JPS6313249A - 質量分析装置 - Google Patents
質量分析装置Info
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- JPS6313249A JPS6313249A JP61156056A JP15605686A JPS6313249A JP S6313249 A JPS6313249 A JP S6313249A JP 61156056 A JP61156056 A JP 61156056A JP 15605686 A JP15605686 A JP 15605686A JP S6313249 A JPS6313249 A JP S6313249A
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- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 abstract description 15
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 abstract 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
- H01J49/142—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers using a solid target which is not previously vapourised
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/90—Plate chromatography, e.g. thin layer or paper chromatography
- G01N30/95—Detectors specially adapted therefor; Signal analysis
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/04—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components
- H01J49/0409—Sample holders or containers
- H01J49/0413—Sample holders or containers for automated handling
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薄層クロマトグラフプレートのようなターゲッ
ト上に展開保持されている試料成分の直接的な質量分析
を行うのに適した質量分析装置に関する。
ト上に展開保持されている試料成分の直接的な質量分析
を行うのに適した質量分析装置に関する。
TLCプレート(薄層クロマトグラフプレート:Th1
n−Layer Chromatography P
1ate)上に展開保持されている試料成分のマススペ
クトルを得るためにその試料成分をかき取り、抽出、精
製した後質量分析装置に導入することが知られている。
n−Layer Chromatography P
1ate)上に展開保持されている試料成分のマススペ
クトルを得るためにその試料成分をかき取り、抽出、精
製した後質量分析装置に導入することが知られている。
しかし、このようなマススペクトル取得方式では1手間
と時間が非常にかかる上に、展開された試料成分が混合
物である場合混合状態の情報が全くなくなるなどの問題
がある。
と時間が非常にかかる上に、展開された試料成分が混合
物である場合混合状態の情報が全くなくなるなどの問題
がある。
このため、TLCプレートを質量分析装置に導入し、S
IMS(2次イオン質量分析: 5econdaryト
ルを取得することが提案されている。これはTLCプレ
ートをそれに展開保持されている試料成分の展開方向に
移動させながら、そのTLCブレートを加速、収束され
たイオンビームや、高速原子ビームで衝撃し、それによ
って試料成分から得られるイオンを質量分析することに
よって、試料成分のマススペクトルを得るものである。
IMS(2次イオン質量分析: 5econdaryト
ルを取得することが提案されている。これはTLCプレ
ートをそれに展開保持されている試料成分の展開方向に
移動させながら、そのTLCブレートを加速、収束され
たイオンビームや、高速原子ビームで衝撃し、それによ
って試料成分から得られるイオンを質量分析することに
よって、試料成分のマススペクトルを得るものである。
この方法によれば1次々にマススペクトルを取得し得る
のに加え、データを整理して特定のイオンの電流値や全
イオンの電流値をトレースすれば、マスクロマトグラム
を直ちに得ることができる。
のに加え、データを整理して特定のイオンの電流値や全
イオンの電流値をトレースすれば、マスクロマトグラム
を直ちに得ることができる。
イオンビームや高速原子ビームが試料成分に照射される
と、その照射部分が局所的にスパッターされて低くなり
、イオンの発生が減少するようにの発生の減少が防止さ
れるようにするために一般にTLC表面に分析に先立っ
てグリセロールのようなマトリックスが塗布される。
と、その照射部分が局所的にスパッターされて低くなり
、イオンの発生が減少するようにの発生の減少が防止さ
れるようにするために一般にTLC表面に分析に先立っ
てグリセロールのようなマトリックスが塗布される。
なお、TLCプレート上の試料成分のSIMS(又はF
AB)分析法に関するものとしてはジャーナル・オブ・
バイオケミスリー、第98巻。
AB)分析法に関するものとしてはジャーナル・オブ・
バイオケミスリー、第98巻。
1985年、p265−268が挙げられる。
(発明が解決しようとする問題点〕
しかし、本発明者は実験研究等を通じて次の事実を見つ
け出した。
け出した。
(1)1次ビーム照射直後にはマトリックス表面から多
量のイオンが発生したり(第4図り、逆、にイオンが殆
んど発生しない(第4図■)という現象が生ずる。
量のイオンが発生したり(第4図り、逆、にイオンが殆
んど発生しない(第4図■)という現象が生ずる。
(2)1次ビームを照射し続けると、イオンの発生は急
速に変化機数秒がら1,2分後に安定してくる(第4図
■および■)、この安定までの時間Tは添加するマトリ
ックスなどによっても異なるが、数分を超えるものは少
ない。
速に変化機数秒がら1,2分後に安定してくる(第4図
■および■)、この安定までの時間Tは添加するマトリ
ックスなどによっても異なるが、数分を超えるものは少
ない。
(3)イオン発生が安定するのは電気的、物理化学的平
衡が得られたためと考えられる。
衡が得られたためと考えられる。
(4)TLCプレートを移動しながらマススペクトルを
得る場合、1次ビームは常に新らしい面を照射すること
になるから、上記事実からこの場合は得られるマススペ
クトルやマスクロマトグラムは変動が多く正確なものと
はならない、すなわち、第5図■は期待されるマスクロ
マトグラムであり、これに対して実際に得られるマスク
にマドグラムは第5図■のように変動の多い不正確なも
のとなる。
得る場合、1次ビームは常に新らしい面を照射すること
になるから、上記事実からこの場合は得られるマススペ
クトルやマスクロマトグラムは変動が多く正確なものと
はならない、すなわち、第5図■は期待されるマスクロ
マトグラムであり、これに対して実際に得られるマスク
にマドグラムは第5図■のように変動の多い不正確なも
のとなる。
本発明の目的は上述の事実に鑑み、安定したマススペク
トルを得るのに適した質量分析装置を提供することにあ
る。
トルを得るのに適した質量分析装置を提供することにあ
る。
止させるようにターゲットの移動を制御し、かつターゲ
ットが停止してから、試料成分からのイオン量が実質的
に安定するまでの予め定められた一定時間後に質量数掃
引を開始する。
ットが停止してから、試料成分からのイオン量が実質的
に安定するまでの予め定められた一定時間後に質量数掃
引を開始する。
ターゲットの移動制御は試料成分が1次ビーム衝撃位置
に移動したとき停止するように行われ、そして質量数揺
り口よ、ターゲットが停止してから、試料成分からのイ
オン量が実質的に安定するまでの予め定められた一定時
間後に開始される。したがって、得られるマススペクト
ルの不正確さは防止され、正確なマススペクトルが得ら
れ得るようなる。
に移動したとき停止するように行われ、そして質量数揺
り口よ、ターゲットが停止してから、試料成分からのイ
オン量が実質的に安定するまでの予め定められた一定時
間後に開始される。したがって、得られるマススペクト
ルの不正確さは防止され、正確なマススペクトルが得ら
れ得るようなる。
第1図および第2図を参照するに、TLCプレートであ
るターゲット3は駆動装置4の先端に装着され、イオン
源1にセットされる。
るターゲット3は駆動装置4の先端に装着され、イオン
源1にセットされる。
ターゲットすなわちTLCプレート3は展開。
分離された試料成分をその表面に担持しており、そして
その表面にはグリセロールのようなマトリックスが塗布
されである。
その表面にはグリセロールのようなマトリックスが塗布
されである。
1次イオン源2からはイオンビームが放出され、ターゲ
ット3を衝撃する。ターゲット3上の試料成分がイオン
ビームで衝撃されるとスパッタされ、それに伴って試料
成分特有のイオン(2次イオン)が発生する0発生した
イオンは質量分析計9に導入される。ここで、イオンは
磁場(図示せず)を通るときに質量分数を受ける。すな
わち、その質量数に応じて分離される。特定の質量数の
イオンはイオンコレクター(図示せず)を通って検出器
(図示せず)により検出される。データ処理装置6はス
キャナー7を制御して磁場を掃引する。これによりいろ
いろな質量数のイオンが次々と検出器により検出される
。すなわち、質量数掃引が行われる。検出器からのイオ
ン検出信号はインターフェイス8を介してすべてデータ
処理装置6に記憶される。データ処理袋M6はその中に
記憶されているデータにもとづいて、マススペクトル信
号並びに全イオンや特定イオンによるマスクロマトグラ
ム信号を出力し、これらは図示しない記録装置に記録さ
れる。
ット3を衝撃する。ターゲット3上の試料成分がイオン
ビームで衝撃されるとスパッタされ、それに伴って試料
成分特有のイオン(2次イオン)が発生する0発生した
イオンは質量分析計9に導入される。ここで、イオンは
磁場(図示せず)を通るときに質量分数を受ける。すな
わち、その質量数に応じて分離される。特定の質量数の
イオンはイオンコレクター(図示せず)を通って検出器
(図示せず)により検出される。データ処理装置6はス
キャナー7を制御して磁場を掃引する。これによりいろ
いろな質量数のイオンが次々と検出器により検出される
。すなわち、質量数掃引が行われる。検出器からのイオ
ン検出信号はインターフェイス8を介してすべてデータ
処理装置6に記憶される。データ処理袋M6はその中に
記憶されているデータにもとづいて、マススペクトル信
号並びに全イオンや特定イオンによるマスクロマトグラ
ム信号を出力し、これらは図示しない記録装置に記録さ
れる。
駆動装置4はターゲット3を、それに担持された試料成
分がイオンビーム衝撃位置に移動したときは停止させ、
試料成分間部分がイオン衝撃位置を通るとき高速数移動
させるように舛区≠=本傘尋移動制御する。このターゲ
ット3の移動制御は第3図(イ)に示されており、この
制御は駆動装置4用の駆動電源5に与えられるデータ処
理装置6からの制御信号によって行われる。
分がイオンビーム衝撃位置に移動したときは停止させ、
試料成分間部分がイオン衝撃位置を通るとき高速数移動
させるように舛区≠=本傘尋移動制御する。このターゲ
ット3の移動制御は第3図(イ)に示されており、この
制御は駆動装置4用の駆動電源5に与えられるデータ処
理装置6からの制御信号によって行われる。
スキャナー7の制御はデータ処理装置6からの制御信号
によって第3図(ロ)に示すように行われる。第3図(
ロ)において、Tは試料成分がイオン衝撃位置に停止し
てから、その成分部分から発生する2次イオンが安定化
するまでの待ち時間を示し、この待ち時間はグリセロー
ルのようなマトリックスなどに応じてデータ処理袋!6
により事前に任意に設定し得る。
によって第3図(ロ)に示すように行われる。第3図(
ロ)において、Tは試料成分がイオン衝撃位置に停止し
てから、その成分部分から発生する2次イオンが安定化
するまでの待ち時間を示し、この待ち時間はグリセロー
ルのようなマトリックスなどに応じてデータ処理袋!6
により事前に任意に設定し得る。
待ち時間の後質量数掃引すなわちスキャンが開始される
。このスキャンはターゲット3から発生するイオンが安
定した後に行われるのであるから。
。このスキャンはターゲット3から発生するイオンが安
定した後に行われるのであるから。
発明が解決しようとする問題点の項で述べたような得ら
れたマススペクトルの不正確さはなくなり、正確なマス
スペクトルが得られるようになる。
れたマススペクトルの不正確さはなくなり、正確なマス
スペクトルが得られるようになる。
なお、ターゲット3上の試料成分間距離は容易に実測す
ることができる。したがって、第3図(イ)のようなタ
ーゲット制御プログラムは実測された距離データにもと
づき容易に作成することができる。
ることができる。したがって、第3図(イ)のようなタ
ーゲット制御プログラムは実測された距離データにもと
づき容易に作成することができる。
実施例では1次ビームとしてイオンビームを用いている
が、高速原子ビームを用いてもよいことはもちろんであ
る。
が、高速原子ビームを用いてもよいことはもちろんであ
る。
本発明によれば安定なマススペクトルの取得が可能とな
る。
る。
第1図は本発明の一実施例を示す質量分析装置の概念図
、第2図は第1図のA−A ’線断面図、第3図はター
ゲットおよびスキャンの制御を説明するための図、第4
図はSIMS (FAB)法における一次ビーム照射後
の二次イオンの挙動を示す図、第5図はTLC/SIM
S (FAB)によって得られるマスクロマトグラムを
示す図である。 1・・・二次イオン源、2・・・−次イオン源、3・・
・TLCプレート、4・・・駆動装置、5・・・駆動電
源、6・・・データ処理装置、7・・・スキャンナ、8
・・・イン浩10 括2図
、第2図は第1図のA−A ’線断面図、第3図はター
ゲットおよびスキャンの制御を説明するための図、第4
図はSIMS (FAB)法における一次ビーム照射後
の二次イオンの挙動を示す図、第5図はTLC/SIM
S (FAB)によって得られるマスクロマトグラムを
示す図である。 1・・・二次イオン源、2・・・−次イオン源、3・・
・TLCプレート、4・・・駆動装置、5・・・駆動電
源、6・・・データ処理装置、7・・・スキャンナ、8
・・・イン浩10 括2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ターゲット上に担持されている試料成分を1次ビー
ム衝撃位置に移動させるように前記ターゲットの移動を
制御し、そして、前記1次ビームの衝撃によつて前記試
料成分から発生するイオンの質量数掃引を行うように構
成されている質量分析装置において、前記ターゲットを
前記とを 試料成分が前記1次ビーム衝撃位置に移動したとき停止
させるように前記ターゲットの移動を制御し、かつ前記
ターゲットが停止してから、前記試料成分からのイオン
量が実質的に安定するまでの予め定められた一定時間後
に前記質量数掃引を開始するようにしたことを特徴とす
る質量分析装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61156056A JPS6313249A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 質量分析装置 |
PCT/JP1987/000434 WO1993013541A1 (en) | 1986-07-04 | 1987-06-26 | Mass spectroscope |
US07/149,223 US4874944A (en) | 1986-07-04 | 1987-06-26 | Mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61156056A JPS6313249A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 質量分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6313249A true JPS6313249A (ja) | 1988-01-20 |
Family
ID=15619337
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61156056A Pending JPS6313249A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 質量分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4874944A (ja) |
JP (1) | JPS6313249A (ja) |
WO (1) | WO1993013541A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008180659A (ja) * | 2007-01-26 | 2008-08-07 | Jeol Ltd | 大気圧イオン化法および試料保持装置 |
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US5083450A (en) * | 1990-05-18 | 1992-01-28 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Gas chromatograph-mass spectrometer (gc/ms) system for quantitative analysis of reactive chemical compounds |
US5077470A (en) * | 1991-01-11 | 1991-12-31 | Jeol Ltd. | Mass spectrometer |
DE19937438C2 (de) | 1999-08-07 | 2001-09-13 | Bruker Daltonik Gmbh | Kopplung Dünnschicht-Chromatographie und Massenspektrometrie (TLC/MS) |
CA2301451A1 (en) * | 2000-03-20 | 2001-09-21 | Thang T. Pham | Method for analysis of analytes by mass spectrometry |
CN108181487B (zh) * | 2018-03-15 | 2020-03-06 | 上海交通大学 | 一种超高真空样品截断装置 |
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US3896661A (en) * | 1974-01-09 | 1975-07-29 | Stanford Research Inst | Method of coupling thin layer chromatograph with mass spectrometer |
DE2654057B1 (de) * | 1976-11-29 | 1978-04-27 | Varian Mat Gmbh | Verfahren zur Ionisierung von organischen Substanzen,sowie dieses Verfahren benutzendes Analysegeraet |
JPS58119148A (ja) * | 1982-01-09 | 1983-07-15 | Jeol Ltd | 質量分析装置のイオン源 |
JPS6044A (ja) * | 1983-06-16 | 1985-01-05 | Hitachi Ltd | 二次イオン化質量分析装置 |
JPS6251144A (ja) * | 1985-08-29 | 1987-03-05 | Hitachi Ltd | 質量分析計 |
-
1986
- 1986-07-04 JP JP61156056A patent/JPS6313249A/ja active Pending
-
1987
- 1987-06-26 US US07/149,223 patent/US4874944A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-06-26 WO PCT/JP1987/000434 patent/WO1993013541A1/ja unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008180659A (ja) * | 2007-01-26 | 2008-08-07 | Jeol Ltd | 大気圧イオン化法および試料保持装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1993013541A1 (en) | 1993-07-08 |
US4874944A (en) | 1989-10-17 |
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