表し、R2は炭素数2〜10の直
鎖もしくは分岐アルキル基またはアルコキシ基、置換基
を有することもあるフェニル基、またはアルキル基の炭
素数が1〜4のトリアルキルシリル基を表す。) で表される単量体0.1〜100モル%;(bl一般式 %式%() (式中、R1は前記に同じであり、R3は炭素数1〜4
の直鎖もしくは分岐アルキル基または置換基を有するこ
ともあるフェニル基を表し、R4は炭素数1〜4の直鎖
もしくは分岐アルキルキ基またはハロゲンを表す。) で表される単量体0〜99.9モル% よりなる単量体成分を、アニオン重合開始剤またはカチ
オン重合開始剤を用いて重合し、数平均分子量1000
〜1,000,000の重合体を得ることを特徴とする
ベンゼン環上にビニリデン基を有するスチレン系重合体
の製造法。 (6)式(1−a)の単量体が、l−フェニル−1−(
4−ビニルフェニル)エチレン、1−(4−メチルフェ
ニル)−1−(4−ビニルフェニル)エチレン、1−(
4−プロピルフェニル)−1−(4−ビニルフェニル)
エチレン、1−トリメチルシリル−1−(4−ビニルフ
ェニル)エチレンより選ばれる第5項の方法。 (7)式(II−a)の単量体が、スチレン、p−メチ
ルスチレン、m−メチルスチレン、p−クロロスチレン
、α−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、イソブ
テンより選ばれる第5項の方法。 (8)式(III−a)の単量体が、ブタジェン、イソ
プレン、クロロブレン、t−ブチルブタジエンより選ば
れる第5項の方法。 」2、 明細
書第7頁第13〜14行のrlO%」を[100%」に
訂正する。 3. 同第10真下から10行目「分岐アルキル基、」
の次に「アルコキシ基」を挿入する。 4、 同第14頁第12行および第13行の「フロライ
ド」をそれぞれ「クロライド」に訂正する。
Cの熔出曲線のグラフであり、第5図はP V P E
(7)1B−NMR(7)チャート、第6図は実施例5
のポリマー陽5−2のIH−N M Rのチャートであ
る。 第1図 EV(ml) 14 16 15 lL
J it第3図 Mn(10’) 1.005 0.1第4図 Mn(10’)10 1 0.1特許庁長官 殿
昭和63年 3月2 日1. 事件の表示 昭和61年特許願第287478号 2、 発明の名称 ビニリデン基を有するスチレン系重合体およびその製造
方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 日本ペイント株式会社 4、代理人 自発 6、補正により増加する発明の数 なし7、補正の対象 補正の内容 1、特許請求の範囲を以下のように訂正する。 r (1) (a)一般式 (式中、R1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖もし
り番ヨ分岐フルキル基を表し、R2は炭素数2〜10の
直鎖もしくは分岐アルキル基またはアルコキシ基、置換
基を有することもあるフェニル基、またはアルキル基の
炭素数が1〜4のトリアルキルシリル基を表す。) で表される繰り返し単位0.1〜100モル%;(b)
一般式 R1 CC)+2 (■)および/
または −CH2−C= Cll −CHz −(II)(式中
、R1は前記に同じであり、R3は炭素数1〜4の直鎖
もしくは分岐アルキル基、アルコキシ基または置換基を
有することもあるフェニル基を表し、R4は炭素数1〜
4の直鎖もしくは分岐アルキル基またはハロゲンを表し
、一般式(III)はその位置異性構造を含むものとす
る。) で表される繰り返し単位0〜99.9モル%を含み、数
平均分子量が1000〜1,000,000であるベン
ゼン環上にビニリデン基を有するスチレン系重合体。 (2) 式(1)の繰り返し単位が、式−CH2−C
H− で表される第1項の重合体。 (3)式(■)の繰り返し単位において、R1が水素で
あり、R3がフェニルまたはp−メチルフェニル基であ
る第1項または第2項の重合体。 (4)式(III)の繰り返し単位において、R4が水
素、メチル、t−ブチルまたは塩素である第1項ないし
第3項のいずれかの重合体。 (5) (a)一般式 (式中、R1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖もし
くは分岐アルキル基を表し、R2は炭素数2〜10の直
鎖もしくは分岐アルキル基またはアルコキシ基、置換基
を有することもあるフェニル基、またはアルキル基の炭
素数が1〜4のトリアルキルシリル基を表す。) で表される単量体0.1〜100モル%;(bl一般式 %式%() (式中、R1は前記に同じであり、R3は炭素数1〜4
の直鎖もしくは分岐アルキル基または置換基を有するこ
ともあるフェニル基を表し、R4は炭素数1〜4の直鎖
もしくは分岐アルキルキ基またはハロゲンを表す。) で表される単量体0〜99.9モル% よりなる単量体成分を、アニオン重合開始剤またはカチ
オン重合開始剤を用いて重合し、数平均分子量1000
〜1,000,000の重合体を得ることを特徴とする
ベンゼン環上にビニリデン基を有するスチレン系重合体
の製造法。 (6)式(1−a)の単量体が、l−フェニル−1−(
4−ビニルフェニル)エチレン、1−(4−メチルフェ
ニル)−1−(4−ビニルフェニル)エチレン、1−(
4−プロピルフェニル)−1−(4−ビニルフェニル)
エチレン、1−トリメチルシリル−1−(4−ビニルフ
ェニル)エチレンより選ばれる第5項の方法。 (7)式(II−a)の単量体が、スチレン、p−メチ
ルスチレン、m−メチルスチレン、p−クロロスチレン
、α−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、イソブ
テンより選ばれる第5項の方法。 (8)式(III−a)の単量体が、ブタジェン、イソ
プレン、クロロブレン、t−ブチルブタジエンより選ば
れる第5項の方法。 」2、 明細
書第7頁第13〜14行のrlO%」を[100%」に
訂正する。 3. 同第10真下から10行目「分岐アルキル基、」
の次に「アルコキシ基」を挿入する。 4、 同第14頁第12行および第13行の「フロライ
ド」をそれぞれ「クロライド」に訂正する。
Claims (8)
- (1)(a)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖も
しくは分岐アルキル基を表し、R_2は炭素数2〜10
の直鎖もしくは分岐アルキル基またはアルコキシ基、置
換基を有することもあるフェニル基、またはアルキル基
の炭素数が1〜4のトリアルキルシリル基を表す。) で表される繰り返し単位0.1〜100モル%;(b)
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) および/または ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_1は前記に同じであり、R_3は炭素数1
〜4の直鎖もしくは分岐アルキル基または置換基を有す
ることもあるフェニル基を表し、R_4は炭素数1〜4
の直鎖もしくは分岐アルキル基またはハロゲンを表し、
一般式(III)はその位置異性構造を含むものとする。
) で表される繰り返し単位0〜99.9モル%を含み、数
平均分子量が1000〜1,000,000であるベン
ゼン環上にビニリデン基を有するスチレン系重合体。 - (2)式( I )の繰り返し単位が、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される第1項の重合体。
- (3)式(II)の繰り返し単位において、R_1が水素
であり、R_3がフェニルまたはp−メチルフェニル基
である第1項または第2項の重合体。 - (4)式(III)の繰り返し単位において、R_4が水
素、メチル、t−ブチルまたは塩素である第1項ないし
第3項のいずれかの重合体。 - (5)(a)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I −a) (式中、R_1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖も
しくは分岐アルキル基を表し、R_2は炭素数2〜10
の直鎖もしくは分岐アルキル基またはアルコキシ基、置
換基を有することもあるフェニル基、またはアルキル基
の炭素数が1〜4のトリアルキルシリル基を表す。) で表される単量体0.1〜100モル%; (b)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II−a) および/または ▲数式、化学式、表等があります▼(III−a) (式中、R_1は前記に同じであり、R_3は炭素数1
〜4の直鎖もしくは分岐アルキル基または置換基を有す
ることもあるフェニル基を表し、R_4は炭素数1〜4
の直鎖もしくは分岐アルキルキ基またはハロゲンを表す
。) で表される単量体0〜99.9モル% よりなる単量体成分を、アニオン重合開始剤またはカチ
オン重合開始剤を用いて重合し、数平均分子量1000
〜1,000,000の重合体を得ることを特徴とする
ベンゼン環上にビニリデン基を有するスチレン系重合体
の製造法。 - (6)式( I −a)の単量体が、1−フェニル−1−
(4−ビニルフェニル)エチレン、1−(4−メチルフ
ェニル)−1−(4−ビニルフェニル)エチレン、1−
(4−プロピルフェニル)−1−(4−ビニルフェニル
)エチレン、1−トリメチルシリル−1−(4−ビニル
フェニル)エチレンより選ばれる第5項の方法。 - (7)式(II−a)の単量体が、スチレン、p−メチル
スチレン、m−メチルスチレン、p−クロロスチレン、
α−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、イソブテ
ンより選ばれる第5項の方法。 - (8)式(III−a)の単量体が、ブタジエン、イソプ
レン、クロロプレン、t−ブチルブタジエンより選ばれ
る第5項の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28747886A JPS63139905A (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | ビニリデン基を有するスチレン系重合体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28747886A JPS63139905A (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | ビニリデン基を有するスチレン系重合体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63139905A true JPS63139905A (ja) | 1988-06-11 |
JPH0415244B2 JPH0415244B2 (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=17717859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28747886A Granted JPS63139905A (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | ビニリデン基を有するスチレン系重合体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63139905A (ja) |
-
1986
- 1986-12-02 JP JP28747886A patent/JPS63139905A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0415244B2 (ja) | 1992-03-17 |
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