JPS63121817A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
- Publication number
- JPS63121817A JPS63121817A JP26751186A JP26751186A JPS63121817A JP S63121817 A JPS63121817 A JP S63121817A JP 26751186 A JP26751186 A JP 26751186A JP 26751186 A JP26751186 A JP 26751186A JP S63121817 A JPS63121817 A JP S63121817A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cutting
- substrate
- cutting mark
- liquid crystal
- light shield
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶表示素子−こ係り、特fこ有効表示部にお
ける不要な光もれを防ぐために基板fこ遮光膜を形成し
た液晶表示素子に関する。
ける不要な光もれを防ぐために基板fこ遮光膜を形成し
た液晶表示素子に関する。
例えば、カメラのファインダー用表示などに用いる液晶
表示素子は、上基板または下基板に遮光膜を形成し、有
効表示部における不要な光もれを防止している。また前
記遮光膜は表示品質を高めるために、一般に無光沢面と
なっている。
表示素子は、上基板または下基板に遮光膜を形成し、有
効表示部における不要な光もれを防止している。また前
記遮光膜は表示品質を高めるために、一般に無光沢面と
なっている。
従来、前記遮光膜は、つや消しく無光沢)黒色インクを
印刷して形成してなる。しかし、この方法は微細パター
ンを形成することができなく、また電極パターンとの位
置精度が悪い。
印刷して形成してなる。しかし、この方法は微細パター
ンを形成することができなく、また電極パターンとの位
置精度が悪い。
なお、この種の液晶表示素子として、例えば実開昭58
−192629号公報に示すものが知られている。
−192629号公報に示すものが知られている。
ところで、上下基板の対向面(内側)には電極パターン
及び基板切断マークが透明導電膜1こよって形成されて
いる。そこで、上下基板は、基板切断マークをスクライ
バ−に位置合せして切断される0 前記したように、遮光膜は基板の外側面に形成されてお
り、切断マークは基板の内側面に形成されているので、
基板切断時に切断マークが見えにくく、基板切断の作業
性が悪いという問題があった。
及び基板切断マークが透明導電膜1こよって形成されて
いる。そこで、上下基板は、基板切断マークをスクライ
バ−に位置合せして切断される0 前記したように、遮光膜は基板の外側面に形成されてお
り、切断マークは基板の内側面に形成されているので、
基板切断時に切断マークが見えにくく、基板切断の作業
性が悪いという問題があった。
本発明の目的は、基板切断時の位置合せが容易に行える
液晶表示素子を提供することtこある。
液晶表示素子を提供することtこある。
上記目的は、遮光膜が形成された基板を切断するための
基板切断マークに対応した遮光膜部分を白ぬきの切断マ
ーク確認パターンに形成することにより達成される。
基板切断マークに対応した遮光膜部分を白ぬきの切断マ
ーク確認パターンに形成することにより達成される。
基板の切断は電極パターン及び基板切断マーク側を上に
した状態でスクライバ−にセットして切断される。この
場合、基板切断マークに対応した遮光膜部分は白ぬきと
なっているので、基板切断マークの検出が容易となる。
した状態でスクライバ−にセットして切断される。この
場合、基板切断マークに対応した遮光膜部分は白ぬきと
なっているので、基板切断マークの検出が容易となる。
以下、本発明の一実施例を第1図及び第2図により説明
する。第1図1こ示すようtこ、対向面に電極パターン
及び基板切断マークが形成された上下基板1.2は周辺
部をシール材3でシールし、内部tこ液晶4が封入され
、また上基板1の外側面には後記する構成よりなる遮光
膜5が形成されて液晶セル6を構成している。またこの
液晶セル6の外側面、即ち遮光膜5の外側面及び下基板
2の外側面fこはそれぞれ偏光板7.8.が設けられて
いる。
する。第1図1こ示すようtこ、対向面に電極パターン
及び基板切断マークが形成された上下基板1.2は周辺
部をシール材3でシールし、内部tこ液晶4が封入され
、また上基板1の外側面には後記する構成よりなる遮光
膜5が形成されて液晶セル6を構成している。またこの
液晶セル6の外側面、即ち遮光膜5の外側面及び下基板
2の外側面fこはそれぞれ偏光板7.8.が設けられて
いる。
前記遮光膜5は、Cr2O3などのようlと無光沢性を
有する金属膜9と、Orなどのように遮光性を有する金
属膜10と、Cr2O3などのように無光沢性を有する
金属膜11とからなる3層金属膜によって形成されてい
る。前記金属膜9.11は無光沢性という面から500
A程度の厚さに形成し、前記金属膜10は遮光性という
面からtoooA程度の厚さに形成する。
有する金属膜9と、Orなどのように遮光性を有する金
属膜10と、Cr2O3などのように無光沢性を有する
金属膜11とからなる3層金属膜によって形成されてい
る。前記金属膜9.11は無光沢性という面から500
A程度の厚さに形成し、前記金属膜10は遮光性という
面からtoooA程度の厚さに形成する。
このような3層金属膜9.10.11からなる遮光膜5
は、蒸着あるいはスパッタ法などにより形成し、第2図
taltと示すように、有効表示部5a、シンボルパタ
ーン5bなどの他に、上基板1の内側面(電極面)tこ
形成された切断マークに対応した部分に白ぬきて切断マ
ーク確認パターン5Cが形成されている。
は、蒸着あるいはスパッタ法などにより形成し、第2図
taltと示すように、有効表示部5a、シンボルパタ
ーン5bなどの他に、上基板1の内側面(電極面)tこ
形成された切断マークに対応した部分に白ぬきて切断マ
ーク確認パターン5Cが形成されている。
このよう−こ、遮光膜5には切断マークに対応した部分
に白ぬきて切断マーク確認パターン5Cが形成されてい
るので、上基板1を切断する場合、上基板1の切断時の
位置合せが容易となり、作業性が向上する。また遮光膜
5を金属膜fこよりエツチング法などにより形成するこ
とにより、電極パターンとの位置精度も向上する。
に白ぬきて切断マーク確認パターン5Cが形成されてい
るので、上基板1を切断する場合、上基板1の切断時の
位置合せが容易となり、作業性が向上する。また遮光膜
5を金属膜fこよりエツチング法などにより形成するこ
とにより、電極パターンとの位置精度も向上する。
なお、上記実施例においては、遮光膜5を3層金属膜9
.10.11で形成したが、遮光性を有する釡属膜10
のみでもよい。しかし、金属膜10の上下面に無光沢性
を有する金属膜9.11を形成することにより、金属膜
10の両面は無光沢面となるという効果が得られる。ま
た上記実施例においては遮光膜5を上基板1の外側面曇
こ形成したが、下基板2の外側面に形成してもよい。ま
た切断マーク確認パターン5Cは液晶セル6の端子側6
aに形成したが、端子側6aと反対側の長辺側に形成し
てもよい。
.10.11で形成したが、遮光性を有する釡属膜10
のみでもよい。しかし、金属膜10の上下面に無光沢性
を有する金属膜9.11を形成することにより、金属膜
10の両面は無光沢面となるという効果が得られる。ま
た上記実施例においては遮光膜5を上基板1の外側面曇
こ形成したが、下基板2の外側面に形成してもよい。ま
た切断マーク確認パターン5Cは液晶セル6の端子側6
aに形成したが、端子側6aと反対側の長辺側に形成し
てもよい。
本発明によれば、基板切断マークに対応した遮−5〜
光膜部分を白ぬきの切断マーク確認パターン1こ形成し
てなるので、基板切断時の位置合せが容易となり、作業
性が向上する。
てなるので、基板切断時の位置合せが容易となり、作業
性が向上する。
第1図は本発明になる液晶表示素子の一実施例□を示す
断面図、第2図は第1図の偏光板を除いた液晶セルを示
し、la)は平面図、(b)は側面図である。 ■・・・上基板、 2・・・下基板、 3・・
・シール材、4・・・液晶、 5・・・遮光膜、
5C・・・切断マーク確認パターン。 第を図 第2図 1:と#曜 2−T幕級 5: 遮光Pl曾 5c:b7斂ヌー71認パターン 1:工基板 〆旦 2:下基才反 3:5−ル材 4:液晶 5:適光順 (b) ζ
断面図、第2図は第1図の偏光板を除いた液晶セルを示
し、la)は平面図、(b)は側面図である。 ■・・・上基板、 2・・・下基板、 3・・
・シール材、4・・・液晶、 5・・・遮光膜、
5C・・・切断マーク確認パターン。 第を図 第2図 1:と#曜 2−T幕級 5: 遮光Pl曾 5c:b7斂ヌー71認パターン 1:工基板 〆旦 2:下基才反 3:5−ル材 4:液晶 5:適光順 (b) ζ
Claims (1)
- 1、対向面に電極パターン及び基板切断マークが形成さ
れた2枚の上下基板の周辺をシール材でシールし、内部
に液晶を封入し、かつ前記上下基板のいずれか一方の外
側面に遮光膜を形成した液晶表示素子において、前記遮
光膜が形成された基板を切断するための前記基板切断マ
ークに対応した遮光膜部分を白ぬきの切断マーク確認パ
ターンに形成したことを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26751186A JPS63121817A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26751186A JPS63121817A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 液晶表示素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63121817A true JPS63121817A (ja) | 1988-05-25 |
Family
ID=17445854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26751186A Pending JPS63121817A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63121817A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5104238A (en) * | 1990-03-23 | 1992-04-14 | Nippon Seiko Kabushiki Kaisha | Impact resistive linear guide apparatus |
-
1986
- 1986-11-12 JP JP26751186A patent/JPS63121817A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5104238A (en) * | 1990-03-23 | 1992-04-14 | Nippon Seiko Kabushiki Kaisha | Impact resistive linear guide apparatus |
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