JPS63117003A - シクロデキストリン誘導体 - Google Patents

シクロデキストリン誘導体

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JPS63117003A
JPS63117003A JP26164286A JP26164286A JPS63117003A JP S63117003 A JPS63117003 A JP S63117003A JP 26164286 A JP26164286 A JP 26164286A JP 26164286 A JP26164286 A JP 26164286A JP S63117003 A JPS63117003 A JP S63117003A
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JP
Japan
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cyclodextrin derivative
cyclodextrin
formula
thin film
organic film
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Waichirou Oogaki
太垣 和一郎
Kojiro Kawabata
川端 康治郎
Mutsuyoshi Matsumoto
睦良 松本
Motoo Tanaka
田中 基雄
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は円筒状構造を有するシクロデキストリン誘導体
及びそれを用いた有機超薄膜及びその製造方法に関する
ものであり。
〔従来技術〕
ラングミュア・トラフ法を用いて固体基板に有機化合物
の薄膜を施すことは周知である。このようにして製造さ
れる薄膜は、多くの用途、応用、特に化学工業・エレク
トロニクス及び生物学の分野において興味深いものであ
る0例えば、中原弘雄、油化学第34巻、774〜78
3ページ(昭和60年)において、その応用例がいくつ
か記載されている。
一方シクロデキストリンは、グルコースがいくつか結合
した環状構造を持つものであり、その分子の中には直径
4.5Å以上の円筒状の空洞が存在する特異的な構造を
持っている。この空洞を利用することによってホスト−
ゲスト効果を利用した、種々の化合物の包接化合物を作
ることできる。この包接化を利用した応用例としては、
(1)触媒反応のサイトとしての利用、(2)光や酸素
に活性な化合物の保護、(3)揮発性物質の蒸発防止、
(4)毒性物質の保護、(5)クロマトグラフに応用す
ることによる分子量による有機分子の分離剤、(6)ク
ロマトグラフでの光学活性体の分離、(7)分子の空洞
をつきぬけるような形状の分離膜を作成することによる
。トンネル構造を有する選択透過膜作成、などがあげら
れる。さらに(8)エレクトロニクス材料としては、極
性の大きな有機分子を包接させることによる第二次高長
波発生という非線形光学材料、(9)光可逆反応性物質
を包接させることによる光記録材料の用途もある。これ
ら材料の多くの応用分野では有機薄膜化させることによ
り大きな技術的利点があり、シクロデキストリン誘導体
の有機超薄膜化が期待されている。しかしながら、これ
までシクロデキストリンからなる有機超薄膜はまったく
作製されていない。
〔目   的〕
本発明は円筒構造を有する新規なシクロデキストリン誘
導体及びそれを用いた有機超薄膜およびその製法を提供
することを目的としている。
〔構  成〕
我々はこの点について鋭意努力した結果、シクロデキス
トリンの第1級アルコール部分を種々の炭化水素基を含
む官能基で置換することにより、シクロデキストリン部
分を親水性基とし、炭化水素基を疎水性基とする分子を
合成し、水面上でこれらの分子の安定な単分子膜を作製
し、その単分子膜を基板に累積することにより、シクロ
デキストリンの超薄膜を作製することができた。 ここ
に用いられるシクロデキストリン誘導体分子としては、
水面上に安定な単分子膜を作るための適当な大きさと強
さを持つ疎水性基と親水性を有し。
かつそのバランスが重要であり、その一般式を示すと次
の通りである。
前記一般式において、疎水性基を示すRは炭素数4以上
、好ましくは6〜22の高級アルキル基であり、xとし
ては一〇−1−S−、−5(O)−1−NH−などの2
官能基、またYとしては水素、アシル基、エーテル基で
、nとしては6以上の整数、好ましくは6−12の整数
である。
担持用液体の表面に有機化合物の薄膜を形成する一般的
な方法は、特開昭58−141246号公報などの先行
文献に記載されており、普通は、担持用液体の表面に、
その担持用液体と非混和性の揮発性溶媒に溶解した有機
化合物の溶液の適量を施して有機化合物の薄膜を形成し
、その薄膜を貫いて固体基板を通過させ、その基板上で
溶剤を蒸発させることによって行われる。担持用液体は
該有機化合物に対する溶剤でないのが好ましく、便宜的
には普通水が用いられるが、その場合には揮発性溶剤は
適当な密度の水非混和性有機溶剤を用いるのが一般的で
ある。
この方法は適当な溶解度を有する本発明の長鎖炭化水素
基を持つシクロデキストリン誘導体の薄膜を形成するの
に使用し得る。具体的にはクロロホルムやベンゼンなど
の水に非溶解性の有機溶媒を用いることができる。
担持用液体としては、普通水が用いられるが、場合によ
ってはグリセリンなどの有機溶媒を用いることもできる
。水を用いる場合は、純水だけでなく種々の金属イオン
を加えた水を用いることができ、その場合には、金属イ
オンの温度およびPRを適当に選定することにより、よ
り良質の超薄膜を得ることができる。固体基板としては
、普通のガラス板および、この上にステアリン酸やアラ
キン酸等の単分子膜を累積させたもの、石英、アルミニ
ウム、フッ化カルシウム、さらに多孔性の基板として、
パーコールガラスやメンブレンフィルター等をあげるこ
とができる。
本発明のシクロデキストリンからなる超薄膜の機能とし
ては、 (1)光や酸素に活性な化合物の保護膜(2)クロマト
グラフの担体としての有機分子の分離剤 (3)クロマトグラフの担体としての光学活性体の分離
剤 (4)多孔体上の累積膜の構造を利用した選択透過など
があげられる。
〔効  果〕
上記のもののごとき材料において、本発明におけるシク
ロデキストリン誘導体を含む超薄膜は他の同様な性質の
材料と比較して、1分子厚の単分子膜を1層ずつ累積さ
せ得ること、累積膜中の空孔の配向が一定方向に制御さ
れていることから高い機能が期待される。
〔実施例〕
本発明を以下の実施例で説明するが、本発明はこれに限
定されるものではない、実施例に係わるシクロデキスト
リン誘導体の一般式は前記した通りであり、その構造と
その略号を表1に示す。
なお、以下において示す部は重量基準である。
実施例1 ヘプタキス−(6−フルカンチオ−6−デオキシ)−β
−シクロデキストリン(1)の合成 合成方法は本発明者らによる、昭和59年第12回有機
イオウとリンの化学講演会における発表の方法と同様に
行った。
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム2.2部を無水ジメチ
ルホルムアミド100部にケン濁しブタンチオール5.
3部を加えてチオールをナトリウム塩に変える。次いで
文献(K、Takeo他、「スターチ」第26巻4号P
ill、1974年)の記載の方法で合成したヘプタキ
ス−(6−ブロモ−6−デオキシ)−β−シクロデキス
トリン11.0部を無水ジメチルホルムアミド100部
に溶かした溶液を滴下し、その後室温で16時間撹拌反
応させた。反応液を2000部の氷水中に性態し、析出
した白色沈殿物を濾取した。これを更に水洗、アセトン
洗浄後、五酸化リン上で減圧乾燥した粗収量は40g(
収率96%)(la)であった、オクタンチオールとド
デカンチオール、ヘキサデカンチオール、オクタデカン
チオールについても同様に反応させ。
97%以上の収率でそれぞれの誘導体1b、1c、1d
、laを得た。
実施例2 ヘプタキス−(6−アルカンチオ−6−ジオキシ−2,
3−ジー0−アセチル)−β−シクロデキストリン(2
)の合成 (la)0.3部とピリジン15部の混合液に無水酢酸
5部を加え室温で16時間撹拌して反応させた0反応液
を十分洗浄し、油状残渣を塩化メチレンに溶解し、有機
層を水、10%炭酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水
の順に洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、濃縮して、粗アセチル化生成物を得た。これをエ
タノールで再結晶して精製して生成物(2a)を得た(
収量0.32部(収率79%)。
融点103℃)、2bと2c、2dについても同様の結
果が得られた。
実施例3 ヘプタキス−(6−アルカンスルフィニル−6−ジオキ
シ−2,3−ジー0−アセチル)−β−シクロデキスト
リン(3)の合成 (2c)4.5部をジオキサン−メタノール(5:3)
混合溶媒に溶解し、氷冷する。メタ過ヨウ素酸ナトリウ
ム(NaIO3)3.55部の水溶液(25部)を反応
温度が2℃以下になるようにゆっくり滴下する。1晩反
応させた後、反応液を濃縮し、残渣をクロロホルムに溶
かし、5%炭酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して目的生成物
(3c)を得る。収量3.9部(83%)、融点107
℃であった。同様の方法で38.3b、3dを得た。
実施例4 ヘプタキス−(6−アルカンスルフィニル−6−デオキ
シ)−β−シクロデキストリン(4)の合成(3c)3
.0部を少量のジオキサンに溶かし、KO31,4部を
含むエタノール溶液に加え、室温で1晩撹拌する0反応
後、濃縮し、残渣をCH2(l□に溶かした後、メタノ
ールに往動して粗生成物を得る。
粗生成物は水洗後、乾燥した後シリカカラムで精製し、
1.0部(43%)の(4c)を得た。融点210℃、
4a、4bについても同様の方法で得た。
実施例5 ヘキサキス−(6−アルカンチオ−6−デオキシ)−α
−シクロデキストリン(5)の合成 実施例1と同様の方法を用いて、α−シクロデキストリ
ンとヘキサデカンチオール又はオクタデカンチオールか
ら(5dL (5e)を得た。
実施例6 ヘキサキス−(6−アルカンチオ−6−ジオキシ−2,
3−ジー0−アセチル)−α−シクロデキストリン(6
)の合成 実施古↓##酵例2と同様の方法を用い(5d)および
(5e)より(6d)および(6e)を得た。
実施例7 ヘプタキス−(6−アルキルアミノ−6−デオキシ)−
β−シクロデキストリン(7)の合成 文献(本発明者らにより大阪本立大学工学部紀要第26
巻p93〜99昭和60年)に記載の方法により7cを
合成した。7a、7bについても同様の方法により合成
した。
実施例8 ヘキサキス−(6−アルキルアミノ−6−デオキシ)−
α−シクロデキストリン(8)の合成 実施例7と同様の方法を用いα−シクロデキストリンと
ヘキサデシルアミンから(8d)を得た。
実施例9 オクタキス−(6−アルキルアミノ−6−デオキシ)−
γ−シクロデキストリン(9)の合成 実施例7と同様の方法を用いγ−シクロデキストリンと
ヘキサデシルアミンから(9d)を得た。
実施例10 実施例2の方法で合成された2a−2cをクロロホルム
に溶かし、担持用液体として純水を用い通常の方法によ
ってラングミュア・トラフに単分子膜を生成し、その表
面圧−面積(F−A)曲線を求めたところ、2bと20
は極限占有面積が約2 、2部m”の安定な単分子膜を
形成することがわかった。いずれもガラス板やガラス板
にあらかじめ形成したアラキン酸やステアリル酸のカド
ミウム累積膜の上にY型膜として累積することができた
(第1図)。
実施例11 実施例3の方法で合成された38〜3cを実施例10と
同様の方法でF−A曲線を求めたところ、3bと30は
極限占有面積が2.53nm”の安定な単分子膜を形成
することがわかった。 3cはY型膜として固体基板の
上に累積することができた(第2図)。
実施例12 実施例4の方法で合成された48〜40を実施例10と
同様の方法でF−A曲線を求めたところ、4bと4cは
極限占有面積が2.2nm”の安定な単分子膜を形成す
ることがわかった。4cはY型膜として固体基板のるこ
とがわかる。なぜならば、無置換のβ−シクロデキスト
リン(β−CD)の外径は1.54±0.04n+*で
高さは0.80nm(サンガー、アンゲバンテヘミー国
際版19巻344ページ1980年)であることが知ら
れている。この値から計算するとβ−CD 1分子当た
りの同筒部分の底面の面積は1.77−1.96nm2
となる。
さらにもしこの底面部分を二次元に最密充填した場合に
は1.95−2.16nm”という計算値になり、実験
値と良い一致を示している。さらにβ−CDの第2級ア
ルコール部分をアセチル化することにより(4c→3c
)、2.2から2.53n+*”へと極限占有面積が大
きくなること、およびスルフィニル(−3(0)−)を
スルフィド(−3−)に変えても(3c→2c)、極限
占有面積長鎖炭化水素基を上方に平行に配向させて水面
上に安定な単分子膜を形成し、これをラングミュア・プ
ロジェット法により基板に累積することにより、Y型膜
として累積膜中のシクロデキストリンの空孔が一定方向
に制御された構造を持つ有機超薄膜を作製できることが
明らかになった。
実施例13 他の長鎖炭化水素基を持つα、β、γ−シクロデキスト
リン誘導体の表面圧−面積(F−A)曲線を第4図〜第
6図に示した。いずれの場合にも安定な単分子膜を形成
した。またこれらの単分子膜は累積条件によってY型あ
るいは、Z型膜として固体基板の上に累積することがで
きた。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第6図は炭化水素基を有するシクロデキストリ
ンの表面圧−面積(F−A)曲線である。 横軸ニジクロデキストリン1分子当りの重接面積(nm
2) 縦軸二表面圧(+Nm−’ ) 特許出願人 工業技術院長  飯 塚 幸 三こ 來回田= と

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素数4以上のアルキル基、Xは2つ以上
    の原子と結合できる官能基、Yは水素、アシル基又はエ
    ーテル基、nは6以上の整数である)で表わされるシク
    ロデキストリン誘導体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素数4以上のアルキル基、Xは2つ以上
    の原子と結合できる官能基、Yは水素あるいはアシル基
    、nは6以上の整数である) で表わされるシクロデキストリン誘導体からなる超薄膜
  3. (3)水溶液の表面上に、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素数4以上のアルキル基、Xは2つ以上
    の原子と結合できる官能基、Yは水素、アシル基又はエ
    ーテル基、nは6以上の整数である)で表わされるシク
    ロデキストリン誘導体の薄膜を形成し、その薄膜を貫い
    て固体基板を通過させ、該固体基板上に該シクロデキス
    トリン誘導体を沈着させて超薄膜を形成させることを特
    徴とするシクロデキストリン誘導体からなる超薄膜の製
    造方法。
JP26164286A 1986-10-31 1986-10-31 シクロデキストリン誘導体 Granted JPS63117003A (ja)

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JP26164286A JPS63117003A (ja) 1986-10-31 1986-10-31 シクロデキストリン誘導体
DE19873744742 DE3744742C2 (ja) 1986-10-31 1987-03-30
DE19873710569 DE3710569A1 (de) 1986-10-31 1987-03-30 Cyclodextrinverbindung, sie verwendender ultraduenner film und verfahren zur herstellung

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JPH036162B2 JPH036162B2 (ja) 1991-01-29

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008528761A (ja) * 2005-01-28 2008-07-31 ピナクル ファーマシューティカルズ,インク. 抗菌剤としてのβ−シクロデキストリン誘導体

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60232210A (ja) * 1984-04-28 1985-11-18 Makoto Komiyama シクロデキストリン膜の作成法
JPS61111302A (ja) * 1984-11-06 1986-05-29 Nippon Shokuhin Kako Kk エ−テル化サイクロデキストリンの製造方法
JPS61275301A (ja) * 1985-03-15 1986-12-05 ジヤンセン・フア−マシユ−チカ・ナ−ムロ−ゼ・フエンノ−トシヤツプ r−シクロデキストリン誘導体

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60232210A (ja) * 1984-04-28 1985-11-18 Makoto Komiyama シクロデキストリン膜の作成法
JPS61111302A (ja) * 1984-11-06 1986-05-29 Nippon Shokuhin Kako Kk エ−テル化サイクロデキストリンの製造方法
JPS61275301A (ja) * 1985-03-15 1986-12-05 ジヤンセン・フア−マシユ−チカ・ナ−ムロ−ゼ・フエンノ−トシヤツプ r−シクロデキストリン誘導体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008528761A (ja) * 2005-01-28 2008-07-31 ピナクル ファーマシューティカルズ,インク. 抗菌剤としてのβ−シクロデキストリン誘導体

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