JPS63130713A - 磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造
方法に関し、とくに二次再結晶焼鈍工程に工夫を加えて
ゴス方位粒の効果的な優先成長を図るとともに、鋼板表
面の平滑化および張力付与極薄被膜の有効活用を図るこ
とにより、磁束密度の向上のみならず大幅な鉄損の改善
を安定して達成しようとするものである。

（従来あ技術） 周知のように一方向性けい素鋼板は主として変圧器、そ
の他の電気機器の鉄心として利用されているものであり
、このような一方向性けい素鋼板には、圧延方向の磁気
特性が優れていること、すなわち磁気特性（励磁特性）
として８１０値（磁場の強さＩＯＯＯＡ／ｍのとき発生
する圧延方向の磁束密度）で代表される磁束密度が高く
、しがもＷＩ７１５０値（磁束密度１．７　Ｔ　、周波
数５０Ｈｚで磁化したときの鉄損）で代表される鉄損が
低いことが要求される。

上述のような一方向性けい素鋼板の磁気特性を向上させ
るには、鋼板中の二次再結晶粒の＜ｏｏｉ＞軸を圧延方
向に高度に揃える必要がある。このためには一般に、Ｍ
ｎＳ、　ＭｎＳｅなどの微細析出物に加えて、特公昭５
１−１３４６９号公報に開示されているように少量のｓ
ｂを、また特公昭５４−３２４１２号公報に開示されて
いるようにＡｓ、　Ｂ＋、　ｐｂおよびＳｎをさらには
特公昭５７−１４７３７号公報に開示されているように
少量のＭｏなどを複合添加するとともに、好適な一次再
結晶集合組織形成のために熱間圧延、冷間圧延の各処理
条件を適切に組合わせることにより、最近では磁束密度
Ｌｏ値が１．９０　Ｔを超える高磁束密度でかつ鉄損Ｗ
Ｉ７１５６値が１　、０５Ｗ／　ｋｇ以下の一方向性け
い素鋼板が製造されるようになった。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、実際の工業的規模での製造においては依
然として次のような問題を残していたのである。

すなわち、製品の二次再結晶粒の＜００１＞軸を圧延方
向に高度に揃えるためには、成分調整をはじめとして、
製網、熱延、冷延および熱処理と複雑で多岐にわたる各
工程を厳密に制御する必要があるが、実際の工場生産に
おいては処理条件が上記した如き総合的な適正条件から
外れやすく、わずかでも外れたものは＜００１＞軸の圧
延方向への配向性がわるくなるため、Ｂ、。値、鉄損と
もにすぐれた一方向性電磁鋼板を安定して得ることは難
しかったのである。

さらに最近では、成品板の厚さを薄くして鉄損を低減す
る試みがなされているが、仕上げ厚を薄くすると一方で
二次再結晶粒＜００１＞軸の圧延方向への集積が不安定
となるために、板厚低減による鉄損改善効果が安定して
得られないというところにも問題があり、その改善が強
く望まれていた。

この発明は、上記の問題を有利に解決するもので（ｈｋ
ｏ）　＜００１＞方位の二次再結晶粒を効果的に優先成
長させることによってＢ１０値を改善すると共に、さら
に鋼板表面の平滑化および張力付与極薄被膜の有効活用
という相乗効果によって磁気特性の大幅な改善を可能な
らしめた超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法を提案す
ることを目的とする。

（問題点を解決するための手段） 成品の二次再結晶粒の＜ｏｏｉ＞軸を圧延方向に高度に
揃えるためには、二次再結晶前の鋼板は結晶組織、集合
組織、インヒビターなどを適正な状態に整えておく必要
があり、これらを整えるため、素材成分から始まって製
鋼・熱延・冷延・熱処理と複雑で多岐にわたる各処理条
件を厳密に制御する必要があることは前述したとおりで
ある。

しかしながら実際の工業的規模での製造においては、こ
れら総合的な適正条件から外れやすく、わずかでも外れ
たものは＜００１＞軸の圧延方向への配向性が悪くなっ
ていたわけであるが、この問題に対して発明者らは、＜
００１＞軸の配向性を決定づける二次再結晶現象につい
てその基本である二次再結晶核の生成と成長とに着目し
て研究を行った。

その結果、二次再結晶前の鋼板の素材特性すなわち結晶
組織、集合組織、インヒビターなどの素材特性が、製造
工程条件の現実における変動あるいは簡略化により従来
の総合的な適正条件から多少外れたとしても、微小歪導
入と温度勾配とを利用した独特の製造工程を採用するこ
とによって、（ｈｋｏ）　＜００１＞方位の二次再結晶
粒の核発生と成長とが優先して実現されることの知見を
得た。

しかもこの場合には、二次粒の＜００１＞軸が圧延方向
へ高度に安定して集積するだけでなく、磁気特性はもと
より製造工程の大幅な改善が可能であること、さらには
鋼板表面を平滑化した後、ＣＶＤやＰＶＤなどの蒸着法
によって炭窒化物等の張力付与極薄被膜を被成してやれ
ば磁気特性のより一層の改善が実現されることも併せて
突止めた。

この発明は、上記の知見に立脚するものである。

すなわちこの発明は、Ｓｉ　：　　０．１〜７．０　ｗ
ｔ％（以下単に％で示す）を含有するけい素鋼熱延板に
、１回以上の冷間圧延を施して最終板厚としてのち、脱
炭を兼ねる一次再結晶焼鈍を施して得た二次再結晶前の
鋼板に、０．５〜１５．０％の均一な歪を導入してから
、６５０℃以上の温度範囲において、板幅方向にわたる
温度勾配が１℃／　Ｃｍ以上の条件下に傾斜焼鈍を施し
てゴス方位の二次再結晶粒を発達させ、ついで１１００
℃以上の乾水素中で純化焼鈍を施したのち、鋼板表面の
非金属物質を除去してから、研磨により表面を中心線平
均粗さＲａで０．４μｍ以下の平滑面に仕上げ、しかる
のち該仕上げ平滑面上に、蒸着法によって、Ｔｊ、　Ｎ
ｂ、　Ｓｉ＋　Ｖ＋　Ｃｒ。

Ａ７！、　Ｍｎ、　Ｂ＋　Ｎｉ、　Ｃｏ＋　Ｍｏ、　Ｚ
ｒ、　Ｔａ、　Ｈｆ＋　ＩＩの窒化物および／又は炭化
物ならびにＩｆ、　Ｓｔ、　Ｍｎ、　Ｍｇ。

Ｚｎ、　Ｔｉの酸化物のうちから選んだ少なくとも一種
から主としてなる極薄被膜を被成することを特徴とする
特許 方法である。

以下、この発明を由来するに至った基本的実験結果に基
づき、この発明を具体的に説明する。

Ｃ　＝　０．０３５％，　Ｓｉ＝３．１０％，　Ｍｎ＝
　０．０５０％，　Ｓｅ＝　０．０１５％およびＳｂ＝
　０．０２０％を含有する組成になる鋼塊を、熱間圧延
して２．３關厚に仕上げたのち、９００℃で３分間の均
一化焼鈍を施し、ついで９５０℃で３分間の中間焼鈍を
はさんで２回の冷間圧延を施して最終板厚０．２２１１
の冷延板に仕上げた。

その後、鋼板表面を脱脂し、湿水素中において８２０゜
Ｃで３分間の脱炭・一次再結晶焼鈍を行って素材Ａとし
た。さらに引張加工により歪量（変形量）６％の歪を鋼
板に導入して素材Ｂとした。

その後、両素材Ａ，Ｂとも、５５０〜１１５０゜Ｃの温
度範囲で数レベルの温度変更をした水素雰囲気中で二次
再結晶焼鈍を実施した。なおこの二次再結晶焼鈍に際し
ては、二次再結晶粒発生および成長部と一次再結晶粒部
との境界で板幅方向にわたって５℃／　Ｃｍおよび５０
℃／　ｃｍの温度勾配をつけて焼鈍を施した。

かくして得られた製品の磁束密度Ｂ，。値と焼鈍温度す
なわち二次再結晶粒部と一次再結晶粒部との境界におけ
る温度との関係について調べた結果を、二次再結晶粒部
と一次再結晶粒部との境界での板幅方向における温度勾
配をパラメータとじて第１図に比較して示す。

第１図におけるＡ，Ｂ素材の比較結果から判るように、
二次再結晶前の鋼板に歪を導入し、しかるのち傾斜焼鈍
すなわち二次再結晶部と一次再結晶部との境界に温度勾
配をつけた状態で焼鈍を施すことにより、インヒビター
量が比較的少なく抑制力が不足の素材でも高８１。値が
得られた。

このような歪導入後の傾斜焼鈍による二次再結晶粒の優
先成長は、従来単結晶を作成する際〔例えばＣ．Ｇ．Ｄ
ｕｎｎ，　Ｍｅｔａｌ　Ｐｒｏｇ．　　６４　（１９５
３）　７１　〜７５）に適用されていたが、この発明で
は特に少量のインヒビターを含有したけい素鋼素材から
始まって一連の加熱、熱延、冷延、熱処理の各条件を制
御した鋼板、好適には板厚０．２３ｍｍ以下の薄鋼板に
ついて板幅方向に温度勾配を付与した状態で二次再結晶
焼鈍を施すことにより、磁束密度の高い製品の製造が可
能であることを新たに究明したのである。

なお温度勾配焼鈍による二次粒の優先成長に関しては、
特公昭５８−５０２９５号、特開昭５８−１００６２７
号、特開昭５９−２１５４１９号各公報お上げＵ．Ｓ，
Ｐａｔｅｎｔ．、ｌｌｈ４４３７９１０に示されている
が、この発明法は、これらとは異なり歪導入と温度勾配
焼鈍とを組合せることによりたとえ微量のインヒビター
でも高Ｂ１。

値でしかも微細な二次粒の製品板が得られることが特徴
である。

以上述べたように素材成分から熱延、冷延の諸条件と二
次再結晶焼鈍前の歪量および二次再結晶部と一次再結晶
部との境界の温度差を制御することによってゴス方位に
強《集積した二次再結晶粒を発達させひいては磁束密度
の向上を図ることができるが、このままでは鉄損特性は
十分とはいい難い。

そこでこの発明では、より一層の鉄損の低減を図るため
に、仕上げ焼鈍後のけい素鋼板の表面に張力付与型の極
薄被膜を被成するものとしたのである。

以下この点についての考察結果について述べる。

Ｃ　　：　　０．０３５％，　Ｓｉ　：　３．３６％，
　Ｍｎ：　　０．０５５％，Ｓｅ：０、０１５％，　ｓ
ｂ：　　０．０１５％およびＭｏ　：　　０．０１２％
を含有するけい素鋼スラブを、１３００’Ｃで３時間加
熱後、熱間圧延を施して２．０龍厚の熱延板とした。そ
の後、９５０℃で３分間の中間焼鈍をはさんで２回の冷
間圧延を施して０．２２Ｎ厚の最終冷延板とした。

その後、８２０℃の湿水素中で脱炭焼鈍を施した後、約
３％の圧延加工を加え、ついで９００’Ｃにおいて板幅
方向にわたって５０℃／ｃｍの温度勾配を与えながら二
次再結晶粒を発達させたのち、乾Ｈ２中で’　　　１２
００°Ｃ１５時間の純化焼鈍を施した。

その後、鋼板表面の非金属物質を酸洗により除去した後
、電解研磨により中心線平均粗さＲａで０．１　μｍま
で鏡面研磨した。ついでイオンブレーティング装置（Ｈ
ＣＤ法）により鏡面仕上げ表面上に１．２μｍ厚のＴｉ
Ｎ被膜を被成した。ここにイオンブレーティング条件は
、加速電圧：５０Ｖ、加速電流：　５００　Ａ　、真空
度：　７　Ｘｌ０−’　Ｔｏｒｒである。

さらにこのＴｉＮ被膜の上にりん酸塩とコロイダルシリ
カを主成分とする絶縁被膜を形成させた後、８００℃で
５時間の歪み取焼鈍を施した。

かくして得られた製品の板厚は０．１８ｆｌで、磁気特
性はＢｏｏ　−１，９５Ｔ、　Ｗ＋ｔｚｓ。−０，６４
囚／ｋｇであり、高磁束密度でかつ超低鉄損を示した。

以上の実験結果から明らかなように、一方向性けい素鋼
素材に、二次再結晶焼鈍に先立って軽度の歪を導入し、
ついで板幅方向に温度勾配を付与した状態で二次再結晶
させることによってゴス方位に強く集積した粗大二次再
結晶粒を発達させ、さらに鏡面研磨した鋼板表面上に密
着性が良好でかつ鋼板に張力を与えることのできる極薄
被膜を形成させることにより、従来に比較して高い磁束
密度でかつ超低鉄損が得られることが究明されたのであ
る。

次にこの発明法を、製造工程順に具体的に説明する。

まずこの発明の出発素材については、従来公知の一方向
性電磁鋼板の成分たとえば、Ｃ：０．００５〜０．１５
％、　Ｓｔ　：　　０．１〜７．０％およびＭｎ：０．
００２〜０．１５％を含有する他、インヒビター形成成
分として、Ｓ　：　　０．００５〜０．０５％、　Ｓｅ
　：　　０．００５〜０．０５％。

Ｔｅ　：　　０．００３〜０．０３％、　Ｓｂ：　０．
００５〜０．０５％、Ｓｎ：０．０３〜０．５　　％、
　　Ｃｕ　：　０．０２〜０．３　　％、Ｍｏ　：　　
０．００５〜０．０５％、Ｂ　　：０．０００３〜０．
００４０％、Ｎ　　：　　０．００１〜０．０１％、　
八４　　：　　０．００５〜０．０５％、　　Ｔｉ　：
　　０．００１〜０．０５％およびＮｂ：　　０．００
１〜０．０５％のうちから選んだ少なくとも一種を含有
する素材いずれもが有利に適合する。

これらの素材は従来公知の製鋼法、たとえば転炉、電気
炉で製鋼され、さらに造塊−分塊法、連続鋳造法、また
はロール急冷法などによってスラブ、シートバーあるい
は直接薄鋼板としたのち、必要に応じて熱間圧延、温間
又は冷間圧延によって含けい素鋼板とする。ついで必要
に応じて均一化焼鈍、さらには中間焼鈍を含む１回以上
の圧延により最終板厚に仕上げる。これら均一化焼鈍お
よび中間焼鈍は圧延後の結晶！１１１１ｍを均質化する
再結晶処理を目的としていて、通常は８００〜１２００
℃で３０秒〜１０分間保持して行う。また仕上げ厚は０
．５Ｏｎ＋以下とするが、二次再結晶が不安定となる０
、２３ｍ１以下の薄仕上げ厚においてこの発明は特に有
効である。

次に湿水素中で７００〜８５０℃、１〜１５分間程度の
焼鈍を施してＣを除去するとともに、次の焼鈍時にゴス
方位の二次再結晶粒を発達させるのに有利な一次再結晶
集合組織を形成させる。ついでこの鋼板に変形量０．５
％以上好ましくは３％以上の均で歪を導入したのち、必
要に応じて表面の非金属被膜を除去し、ついで６５０℃
以上、好ましくは８００〜１２００°Ｃの温度範囲にお
いて、板幅方向にわたり二次再結晶部と未再結晶部との
境界で１℃／ｃｍ以上の温度勾配を付与した状態で二次
再結晶焼鈍を施す。なおかような傾斜焼鈍に先立って、
鋼板表面に結晶粒界の移動を抑制する物質（たとえばＳ
、　Ｓｅ、　Ｔｅあるいはそれらの化合物）を付着させ
ることは、磁気特性を改善する上でより有利である。

ここに二次再結晶焼鈍前の鋼板への導入歪量を０．５〜
１５％の範囲に限定した理由は、導入歪量が０．５％未
満では粒界移動の駆動力となるべき転位密度が不足する
ため後続の焼鈍での再結晶粒成長が困難となるからであ
り、又、特開昭５９−２１５４１９号公報に開示のよう
に二次粒が粗大となり鉄損の改善が望めないからである
。一方１５％をこえると二次再結晶粒が進行してゆく前
方のマトリックス中にランダム方位の再結晶粒が発生し
、駆動力となるべき転位密度が減少し、ゴス方位粒を優
先成長させることが困難となるからでである。

次に再結晶焼鈍温度を６５０℃以上の範囲に限定した理
由は、６５０℃未満では結晶粒の発生、成長が困難とな
るからである。なおこの焼鈍温度は導入歪量と関係があ
り、歪量が多い場合は比較的低温でよいが、歪量が少な
い場合にはより高温とするのが好ましい。また、温度勾
配を１℃／　ｃｍ以上とした理由は、１℃／　０ｍ未満
の場合マトリックス中導入歪の解放が過多となり二次再
結晶粒が成長しなくなるか又は真方位再結晶粒の発生が
過多となってゴス方位粒を優先成長させることが困難と
なるためである。なおゴス方位粒を優先成長させるため
には、温度勾配は大きい方が望ましいが、あまりに大き
いと工業生産設備の面から制約を受けるだけでなくコス
トの面でも不利となるので、上限は１００℃／　ａｍ程
度とするのが好ましい。

次に表面の非金属物質を除去後、化学研磨あるいは電解
研磨を施して鋼板表面の平滑度を中心線平均粗さＲａで
０．４μｍ以下とする。というのはこれ以上の粗さでは
、次に続く極薄被膜付与によっても鉄損の改善効果が望
めないからである。

ついでＣＶＤ法やＰＶＤ法（イオンブレーティングやイ
オンインブランティジョン）などの蒸着法によって、Ｔ
ｉｔ　Ｎｂ＋　Ｓｉｔ　Ｖ、　Ｃｒ、　Ａｆｆ、　Ｍｎ
＋　Ｂ＋　Ｎｉ＋Ｇｏ、　Ｍｏ、　Ｚｒ、　Ｔａ、　Ｈ
ｆ、　Ｗの窒化物および／又は炭化物ならびに八Ｊ　Ｓ
ｉｔ　Ｍｎ、　Ｍｇ、　Ｚｎ、　Ｔｉの酸化物のうちか
ら選んだ少くとも１種より主として成る極薄被膜を鋼板
表面に強固に被成するのである。

なおかかる被膜の材質としては、玉揚したもののほか、
熱膨張係数が低く鋼板に強固に付着するものであれば何
であってもよい。

さらに必要により常法に従って好ましくは張力付与型低
熱膨張の上塗り絶縁被膜を被成する。

（作　用） この発明に従い、二次再結晶焼鈍に先立って、鋼板に軽
度の歪を導入してから傾斜焼鈍を施すことによって磁気
特性が向上する理由は、次の通りと推察される。歪を導
入して焼鈍することにより鋼板端部から多量の二次再結
晶核が発生し成長を開始する。この時−次再結晶部に適
度の転位（歪）が存在する場合、二次粒の成長速度が増
す。しかも、−次再結晶部に向って低くなる温度勾配を
つけであるので、−・次再結晶部に方位のずれた新たな
二次粒が発生、成長する前に鋼板端部で発生した二次粒
がマトリックスに向って成長し続けることを一層容易に
する。この移動成長過程において鋼板端部で発生した二
次再結晶粒群のうち、成長速度の最も早い先鋭なゴス粒
だけが優先成長するものと考えられる。

（実施例） 実施例Ｉ Ｃ：　　０．０４３％、　Ｓｔ　：　３．３０％、　Ｍ
ｎ：　０．０７０％、Ｍｏ：０．０２０％、　Ｓｅ：　
　０．０２０％およびＳｂ：　　０．０２７％を含有し
、残部Ｆｅおよび不可避的不純物よりなるけい素鋼スラ
ブに、熱間圧延を施して板厚２．３鰭の熱延板としたの
ち、９２５°Ｃで３分間の均一化焼鈍を施し、ついで１
回目の冷間圧延を施して中間板厚０．６鶴としてから、
９５０℃で３分間の中間焼鈍を施し、その後第２回目の
圧延を施して最終板厚０．２３ｍｍ厚の鋼板に仕上げた
。

次に湿水素中において８２０℃で３分間の脱炭焼鈍を行
った後、引張りにより５％の均−歪を導入し、ついでブ
ラシ研削により鋼板表面の非金属物質を除去し、結晶粒
界の移動抑制元素としてのＳ粉末をＡ　（１２０，Ｉ粉
末に３％混合した焼鈍分離剤を鋼板両面で５ｇ／ｍ２の
割合で付着させてからコイルに巻取った。次に９００℃
において板幅方向に５０℃／　ａｍの温度勾配を付与し
つつ傾斜焼鈍を施して二次再結晶を完了させた後、１２
００℃で５時間の純化焼鈍を実施した。

その後酸洗と電解研磨により鋼板表面を中心線平均粗さ
Ｒａで０．１　μｍ以下の鏡面に仕上げたのち、４００
℃に保った鋼板の鏡面仕上げ表面にイオンブレーティン
グにより膜厚１μｍのＴｉＮを被成した。

かくして得られた製品板の磁気特性は、ＢＩＧ　−１．
９５５　（Ｔ）　、Ｗ＋７ｚ５ｏ＝０．６０　（Ｗへｇ
）であった。

さらにりん酸塩を主体とした上塗り絶縁コーティングを
施したのち、８００℃で３時間の歪取焼鈍を実施した。

得られた製品板の磁気特性はＢｌｏ　＝１．９５０　（
Ｔ）１’ｌ＋７ｚｓｏ＝０．５８　（Ｗ／ｋｇ）であっ
た。

実施例２ 実施例１と同様の成分組成になるけい素鋼スラブに、熱
間圧延を施して板厚２．０鶴の熱延板とした。ついで第
１回目の圧延で中間板厚０．５（１＋ｍ、第２回目の圧
延で最終板厚０．１５ｍ＋＋厚の鋼板に仕上げる以外は
実施例１と同様の処理を施した。

かくして得られたＴｉＮイオンブレーティング被膜付き
一方向性けい素鋼板の磁気特性は、Ｂ、。−１，９６５
（Ｔ）　、Ｗ＋７７ｓｏ＝０．５３　（Ｗ／ｋｇ）であ
った。

実施例３ Ｃ：　　０．０６０％、　Ｓｔ　：　３．２５％、　Ｍ
ｎ：　　０．０７０％。

Ｓｅ　：　　０．０２１％、　八ｐ、　　：　　０．０
３０％、　　Ｎ　　：０．００７９％。

Ｍｏ　：　　０．０２５％およびＳｂ：　　０．０２０
％を含有し、残部Ｆｅおよび不可避的不純物よりなるけ
い素鋼スラブに、熱間圧延を施して板厚３　、０１１１
の熱延板とした。

ついでこの熱延板に９００°Ｃで５分間の均一化焼鈍を
施したのち、第１回目の冷間圧延を施して中間厚２．３
鴎としてから、１１３０℃で２分間焼鈍し、急冷後、０
．２３ｎ厚に二次冷延した。

次に湿水素中において８２０℃で３分間の脱炭焼鈍を行
った後、圧延により３％の均−歪を導入し、ついで塩酸
酸洗により表面の酸化被膜を除去したのち、アルミナ粉
末を分離剤として鋼板表面に５ｇ／ｍ２付着させてから
コイルに巻取った。ついで９５０　’Ｃにおいて板幅方
向に３０°Ｃ／　ｃｍの温度勾配を付与しつつ傾斜焼鈍
を施して二次再結晶を完了させたのち、１２００°Ｃで
２０時間の純化焼鈍を施した。

その後酸洗と電解研磨により鋼板表面を平均粗さＲａで
０．１　μｍ以下の鏡面状態に仕上げたのち、４００°
Ｃに保った鋼板の鏡面仕上げ表面にイオンブレーティン
グにより膜厚１．５μｍのＴｉＮを被成した。

か（して得られた製品板の磁気特性はＢＩＧ　””１．
９８５　（Ｔ）　、Ｗ＋ｑ／５ｏ＝０．６０　（Ｗ／ｋ
ｇ）であった。

実施例４ 実施例３と同じ成分組成になるけい素鋼素材を、常法に
従って厚さ３（ｂｍのシートバーに鋳造し、しかる後に
常法に従って熱間圧延を施して２．３龍厚の熱延板とし
たのち、１１３０℃で二分間焼鈍し、焼鈍後急冷し、し
かる後０．２３ｍｍ厚に二次冷延した。

次に湿水素中焼鈍以降は実施例３と同様の処理を行った
。

かくして得られた製品板の磁気特性は、Ｂ、。−１，９
５０（Ｔ）　、讐１，７５゜−０，６８（Ｗ／に＋ｒ）
であった。

実施例５ 実施例３と同じ成分組成になる含けい素溶鋼から、相ロ
ール急冷鋳造法により０．３ｍ厚の鋼板を急冷鋳造し、
ついで１１３０°Ｃで二分間の焼鈍を施したのち急冷し
、しかる後０，１５ｍ厚に冷延した。

次に湿水素中焼鈍以降は実施例３と同様の処理を行った
。

かくして得られた製品板の磁気特性はＢ１１１　＝１．
９２　（Ｔ）、Ｗ＋　？１５０　＝　０．７０　（Ｗ／
　ｋｆ）であった。

（発明の効果） かくしてこの発明によれば、導入歪と温度勾配焼鈍とを
組合わせることによって、二次再結晶粒の核発生と結晶
成長とを有利に導き、さらに鋼板表面の平滑化および張
力付与極薄被膜の有効活用によって、磁気特性め格段に
優れた一方向性電磁鋼板を容易に得ることができ、また
省エネルギーにも大きく貢献する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、二次再結晶焼鈍前に歪を導入した含けい素鋼
板に傾斜焼鈍を施した場合の磁束密度Ｂ、。 と焼鈍温度との関係を温度勾配をパラメータとして示し
たグラフである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、Ｓｉ：０．１〜７．０ｗｔ％を含有するけい素鋼熱
   延板に、１回以上の冷間圧延を施して最終板厚としての
   ち、脱炭を兼ねる一次再結晶焼鈍を施して得た二次再結
   晶前の鋼板に、０．５〜１５．０％の均一な歪を導入し
   てから、６５０℃以上の温度範囲において、板幅方向に
   わたる温度勾配が１℃／ｃｍ以上の条件下に傾斜焼鈍を
   施してゴス方位の二次再結晶粒を発達させ、ついで１１
   ００℃以上の乾水素中で純化焼鈍を施したのち、鋼板表
   面の非金属物質を除去してから、研磨により表面を中心
   線平均粗さＲａで０．４μｍ以下の平滑面に仕上げ、し
   かるのち該仕上げ平滑面上に、蒸着法によって、Ｔｉ、
   Ｎｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｂ、Ｎｉ、Ｃｏ、
   Ｍｏ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｗの窒化物および／又は炭化
   物ならびにＡｌ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｔｉの酸化
   物のうちから選んだ少なくとも一種から主としてなる極
   薄被膜を被成することを特徴とする磁気特性の優れた一
   方向性電磁鋼板の製造方法。