JPS63101788A - 多チヤンネル型半導体放射線検出器 - Google Patents
多チヤンネル型半導体放射線検出器Info
- Publication number
- JPS63101788A JPS63101788A JP61247742A JP24774286A JPS63101788A JP S63101788 A JPS63101788 A JP S63101788A JP 61247742 A JP61247742 A JP 61247742A JP 24774286 A JP24774286 A JP 24774286A JP S63101788 A JPS63101788 A JP S63101788A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation detector
- semiconductor radiation
- amplifier
- channel
- housing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 49
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 39
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 11
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 claims description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 10
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 abstract description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000002109 crystal growth method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- YFDLHELOZYVNJE-UHFFFAOYSA-L mercury diiodide Chemical compound I[Hg]I YFDLHELOZYVNJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009659 non-destructive testing Methods 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、医療用放射線診断装置や工業用非破壊検査装
置等に用いられる多チャンネル型半導体放射線検出器に
関するものである。
置等に用いられる多チャンネル型半導体放射線検出器に
関するものである。
従来の技術
多チャンネル型半導体放射線検出器は放射線に有感な半
導体結晶より構成される単位検出素子を一次元、あるい
は二次元に配列し、放射線強度の空間分布を測定するも
のである。その為、医療用X線診断装置や非破壊X線検
査装置等の検出器として従来の銀塩フィルムやX線テレ
ビカメラに代わり用いることができる。医療用診断装置
、非破壊X線診断装置に応用するには、単位検出素子の
実装密度を高くて、空間解像度を向上させる必要がある
。例えば1Bあたり1個以上の密度が必要となる。よっ
て各単位検出素子は微小な容積でも十分な感度が得られ
ることが必要である。CdTe 。
導体結晶より構成される単位検出素子を一次元、あるい
は二次元に配列し、放射線強度の空間分布を測定するも
のである。その為、医療用X線診断装置や非破壊X線検
査装置等の検出器として従来の銀塩フィルムやX線テレ
ビカメラに代わり用いることができる。医療用診断装置
、非破壊X線診断装置に応用するには、単位検出素子の
実装密度を高くて、空間解像度を向上させる必要がある
。例えば1Bあたり1個以上の密度が必要となる。よっ
て各単位検出素子は微小な容積でも十分な感度が得られ
ることが必要である。CdTe 。
GaAa 、)(gI2等の化合物半導体は実効原子番
号が大きいので微小な容積でも放射線感度が高く、多チ
ャンネル型半導体放射線検出器材料として適当である。
号が大きいので微小な容積でも放射線感度が高く、多チ
ャンネル型半導体放射線検出器材料として適当である。
発明が解決しようとする問題点
しかし、CdTeのような化合物半導体では緒特性の温
度依存性が特に強く、放射線に対する感度も雰囲気温度
に大きく影響される。多チャンネル型半導体放射線検出
器では単位検出素子や各素子からの信号を増巾するアン
プ等の実装密度が高いので、アンプ等の回路系の発熱に
より雰囲気温度が上昇し、各検出素子の感度が変化し、
信頼性が低下する。
度依存性が特に強く、放射線に対する感度も雰囲気温度
に大きく影響される。多チャンネル型半導体放射線検出
器では単位検出素子や各素子からの信号を増巾するアン
プ等の実装密度が高いので、アンプ等の回路系の発熱に
より雰囲気温度が上昇し、各検出素子の感度が変化し、
信頼性が低下する。
問題点を解決するため0手段
半導体検出器アレイおよびアンプを固定しているハウジ
ングの中空部に気体もしくは液体を流すことにより、)
・ウジング、半導体放射線検出器プレイ、アンプを冷却
するよう構成する。
ングの中空部に気体もしくは液体を流すことにより、)
・ウジング、半導体放射線検出器プレイ、アンプを冷却
するよう構成する。
作 用
ハウジング、半導体放射線検出器アレイ、アンプが冷却
されるので動作時における単位検出素子の雰囲気温度の
上昇が防がれる為、各単位検出素子の特性変化のない安
定した多チャンネル型半導体放射線検出器が提供される
。
されるので動作時における単位検出素子の雰囲気温度の
上昇が防がれる為、各単位検出素子の特性変化のない安
定した多チャンネル型半導体放射線検出器が提供される
。
実施例
第1図は本発明の多チャンネル型半導体放射線検出器の
一実施例である。第1図において1は中空のハウジング
、2は中空部、3は基板、4は共通端子、5は信号取り
出し端子、6は半導体放射線検出器アレイ、7はリード
、8はアンプである。
一実施例である。第1図において1は中空のハウジング
、2は中空部、3は基板、4は共通端子、5は信号取り
出し端子、6は半導体放射線検出器アレイ、7はリード
、8はアンプである。
以下第1図を用いて本実施例を説明する。原子番号が高
く放射線の散乱が少なくかつ熱伝導度の小さいFa 、
Go 、Ni 、Cu 、Mo 、Ag 、Cd等の金
属より構成され、中空部2を有し、液体および気体を流
すことが可能なハウジング1上に、絶縁材料より成る基
板3を形成する。絶縁材料としては、アルミナ、酸化ケ
イ素、チッ化ケイ素等のセラミックスや鉛ガラス、モリ
ブデンガラス、タングステンガラス等のガラスである。
く放射線の散乱が少なくかつ熱伝導度の小さいFa 、
Go 、Ni 、Cu 、Mo 、Ag 、Cd等の金
属より構成され、中空部2を有し、液体および気体を流
すことが可能なハウジング1上に、絶縁材料より成る基
板3を形成する。絶縁材料としては、アルミナ、酸化ケ
イ素、チッ化ケイ素等のセラミックスや鉛ガラス、モリ
ブデンガラス、タングステンガラス等のガラスである。
基板2を形成する手段としては、セラミックス材料では
、セラミックス基板を接着材やセメント等で固着する方
法やCVD等の結晶成長法でハウジング1上に薄膜を成
長する方法がある。また基板3が鉛ガラス、モリブデン
ガラス、タングステンガラス等のガラスの場合は、ガラ
ス板を接着材またはセメントでハウジング1に固着する
方法がある。
、セラミックス基板を接着材やセメント等で固着する方
法やCVD等の結晶成長法でハウジング1上に薄膜を成
長する方法がある。また基板3が鉛ガラス、モリブデン
ガラス、タングステンガラス等のガラスの場合は、ガラ
ス板を接着材またはセメントでハウジング1に固着する
方法がある。
基板3上には、印刷焼付、蒸着等の方法で、共通端子4
や信号域υ出子端子6から成るパターン電極を形成する
。電極にはAu、Cu、Ag、A1等の導電性の良い金
属を用いる。
や信号域υ出子端子6から成るパターン電極を形成する
。電極にはAu、Cu、Ag、A1等の導電性の良い金
属を用いる。
基板3上の共通端子4上には、導電性ペーストや半田付
は等の方法で、複数個の単位検出素子より構成される半
導体放射線検出器アレイ6の共通電極側を道通がとれる
ように固着する。ここで半導体材料はGaAa 、Cd
Te 、HgI2等の放射線に有感な化合物半導体結晶
またはSi、Ge等の放射線に有感な単元素半導体結晶
である。半導体放射線検出器アレイ6の各単位検出素子
の信号収集電極と信号取り出し端子6をリード7により
接続する、接続方法としてはワイヤボンディング、フィ
ルムキャリアによる接続等がある。また各単位検出素子
で発生した電荷を増巾するためのアンプ8も基板3上に
固定する。本実施例ではアンプの入力端子を直接、信号
数シ出し端子6に接続している。
は等の方法で、複数個の単位検出素子より構成される半
導体放射線検出器アレイ6の共通電極側を道通がとれる
ように固着する。ここで半導体材料はGaAa 、Cd
Te 、HgI2等の放射線に有感な化合物半導体結晶
またはSi、Ge等の放射線に有感な単元素半導体結晶
である。半導体放射線検出器アレイ6の各単位検出素子
の信号収集電極と信号取り出し端子6をリード7により
接続する、接続方法としてはワイヤボンディング、フィ
ルムキャリアによる接続等がある。また各単位検出素子
で発生した電荷を増巾するためのアンプ8も基板3上に
固定する。本実施例ではアンプの入力端子を直接、信号
数シ出し端子6に接続している。
以上で多チャンネル型半導体放射線検出器の1単位が構
成される。
成される。
第2図に本発明の多チャンネル型半導体放射線検出器を
、X線診断装置や非破壊X線検査装置の検出器として用
いる場合の例を示す。9は第1図の実施例の多チャンネ
ル側半導体放射線検出器で、これを一単位として、多数
個、各単位の半導体放射線検出器アレイ6が直線に並ぶ
ように連結したものである。この時、各多チャンネル型
半導体放射線検出器の中空部2が外部と密閉されるよう
に連結する必要がある。そして中空部2には、動作時に
30°C以下の定温に保たれN2.He、空気。
、X線診断装置や非破壊X線検査装置の検出器として用
いる場合の例を示す。9は第1図の実施例の多チャンネ
ル側半導体放射線検出器で、これを一単位として、多数
個、各単位の半導体放射線検出器アレイ6が直線に並ぶ
ように連結したものである。この時、各多チャンネル型
半導体放射線検出器の中空部2が外部と密閉されるよう
に連結する必要がある。そして中空部2には、動作時に
30°C以下の定温に保たれN2.He、空気。
フレオンガス等の気体や水や有機フッ素化合物液体等の
冷媒9を流し、各多チャンネル型半導体放射線検出器9
の温度を30°C以下の定温に保つ。
冷媒9を流し、各多チャンネル型半導体放射線検出器9
の温度を30°C以下の定温に保つ。
また、・・ウジング1が放射線の吸収が大きい金属で作
られているので後方散乱が少なく、空間分解能が向上す
る。特に基板3に鉛ガラス、モリブデンガラス、タング
ステンガラスを用いた場合、後方散乱防止効果が大きく
なる。
られているので後方散乱が少なく、空間分解能が向上す
る。特に基板3に鉛ガラス、モリブデンガラス、タング
ステンガラスを用いた場合、後方散乱防止効果が大きく
なる。
発明の効果
本発明によれば、半導体放射線検出器アレイが定温に保
たれるので、特性変動のない安定した多チャンネル型放
射線検出器が得られる。また後方散乱が防止された事に
より空間分解能がより優れた多チャンネル型放射線検出
器が提供される。
たれるので、特性変動のない安定した多チャンネル型放
射線検出器が得られる。また後方散乱が防止された事に
より空間分解能がより優れた多チャンネル型放射線検出
器が提供される。
第1図は本発明の一実施例における多チャンネル型半導
体放射線検出器を示す斜視図、第2図は本発明の多チャ
ンネル型半導体放射線検出器の応用例を示す斜視図であ
る。 1・・・・・・ハウジング、2・・・・・・中空部、3
・・・・・基板、4・・・・・・共通端子、6・・・・
・・信号取り出し端子、6・・・・半導体放射線検出器
アレイ、7・・・・・・リード、8・・・・・アンプ、
9・・・・・・多チャンネル型半導体放射線検出器、1
o・・・・・・冷媒。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名菓】
図 第2図
体放射線検出器を示す斜視図、第2図は本発明の多チャ
ンネル型半導体放射線検出器の応用例を示す斜視図であ
る。 1・・・・・・ハウジング、2・・・・・・中空部、3
・・・・・基板、4・・・・・・共通端子、6・・・・
・・信号取り出し端子、6・・・・半導体放射線検出器
アレイ、7・・・・・・リード、8・・・・・アンプ、
9・・・・・・多チャンネル型半導体放射線検出器、1
o・・・・・・冷媒。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名菓】
図 第2図
Claims (5)
- (1)放射線に有感な半導体放射線検出素子を複数個、
アレイ状に配置した多チャンネル型放射線検出器であっ
て、中空のハウジング上に絶縁層を介して、複数個の単
位検出素子より構成される半導体放射線検出器アレイお
よびアンプを配置し、ハウジングの中空部に気体もしく
は液体を流すことにより、半導体放射線検出器アレイお
よびアンプの冷却を行なうことを特徴とする多チャンネ
ル型半導体放射線検出器。 - (2)絶縁層表面にパターン電極を形成し、パターン電
極を形成し、パターン上に半導体放射線検出器アレイあ
るいはアンプを直接固定し配線することを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の多チャンネル型半導体放射線
検出器。 - (3)ハウジングが熱伝導に優れ、かつ原子番号の大き
い金属より構成されることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の多チャンネル型半導体放射線検出器。 - (4)絶縁層がアルミナ、チッ化ケイ素、酸化ケイ素等
のセラミックスであることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の多チャンネル型半導体放射線検出器。 - (5)絶縁層が鉛ガラス、モリブデンガラス、タングス
テンガラスであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の多チャンネル型半導体放射線検出器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61247742A JPS63101788A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 多チヤンネル型半導体放射線検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61247742A JPS63101788A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 多チヤンネル型半導体放射線検出器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63101788A true JPS63101788A (ja) | 1988-05-06 |
Family
ID=17167992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61247742A Pending JPS63101788A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 多チヤンネル型半導体放射線検出器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63101788A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0231184A (ja) * | 1988-07-20 | 1990-02-01 | Olympus Optical Co Ltd | 二次元荷電粒子検出装置 |
JP2001099942A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-13 | Toshiba Corp | X線平面検出装置 |
JP2002202377A (ja) * | 2001-01-05 | 2002-07-19 | Shimadzu Corp | 放射線検出器 |
JP2009041942A (ja) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 半導体放射線検出器 |
CN106772532A (zh) * | 2017-01-04 | 2017-05-31 | 沈阳东软医疗系统有限公司 | 基于水冷的光电探测器封装结构及其封装方法 |
-
1986
- 1986-10-17 JP JP61247742A patent/JPS63101788A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0231184A (ja) * | 1988-07-20 | 1990-02-01 | Olympus Optical Co Ltd | 二次元荷電粒子検出装置 |
JP2001099942A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-13 | Toshiba Corp | X線平面検出装置 |
JP2002202377A (ja) * | 2001-01-05 | 2002-07-19 | Shimadzu Corp | 放射線検出器 |
JP2009041942A (ja) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 半導体放射線検出器 |
CN106772532A (zh) * | 2017-01-04 | 2017-05-31 | 沈阳东软医疗系统有限公司 | 基于水冷的光电探测器封装结构及其封装方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5308814B2 (ja) | サーモパイル赤外線センサアレイ | |
JP3703480B2 (ja) | 電子デバイスおよびその製造方法 | |
JP3808092B2 (ja) | 電子デバイスおよびその製造方法 | |
US5450053A (en) | Use of vanadium oxide in microbolometer sensors | |
US2547173A (en) | Long wave length infrared radiation detector | |
US8026490B2 (en) | Radiation image device | |
US4210805A (en) | Semiconductor radiation detector | |
US4110616A (en) | Pyroelectric detectors | |
JP2008541102A5 (ja) | ||
CN112820718A (zh) | 用于获取高温工艺应用中的测量参数的封装仪器化衬底设备 | |
CA2368974C (en) | Large area low mass ir pixel having tailored cross section | |
GB2154367A (en) | Thermoelectric sensor | |
JPS63101788A (ja) | 多チヤンネル型半導体放射線検出器 | |
JP3303974B1 (ja) | SiCを用いて赤外線を検知する装置および方法 | |
US3745360A (en) | Radiation circuit radiation detector | |
JP2000116633A (ja) | 放射線撮影装置 | |
Dubecký et al. | Digital X-ray portable scanner based on monolithic semi-insulating GaAs detectors: General description and first “quantum” images | |
JP4138107B2 (ja) | 放射線検出器 | |
JP3075777B2 (ja) | 赤外線検出装置 | |
Mori et al. | Vacuum-encapsulated thermistor bolometer type miniature infrared sensor | |
CN218447924U (zh) | 硅漂移探测器的封装结构 | |
RU2244365C1 (ru) | Фотоприемное устройство | |
JPH11183626A (ja) | 放射線検出素子アレイ | |
JPH10115556A (ja) | 赤外線検出器 | |
JP3094943B2 (ja) | 赤外線検知器 |