JPS63129010A - 金属珪素の製造方法 - Google Patents

金属珪素の製造方法

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JPS63129010A
JPS63129010A JP27320286A JP27320286A JPS63129010A JP S63129010 A JPS63129010 A JP S63129010A JP 27320286 A JP27320286 A JP 27320286A JP 27320286 A JP27320286 A JP 27320286A JP S63129010 A JPS63129010 A JP S63129010A
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JP
Japan
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furnace
sio2
arc
sic
carbon
Prior art date
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Pending
Application number
JP27320286A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunio Miyata
宮田 邦夫
Mitsugi Yoshiyagawa
吉谷川 貢
Masato Ishizaki
正人 石崎
Tetsuo Kawahara
哲郎 河原
Matao Araya
荒谷 復夫
Yasuhiko Sakaguchi
泰彦 阪口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は金属珪素(以下、車に「金属Si4という。)
の製造方法に係り、詳しくは、純度99.999%以上
の高純度を要求される太陽電池用シリコンを粉状のSi
O2等を用いて経済的にしかも効率良く製造する方法に
関する。
[従来の技術] 従来から、珪石(SiO2)及び炭素から金属Stを製
造する際に、アーク炉を用いて金属Slあるいはフェロ
シリコンを製造する方法が一般的な工業的製造法として
利用されている。
この方法では、炉内装入物層での通気の確保や、炉内高
温部でSiの生成反応を効率よく起こさせるために、塊
状の珪石(SiO2)の利用が不可欠である。ところで
、近年、高純度の金属SLが太陽電池等に利用され、そ
の金属Stには99.999%以上という高純度が要求
されている。このような高純度の金属Siを製造するた
めの原料としてはそれだけ純度の高いものが必要となり
、天然の珪石(SiO2)を精製したSiO2が使用さ
れているのであるが、このような精製したSiO2は粉
末状あるいは数mm以下という細かい粒状原料となり、
従来方法ではそのまま利用できず、更に、塊成化などの
工程を加えることか必要になり、経済的にも、不純物の
混入の点からも不利であった。
これを解決する手段として、特開昭57−11223号
に示される方法が提案されているが、この方法でも、炉
に装入するSiO2原料の一部は3〜12mmという塊
状の5iOaである必要があり、十分に満足し得る効果
が得られない。
粉状のSiO2を原料として利用できる改良方法として
は、特開昭61−117110号に開示される方法があ
る。この方法は、炭素若しくは炭素含有物質またはこれ
らのうちの少なくとも一方とSiC若しくはSiO2の
うちの少なくとも一方との混合物が充填されたアーク炉
内で、その1800℃以上の高温領域、つまりSiO2
の還元による金属Stの生成反応が主に起る高温領域に
、SiO2あるいはSLOの細粒あるいは粉末を直接吹
込み、このSiO2またはSiOを炭素あるいはSiC
と高温下で反応溶融させて金属Siを製造するものであ
る。この方法によれば、従来の問題点を解決し、高純度
の金属Stの製造に、国産の低品位SiO2を精製して
純度を向上させた粉状のSiO2を原料として利用でき
るため、従来のガス化法に依存せずに、太陽電池用の高
純度Siを安価かつ効率的に大量生産することができる
即ち、電気炉内で金属Siを製造する際に、総括的には
次の■の反応によって金属Stが製造されている。
S i 02 +2C−”S i +2CO・・・・・
・・・・・・・■実際には0式の反応は、次の■〜■の
各素反応に分解され、これらの素反応が併行して起って
、金属Stが生成するものと考えられる。
S i 02 +C−3t O+CO・・・−・・・・
・・−■S i O+ 2 C−S i C+CO−−
−・”−・−・−−−−−■S i 02 +3 C=
S I C+ 2 Co  ””””’■S i O+
C−3i +CO・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・■S i C+S i 02−S i +S 
i O+C0−−−■S i +S i 02→2Si
O・・・・・・・・・・・・・・・・・・■S i O
+S i C→2Si+CO・・・・・・・・・・・・
■このような反応が起っている電気炉において粉状のS
iO2を使用すると、この5iOzは塊状のSiO2(
珪石)に比較して反応性が良いことから、昇温過程で0
式の反応が起こり、これにより多量のSiOを発生する
。このSiOは蒸気圧が高く外部に飛散し易いことから
、歩留り低下を引きおこす、更に、残りの5iOaは■
式の反応によってSiCとなって炉底に沈積固化して操
業トラブルの原因となる。このため、従来においては、
高純度に精製された粉状のSiO2から高純度の金属s
iを効率良く得ることは困難であった。
特開昭61−117110号の方法の如く、アーク炉内
にその炉頂から炭素若しくはピッチあるいは有機化合物
などの炭素含有物あるいはこれらのうちの少なくとも一
方とSiC若しくはSiO2のうちの少なくとも一方と
の混合物を装入し、しかも、炉内の最高温度を示すアー
ク火点に直接SiO2粉末を吹込むと、0式、0式ある
いは0式の反応により金属Siの他にガス状のSiOが
アーク火点付近で生成する。このSiOは炉上部から装
入されるC又はSiC(炉上部より装入されるSiO2
と炭素の混合物は0式の反応により炉内ではSiCとな
る。)と、■式、0式に示す反応を起こし、金属St又
はSICを生成し、ここで生成したSiCは新たに火点
に吹込まれた5iOa又はSiOと再び0式又は0式の
反応によって金属Siを生成する。そのため、金属Si
の歩留りが大幅に改善され、さらに、火点に吹き込むS
iO2又はSiOの量を調整することで0式又は0式の
反応により炉底でのSiCの消費量を調整でき、炉底へ
のSiCの沈積固化によるトラブルの防止を図ることが
でき、効率的な連続操業が可能となる。
従って、上記特開昭61−117110号の方法によれ
ば、高純度金属Siの製造を、ある程度工業的有利に行
なうことができる。なお、この方法では、例えば、横型
電極式Si製造アーク炉において、原料SiO2の吹き
込みは、一方向からアーク発生源の火点域中心に向けて
行なわれている。
[発明が解決しようとする問題点] 一般に、金属Si製造アーク炉においては、例えば下記
条件で操業した場合、電極上方約10cmの所に強固な
SiC又はSiCを主体とする硬質物質によってアーチ
状に天蓋部分(これを、本明細書で「棚」と称すること
がある。)が生成し、電極間を中心とする径約100m
mの球状の空洞が形成される。
黒鉛電極径:60mmφ アークパワー:50kW このSiC棚は原料SiO2とCとの接触、反応を阻害
するものであるため、従来においては、このSiC棚を
人手により突き壊していたが、SiCは極めて硬度の高
い物質であることから、この突き壊し作業は容易ではな
かった。
また、従来の如く、アーク火点に向けて5102又はS
iOを供給すると、アーク発生領域に絶縁物であるSi
O2を直接吹き込むこととなり、このことは当然のこと
ながらアークの安定性を阻害する。また、アーク炉内で
の火点域は、アーク発生の加熱源であり、炉内での反応
は、この加熱源からの熱の伝達により促進されることか
ら、従来の如く、原料SiO2の吹き込みをアーク発生
源の火点域中心に向って行なうと、炉内でのアーク熱の
均一な伝達が困難となり、熱伝達効果が悪化して熱効率
が低減するという問題も生じる。
[問題点を解決するための手段] 本発明は上記従来の問題点を解決するものであフて、 炭素及び/又は炭素含有物質、或いは、これらのうちの
少なくとも一方と炭化珪素及び/又は珪石との混合物を
充填したアーク炉内に、ノズルによりSiO2又はSi
Oを含む物質を供給して高温下で反応溶融させて金属珪
素を製造する方法において、SiO2又はSiOを含む
物質を、アーク電極よりも上方の部分にて上向きに供給
することを特徴とする金属珪素の製造方法、 を要旨とするものである。
[作用] 金属St製造アーク炉においては、炉内での反応の進行
に伴って、電極を中心としてSiC棚の空洞が形成され
る。従来、原料吹き込みノズルを電極間アーク発生領域
に向けてSiO2を吹き込んでいるのに対し、本発明に
おいては、SiO2又はSiOを含む物質は、アーク電
極よりも上方の部分にて上向きに供給する。
このため、供給されたSiO2又はSiOがSiC棚と
衝突し、SiCと下記式のように反応することにより、
SiCが消費され、SiC棚の生成が遅延され、またそ
の強度が低下される。
2Si02+SiC→3SiO+CO S i O+S i C→2S i +CO従って、S
iC棚の除去作業は容易となりまたその頭度は大幅に低
減される。
さらに、本発明の如く、SiO2又はSiOの供給を電
極の上部にて上方に向けて行なうと、アーク火点への絶
縁物質の直接吹き込みとならず、アークが安定に維持さ
れる。また、アーク炉内最高温域であるアーク火点へ直
接原料が吹き込まれないため、熱伝達が良好なものとな
る。
[実施例] 以下、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。
第1図(a)〜(c)は本発明の実施に好適な横型電極
式アーク炉を示す図であって、(a)は縦断面図、(b
)は第1図(a)のB−B線に沿う断面図、(C)は第
1図(a)のC−C線に沿う横断面図である。
図中、符号1で示す炉体は黒鉛質耐火物よりなり、その
炉体1内には黒鉛電極2及び3が設けられている。黒鉛
電極2.3で形成されるアーク火点4の上方に対応する
炉体1の外部には、加熱装置として高周波誘導加熱コイ
ル5が設けられている。
而して、従来、このようなアーク炉において、原料5i
Oz又はSiOを含む物質はアーク火点4に向けて供給
されていたが、本発明においては、原料SiO2又はS
iOを含む物質は電極2.3の上部にて上方に向けて供
給される。このため、第1図(a)〜(C)に示すアー
ク炉1において、原料SiO2又はSiOを含む物質を
供給するためのノズル6は電極2.3の上部に、上方に
傾斜して設けである。このノズル6は一般に中空の黒鉛
質ノズルとされている。
このノズル6の傾斜角度等は特に制限はなく、アーク炉
1の大きさや型態等に対して、吹き込まれるSiO2又
はSiOが、電極2.3の上方に形成されるSIC棚に
衝突して、SIC棚のSiCと効果的に反応し得るよう
な角度となるように決定される。
一般には、第1図(a)〜(C)に示すアーク炉でアー
ク炉径や電極位置等が大略下記程度のものである場合に
は、 アーク炉径a:300mmφ 〃   b:150mmφ 黒鉛電極位置c:  50mm 〃  径:  60mmφ 上記ノズルを ノズル位置傾斜角度θ:30〜40゜ ノズル位置d:10〜30mm 程度となるように配置するのが好適である。
このような構成により、SIC棚のSiCが反応により
効率良く消耗され、SIC棚の形成が遅延されると共に
その強度が減少されるという効果が奏される。
ところで、第2図(a)に示す如く、このSiC棚10
は、1本のノズル6にて1方向原料吹き込みを行なった
場合には、炉i内に偏在して生成し、吹き込み方向とは
反対の方向に伸びる空洞10aが形成される。これに対
し、第2図(b)に示す如く、2本のノズル6を炉1の
対称位置に設け、2方向原料吹き込みを行なった場合に
は、SiC棚10の空洞10aは電極2.3位置に対称
に形成される。
即ち、第2図(a)に示す1方向吹き込みの場合には、
吹き込み原料が直接炉内反応物と衝突し、吹き込みとは
反対側にて反応が進行し易いため、炉内反応部は偏在し
易い。また、第2図(b)の2方向吹き込みの場合には
、1方向吹き込みの場合に比し、炉内で生成した空洞は
より対称的な様相を示すため、原料の均一な混合がなさ
れ、炉内反応はより均一に起こる。
従って、本発明においては、炉内での反応をより均一に
進行させるために、原料吹き込み用ノズルを2本以上の
複数本設け、アーク火点に対して対称的な空洞を形成で
きるようにするのが好ましい。
このような観点から、本発明方法の実施にあたっては、
5t02又はSiOを含む物質の吹き込みは、例えば第
3図、第4図に示すような配置のノズルにより行なうの
がより好ましい、(なお、第3図、第4図は、いずれも
アーク炉1の電極2.3に対するノズル配置例を示す図
であって、いずれも(a)はアーク炉縦断面図、(b)
は(a)のB−B線に沿う断面図、(e)は同C−C線
に沿う断面図である。) 第3図(a)〜(C)の例は6本のノズル6a〜6fを
電極2.3の上部に上方に傾斜させて放射状に配置した
ものである。第4図(a)〜(C)の例は、2本のノズ
ル6a、6bを各々電極3.2の先端に向けて上方に傾
斜させて配置したものである。
このように複数本のノズルを配する場合、ノズル先端の
間隔(第1図(C)のe)は100mm以下とするのが
反応効率の面から好ましい。
なお、本発明の好適な実施態様において、原料5to2
又はSiOを含む物質の供給は、複数本のノズルにより
、アーク火点に対して均一かつ対称的な空洞が形成され
てるように行なわれれば良く、ノズルの本数や配置は図
示のものに何ら限定されるものではない。
本発明の金属Stの製造方法は、上述の如く、SiO2
又はsioを含む物質の供給を電極の上部にて上方に向
けて行なうこと以外は、従来の方法と全く同様に実施す
ることができる。
例えば、アーク炉に炭素等とSICとの混合物を充填す
る場合には、混合物中のC/ S i Cのモル比が1
/2以上、炭素等とSiO2の混合物の場合には、C/
5LO2のモル比が3.5以上とするのが好ましく、こ
うすることによって、炉頂からのSiOとしてのSiロ
スを15%以下まで低減することができる。なお、炭素
又は炭素と5iC1炭素とSiO2の混合物に、利用さ
れる炭材、SiO2等がともに高純度に精製されている
場合には、一般に粉末となっているが、砂糖、フェノー
ル樹脂、澱粉等を結合剤として粒状化したものを利用す
るのが好ましく、このようにすると、十分に炉の通気性
が確保できる。炉頂から炭素等とSiCの混合物あるい
は炭素等とSiO2の混合物を装入する場合には、炉内
の熱量(ガスの顕熱)の有効利用が図れ、かつ、アーク
火点で必要となる反応熱が減少するため、火点の昇温か
容易となり操業が非常に容易となり、かつ反応によって
生成するガス量が大幅に減少するため、炉内の通気確保
が容易となり安定した操業を確保できる。
なお、Stのロスは、ガスとして揮散するSiOを回収
して再び炉内にSiO2等とともに吹込むことにより、
−要改善される。
また、SiO2又はSiOを含む物質の吹き込みは、キ
ャリヤーガスで5lo2又はSiOの粉、粒状物をノズ
ルにより噴出させて行なうが、このとき用いられるキャ
リヤーガスにはAr。
H2%N2などの非酸化性ガスが利用される。ノズルの
材質は前述の黒鉛等の他SiCなどが用いられる。
アーク炉の上部に設けられた高周波誘導加熱コイルによ
り、アーク火点の高温反応域は外部加熱により上部に拡
大する。これにより、金属Stの回収率の上昇と操業の
安定性が確保できる。この外部加熱は、炉外壁あるいは
装入物がtsoo’c以上、望ましくは2000℃以上
となるように行なうのが好ましい。
[発明の効果] 以上詳述した通り、本発明の金属Stの製造方法は、炭
素及び/又は炭素含有物質、或いは、これらのうちの少
なくとも一方とSiC及び/又はSiO2との混合物を
充填したアーク炉内に、ノズルによりSiO2又はSI
Oを含む物質を供給して高温下で反応溶融させて金属S
tを製造する方法において、5f02又はSiOを含む
物質を、アーク電極よりも上方の部分にて上向きに供給
することを特徴とするものであって、電極上方に形成さ
れるSiC棚の生成をおさえ、その強度を低下させ、S
iC棚の除去作業を軽減し、反応効率を大幅に向上させ
ることができる。しかも、アークを安定に維持し、アー
クによる発生熱の有効伝達を促進し、反応効率をより一
層向上させることもできる。
特に、本発明において、SiO2又はSiOを含む物質
の供給を複数本のノズルにより行なった場合には、炉内
での反応の偏在化を防止し、均一な反応を生起させるこ
とができ、より一層反応効率を向上させることができる
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(C)は本発明の実施に好適な横型電極
式アーク炉を示す図であフて、(a)は縦断面図、(b
)は第1図(a)のB−B線に沿う断面図、(C)は第
1図(a)のC−C線に沿う横断面図である。第2図(
a)、(b)は、各々、ノズル配置と空洞の形成との関
係を説明する断面図である。第3図、及び第4図は、い
ずれもアーク炉の電極に対するノズル配置例を示す図で
あって、いずれも(a)はアーク炉縦断面図、(b)は
(a)のB−B線に沿う断面図、(C)は同C−C線に
沿う断面図である。 1・・・アーク炉、    2.3・・・電極、4・・
・アーク火点、 6.6a〜6f・・・ノズル。 代理人   弁理士   重 野  剛第1図 (b)                (c)(b) 第3図 B」 第4図 (c)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)炭素及び/又は炭素含有物質、或いは、これらの
    うちの少なくとも一方と炭化珪素及び/又は珪石との混
    合物を充填したアーク炉内に、ノズルによりSiO_2
    又はSiOを含む物質を供給して高温下で反応溶融させ
    て金属珪素を製造する方法において、SiO_2又はS
    iOを含む物質を、アーク電極よりも上方の部分にて上
    向きに供給することを特徴とする金属珪素の製造方法。
  2. (2)SiO_2又はSiOを含む物質を2以上の複数
    のノズルにより供給することを特徴とする特許請求の範
    囲第1項に記載の方法。
JP27320286A 1986-11-17 1986-11-17 金属珪素の製造方法 Pending JPS63129010A (ja)

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