JPS6311304B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
Description
本発明は可視光線をよく透過し、赤外線を反射
する選択光透過性合せガラスに関する。更に詳し
くは選択光透過性を有する積層シートをはさみこ
んだ選択光透過性合せガラスに関する。ビル住宅
等の建物及び自動車、電車等の乗物の透明窓から
入射する太陽エネルギーを遮断しかつ室内、車内
から窓を通して放散する冷輻射を遮断する事は室
内、車内の冷暖房効果を向上させるという断熱性
向上による省エネルギー効果のみならず居住空間
のより一層の快適化、室内及び車内備品の日焼け
防止及びプライバシーの保護等の点から重要であ
る。 これら窓等の透明開孔部を断熱する方法として
は、従来アルミニウム又はステンレス等の金属薄
膜あるいは金、銀及び銅等の貴金属あるいはそれ
らを主成分とする各種合金等の導電性薄膜を、透
明高屈折率誘電体層ではさんだ積層構造の積層
体、及び酸化インジウム、酸化スズ、酸化カドミ
ウム・スズ等の透明導電薄膜がよく知られてお
り、それぞれ熱線反射フイルム、熱線反射ガラス
として利用されている。 しかし、ビル及び住宅等の建物窓及び自動車及
び電車等の乗物窓の断熱効果を考えた場合、入射
する太陽エネルギーの遮断率を高めた方が省エネ
ルギー及び快適化により一層効果的である場合が
多い。しかし従来の技術において例えば金属薄
膜、及び誘電体／貴金属薄膜／誘電体の積層体を
応用する様な場合においては太陽エネルギーの遮
断率を高めると必然的に人間の目に感じ得る可視
光透過率が減じ、透明な窓という機能を損う場合
が多かつた。 又、In2O3、SnO2及びCdSnO2等の透明導電薄
膜の場合には本来太陽エネルギーの透過率が高い
という特性を有しており、太陽エネルギーの遮断
率を高めるという用途にはむいていない。 太陽から放射されているエネルギーを下記 紫外部 300nｍ〜450nｍ 可視部 450nｍ〜700nｍ 近赤外部 700nｍ〜2600nｍ のように分けて考えてみると太陽エネルギー分
布の中に占める各割合は紫外部4.4％、可視部
46.3％、近赤外部49.3％であり可視部と近赤外部
がほぼ1/2ずつを占める事が解る。 これらから透明な窓部の機能を損なわずに太陽
エネルギー入射の遮断率を向上させるためには可
視部の遮断率はあまり低下させず近赤外部の遮断
率を向上させれば良い事が解る。理想的には可視
部の遮断がなくて近赤外部を100％遮断できれば、
人間の目には何ら暗さを与える事なく太陽エネル
ギー入射の50％を遮断できるという事である。 本発明の目的は、かかる光選択透過性の向上し
た積層シートとして、フアブリ・ペロー・フイル
ターを応用し、かかる積層シートを熱可塑性樹脂
層を接着層として透明板の間にはさみこんだ、可
視部に明るく太陽エネルギー遮断率にすぐれた光
選択透過性合せガラスを提供する事にある。 選択光透過性を有する積層シートとしては従来
フアブリ・ペロー・フイルターがよく知られてい
る。 これは相対する半透性鏡の間に特定の光学膜厚
を有する透明誘電体をはさみこむ事によつて形成
される干渉フイルターであり、特定波長の光を選
択的に透過するフイルターである。このフアブ
リ・ペロー・フイルターを応用すると可視部の透
過特性が高く近赤外部の反射特性の高い、選択光
透過性フイルターが得られる事が米国特許第
3682528号明細書に示されている。当該明細書に
よれば例えば基板／金属層／誘電体／金属層／誘
電体の構成として、ガラス／Ni／Ag／Al2O3／
Ni／Ag／Al2O3という構成体で400nｍから700n
ｍにおける透過率が70％以上であり、かつ反射率
が10％、700nｍ以上から2500nｍでの透過率が10
％以下であり、かつ反射率が約90％以上の選択光
透過性積層体が得られている。 フアブリ・ペロー・フイルターにおいては半透
過性鏡である金属層の膜厚を薄くすれば透過波長
幅が拡大しかつ透過率が向上する事、又誘電体の
屈折率を低くすれば、透過波長帯域が狭くなる事
が理論的に知られている。例えば、計算により誘
電体の屈折率と厚さを、透過波長ピークが500n
ｍになる様に選び、金属膜厚を充分薄くすること
によつて可視部の透過特性が高く、近赤外部の遮
断性の良いフイルターを構成する事ができる。 従来フイルターの用途としては、精密光学用途
が主でありその点から光学定数が安定した吸収の
少い金属酸化物等の金属化合物が透明誘電体とし
て用いられていた。しかし、太陽エネルギーの遮
断等省エネルギーの分野において利用し、有効な
効果を上げるためには窓等への大面積への適用が
不可欠である。 この事は従来の金属化合物を透明誘電体として
用いていたのでは工業規模での生産は不可能であ
り、実際の応用ができない事を意味している。こ
の事は金属酸化物等によつて金属薄膜層の表面を
均一に大面積にわたつて連続的に被覆する技術が
いまだ未完成の技術である事を意味している。金
属酸化物の膜厚が薄く、50Å以下である様な場合
は金属薄膜層上の金属薄膜を熱酸化等によつて透
明な酸化物薄膜層にする事も可能ではある。 しかし本発明の透明誘電体層(F)の様に約1.000
Åの膜厚を有する場合にはかかる透明誘電体層(F)
を均一に大面積にわたつて工業的規模での生産を
行う事は不可能であると言える。 我々はかかる技術的困難を排除し、フアブリ・
ペロー・フイルターを広く省エネルギー用途に応
用すべく鋭意検討した結果フアブリ・ペロー・フ
イルターに有機化合物からなる透明誘電体層(F)を
応用する事により、可視光に透明で均一な光学特
性を有する光選択透過性積層シートを大面積にわ
たつて作成する事が可能であり更にかかる光選択
透過性積層シートを熱可塑性樹脂層を介して透明
板にはさみこむ事によつて実際の応用にも非常に
簡便であり、かつ太陽エネルギー遮断率にすぐれ
た光選択光透過性合せガラスを形成できる事を見
出し本発明に到達したものである。 すなわち本発明は、透明板(A)、熱可塑性透明樹
脂層(B)、積層シート(C)、熱可塑性透明樹脂層(B)、
透明板(A)を順次積層してなる合せガラスにおい
て、該積層シートが透明基板(D)上に順次、金属薄
膜層(E)、透明誘電体層(F)金属薄膜層(E)を積層して
なる積層シート(C)であり、かつ該透明誘電体層(F)
が、熱可塑性樹脂からなる有機化合物から形成さ
れている事を特徴とする光選択透過性合せガラス
である。 本発明でいう透明板(A)とは可視光に透明でな板
であれば特に限定されるものではないが無機化合
物においてはガラスの様なものあるいは石英板等
の金属酸化物混合体板、金属酸化物板等が用いら
れる。透明性は少くとも可視550ｍμの波長の光
を70％以上通す事が好ましが、着色剤等を添加し
た様な場合にはJIS3212で規定される透過率が少
くとも60％以上ある事が好ましい。 有機化合物においては、有機ガラスとして知ら
れるシート状のものが好ましく、例えばポリカー
ボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニール樹脂
等が好ましく用いられる。 透明板(A)の厚さは限定されるものではなく用途
に応じて100μｍ程度から数10mm程度まで適宜選
ぶ事ができる。（以上の説明から理解される如く、
本発明において「ガラス」とは必ずしも通常の無
機ガラスのみではなく広く有機物質迄をも意味し
ているのである。）熱可塑性透明樹脂層(B)として
は、例えばポリビニルブチラール樹脂、ポリアク
リル酸エステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリエチレンポ
リプロピレン共重合体樹脂等があり、一般によく
知られている接着剤、粘着剤が使用できる。特に
透明板(A)が無機ガラス板の場合、熱可塑性透明樹
脂層(B)としてはポリビニルブチラールが安全ガラ
スとして好ましく用いられる。 熱可塑性透明樹脂層(B)の膜厚は特に限定される
ものではないが安全ガラスとしての機能をもたせ
るためにはそれぞれ100μｍ以上の膜厚を有する
事が好ましい。 本発明に用いられる熱可塑性透明樹脂層(B)は２
つに分けられるが、それぞれが同一の膜厚であつ
ても良く又、異つた膜厚を有していても良い。又
熱可塑性透明樹脂層(B)の中にその特性を損なわな
い程度の着色剤、紫外線吸収剤、安定剤、可塑剤
を含有せしめても何らさしつかえない。 本発明でいう透明基板(D)としては特に限定され
ないが、本発明の光選択透過性合せガラスに用い
るフイルムとしては可視光500ｍμにおける透過
率が70％以上ある事が好ましい。 この条件を満す透明基板(D)であれば従来公知の
いかなるフイルムでも良いがその内、例えばポリ
エチレンテレフタレートフイルム、ポリカーボネ
ートフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポリエ
チレンフイルム、ポリエチレンナフタレートフイ
ルム、ポリサルホンフイルム、ポリエーテルサル
ホンフイルム、ナイロンフイルム等が好ましく用
いられる。 これら透明基板(D)にはその機械的特性、及び光
学的特性を損なわない程度の着色剤、紫外線吸収
剤等を含有せしめても本発明においては何ら差し
つかえない。又、これら透明基板(D)の膜厚は特に
限定されるものではなく透明基板(D)に使用される
樹脂の機械的な強さ、光学的性質によつて5μｍ
から250μｍの厚さを有している事が好ましい。 本発明の積層シートに用いられる金属薄膜層(E)
の材料としては可視光領域の吸収損失が少く、電
気伝導性の高い金属又は合金ならばいかなるもの
でも良いが、中でもとりわけ銀を主成分にしてい
る事が好ましい。他に含有させうる金属として
は、金、銅、アルミニウム等が好ましいが銀の有
する特性を低下せしめない含有量であればどの様
な金属を含んでいてもさしつかえない。銀の含有
量は得られる積層シートの光学特性を支配する重
要な因子であり少くとも40重量％、好ましくは50
重量％以上含有されている事が好ましい。 又、特に赤外反射能の高い積層シートを得る為
には金、銀、銅の三元素から選ばれた２種又は３
種の金属からなる合金の金属薄膜層(E)あるいはそ
れらの単独の金属薄膜層(E)である事が好ましい。 金属薄膜層(E)の膜厚は得られた積層シートの光
学特性における要求特性を満足すれば特に限定さ
れるものではないが、赤外光反射能、又は電気電
導性をもつためには、少くともある程度の領域で
膜としての連続性をもつことが必要である。金属
薄膜が島状構造から連続構造にうつる膜厚として
約30Å以上、又本発明の目的である可視光の透過
特性を高くするためには500Å以下である事が好
ましい。積層シートが充分な可視光透過率と充分
な赤外反射率を有するためには金属薄膜層(E)の膜
厚は約40Å以上、約120Å以下である事が特に好
ましい。 金属薄膜層(E)を形成する方法は、例えば真空蒸
着法、カソードスパツタリング法、イオンプレー
テイング法等の他に従来公知のいずれの方法でも
可能であるが、120Å以下の膜厚で安定な膜を形
成せしめるためにはカソードスパツタリング法、
イオンプレーテイング法等の高エネルギー粒子に
よる膜形成法が好ましい。特に合金薄膜を得る場
合には形成薄膜合金組成の均一性、形成薄膜膜厚
の均一性の点からカソードスパツタリング法が好
ましい。 又、金属薄膜層(E)を形成する際に薄膜である金
属層の安定化を画るために公知の方法で基板とな
る材料に前処理をほどこす事ができる。これらの
方法は、例えばイオンボンバードメントの様な表
面クリーニング処理、有機シリケート、有機チタ
ネート、有機ジルコネート化合物の塗工等の下塗
り処理、及び／又は金属Ni、Ti、Si、Bi、Zr、
Ｖ、Ta、等及びこれら金属の酸化物等をスパツ
タリング等によつて前もつて形成する核形成安定
化処理等があり積層体の光学特性に悪影響を与え
ない範囲で適当に選択して使用すれば良い。これ
らの前処理が厚みの増加を伴う処理の場合はその
厚さは100Å以下である事が好ましい。又、これ
らと同等の処理を金属薄膜層(E)の表面に行つて金
属薄膜層(E)の安定化及び保護を計る事も可能であ
る。 本発明に用いられる透明誘電体層(F)としては光
学的に透明で均一な塗工が可能な有機化合物であ
れば何でも用いる事が可能である。しかし光学フ
イルターの用途に用いるものであるため厚さ1μ
の層を形成した時に500ｍμの光を85％以上透過
し、表面凹凸が少く局部的な濁り等のない均質な
透明誘電体層(F)を形成しうる有機化合物である事
が好ましい。 これらに適合した有機化合物としてはフツ化ビ
ニルヘキサフルオロプロピレン共重合体、フツ化
ビニリデンテトラフルオロエチレン共重合体、ク
ロロトリフルオロエチレンフツ化ビニル共重合
体、フツ化ビニリデンクロロトリフルオロエチレ
ン共重合体等のフツ素樹脂等、アクリロニトリ
ル、ポリメタアクリロニトリル、ポリメチルメタ
アクリレート等のアクリル樹脂、アクリレート樹
脂及びそれらの混合物あるいは共重合体、ポリス
チレン樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、
ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、フエノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン樹脂、等の樹脂及びそれらの混合物、
共重合体及び以上挙げたものの架橋化物が好まし
く用いられる。特に屈折率の低いフツ素樹脂を用
いると近赤外部の遮断率を高める事が可能であ
る。透明誘電体層(F)の膜厚は、選択透過させる波
長と得られた透明誘電体層(F)の屈折率との関係に
よつて決定される。屈折率が1.35〜1.65の間にあ
る有機化合物の場合には、1400Å〜1150Åの膜厚
にすれば可視500nｍに最大透過率を有する積層
体となる。この様に透明誘電体層(F)の膜厚は所望
する光学特性と、透明誘電体層(F)の屈折率によつ
て適当に決定する事ができる。透明誘電体層(F)の
形成方法としては選ばれた樹脂を溶解できる溶剤
に適当な濃度の樹脂を溶解せしめ、小面積であれ
ばスピンコーテイングバーコーター、ドクターナ
イフ等で塗工し、乾燥する事によつて得る事がで
きる。大面積の場合には、グラビアロールコー
タ、リバースロールコータ等の機械により塗工後
乾燥する事により任意の厚さの透明誘電体層(F)を
形成する事ができる。乾燥させる温度は使用する
樹脂、溶剤にもよつて異るが、通常80℃〜150℃
である。 本発明の積層シートの様に光学的用途に有機化
合物を用いる場合、得られた塗膜の物性が積層体
の光学特性を支配するため、純度ならびに均一性
にすぐれた樹脂を選ぶ必要性があるとともに塗工
法も均一な膜厚が達成できる方法を適宜選択する
必要がある。好ましくは設定膜厚の±５％以内の
膜厚範囲におさえる必要がある。以下、実施例に
おいて本発明の具体的説明を行う。 実施例 １ ２軸延伸した厚さ50μのポリエステルフイルム
を基板としその上に第１層として厚さ80Åの銀銅
合金薄膜層（銅を10重量％含有）、第２層として
厚さ1400Åのフツ化ビニルヘキサフルオロプロピ
レン共重合体からなる透明誘電体層第３層として
厚さ80Åの銀銅合金薄膜層（銅を10重量％含有）
からなる積層体を形成した。 銅を10重量％含む銀銅合金薄膜層は、銅を10重
量％含む銀銅合金をターゲツトとしArガス圧力
５×10-3TorrにおけるDCマグネトロンスパツタ
リングによつて形成した。投入電力はターゲツト
の単位面積あたり2W／cm2であつた。透明誘電体
層は、フツ化ビニルヘキサフルオロプロピレン共
重合体をメチルエチルケトン２部、メチルイソブ
チルケトン１部、酢酸セルソルブ２部からなる溶
剤に３重量％溶解しバーコータを用いて塗工し
100℃で３分乾燥する事によつて得た。 得られた積層体の両側に厚さ300μｍのポリビ
ニルブチラールシートを合せ、更にその両面に厚
さ３mmのフロートガラスを合せた後１Kg／cm2の圧
力をかけながら120℃で３時間保持する事により
光選択透過性合せガラスを作成した。得られた光
選択透過性合せガラスの、太陽エネルギーの強度
分布で規格化した積分可視光透過率は72％
（400nｍから700nｍ）であり、積分近赤外光透過
率（750nｍから2100nｍ）は27％であつた。 比較例 １ 実施例１で用いたと同じポリエステルフイルム
基板の上に、第１層として厚さ200Åの酸化チワ
ン薄膜層第２層として銅を10重量％含む厚さ120
Åの銀銅合薄膜層、第３層として厚さ200Åの酸
化チタン薄膜層からなる積層体を形成した。 酸化チタン薄膜層はテトラブチルチタネートを
５重量％含むｎ−ヘキサン２部、ｎ−ブタノール
１部からなる溶液をバーコータで塗工し、130℃
で２分間乾燥して得た。銅を10重量％含む銀銅合
金薄膜層は実施例１と同様の方法で得た。 得られた積層体を実施例１と同様の方法でポリ
ビニルブチラールシート、フロートガラスとラミ
ネートし光選択透過性合せガラスを作成した。 得られた光選択透過性合せガラスの積分可視透
過率は73％であり、積分近赤外光透過率は47％で
あつた。実施例１と比較して近赤外光の透過率が
高く選択透過特性が低かつた。 実施例 ２ 実施例１で用いたポリエステルフイルム上に厚
さ20Åの酸化チタン層、金を15重量％含む厚さ90
Åの銀金合金薄膜層、厚さ20Åの酸化チタン層、
ポリメタアクリロニトリルからなる厚さ1.000Å
の誘明誘電体層、厚さ20Å酸化チタン層、金を15
重量％含む厚さ90Åの銀金合金薄膜層、厚さ20Å
の酸化チタン層を順次積層してなる積層体を得
た。 金を15重量％含む厚さ90Åの銀金薄膜層は金を
15重量％含む銀金からなる合金をターゲツトとし
てDCマグネトロンスパツタリング法によつて形
成した。厚さ20Åの酸化チタン薄膜層は、Tiを
ターゲツトとしO2を２重量％含んだArを
30SCCM流しながら５×10-3Torrの圧力下でDC
マグネトロンスパツタリングによりTiとO2を反
応させながら形成した。透明誘電体層はポリメタ
アクリロニトリルを２重量％含む、シクロヘキサ
ノン２部、メチルエチルケトン１部からなる溶液
をバーコータで塗工し130℃で２分間乾燥する事
によつて得た。 得られた積層体を厚さ380μｍのポリビニルブ
チラールシートで両側からラミネートし厚さ３mm
のフロートガラスで両側からはさんだ後３Kg１cm2
の圧力下で120℃の温度に２時間保つことにより
光選択透過性合せ窓を作成した。 得られた光選択透過性合せ窓の積分可視透過率
は71％積分可視透過率は28％であつた。 実施例 ３、４及び５ 厚さ75μの２軸延伸ポリエステルフイルム上に
表１に示す厚さ15Åの金属メの酸化物からなる前
処理層厚さ30Åの銅を５重量％含む銀銅合金薄膜
層、厚さ1000Åのポリメタアクリロニトリルから
なる透明誘電体層、厚さ20Åの前記金属Ｘの酸化
物からなる前処理層、厚さ80Aの銅を５重量％含
む銀銅合金薄膜層を順次積層して積層体を得た。 銅を５重量％含む銀銅合金薄膜層は、銅を５重
量％含む銀銅合金をターゲツトとしDCマグネト
ロンスパツタリング法により実施例１と同様の方
法で形成した。金属Ｘの酸化物からなる前処理層
は金属Ｘ（Si、Ti、Zr）をターゲツトとしたDC
マグネトロンスパツタリングで金属Ｘの薄膜を形
成ししかるのち空気中に10分間放置し自然酸化さ
せて金属Ｘの酸化物とした。ポリメタアクリロニ
トリルからなる透明誘電体層は実施例２と同様の
方法で設けた。 得られた積層体を実施例１と同様の方法で選択
光透過性合せ窓とした。得られた選択光透過性合
せガラスの光学特性を表１に記す。
する選択光透過性合せガラスに関する。更に詳し
くは選択光透過性を有する積層シートをはさみこ
んだ選択光透過性合せガラスに関する。ビル住宅
等の建物及び自動車、電車等の乗物の透明窓から
入射する太陽エネルギーを遮断しかつ室内、車内
から窓を通して放散する冷輻射を遮断する事は室
内、車内の冷暖房効果を向上させるという断熱性
向上による省エネルギー効果のみならず居住空間
のより一層の快適化、室内及び車内備品の日焼け
防止及びプライバシーの保護等の点から重要であ
る。 これら窓等の透明開孔部を断熱する方法として
は、従来アルミニウム又はステンレス等の金属薄
膜あるいは金、銀及び銅等の貴金属あるいはそれ
らを主成分とする各種合金等の導電性薄膜を、透
明高屈折率誘電体層ではさんだ積層構造の積層
体、及び酸化インジウム、酸化スズ、酸化カドミ
ウム・スズ等の透明導電薄膜がよく知られてお
り、それぞれ熱線反射フイルム、熱線反射ガラス
として利用されている。 しかし、ビル及び住宅等の建物窓及び自動車及
び電車等の乗物窓の断熱効果を考えた場合、入射
する太陽エネルギーの遮断率を高めた方が省エネ
ルギー及び快適化により一層効果的である場合が
多い。しかし従来の技術において例えば金属薄
膜、及び誘電体／貴金属薄膜／誘電体の積層体を
応用する様な場合においては太陽エネルギーの遮
断率を高めると必然的に人間の目に感じ得る可視
光透過率が減じ、透明な窓という機能を損う場合
が多かつた。 又、In2O3、SnO2及びCdSnO2等の透明導電薄
膜の場合には本来太陽エネルギーの透過率が高い
という特性を有しており、太陽エネルギーの遮断
率を高めるという用途にはむいていない。 太陽から放射されているエネルギーを下記 紫外部 300nｍ〜450nｍ 可視部 450nｍ〜700nｍ 近赤外部 700nｍ〜2600nｍ のように分けて考えてみると太陽エネルギー分
布の中に占める各割合は紫外部4.4％、可視部
46.3％、近赤外部49.3％であり可視部と近赤外部
がほぼ1/2ずつを占める事が解る。 これらから透明な窓部の機能を損なわずに太陽
エネルギー入射の遮断率を向上させるためには可
視部の遮断率はあまり低下させず近赤外部の遮断
率を向上させれば良い事が解る。理想的には可視
部の遮断がなくて近赤外部を100％遮断できれば、
人間の目には何ら暗さを与える事なく太陽エネル
ギー入射の50％を遮断できるという事である。 本発明の目的は、かかる光選択透過性の向上し
た積層シートとして、フアブリ・ペロー・フイル
ターを応用し、かかる積層シートを熱可塑性樹脂
層を接着層として透明板の間にはさみこんだ、可
視部に明るく太陽エネルギー遮断率にすぐれた光
選択透過性合せガラスを提供する事にある。 選択光透過性を有する積層シートとしては従来
フアブリ・ペロー・フイルターがよく知られてい
る。 これは相対する半透性鏡の間に特定の光学膜厚
を有する透明誘電体をはさみこむ事によつて形成
される干渉フイルターであり、特定波長の光を選
択的に透過するフイルターである。このフアブ
リ・ペロー・フイルターを応用すると可視部の透
過特性が高く近赤外部の反射特性の高い、選択光
透過性フイルターが得られる事が米国特許第
3682528号明細書に示されている。当該明細書に
よれば例えば基板／金属層／誘電体／金属層／誘
電体の構成として、ガラス／Ni／Ag／Al2O3／
Ni／Ag／Al2O3という構成体で400nｍから700n
ｍにおける透過率が70％以上であり、かつ反射率
が10％、700nｍ以上から2500nｍでの透過率が10
％以下であり、かつ反射率が約90％以上の選択光
透過性積層体が得られている。 フアブリ・ペロー・フイルターにおいては半透
過性鏡である金属層の膜厚を薄くすれば透過波長
幅が拡大しかつ透過率が向上する事、又誘電体の
屈折率を低くすれば、透過波長帯域が狭くなる事
が理論的に知られている。例えば、計算により誘
電体の屈折率と厚さを、透過波長ピークが500n
ｍになる様に選び、金属膜厚を充分薄くすること
によつて可視部の透過特性が高く、近赤外部の遮
断性の良いフイルターを構成する事ができる。 従来フイルターの用途としては、精密光学用途
が主でありその点から光学定数が安定した吸収の
少い金属酸化物等の金属化合物が透明誘電体とし
て用いられていた。しかし、太陽エネルギーの遮
断等省エネルギーの分野において利用し、有効な
効果を上げるためには窓等への大面積への適用が
不可欠である。 この事は従来の金属化合物を透明誘電体として
用いていたのでは工業規模での生産は不可能であ
り、実際の応用ができない事を意味している。こ
の事は金属酸化物等によつて金属薄膜層の表面を
均一に大面積にわたつて連続的に被覆する技術が
いまだ未完成の技術である事を意味している。金
属酸化物の膜厚が薄く、50Å以下である様な場合
は金属薄膜層上の金属薄膜を熱酸化等によつて透
明な酸化物薄膜層にする事も可能ではある。 しかし本発明の透明誘電体層(F)の様に約1.000
Åの膜厚を有する場合にはかかる透明誘電体層(F)
を均一に大面積にわたつて工業的規模での生産を
行う事は不可能であると言える。 我々はかかる技術的困難を排除し、フアブリ・
ペロー・フイルターを広く省エネルギー用途に応
用すべく鋭意検討した結果フアブリ・ペロー・フ
イルターに有機化合物からなる透明誘電体層(F)を
応用する事により、可視光に透明で均一な光学特
性を有する光選択透過性積層シートを大面積にわ
たつて作成する事が可能であり更にかかる光選択
透過性積層シートを熱可塑性樹脂層を介して透明
板にはさみこむ事によつて実際の応用にも非常に
簡便であり、かつ太陽エネルギー遮断率にすぐれ
た光選択光透過性合せガラスを形成できる事を見
出し本発明に到達したものである。 すなわち本発明は、透明板(A)、熱可塑性透明樹
脂層(B)、積層シート(C)、熱可塑性透明樹脂層(B)、
透明板(A)を順次積層してなる合せガラスにおい
て、該積層シートが透明基板(D)上に順次、金属薄
膜層(E)、透明誘電体層(F)金属薄膜層(E)を積層して
なる積層シート(C)であり、かつ該透明誘電体層(F)
が、熱可塑性樹脂からなる有機化合物から形成さ
れている事を特徴とする光選択透過性合せガラス
である。 本発明でいう透明板(A)とは可視光に透明でな板
であれば特に限定されるものではないが無機化合
物においてはガラスの様なものあるいは石英板等
の金属酸化物混合体板、金属酸化物板等が用いら
れる。透明性は少くとも可視550ｍμの波長の光
を70％以上通す事が好ましが、着色剤等を添加し
た様な場合にはJIS3212で規定される透過率が少
くとも60％以上ある事が好ましい。 有機化合物においては、有機ガラスとして知ら
れるシート状のものが好ましく、例えばポリカー
ボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニール樹脂
等が好ましく用いられる。 透明板(A)の厚さは限定されるものではなく用途
に応じて100μｍ程度から数10mm程度まで適宜選
ぶ事ができる。（以上の説明から理解される如く、
本発明において「ガラス」とは必ずしも通常の無
機ガラスのみではなく広く有機物質迄をも意味し
ているのである。）熱可塑性透明樹脂層(B)として
は、例えばポリビニルブチラール樹脂、ポリアク
リル酸エステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリエチレンポ
リプロピレン共重合体樹脂等があり、一般によく
知られている接着剤、粘着剤が使用できる。特に
透明板(A)が無機ガラス板の場合、熱可塑性透明樹
脂層(B)としてはポリビニルブチラールが安全ガラ
スとして好ましく用いられる。 熱可塑性透明樹脂層(B)の膜厚は特に限定される
ものではないが安全ガラスとしての機能をもたせ
るためにはそれぞれ100μｍ以上の膜厚を有する
事が好ましい。 本発明に用いられる熱可塑性透明樹脂層(B)は２
つに分けられるが、それぞれが同一の膜厚であつ
ても良く又、異つた膜厚を有していても良い。又
熱可塑性透明樹脂層(B)の中にその特性を損なわな
い程度の着色剤、紫外線吸収剤、安定剤、可塑剤
を含有せしめても何らさしつかえない。 本発明でいう透明基板(D)としては特に限定され
ないが、本発明の光選択透過性合せガラスに用い
るフイルムとしては可視光500ｍμにおける透過
率が70％以上ある事が好ましい。 この条件を満す透明基板(D)であれば従来公知の
いかなるフイルムでも良いがその内、例えばポリ
エチレンテレフタレートフイルム、ポリカーボネ
ートフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポリエ
チレンフイルム、ポリエチレンナフタレートフイ
ルム、ポリサルホンフイルム、ポリエーテルサル
ホンフイルム、ナイロンフイルム等が好ましく用
いられる。 これら透明基板(D)にはその機械的特性、及び光
学的特性を損なわない程度の着色剤、紫外線吸収
剤等を含有せしめても本発明においては何ら差し
つかえない。又、これら透明基板(D)の膜厚は特に
限定されるものではなく透明基板(D)に使用される
樹脂の機械的な強さ、光学的性質によつて5μｍ
から250μｍの厚さを有している事が好ましい。 本発明の積層シートに用いられる金属薄膜層(E)
の材料としては可視光領域の吸収損失が少く、電
気伝導性の高い金属又は合金ならばいかなるもの
でも良いが、中でもとりわけ銀を主成分にしてい
る事が好ましい。他に含有させうる金属として
は、金、銅、アルミニウム等が好ましいが銀の有
する特性を低下せしめない含有量であればどの様
な金属を含んでいてもさしつかえない。銀の含有
量は得られる積層シートの光学特性を支配する重
要な因子であり少くとも40重量％、好ましくは50
重量％以上含有されている事が好ましい。 又、特に赤外反射能の高い積層シートを得る為
には金、銀、銅の三元素から選ばれた２種又は３
種の金属からなる合金の金属薄膜層(E)あるいはそ
れらの単独の金属薄膜層(E)である事が好ましい。 金属薄膜層(E)の膜厚は得られた積層シートの光
学特性における要求特性を満足すれば特に限定さ
れるものではないが、赤外光反射能、又は電気電
導性をもつためには、少くともある程度の領域で
膜としての連続性をもつことが必要である。金属
薄膜が島状構造から連続構造にうつる膜厚として
約30Å以上、又本発明の目的である可視光の透過
特性を高くするためには500Å以下である事が好
ましい。積層シートが充分な可視光透過率と充分
な赤外反射率を有するためには金属薄膜層(E)の膜
厚は約40Å以上、約120Å以下である事が特に好
ましい。 金属薄膜層(E)を形成する方法は、例えば真空蒸
着法、カソードスパツタリング法、イオンプレー
テイング法等の他に従来公知のいずれの方法でも
可能であるが、120Å以下の膜厚で安定な膜を形
成せしめるためにはカソードスパツタリング法、
イオンプレーテイング法等の高エネルギー粒子に
よる膜形成法が好ましい。特に合金薄膜を得る場
合には形成薄膜合金組成の均一性、形成薄膜膜厚
の均一性の点からカソードスパツタリング法が好
ましい。 又、金属薄膜層(E)を形成する際に薄膜である金
属層の安定化を画るために公知の方法で基板とな
る材料に前処理をほどこす事ができる。これらの
方法は、例えばイオンボンバードメントの様な表
面クリーニング処理、有機シリケート、有機チタ
ネート、有機ジルコネート化合物の塗工等の下塗
り処理、及び／又は金属Ni、Ti、Si、Bi、Zr、
Ｖ、Ta、等及びこれら金属の酸化物等をスパツ
タリング等によつて前もつて形成する核形成安定
化処理等があり積層体の光学特性に悪影響を与え
ない範囲で適当に選択して使用すれば良い。これ
らの前処理が厚みの増加を伴う処理の場合はその
厚さは100Å以下である事が好ましい。又、これ
らと同等の処理を金属薄膜層(E)の表面に行つて金
属薄膜層(E)の安定化及び保護を計る事も可能であ
る。 本発明に用いられる透明誘電体層(F)としては光
学的に透明で均一な塗工が可能な有機化合物であ
れば何でも用いる事が可能である。しかし光学フ
イルターの用途に用いるものであるため厚さ1μ
の層を形成した時に500ｍμの光を85％以上透過
し、表面凹凸が少く局部的な濁り等のない均質な
透明誘電体層(F)を形成しうる有機化合物である事
が好ましい。 これらに適合した有機化合物としてはフツ化ビ
ニルヘキサフルオロプロピレン共重合体、フツ化
ビニリデンテトラフルオロエチレン共重合体、ク
ロロトリフルオロエチレンフツ化ビニル共重合
体、フツ化ビニリデンクロロトリフルオロエチレ
ン共重合体等のフツ素樹脂等、アクリロニトリ
ル、ポリメタアクリロニトリル、ポリメチルメタ
アクリレート等のアクリル樹脂、アクリレート樹
脂及びそれらの混合物あるいは共重合体、ポリス
チレン樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、
ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、フエノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン樹脂、等の樹脂及びそれらの混合物、
共重合体及び以上挙げたものの架橋化物が好まし
く用いられる。特に屈折率の低いフツ素樹脂を用
いると近赤外部の遮断率を高める事が可能であ
る。透明誘電体層(F)の膜厚は、選択透過させる波
長と得られた透明誘電体層(F)の屈折率との関係に
よつて決定される。屈折率が1.35〜1.65の間にあ
る有機化合物の場合には、1400Å〜1150Åの膜厚
にすれば可視500nｍに最大透過率を有する積層
体となる。この様に透明誘電体層(F)の膜厚は所望
する光学特性と、透明誘電体層(F)の屈折率によつ
て適当に決定する事ができる。透明誘電体層(F)の
形成方法としては選ばれた樹脂を溶解できる溶剤
に適当な濃度の樹脂を溶解せしめ、小面積であれ
ばスピンコーテイングバーコーター、ドクターナ
イフ等で塗工し、乾燥する事によつて得る事がで
きる。大面積の場合には、グラビアロールコー
タ、リバースロールコータ等の機械により塗工後
乾燥する事により任意の厚さの透明誘電体層(F)を
形成する事ができる。乾燥させる温度は使用する
樹脂、溶剤にもよつて異るが、通常80℃〜150℃
である。 本発明の積層シートの様に光学的用途に有機化
合物を用いる場合、得られた塗膜の物性が積層体
の光学特性を支配するため、純度ならびに均一性
にすぐれた樹脂を選ぶ必要性があるとともに塗工
法も均一な膜厚が達成できる方法を適宜選択する
必要がある。好ましくは設定膜厚の±５％以内の
膜厚範囲におさえる必要がある。以下、実施例に
おいて本発明の具体的説明を行う。 実施例 １ ２軸延伸した厚さ50μのポリエステルフイルム
を基板としその上に第１層として厚さ80Åの銀銅
合金薄膜層（銅を10重量％含有）、第２層として
厚さ1400Åのフツ化ビニルヘキサフルオロプロピ
レン共重合体からなる透明誘電体層第３層として
厚さ80Åの銀銅合金薄膜層（銅を10重量％含有）
からなる積層体を形成した。 銅を10重量％含む銀銅合金薄膜層は、銅を10重
量％含む銀銅合金をターゲツトとしArガス圧力
５×10-3TorrにおけるDCマグネトロンスパツタ
リングによつて形成した。投入電力はターゲツト
の単位面積あたり2W／cm2であつた。透明誘電体
層は、フツ化ビニルヘキサフルオロプロピレン共
重合体をメチルエチルケトン２部、メチルイソブ
チルケトン１部、酢酸セルソルブ２部からなる溶
剤に３重量％溶解しバーコータを用いて塗工し
100℃で３分乾燥する事によつて得た。 得られた積層体の両側に厚さ300μｍのポリビ
ニルブチラールシートを合せ、更にその両面に厚
さ３mmのフロートガラスを合せた後１Kg／cm2の圧
力をかけながら120℃で３時間保持する事により
光選択透過性合せガラスを作成した。得られた光
選択透過性合せガラスの、太陽エネルギーの強度
分布で規格化した積分可視光透過率は72％
（400nｍから700nｍ）であり、積分近赤外光透過
率（750nｍから2100nｍ）は27％であつた。 比較例 １ 実施例１で用いたと同じポリエステルフイルム
基板の上に、第１層として厚さ200Åの酸化チワ
ン薄膜層第２層として銅を10重量％含む厚さ120
Åの銀銅合薄膜層、第３層として厚さ200Åの酸
化チタン薄膜層からなる積層体を形成した。 酸化チタン薄膜層はテトラブチルチタネートを
５重量％含むｎ−ヘキサン２部、ｎ−ブタノール
１部からなる溶液をバーコータで塗工し、130℃
で２分間乾燥して得た。銅を10重量％含む銀銅合
金薄膜層は実施例１と同様の方法で得た。 得られた積層体を実施例１と同様の方法でポリ
ビニルブチラールシート、フロートガラスとラミ
ネートし光選択透過性合せガラスを作成した。 得られた光選択透過性合せガラスの積分可視透
過率は73％であり、積分近赤外光透過率は47％で
あつた。実施例１と比較して近赤外光の透過率が
高く選択透過特性が低かつた。 実施例 ２ 実施例１で用いたポリエステルフイルム上に厚
さ20Åの酸化チタン層、金を15重量％含む厚さ90
Åの銀金合金薄膜層、厚さ20Åの酸化チタン層、
ポリメタアクリロニトリルからなる厚さ1.000Å
の誘明誘電体層、厚さ20Å酸化チタン層、金を15
重量％含む厚さ90Åの銀金合金薄膜層、厚さ20Å
の酸化チタン層を順次積層してなる積層体を得
た。 金を15重量％含む厚さ90Åの銀金薄膜層は金を
15重量％含む銀金からなる合金をターゲツトとし
てDCマグネトロンスパツタリング法によつて形
成した。厚さ20Åの酸化チタン薄膜層は、Tiを
ターゲツトとしO2を２重量％含んだArを
30SCCM流しながら５×10-3Torrの圧力下でDC
マグネトロンスパツタリングによりTiとO2を反
応させながら形成した。透明誘電体層はポリメタ
アクリロニトリルを２重量％含む、シクロヘキサ
ノン２部、メチルエチルケトン１部からなる溶液
をバーコータで塗工し130℃で２分間乾燥する事
によつて得た。 得られた積層体を厚さ380μｍのポリビニルブ
チラールシートで両側からラミネートし厚さ３mm
のフロートガラスで両側からはさんだ後３Kg１cm2
の圧力下で120℃の温度に２時間保つことにより
光選択透過性合せ窓を作成した。 得られた光選択透過性合せ窓の積分可視透過率
は71％積分可視透過率は28％であつた。 実施例 ３、４及び５ 厚さ75μの２軸延伸ポリエステルフイルム上に
表１に示す厚さ15Åの金属メの酸化物からなる前
処理層厚さ30Åの銅を５重量％含む銀銅合金薄膜
層、厚さ1000Åのポリメタアクリロニトリルから
なる透明誘電体層、厚さ20Åの前記金属Ｘの酸化
物からなる前処理層、厚さ80Aの銅を５重量％含
む銀銅合金薄膜層を順次積層して積層体を得た。 銅を５重量％含む銀銅合金薄膜層は、銅を５重
量％含む銀銅合金をターゲツトとしDCマグネト
ロンスパツタリング法により実施例１と同様の方
法で形成した。金属Ｘの酸化物からなる前処理層
は金属Ｘ（Si、Ti、Zr）をターゲツトとしたDC
マグネトロンスパツタリングで金属Ｘの薄膜を形
成ししかるのち空気中に10分間放置し自然酸化さ
せて金属Ｘの酸化物とした。ポリメタアクリロニ
トリルからなる透明誘電体層は実施例２と同様の
方法で設けた。 得られた積層体を実施例１と同様の方法で選択
光透過性合せ窓とした。得られた選択光透過性合
せガラスの光学特性を表１に記す。
【表】
実施例 ６
厚さ25μのナイロン−６フイルム上に厚さ80Å
の銅を10重量％含む銀銅合金薄膜層を第１層とし
て、第２層としてポリスチレンからなる厚さ
1.100Åの透明誘電体層を、第３層として厚さ80
Åの銅を10重量％含む銀銅合金薄膜層を順次積層
して積層体を得た。銅を10重量％含む銀銅合金薄
膜層は実施例１と同様の方法で形成した。ポリス
チレンからなる厚さ1.100Åの透明誘電体層はポ
リスチレンを３重量％含むトルエン３部、酢酸エ
チル２部からなる溶液をバーコータで塗工し90℃
で２分間乾燥して得た。得られた積層体を厚さ
100μｍのポリビニルブチラールシートでラミネ
ートし更に厚さ３mmのポリカーボネートシートで
両側からラミネートした後100℃の温度２Kg／cm3
の圧力化で接着し光選択透過性合せ窓を得た。 得られた光選択透過性積層体の積分可視透過率
は72％積分近赤外光透過率は28％であつた。 実施例 ７ 実施例１で用いたポリエステルフイルム上に下
塗り層としてテトラブチルチタネートから形成さ
れた厚さ20Åの酸化チタン層を得た。下塗り層の
上に厚さ100Åの銀薄膜層を形成し、更にポリメ
タアクリロニトリルからなる厚さ1.000Åの透明
誘電体層を形成し更に下塗り層としてテトラブチ
ルチタネートから形成された厚さ20Åの酸化チタ
ン層、更に厚さ100Åの銀薄膜層を順次積層して
積層体を得た。下塗り層の酸化チタン層はテトラ
ブチルチタネートを１重量％含むノルマルヘキサ
ン１部、ブタノール２部からなる溶液をバーコー
タで塗工し120℃に３分間乾燥して得た。 厚さ100Åの銀薄膜層は、銀をターゲツトとし
たDCマグネトロンスパツタリングによりAr圧力
５×10-3Torrで形成した。ポリメタアクリロニ
トリルからなる厚さ1000Åの透明誘電体層は実施
例２と同様の方法で設けた。 得られた積層体を厚さ380μｍのポリビニルブ
チラールシートで両側からラミネートし、しかる
後厚さ３mmのフロートガラスで両側を更にラミネ
ートした後90℃の温度、圧力１Kg／cm2で20分間接
着した。更に温度120℃圧力10Kg／cm2のオートク
レーブに入れて３時間保持し、光選択透過性安全
合せ窓を作成した。 得られた光選択透過性安全合せ窓の積分可視透
過率は73％積分近赤外光透過率は30％であつた。 実施例 ８ ２軸延伸した厚さ75μｍのポリエステルフイル
ムを基板とし、その上に第１層として厚さ80Åの
銀薄膜層、第２層として、メタアクリロニトリル
（90部）と２−ヒドロキシエチルメタアクリレー
ト（10部）との共重合体の架橋体からなる厚さ
800Åの透明誘電体層、第３層として厚さ80Åの
銀薄膜層を形成した。 第１、３層の銀薄膜層は、銀金属をターゲツト
としArガス圧力５×10-3Torr下DCマグネトロン
スパツタリングにより形成した。投入電力はター
ゲツトの単位面積あたり2W／cm2であつた。 第２層の透明誘電体層は、ポリメタアクリロニ
トリル90部と２−エチルヘキシルメタアクリレー
ト10部とから形成された共重合体１部とイソシア
ネート化合物（トリメチロールプロパンとキシリ
レンジイソシアネートとの付加物：タケネート
Ａ−10、武田薬品工業株式会社製）0.4部とを、
シクロヘキサノン−アセトン−メチルエチルケト
ン混合溶媒（混合比５：２：１）に上記共重合体
が２重量％の濃度になる様に溶解した溶液をバー
コーターで塗工し、120℃で２分間乾燥すること
により、上記共重合体が上記イソシアネート化合
物で架橋された薄膜層として形成した。 得られた積層体の波長500ｍμでの可視光透過
率は77％であり、同10μでの赤外光反射率は82％
であつた。 また上記積層体の、太陽エネルギーの強度分布
で規格化した積分可視光透過率は72％であり、同
積分近赤外光透過率は30％であつた。 上記積層体の両側に厚さ300μｍのポリビニル
ブチラールシートを合せ、更にその両面に厚さ３
mmのフロートガラスを合せた後、１Kg／cm2の圧力
をかけながら120℃で３時間保持することにより、
光選択透過性合せガラスを作成した。得られた光
選択透過性合せガラスの積分可視光透過率は71％
であり、積分近赤外光透過率は27％であつた。
の銅を10重量％含む銀銅合金薄膜層を第１層とし
て、第２層としてポリスチレンからなる厚さ
1.100Åの透明誘電体層を、第３層として厚さ80
Åの銅を10重量％含む銀銅合金薄膜層を順次積層
して積層体を得た。銅を10重量％含む銀銅合金薄
膜層は実施例１と同様の方法で形成した。ポリス
チレンからなる厚さ1.100Åの透明誘電体層はポ
リスチレンを３重量％含むトルエン３部、酢酸エ
チル２部からなる溶液をバーコータで塗工し90℃
で２分間乾燥して得た。得られた積層体を厚さ
100μｍのポリビニルブチラールシートでラミネ
ートし更に厚さ３mmのポリカーボネートシートで
両側からラミネートした後100℃の温度２Kg／cm3
の圧力化で接着し光選択透過性合せ窓を得た。 得られた光選択透過性積層体の積分可視透過率
は72％積分近赤外光透過率は28％であつた。 実施例 ７ 実施例１で用いたポリエステルフイルム上に下
塗り層としてテトラブチルチタネートから形成さ
れた厚さ20Åの酸化チタン層を得た。下塗り層の
上に厚さ100Åの銀薄膜層を形成し、更にポリメ
タアクリロニトリルからなる厚さ1.000Åの透明
誘電体層を形成し更に下塗り層としてテトラブチ
ルチタネートから形成された厚さ20Åの酸化チタ
ン層、更に厚さ100Åの銀薄膜層を順次積層して
積層体を得た。下塗り層の酸化チタン層はテトラ
ブチルチタネートを１重量％含むノルマルヘキサ
ン１部、ブタノール２部からなる溶液をバーコー
タで塗工し120℃に３分間乾燥して得た。 厚さ100Åの銀薄膜層は、銀をターゲツトとし
たDCマグネトロンスパツタリングによりAr圧力
５×10-3Torrで形成した。ポリメタアクリロニ
トリルからなる厚さ1000Åの透明誘電体層は実施
例２と同様の方法で設けた。 得られた積層体を厚さ380μｍのポリビニルブ
チラールシートで両側からラミネートし、しかる
後厚さ３mmのフロートガラスで両側を更にラミネ
ートした後90℃の温度、圧力１Kg／cm2で20分間接
着した。更に温度120℃圧力10Kg／cm2のオートク
レーブに入れて３時間保持し、光選択透過性安全
合せ窓を作成した。 得られた光選択透過性安全合せ窓の積分可視透
過率は73％積分近赤外光透過率は30％であつた。 実施例 ８ ２軸延伸した厚さ75μｍのポリエステルフイル
ムを基板とし、その上に第１層として厚さ80Åの
銀薄膜層、第２層として、メタアクリロニトリル
（90部）と２−ヒドロキシエチルメタアクリレー
ト（10部）との共重合体の架橋体からなる厚さ
800Åの透明誘電体層、第３層として厚さ80Åの
銀薄膜層を形成した。 第１、３層の銀薄膜層は、銀金属をターゲツト
としArガス圧力５×10-3Torr下DCマグネトロン
スパツタリングにより形成した。投入電力はター
ゲツトの単位面積あたり2W／cm2であつた。 第２層の透明誘電体層は、ポリメタアクリロニ
トリル90部と２−エチルヘキシルメタアクリレー
ト10部とから形成された共重合体１部とイソシア
ネート化合物（トリメチロールプロパンとキシリ
レンジイソシアネートとの付加物：タケネート
Ａ−10、武田薬品工業株式会社製）0.4部とを、
シクロヘキサノン−アセトン−メチルエチルケト
ン混合溶媒（混合比５：２：１）に上記共重合体
が２重量％の濃度になる様に溶解した溶液をバー
コーターで塗工し、120℃で２分間乾燥すること
により、上記共重合体が上記イソシアネート化合
物で架橋された薄膜層として形成した。 得られた積層体の波長500ｍμでの可視光透過
率は77％であり、同10μでの赤外光反射率は82％
であつた。 また上記積層体の、太陽エネルギーの強度分布
で規格化した積分可視光透過率は72％であり、同
積分近赤外光透過率は30％であつた。 上記積層体の両側に厚さ300μｍのポリビニル
ブチラールシートを合せ、更にその両面に厚さ３
mmのフロートガラスを合せた後、１Kg／cm2の圧力
をかけながら120℃で３時間保持することにより、
光選択透過性合せガラスを作成した。得られた光
選択透過性合せガラスの積分可視光透過率は71％
であり、積分近赤外光透過率は27％であつた。
Claims (1)
- １ 透明板(A)、熱可塑性透明樹脂層(B)、積層シー
ト(C)熱可塑性透明樹脂層(B)、透明板(A)を順次積層
してなる合せガラスにおいて、該積層シート(C)が
透明基板(D)上に順次、金属薄膜層(E)、透明誘電体
層(F)、金属薄膜層(E)を積層してなる積層シート(C)
でありかつ該透明誘電体層(F)が、熱可塑性樹脂か
らなる有機化合物から形成されている事を特徴と
する光選択透過性合せガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12896982A JPS5954647A (ja) | 1982-07-26 | 1982-07-26 | 光選択透過性合せガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12896982A JPS5954647A (ja) | 1982-07-26 | 1982-07-26 | 光選択透過性合せガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5954647A JPS5954647A (ja) | 1984-03-29 |
| JPS6311304B2 true JPS6311304B2 (ja) | 1988-03-14 |
Family
ID=14997881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12896982A Granted JPS5954647A (ja) | 1982-07-26 | 1982-07-26 | 光選択透過性合せガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5954647A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61148625U (ja) * | 1985-03-05 | 1986-09-13 | ||
| JPS646339A (en) * | 1987-06-27 | 1989-01-10 | Omron Tateisi Electronics Co | Two-pole transfer switch |
| KR101224616B1 (ko) * | 2010-07-22 | 2013-01-22 | 한화엘앤씨 주식회사 | 저방사 유리, 플라즈마를 이용한 저방사 유리 제조방법 및 그 제조장치 |
-
1982
- 1982-07-26 JP JP12896982A patent/JPS5954647A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5954647A (ja) | 1984-03-29 |
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