JPS6313529B2 - - Google Patents
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- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G8/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C08G8/28—Chemically modified polycondensates
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性組成物に関するものであり、更
に詳しくはo−キノンジアジド型感光性組成物に
関するものである。
に詳しくはo−キノンジアジド型感光性組成物に
関するものである。
o−キノンジアジド化合物に活性光線を照射す
ると分解して五員環のカルボン酸を生じ、アルカ
リ可溶になること及び、この性質を利用して感光
性ポジ型平版印刷版がつくられることは公知であ
る。これらo−キノンジアジド化合物は、現在ま
でに数多く知られており、その殆んどのものは低
分子量の化合物で、これらo−キノンジアジド化
合物を単独にして感光性材料として用いると結晶
が析出してくるばかりか、画像の機械的強度が弱
く、多数枚の印刷を行なうことは困難である。そ
こでo−キノンジアジド化合物と共にフエノール
ホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、又はスチレン−無水マレイン酸樹脂等
のアルカリ可溶性樹脂が担体として用いられる。
こうした系は低分子量のo−キノンアジド化合物
の露光後のアルカリ溶解性の差を利用して現像を
行なうものであり、アルカリ可溶性樹脂を担体と
しているために適正な現像を再現できる現像液濃
度の範囲が狭く、又現像時における未露光部の溶
失が大きく、画像の一部が損傷したり、溶解して
しまう等の欠点を有していた。
ると分解して五員環のカルボン酸を生じ、アルカ
リ可溶になること及び、この性質を利用して感光
性ポジ型平版印刷版がつくられることは公知であ
る。これらo−キノンジアジド化合物は、現在ま
でに数多く知られており、その殆んどのものは低
分子量の化合物で、これらo−キノンジアジド化
合物を単独にして感光性材料として用いると結晶
が析出してくるばかりか、画像の機械的強度が弱
く、多数枚の印刷を行なうことは困難である。そ
こでo−キノンジアジド化合物と共にフエノール
ホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、又はスチレン−無水マレイン酸樹脂等
のアルカリ可溶性樹脂が担体として用いられる。
こうした系は低分子量のo−キノンアジド化合物
の露光後のアルカリ溶解性の差を利用して現像を
行なうものであり、アルカリ可溶性樹脂を担体と
しているために適正な現像を再現できる現像液濃
度の範囲が狭く、又現像時における未露光部の溶
失が大きく、画像の一部が損傷したり、溶解して
しまう等の欠点を有していた。
このような欠点を改良すべき方法として感光物
自体を高分子化した例がいくつか知られている。
自体を高分子化した例がいくつか知られている。
例えば、米国特許第3046120号明細書、特公昭
43−28403号、同49−24361号、同50−5083号、同
50−5084号、特開昭50−36206号公報などがあげ
られる。これらのうちで、米国特許第3046120号
明細書、特公昭50−5083号および50−36206号公
報はフエノール又は置換フエノールとアルデヒド
類との縮合型樹脂にo−ナフトキノンジアジド基
を導入したものである。フエノール又は置換フエ
ノールとアルデヒド類による縮合型樹脂から導か
れる感光性樹脂は、o−ナフトキノンジアジドス
ルホニルクロライドとのエステル化によつて、残
存する水酸基が減少し、そのためアルカリ水溶液
による現像性が著しく低下しており、又支持体、
特にアルミニウム板との接着性が低いためか画像
強度が低く、種々の処理剤に対する耐薬品性に乏
しい。感光層が耐薬品性に乏しい場合には、画像
再現性の不良や耐刷力の低下等の問題が生じる。
43−28403号、同49−24361号、同50−5083号、同
50−5084号、特開昭50−36206号公報などがあげ
られる。これらのうちで、米国特許第3046120号
明細書、特公昭50−5083号および50−36206号公
報はフエノール又は置換フエノールとアルデヒド
類との縮合型樹脂にo−ナフトキノンジアジド基
を導入したものである。フエノール又は置換フエ
ノールとアルデヒド類による縮合型樹脂から導か
れる感光性樹脂は、o−ナフトキノンジアジドス
ルホニルクロライドとのエステル化によつて、残
存する水酸基が減少し、そのためアルカリ水溶液
による現像性が著しく低下しており、又支持体、
特にアルミニウム板との接着性が低いためか画像
強度が低く、種々の処理剤に対する耐薬品性に乏
しい。感光層が耐薬品性に乏しい場合には、画像
再現性の不良や耐刷力の低下等の問題が生じる。
一方、多価フエノールとアルデヒド又はケトン
類との縮合型樹脂にo−ナフトキノンジアジド基
を導入した例としては、特公昭43−28403号、同
49−24361号及び同50−5084号公報があげられる。
多価フエノールとアルデヒド又はケトン類による
縮合型樹脂から導かれる感光性樹脂は、アルカリ
水溶液による現像性や支持体、特にアルミニウム
板との接着性は比較的良好であるが、逆に保有す
る水酸基の数が多すぎるために疎水性に乏しく従
つてインキ受容性に劣り、また種々の処理剤に対
する耐薬品性についても未だ不充分である。感光
層のインキ受容性が不良の場合には、印刷物での
画像濃度の低下や耐刷力の低下、あるいは印刷時
での水とインキのバランスが取りにくいなどの問
題が生じる。従つて本発明の目的は、従来この種
の感光性組成物の不利点を全て解消した平版印刷
版用感光性組成物を提供することにある。
類との縮合型樹脂にo−ナフトキノンジアジド基
を導入した例としては、特公昭43−28403号、同
49−24361号及び同50−5084号公報があげられる。
多価フエノールとアルデヒド又はケトン類による
縮合型樹脂から導かれる感光性樹脂は、アルカリ
水溶液による現像性や支持体、特にアルミニウム
板との接着性は比較的良好であるが、逆に保有す
る水酸基の数が多すぎるために疎水性に乏しく従
つてインキ受容性に劣り、また種々の処理剤に対
する耐薬品性についても未だ不充分である。感光
層のインキ受容性が不良の場合には、印刷物での
画像濃度の低下や耐刷力の低下、あるいは印刷時
での水とインキのバランスが取りにくいなどの問
題が生じる。従つて本発明の目的は、従来この種
の感光性組成物の不利点を全て解消した平版印刷
版用感光性組成物を提供することにある。
本発明に係る感光性組成物は保存性が良好で皮
膜形成性およびアルミニウム支持体との接着性に
優れ、該感光性組成物より作られる平版印刷版は
従来の感光性組成物より作られるそれに比べ、現
像性、インキ受容性および耐処理薬品性に優れる
ものである。
膜形成性およびアルミニウム支持体との接着性に
優れ、該感光性組成物より作られる平版印刷版は
従来の感光性組成物より作られるそれに比べ、現
像性、インキ受容性および耐処理薬品性に優れる
ものである。
本発明は、感光層にo−キノンジアジド又はo
−ナフトキノンジアジドのスルホニルクロライド
と下記一般式で示される樹脂との縮合生成物を含
有することを特徴とする感光性組成物である。
−ナフトキノンジアジドのスルホニルクロライド
と下記一般式で示される樹脂との縮合生成物を含
有することを特徴とする感光性組成物である。
一般式
〔式中、R1はアルキル基(炭素数1〜8個)、R2
は水素、ハロゲンあるいはアルコキシ基(炭素数
1〜4個)R3、R4はともに水素、低級アルキル
基(炭素数1〜4個)あるいはフエニール基であ
る。nは3個以上の整数を示す。〕 この発明における一般式に含まれる多価フエノ
ール類の例としては、2−メチルレゾルシン、2
−エチルレゾルシン、2−プロピルレゾルシン、
2−イソプロピルレゾルシン、2−t−ブチルレ
ゾルシン、2−ペンチルレゾルシン、2−ヘキシ
ルレゾルシン、2−オクチルレゾルシン、2−メ
チル−5−クロルレゾルシン、2−エチル−5−
クロルレゾルシン、2,5−ジメチルレゾルシ
ン、2−メチル−5−エチルレゾルシン、2−メ
チル−5−メトキシレゾルシン、2,5−ジエチ
ルレゾルシン、2−t−ブチル−5−メチルレゾ
ルシン等であり、このうち特に好ましくは2−メ
チルレゾルシンおよび2−エチルレゾルシンであ
る。
は水素、ハロゲンあるいはアルコキシ基(炭素数
1〜4個)R3、R4はともに水素、低級アルキル
基(炭素数1〜4個)あるいはフエニール基であ
る。nは3個以上の整数を示す。〕 この発明における一般式に含まれる多価フエノ
ール類の例としては、2−メチルレゾルシン、2
−エチルレゾルシン、2−プロピルレゾルシン、
2−イソプロピルレゾルシン、2−t−ブチルレ
ゾルシン、2−ペンチルレゾルシン、2−ヘキシ
ルレゾルシン、2−オクチルレゾルシン、2−メ
チル−5−クロルレゾルシン、2−エチル−5−
クロルレゾルシン、2,5−ジメチルレゾルシ
ン、2−メチル−5−エチルレゾルシン、2−メ
チル−5−メトキシレゾルシン、2,5−ジエチ
ルレゾルシン、2−t−ブチル−5−メチルレゾ
ルシン等であり、このうち特に好ましくは2−メ
チルレゾルシンおよび2−エチルレゾルシンであ
る。
また、この発明における一般式に含まれるアル
デヒド又はケトン類の例としては、ホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、
ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセ
トフエノン等であり、このうち特に好ましくはア
セトアルデヒド及びアセトンである。
デヒド又はケトン類の例としては、ホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、
ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセ
トフエノン等であり、このうち特に好ましくはア
セトアルデヒド及びアセトンである。
本発明の一般式で示されるポリヒドロキシフエ
ニル樹脂は次のようにして合成される。すなわ
ち、上記アルキル置換多価フエノール類とアルデ
ヒド又はケトン類を単独、若しくはアルコール等
の溶媒に溶解し、塩酸・蓚酸等の酸又は水酸化ナ
トリウム・アンモニア水等のアルカリを触媒とし
て、アルデヒド又はケトン類の量を多価フエノー
ル類1モル部に対し0.85〜1.0モル部を用いて縮
合させることにより目的の樹脂が得られる。この
際各単量体の仕込みモル比及び縮合条件を種々変
えることによりその分子量は任意の値として得る
ことができるが、本発明の目的とする使途に有効
に供するためには、分子量が約600乃至10000もの
が使用可能であるが、好ましくは、約800乃至
4000のものが適当である。
ニル樹脂は次のようにして合成される。すなわ
ち、上記アルキル置換多価フエノール類とアルデ
ヒド又はケトン類を単独、若しくはアルコール等
の溶媒に溶解し、塩酸・蓚酸等の酸又は水酸化ナ
トリウム・アンモニア水等のアルカリを触媒とし
て、アルデヒド又はケトン類の量を多価フエノー
ル類1モル部に対し0.85〜1.0モル部を用いて縮
合させることにより目的の樹脂が得られる。この
際各単量体の仕込みモル比及び縮合条件を種々変
えることによりその分子量は任意の値として得る
ことができるが、本発明の目的とする使途に有効
に供するためには、分子量が約600乃至10000もの
が使用可能であるが、好ましくは、約800乃至
4000のものが適当である。
次に本発明の一般式に含まれるポリヒドロキシ
フエニル樹脂の代表的な合成例を示す。
フエニル樹脂の代表的な合成例を示す。
合成例 1
2−メチルレゾルシン621gをエタノール1
に溶解し、次にアセトアルデヒド20g、触媒とし
て35%濃塩酸0.5mlを加えた。混合物をかき混ぜ
ながら油浴中で加熱し、反応混合物が反応熱によ
る発熱で沸騰環流を始めたら、加熱を少し弱めそ
のままさらに90分加熱環流を続けた。反応後、反
応混合物を撹拌しながら冷水5中に注入する
と、淡褐色の粉末状の樹脂が得られた。収量637
g。浸透圧法により測定したこの縮合体の分子量
は約2100であつた。
に溶解し、次にアセトアルデヒド20g、触媒とし
て35%濃塩酸0.5mlを加えた。混合物をかき混ぜ
ながら油浴中で加熱し、反応混合物が反応熱によ
る発熱で沸騰環流を始めたら、加熱を少し弱めそ
のままさらに90分加熱環流を続けた。反応後、反
応混合物を撹拌しながら冷水5中に注入する
と、淡褐色の粉末状の樹脂が得られた。収量637
g。浸透圧法により測定したこの縮合体の分子量
は約2100であつた。
合成例 2
2−メチルレゾルシン621gをアセトン1に
溶解し次に触媒としてオキシ塩化燐30gを加え、
室温にて24時間撹拌した。反応後、混合物は冷水
10水に撹拌しながら注入すると、淡褐色粉末状
の樹脂が得られた。収量656g、浸透圧法により
測定したこの縮合体の分子量は約2000であつた。
溶解し次に触媒としてオキシ塩化燐30gを加え、
室温にて24時間撹拌した。反応後、混合物は冷水
10水に撹拌しながら注入すると、淡褐色粉末状
の樹脂が得られた。収量656g、浸透圧法により
測定したこの縮合体の分子量は約2000であつた。
合成例 3
2−エチルレゾルシン690gをジオキサン1
に溶解し次にベンズアルデヒド530g、触媒とし
てオキシ塩化燐30gを加えた。混合物は室温にて
24時間撹拌した後冷水5中に撹拌しながら注入
した。淡褐色粉末状の樹脂が得られた。収量1073
g。浸透圧法により測定したこの縮合体の分子量
は約1800であつた。
に溶解し次にベンズアルデヒド530g、触媒とし
てオキシ塩化燐30gを加えた。混合物は室温にて
24時間撹拌した後冷水5中に撹拌しながら注入
した。淡褐色粉末状の樹脂が得られた。収量1073
g。浸透圧法により測定したこの縮合体の分子量
は約1800であつた。
合成例 4
2,5−ジメチルレゾルシン691gをエタノー
ル1に溶解し、次に37%ホルムアルデヒド水溶
液348g、触媒として35%濃塩酸、0.5mlを加え
た。混合物をかき混ぜながら油浴中で加熱し反応
混合物が反応熱による発熱で沸騰還流を始めた
ら、加熱を少し弱め、そのままさらに90分加熱還
流を続けた。反応後、反応混合物を撹拌しながら
冷水5中に注入すると、淡褐色の粉末状の樹脂
が得られた。収量683g浸透圧法により測定した
この縮合体の分子量は約1500であつた。
ル1に溶解し、次に37%ホルムアルデヒド水溶
液348g、触媒として35%濃塩酸、0.5mlを加え
た。混合物をかき混ぜながら油浴中で加熱し反応
混合物が反応熱による発熱で沸騰還流を始めた
ら、加熱を少し弱め、そのままさらに90分加熱還
流を続けた。反応後、反応混合物を撹拌しながら
冷水5中に注入すると、淡褐色の粉末状の樹脂
が得られた。収量683g浸透圧法により測定した
この縮合体の分子量は約1500であつた。
尚、他のポリヒドロキシフエニル樹脂も、これ
らの合成例と同様にして合成される。
らの合成例と同様にして合成される。
o−ベンゾキノンジアジド又はo−ナフトキノ
ンジアジドのスルホニルクロライドとポリヒドロ
キシフエニル樹脂との縮合生成物は次のようにし
て合成される。すなわち、ジアジドのスルホニル
クロライドとポリヒドロキシフエニル樹脂をジオ
キサン又はテトラヒドロフランのような溶剤に溶
解し、40〜50℃に加熱撹拌下、炭酸ナトリウム又
は炭酸カリウム等のアルカリを加えることよつて
容易にエステル化される。例示のいずれのポリヒ
ドロキシフエニル樹脂の場合にも収率は90%以上
であつた。ポリヒドロキシフエニル樹脂に対する
酸クロライドの反応比率は重量比で1:0.5〜
1:3の割合の物が使用可能であるが、最適な比
率は1:0.7〜1:2である。これら縮合生成物
は単独で用いた方が好ましいが、場合によつては
アルカリ可溶性、ノボラツク樹脂と任意の割合に
混合することができ、この混合比を変化させるこ
とにより感光層のアルカリ水溶液による現像性を
自由に調節することができる。これらのジアゾオ
キサイド樹脂は、メチルセロソルブ、セロソル
ブ、酢酸メチルセロソルブ、ジオキサン、メチル
エチルケトン等の溶媒に溶解して、アルミニウム
板、亜鉛板、銅板、マグネシウム板、プラスチツ
クフイルム、紙等の適当な支持体上に塗布される
が、アルミニウム板が最も適している。感光層の
塗布重量は0.1〜4g/m2の範囲で印刷版として
良好な結果を与えたが、特に1〜3g/m2のもの
が適当である。尚上記感光性組成物は、従来使用
されている各種添加剤を含有せしめることができ
る。
ンジアジドのスルホニルクロライドとポリヒドロ
キシフエニル樹脂との縮合生成物は次のようにし
て合成される。すなわち、ジアジドのスルホニル
クロライドとポリヒドロキシフエニル樹脂をジオ
キサン又はテトラヒドロフランのような溶剤に溶
解し、40〜50℃に加熱撹拌下、炭酸ナトリウム又
は炭酸カリウム等のアルカリを加えることよつて
容易にエステル化される。例示のいずれのポリヒ
ドロキシフエニル樹脂の場合にも収率は90%以上
であつた。ポリヒドロキシフエニル樹脂に対する
酸クロライドの反応比率は重量比で1:0.5〜
1:3の割合の物が使用可能であるが、最適な比
率は1:0.7〜1:2である。これら縮合生成物
は単独で用いた方が好ましいが、場合によつては
アルカリ可溶性、ノボラツク樹脂と任意の割合に
混合することができ、この混合比を変化させるこ
とにより感光層のアルカリ水溶液による現像性を
自由に調節することができる。これらのジアゾオ
キサイド樹脂は、メチルセロソルブ、セロソル
ブ、酢酸メチルセロソルブ、ジオキサン、メチル
エチルケトン等の溶媒に溶解して、アルミニウム
板、亜鉛板、銅板、マグネシウム板、プラスチツ
クフイルム、紙等の適当な支持体上に塗布される
が、アルミニウム板が最も適している。感光層の
塗布重量は0.1〜4g/m2の範囲で印刷版として
良好な結果を与えたが、特に1〜3g/m2のもの
が適当である。尚上記感光性組成物は、従来使用
されている各種添加剤を含有せしめることができ
る。
ジアゾオキサイド樹脂を塗布した版は、線画
像、網点画像等を有する原画を感光面に密着して
露光し、次いでアルカリ水溶液で現像することに
よりポジ−ポジ型のレリーフ像ができる。露光に
好適な光源としては、カーボンアーク灯、キセノ
ンランプ、水銀ランプ、ケキカルランプ、写真フ
ラツシユランプ及びタングステンランプ等が使用
され、現像に使用されるアルカリ水溶液の具体的
な代表例として、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、メタ硼酸ナトリウム、第三リ
ン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、メタ珪
酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム等の水溶液があげ
られる。
像、網点画像等を有する原画を感光面に密着して
露光し、次いでアルカリ水溶液で現像することに
よりポジ−ポジ型のレリーフ像ができる。露光に
好適な光源としては、カーボンアーク灯、キセノ
ンランプ、水銀ランプ、ケキカルランプ、写真フ
ラツシユランプ及びタングステンランプ等が使用
され、現像に使用されるアルカリ水溶液の具体的
な代表例として、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、メタ硼酸ナトリウム、第三リ
ン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、メタ珪
酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム等の水溶液があげ
られる。
本発明に係わるジアゾオキサイド樹脂を感光層
に含有する平版印刷版は極めて現像性に優れてお
り、従来から実用化されているクレゾール−ホル
ムアルデヒド系ジアゾオキサイド樹脂に比べて、
現像液のアルカリ濃度が1/2〜1/3で良い事が判つ
た。さらにこうして得られた画像は、インキ着肉
性及び耐処理薬品性に優れ感脂性向上剤などの添
加剤を必要とせずに、多数枚の印刷を行なうこと
ができる。これらは恐らくポリヒドロキシフエニ
ル樹脂そのものの性質によるものであり、アルキ
ル置換ポリヒドロキシフエニル樹脂には、多くの
アルキル基が側鎖に存在するためにインキ着肉性
に優れまた未反応の水酸基が多く存在するため
に、現像性に優れているものと思われる。このよ
うに本発明に係る感光性組成物を用いたPS版は
極めて有用な印刷版である。
に含有する平版印刷版は極めて現像性に優れてお
り、従来から実用化されているクレゾール−ホル
ムアルデヒド系ジアゾオキサイド樹脂に比べて、
現像液のアルカリ濃度が1/2〜1/3で良い事が判つ
た。さらにこうして得られた画像は、インキ着肉
性及び耐処理薬品性に優れ感脂性向上剤などの添
加剤を必要とせずに、多数枚の印刷を行なうこと
ができる。これらは恐らくポリヒドロキシフエニ
ル樹脂そのものの性質によるものであり、アルキ
ル置換ポリヒドロキシフエニル樹脂には、多くの
アルキル基が側鎖に存在するためにインキ着肉性
に優れまた未反応の水酸基が多く存在するため
に、現像性に優れているものと思われる。このよ
うに本発明に係る感光性組成物を用いたPS版は
極めて有用な印刷版である。
以下実施例を挙げて更に具体的に説明するが、
これにより、本発明が限定されるものではない。
これにより、本発明が限定されるものではない。
以下本発明の好ましい実施態様を示す。
1 一般式で示される縮合型樹脂の多価フエノー
ル成分が2−メチルレゾルシンまたは2−エチ
ルレゾルシンであることを特徴とする特許請求
の範囲記載の感光性組成物。
ル成分が2−メチルレゾルシンまたは2−エチ
ルレゾルシンであることを特徴とする特許請求
の範囲記載の感光性組成物。
2 一般式で示される縮合型樹脂のアルデヒド成
分またはケトン成分が、それぞれ、アセトアル
デヒドまたはアセトンであることを特徴とする
特許請求の範囲記載の感光性組成物。
分またはケトン成分が、それぞれ、アセトアル
デヒドまたはアセトンであることを特徴とする
特許請求の範囲記載の感光性組成物。
3 一般式で示されるポリヒドロキシフエニル樹
脂の分子量が800乃至4000であることを特徴と
する特許請求の範囲記載の感光性組成物。
脂の分子量が800乃至4000であることを特徴と
する特許請求の範囲記載の感光性組成物。
実施例 1
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−ス
ルホニルクロライド7重量部と、2−メチルレゾ
ルシン−アセトアルデヒド樹脂(合成例1)10重
量部との縮合生成物100gと染料(住友化学製メ
チレンブル−conc.)0.7gをエチルセロソルブ1
に溶解して感光液を作り、この感光液を前述の
方法と同様にして砂目立てされた厚味0.24mmのア
ルミ板上に乾燥後の重量にして1m2あたり1.8g
となる様にホエラーを用いて塗布した。
ルホニルクロライド7重量部と、2−メチルレゾ
ルシン−アセトアルデヒド樹脂(合成例1)10重
量部との縮合生成物100gと染料(住友化学製メ
チレンブル−conc.)0.7gをエチルセロソルブ1
に溶解して感光液を作り、この感光液を前述の
方法と同様にして砂目立てされた厚味0.24mmのア
ルミ板上に乾燥後の重量にして1m2あたり1.8g
となる様にホエラーを用いて塗布した。
こうして作られた感光版の表面にポジ透明原画
を密着させて、70cmの距離から2kWのメタルハ
ライドランプを用いて40秒間露光を行なつた。引
続いて感光板を2%メタ珪酸ソーダ水溶液に浸漬
すると、露光部は速やかに溶解されて、感脂性及
び耐処理薬品性に優れたオフセツト印刷版が得ら
れた。この印刷版をオフセツト印刷機にかけて印
刷したところ、インキ受容性に優れ画像良好な印
刷物が多数枚得られた。
を密着させて、70cmの距離から2kWのメタルハ
ライドランプを用いて40秒間露光を行なつた。引
続いて感光板を2%メタ珪酸ソーダ水溶液に浸漬
すると、露光部は速やかに溶解されて、感脂性及
び耐処理薬品性に優れたオフセツト印刷版が得ら
れた。この印刷版をオフセツト印刷機にかけて印
刷したところ、インキ受容性に優れ画像良好な印
刷物が多数枚得られた。
比較例 1
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−ス
ルホニルクロライド7重量部とクレゾール−ホル
ムアルデヒド樹脂(群栄化学工業株式会社製フエ
ノールレジンMP−707)10重量部との縮合生成
物100gと染料(保土谷化学工業製クリスタル・
バイオレツト)をエチルセロソルブ1に溶解し
て感光液を作り、この感光液を前述の方法と同様
にして砂目立てされたアルミ板上に、乾燥後の膜
厚が1.8g/m2となるように塗布した。
ルホニルクロライド7重量部とクレゾール−ホル
ムアルデヒド樹脂(群栄化学工業株式会社製フエ
ノールレジンMP−707)10重量部との縮合生成
物100gと染料(保土谷化学工業製クリスタル・
バイオレツト)をエチルセロソルブ1に溶解し
て感光液を作り、この感光液を前述の方法と同様
にして砂目立てされたアルミ板上に、乾燥後の膜
厚が1.8g/m2となるように塗布した。
こうして作られた感光板を前述と同一条件で露
光した後2%メタ珪酸ソーダ水溶液にて、同じよ
うに現像を試みたが、現像時間が長くかかり、そ
の上現像インキ盛りをすると、全面にインキが付
着した。メタ珪酸ソーダ水溶液の濃度を高くして
いき、前述のポリヒドロキシフエニル系の場合と
同一の条件で完全に現像される濃度は、6%であ
つた。
光した後2%メタ珪酸ソーダ水溶液にて、同じよ
うに現像を試みたが、現像時間が長くかかり、そ
の上現像インキ盛りをすると、全面にインキが付
着した。メタ珪酸ソーダ水溶液の濃度を高くして
いき、前述のポリヒドロキシフエニル系の場合と
同一の条件で完全に現像される濃度は、6%であ
つた。
こうして得られた印刷版をオフセツト印刷機に
かけて印刷したところ、インキ受容性が著しく劣
り、刷出しから充分なインキ濃度の印刷物が得ら
れるまでに、アルキル置換ポリヒドロキシフエニ
ル系の場合と比較して約2倍のヤ〓レ〓を要し、
また耐刷力も約2/3であつた。
かけて印刷したところ、インキ受容性が著しく劣
り、刷出しから充分なインキ濃度の印刷物が得ら
れるまでに、アルキル置換ポリヒドロキシフエニ
ル系の場合と比較して約2倍のヤ〓レ〓を要し、
また耐刷力も約2/3であつた。
次に、上で得られた2つの印刷版の耐処理薬品
性を比較した。まず始めに、ダールグレン湿し水
装置で用いられるイソプロピルアルコールに対す
る耐久性を調べた。前述の2種類の印刷版を50%
イソプロピルアルコール水溶液中に室温で、1時
間浸漬したところ、クレゾール−ホルムアルデヒ
ド系感光性剤を塗布した印刷版の画像部の損失率
が64重量パーセントであるのに対して、ポリヒド
ロキシフエニル系感光剤を塗布した印刷版は、損
失率が23重量パーセントであつた。また単量体に
キノンジアジド基を結合させた感光剤にバインダ
ー樹脂を組合せた系(例えば、クミルフエノール
のオルソナフトキノンジアジドスルホニルエステ
ルとクレゾールホルムアルデヒド樹脂の組合せ)
を感光層とした印刷版の耐イソプロピルアルコー
ル性は、同一の条件で93重量パーセントの損失率
であつた。
性を比較した。まず始めに、ダールグレン湿し水
装置で用いられるイソプロピルアルコールに対す
る耐久性を調べた。前述の2種類の印刷版を50%
イソプロピルアルコール水溶液中に室温で、1時
間浸漬したところ、クレゾール−ホルムアルデヒ
ド系感光性剤を塗布した印刷版の画像部の損失率
が64重量パーセントであるのに対して、ポリヒド
ロキシフエニル系感光剤を塗布した印刷版は、損
失率が23重量パーセントであつた。また単量体に
キノンジアジド基を結合させた感光剤にバインダ
ー樹脂を組合せた系(例えば、クミルフエノール
のオルソナフトキノンジアジドスルホニルエステ
ルとクレゾールホルムアルデヒド樹脂の組合せ)
を感光層とした印刷版の耐イソプロピルアルコー
ル性は、同一の条件で93重量パーセントの損失率
であつた。
印刷版に用いる処理薬品の種類は多くあるが耐
処理薬品性の順序はその他についても似たような
傾向を示した。例えば、現像インキ(富士フイル
ムPS版現像インキPI−2)に対する耐久性も同
じような順序となり、上記3種類の印刷版を室温
で各々浸漬させると、クミルフエノールエステル
系感光板とクレゾール−ホルムアルデヒド系感光
板は、インキ成分に侵されてアルミ表面が一部現
れたのに対してポリヒドロキシフエニル系感光体
では、インキ成分に侵されてアルミニウム表面が
露出されることはなかつた。
処理薬品性の順序はその他についても似たような
傾向を示した。例えば、現像インキ(富士フイル
ムPS版現像インキPI−2)に対する耐久性も同
じような順序となり、上記3種類の印刷版を室温
で各々浸漬させると、クミルフエノールエステル
系感光板とクレゾール−ホルムアルデヒド系感光
板は、インキ成分に侵されてアルミ表面が一部現
れたのに対してポリヒドロキシフエニル系感光体
では、インキ成分に侵されてアルミニウム表面が
露出されることはなかつた。
比較例 2
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−ス
ルホニルクロライド8重量部とレゾルシン−アセ
トアルデヒド樹脂10重量部との縮合生成物100g
と染料(住友化学製メチレンブル−conc)0.7g
をエチルセロソルブ1に溶解して感光液を作
り、この感光液を実施例1の方法と同様にして、
砂目立てされたアルミ板上に、乾燥後の重量にし
て、1m2あたり1.8gとなる様にホエラーを用い
て塗布した。こうしてつくられた感光板を実施例
1と同様の条件で露光した後に、2%メタ珪酸ソ
ーダ水溶液にて現像すると、実施例1の場合と同
様に速やかに現像できた。
ルホニルクロライド8重量部とレゾルシン−アセ
トアルデヒド樹脂10重量部との縮合生成物100g
と染料(住友化学製メチレンブル−conc)0.7g
をエチルセロソルブ1に溶解して感光液を作
り、この感光液を実施例1の方法と同様にして、
砂目立てされたアルミ板上に、乾燥後の重量にし
て、1m2あたり1.8gとなる様にホエラーを用い
て塗布した。こうしてつくられた感光板を実施例
1と同様の条件で露光した後に、2%メタ珪酸ソ
ーダ水溶液にて現像すると、実施例1の場合と同
様に速やかに現像できた。
次に実施例1で得られた感光板と、上で得られ
た感光板について、インキ着肉性と耐薬品性を比
較した。両者の版を比較例1と同様の条件でオフ
セツト印刷機にかけて印刷したところ、レゾルシ
ンアセトアルデヒド系感光体は実施例1で得られ
た感光板と比べてインキ受容性に劣り、充分なイ
ンキ濃度の印刷物が得られるまでに約2倍のヤ〓
レ〓を要し、また耐刷力も約2/3であつた。
た感光板について、インキ着肉性と耐薬品性を比
較した。両者の版を比較例1と同様の条件でオフ
セツト印刷機にかけて印刷したところ、レゾルシ
ンアセトアルデヒド系感光体は実施例1で得られ
た感光板と比べてインキ受容性に劣り、充分なイ
ンキ濃度の印刷物が得られるまでに約2倍のヤ〓
レ〓を要し、また耐刷力も約2/3であつた。
次に上記2つの印刷版について比較例1と同様
の条件で耐処理薬品性を比較した。
の条件で耐処理薬品性を比較した。
50%イソプロピルアルコール水溶液に浸漬した
後の、画像部の損失率は、2−メチルレゾルシン
−アセトアルデヒド系感光体が22重量パーセント
であつたのに対して、レゾルシンアセトアルデヒ
ド系感光体は55重量パーセントであつた。
後の、画像部の損失率は、2−メチルレゾルシン
−アセトアルデヒド系感光体が22重量パーセント
であつたのに対して、レゾルシンアセトアルデヒ
ド系感光体は55重量パーセントであつた。
また、次に現像インキ(富士フイルムPS版現
像インキPI−2)中に浸漬した後の両者の感光
体表面を比較したところ、レゾルシン−アセトア
ルデヒド系感光体はインキ成分に侵されてアルミ
ニウム表面が露出されたのに対して、2−メチル
レゾルシン−アセトアルデヒド系感光体は、イン
キ成分に侵されてアルミニウム表面が露出される
ことはなかつた。
像インキPI−2)中に浸漬した後の両者の感光
体表面を比較したところ、レゾルシン−アセトア
ルデヒド系感光体はインキ成分に侵されてアルミ
ニウム表面が露出されたのに対して、2−メチル
レゾルシン−アセトアルデヒド系感光体は、イン
キ成分に侵されてアルミニウム表面が露出される
ことはなかつた。
実施例 2
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−ス
ルホニルクロライド20重量部と2−メチルレゾル
シン−アセトン樹脂(合成例2)10重量部との縮
合生成物50g、クレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂(住友ジコレーズ株式会社製スミライトレジン
PR−SK−1)70g及び染料(オリエント化学製
オイルブルー2N)1g、メチルセロソルブ1
に溶解して感光液をつくり、この感光液を砂目立
てされた厚味0.30mmのアルミ板上に乾燥後の重量
にして1m2あたり2.3gとなる様にホエラーを用
いて塗布した。
ルホニルクロライド20重量部と2−メチルレゾル
シン−アセトン樹脂(合成例2)10重量部との縮
合生成物50g、クレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂(住友ジコレーズ株式会社製スミライトレジン
PR−SK−1)70g及び染料(オリエント化学製
オイルブルー2N)1g、メチルセロソルブ1
に溶解して感光液をつくり、この感光液を砂目立
てされた厚味0.30mmのアルミ板上に乾燥後の重量
にして1m2あたり2.3gとなる様にホエラーを用
いて塗布した。
こうして作られた感光板の表面にポジ透明原画
を密着させて1mの距離から2kWのメタルハラ
イドランプを用いて90秒間露光を行なつた。引続
いて感光板を3%メタ珪酸ソーダ水溶液に浸漬す
ると、露光部は速やかに溶解されて感脂性及び耐
処理薬品性に優れたオフセツト印刷版が得られ
た。この印刷版をオフセツト印刷機にかけて印刷
したところ、従来より使用されているクレゾール
−ホルムアルデヒド系感光体に比べてインキ受容
性に優れ、充分なインキ濃度の印刷物が得られる
までに要したヤ〓レ〓は約1/3であり、耐刷力は
約2倍であつた。
を密着させて1mの距離から2kWのメタルハラ
イドランプを用いて90秒間露光を行なつた。引続
いて感光板を3%メタ珪酸ソーダ水溶液に浸漬す
ると、露光部は速やかに溶解されて感脂性及び耐
処理薬品性に優れたオフセツト印刷版が得られ
た。この印刷版をオフセツト印刷機にかけて印刷
したところ、従来より使用されているクレゾール
−ホルムアルデヒド系感光体に比べてインキ受容
性に優れ、充分なインキ濃度の印刷物が得られる
までに要したヤ〓レ〓は約1/3であり、耐刷力は
約2倍であつた。
次に、上記印刷版について比較例1と同様の条
件で耐処理薬品性を調べた。50%イソプロピルア
ルコール水溶液中に浸漬した後の画像部の損失率
は、28重量パーセントであつた。
件で耐処理薬品性を調べた。50%イソプロピルア
ルコール水溶液中に浸漬した後の画像部の損失率
は、28重量パーセントであつた。
また、次に現像インキ(富士写真フイルムPS
版現像インキPI−2)中に浸漬した後の感光板
表面を見たところ、インキ成分に侵されてアルミ
ニウム表面が露出されることはなかつた。
版現像インキPI−2)中に浸漬した後の感光板
表面を見たところ、インキ成分に侵されてアルミ
ニウム表面が露出されることはなかつた。
実施例 3
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−ス
ルホニルクロライド8重量部と2−エチルレゾル
シン−ベンズアルデヒド樹脂(合成例3)10重量
部との縮合生成物100gと染料(保土谷化学工業
製ビクトリア・ピユア・ブルー・BOH)0.7gを
エチルセロソルブ1に溶解して感光液を作り、
この感光液を実施例1と同様の方法で砂目立てさ
れたアルミ板上に塗布した。
ルホニルクロライド8重量部と2−エチルレゾル
シン−ベンズアルデヒド樹脂(合成例3)10重量
部との縮合生成物100gと染料(保土谷化学工業
製ビクトリア・ピユア・ブルー・BOH)0.7gを
エチルセロソルブ1に溶解して感光液を作り、
この感光液を実施例1と同様の方法で砂目立てさ
れたアルミ板上に塗布した。
こうして作られた感光板を実施例1と同様の方
法で50秒間像露光を行なつた後、5%の第3燐酸
ソーダ水溶液にて現像すると、感脂性及び耐処理
薬品性に優れたオフセツト印刷版が得られた。
法で50秒間像露光を行なつた後、5%の第3燐酸
ソーダ水溶液にて現像すると、感脂性及び耐処理
薬品性に優れたオフセツト印刷版が得られた。
この印刷版をオフセツト印刷機にかけて印刷し
たところ、従来より使用されているクレゾール−
ホルムアルデヒド系感光体に比べてインキ受容性
に優れ、充分なインキ濃度の印刷物が得られるま
でに要したヤ〓レ〓は約1/4であり、耐刷力は約
2倍であつた。
たところ、従来より使用されているクレゾール−
ホルムアルデヒド系感光体に比べてインキ受容性
に優れ、充分なインキ濃度の印刷物が得られるま
でに要したヤ〓レ〓は約1/4であり、耐刷力は約
2倍であつた。
次に、上記印刷版について比較例1と同様の条
件で耐処理薬品性を調べたところ、50%イソプロ
ピルアルコール水溶液による画像の損失率は21重
量パーセントであり、また、現像インキ(富士フ
イルムPS版現像インキPI−2)浸漬によつて感
光板表面が侵されてアルミニウム表面が露出され
ることはなかつた。
件で耐処理薬品性を調べたところ、50%イソプロ
ピルアルコール水溶液による画像の損失率は21重
量パーセントであり、また、現像インキ(富士フ
イルムPS版現像インキPI−2)浸漬によつて感
光板表面が侵されてアルミニウム表面が露出され
ることはなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 o−ベンゾキノンジアジド又はo−ナフトキ
ノンジアジドのスルホニルクロライドと下記の一
般式で示される樹脂との縮合生成物を含有するこ
とを特徴とする感光性組成物。 一般式 但し、R1はアルキル基(炭素数1〜8個)、R2
は水素、ハロゲン、低級アルキル基(炭素数1〜
4個)、あるいはアルコキシ基(炭素数1〜4
個)、R3は水素、低級アルキル基(炭素数1〜4
個)あるいはフエニール基、R4は水素、低級ア
ルキル基(炭素数1〜4個)あるいはフエニール
基である。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7621779A JPS561045A (en) | 1979-06-16 | 1979-06-16 | Photosensitive composition |
US06/154,120 US4306011A (en) | 1979-06-16 | 1980-05-28 | Photosensitive composite and photosensitive lithographic printing plate |
DE8080301955T DE3066569D1 (en) | 1979-06-16 | 1980-06-10 | Condensation product and lithographic printing plates containing said product |
EP80301955A EP0021716B1 (en) | 1979-06-16 | 1980-06-10 | Condensation product and lithographic printing plates containing said product |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7621779A JPS561045A (en) | 1979-06-16 | 1979-06-16 | Photosensitive composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS561045A JPS561045A (en) | 1981-01-08 |
JPS6313529B2 true JPS6313529B2 (ja) | 1988-03-25 |
Family
ID=13599000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7621779A Granted JPS561045A (en) | 1979-06-16 | 1979-06-16 | Photosensitive composition |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4306011A (ja) |
EP (1) | EP0021716B1 (ja) |
JP (1) | JPS561045A (ja) |
DE (1) | DE3066569D1 (ja) |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS561044A (en) * | 1979-06-16 | 1981-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
DE3043967A1 (de) * | 1980-11-21 | 1982-06-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
DE3174017D1 (en) * | 1980-12-17 | 1986-04-10 | Konishiroku Photo Ind | Photosensitive compositions |
DE3107109A1 (de) * | 1981-02-26 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial |
DE3127754A1 (de) * | 1981-07-14 | 1983-02-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
JPS58134631A (ja) * | 1982-01-08 | 1983-08-10 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS5986046A (ja) * | 1982-11-10 | 1984-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS5988734A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
DE3421448A1 (de) * | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Perfluoralkylgruppen aufweisende polymere, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
DE3421526A1 (de) * | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Perfluoralkylgruppen aufweisende copolymere, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
US4634659A (en) * | 1984-12-19 | 1987-01-06 | Lehigh University | Processing-free planographic printing plate |
JPH0654384B2 (ja) * | 1985-08-09 | 1994-07-20 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト組成物 |
JPH0650396B2 (ja) * | 1985-08-09 | 1994-06-29 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト組成物 |
JPS6273255A (ja) * | 1985-09-26 | 1987-04-03 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH0719050B2 (ja) * | 1985-12-09 | 1995-03-06 | コニカ株式会社 | 感光性平版印刷版材料 |
EP0227487B1 (en) * | 1985-12-27 | 1992-07-15 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Positive type radiation-sensitive resin composition |
JPS62163055A (ja) * | 1986-01-14 | 1987-07-18 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型感光性平版印刷版 |
DE3821584A1 (de) * | 1988-06-25 | 1989-12-28 | Hoechst Ag | Strahlungshaertbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichungsmaterial fuer hochenergetische strahlung |
SG48028A1 (en) * | 1988-08-10 | 1998-04-17 | Hoechst Celanese Corp | Light-sensitive novolac resins |
US5753406A (en) * | 1988-10-18 | 1998-05-19 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive resin composition |
DE69129955T2 (de) * | 1990-05-02 | 1998-12-24 | Mitsubishi Chem Corp | Photolackzusammensetzung |
JPH06204162A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法および該方法に用いられるレジスト組成物 |
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US5589553A (en) * | 1995-03-29 | 1996-12-31 | Shipley Company, L.L.C. | Esterification product of aromatic novolak resin with quinone diazide sulfonyl group |
DE69604114T2 (de) * | 1995-04-10 | 2000-03-02 | Shipley Co | Gemische von photoaktiven Zusammensetzungen enthaltendes Fotoresist |
EP0825927B1 (en) | 1996-04-23 | 1999-08-11 | Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. | Lithographic printing form precursor and its use by heat imaging |
US5858626A (en) * | 1996-09-30 | 1999-01-12 | Kodak Polychrome Graphics | Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition |
US6117610A (en) * | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
US5705322A (en) * | 1996-09-30 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element |
US5705308A (en) * | 1996-09-30 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element |
US6063544A (en) * | 1997-03-21 | 2000-05-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging |
US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
BR9810668A (pt) | 1997-07-05 | 2001-09-04 | Kodak Polychrome Graphics Co | Processos para formação de moldes e materiais sensìveis a radiação |
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ATE318705T1 (de) * | 1998-08-24 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche harzzusammensetzung und flachdruckplatte |
US6451505B1 (en) | 2000-08-04 | 2002-09-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element and method of preparation thereof |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE506677A (ja) * | 1950-10-31 | |||
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