JPS6297118A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6297118A JPS6297118A JP23517985A JP23517985A JPS6297118A JP S6297118 A JPS6297118 A JP S6297118A JP 23517985 A JP23517985 A JP 23517985A JP 23517985 A JP23517985 A JP 23517985A JP S6297118 A JPS6297118 A JP S6297118A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- lower core
- film
- recesses
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
り発明の利用分野〕
本発明は薄膜磁気ヘッドの基板材料として、異方性エツ
チング特性を有する基板を用いて下部コアを埋め込みヘ
ッド製作することに関する。
チング特性を有する基板を用いて下部コアを埋め込みヘ
ッド製作することに関する。
基板上に薄膜技術を駆使して構成する薄膜磁気ヘッドに
おいて、特公昭５５−６８９号から基板上に磁性膜を成
膜しこれをバターニングして下部コアとし、下部コア以
外の部分を非磁性材料で埋め込んだ後平担化し、これに
絶縁材料および上部コアを形成して薄膜磁気ヘッドを得
る技術が知られている。
おいて、特公昭５５−６８９号から基板上に磁性膜を成
膜しこれをバターニングして下部コアとし、下部コア以
外の部分を非磁性材料で埋め込んだ後平担化し、これに
絶縁材料および上部コアを形成して薄膜磁気ヘッドを得
る技術が知られている。
この下部コア形成上での課題は精度よく、かつ形成面に
凹凸がないこと、さらに同一基板上でのへラドチップ間
でバラツキが少ないこと等が挙げられる。一方薄膜磁気
ヘッドの長寿命化を図るにはギャップ深さ−を大きくと
る必要がある。このｆｔＬを記録効率を落さず達成する
にはコア厚を厚くすることが必須となる。しかしコア厚
を厚くするとコアバターニング時のマスク材およびエツ
チング法の選定がエツチング精度等に影響するため、非
常に困難となる。
凹凸がないこと、さらに同一基板上でのへラドチップ間
でバラツキが少ないこと等が挙げられる。一方薄膜磁気
ヘッドの長寿命化を図るにはギャップ深さ−を大きくと
る必要がある。このｆｔＬを記録効率を落さず達成する
にはコア厚を厚くすることが必須となる。しかしコア厚
を厚くするとコアバターニング時のマスク材およびエツ
チング法の選定がエツチング精度等に影響するため、非
常に困難となる。
本発明の目的は下部コアを埋め込む薄膜磁気ヘッドにお
いて、コア形成寸法の精度向上を簡単にバラツキ少なく
提供することにある。
いて、コア形成寸法の精度向上を簡単にバラツキ少なく
提供することにある。
〔発明の概要）
本発明では基板に下部コアを凹部に設ける手段として、
基板材料の結晶学的異方性エツチング特性を利用するこ
とＫより基板に所望の凹部な設け、これに磁性膜を成膜
し表面を基板材料が表われ凹部の磁性膜が分離するまで
平担化するものである。
基板材料の結晶学的異方性エツチング特性を利用するこ
とＫより基板に所望の凹部な設け、これに磁性膜を成膜
し表面を基板材料が表われ凹部の磁性膜が分離するまで
平担化するものである。
実施例１
本発明の一実施例として、異方性エツチング特性を肴す
る基板材料として（１００）Ｓｉ基板（厚さ１１１ＩＩ
）を用い薄膜磁気ヘッドを製作した時の例について以下
に図を用いて説明する。 。
る基板材料として（１００）Ｓｉ基板（厚さ１１１ＩＩ
）を用い薄膜磁気ヘッドを製作した時の例について以下
に図を用いて説明する。 。
（１００）８ｉ基板は第１図に示すような異方性エツチ
ング特性を有している。この特性を利用し下部コアを埋
め込むための（１１１）面の側壁に沿った四角錐台のパ
ターンを得た。底面は（１００）面で非常に平担性が良
好である。
ング特性を有している。この特性を利用し下部コアを埋
め込むための（１１１）面の側壁に沿った四角錐台のパ
ターンを得た。底面は（１００）面で非常に平担性が良
好である。
薄膜磁気ヘッドは第２図に示すような構成となっている
。
。
非磁性基板１上にポンディングパッド部を含む導体３．
下部コアと上部コア２との接続箇所４、ギャップ部５お
よびこれらを層間絶縁する層間材等から構成される。ト
ラック幅Ｔｗ＝ｓＯｐｍトラック間隔Ｔｄ ＝ ４０μ
ｍである。
下部コアと上部コア２との接続箇所４、ギャップ部５お
よびこれらを層間絶縁する層間材等から構成される。ト
ラック幅Ｔｗ＝ｓＯｐｍトラック間隔Ｔｄ ＝ ４０μ
ｍである。
本発明である下部コアの形成法として、Ｔｉ基・板に熱
酸化法によるＳｉｎ、膜を約ＣＬ５μ風形成した。−こ
れをレジストをマスク材としてイオンエツチング法を用
いて（１１０）面が第２図の摺動面６に合うように下部
コア形状寸法にバターニングした。次ニコれをＫＯＨｓ
ｓ％溶ｇ （温度約８０°）に２０分浸し深さ約３０μ
ｍの凹部な得た（第４図）。
酸化法によるＳｉｎ、膜を約ＣＬ５μ風形成した。−こ
れをレジストをマスク材としてイオンエツチング法を用
いて（１１０）面が第２図の摺動面６に合うように下部
コア形状寸法にバターニングした。次ニコれをＫＯＨｓ
ｓ％溶ｇ （温度約８０°）に２０分浸し深さ約３０μ
ｍの凹部な得た（第４図）。
第５図にＫＯＨ濃度と（１００）面のエツチング速度を
示す。Ｓｔｅｍとのエツチング比は約５ Ｘ １０−’
でＳｉｎ會が遅い。
示す。Ｓｔｅｍとのエツチング比は約５ Ｘ １０−’
でＳｉｎ會が遅い。
前記手法で得た基板に磁性薄膜４３をスパッタ形成し、
これを磁性膜４５が凹部で分離するまで平担化して下部
コア厚２０μｍを得た。
これを磁性膜４５が凹部で分離するまで平担化して下部
コア厚２０μｍを得た。
前記手法で得た下部コアを用いヘッド化した結果、下部
コア膜厚２寸法ともに同一基板上でバラツキが少ない良
好なヘッドを得ることができた。
コア膜厚２寸法ともに同一基板上でバラツキが少ない良
好なヘッドを得ることができた。
実施例２
他実施例として、（１１０）Ｓｉ基板を用いて行った。
この際８ｉ基板上での下部コア埋め込みパターン形状は
第５図に示すような矩形状のパターン形状となる（第４
図（ｄ）に相当）。この場合においても実施例１と同様
な結果を得た。
第５図に示すような矩形状のパターン形状となる（第４
図（ｄ）に相当）。この場合においても実施例１と同様
な結果を得た。
実施例５
他実施例として、結晶学的異方性エツチング特性を有す
る基板材料として、カドリニウム・ガリウム・ガーネツ
）（ＧＧＧ）を用い、マスク材としてＳｉｎ、とじ、エ
ツチング液として熟議リン酸を用いて行った時において
も実施例１と同様な結果が得られた。
る基板材料として、カドリニウム・ガリウム・ガーネツ
）（ＧＧＧ）を用い、マスク材としてＳｉｎ、とじ、エ
ツチング液として熟議リン酸を用いて行った時において
も実施例１と同様な結果が得られた。
本発明によれば下部コアをパターニングする際のマスク
材の選定に苦慮しないこと、下部コア膜の厚膜化が容易
に行うことができる等の効果がある。
材の選定に苦慮しないこと、下部コア膜の厚膜化が容易
に行うことができる等の効果がある。
第１．第３図は本発明の一実施例の異方性エツチング基
板の説明図、第２．第４図は本発明の説明図、第５図は
同じく構成図である。 １．５１・・・基板、 ２・・・コア形状、第
１ 図 第 ２ 図 第 ３ 図
板の説明図、第２．第４図は本発明の説明図、第５図は
同じく構成図である。 １．５１・・・基板、 ２・・・コア形状、第
１ 図 第 ２ 図 第 ３ 図
Claims (1)
- １、薄膜磁気ヘッドにおける基板材料として、結晶学的
異方性エッチング特性を有する基板を用いたことを特徴
とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23517985A JPS6297118A (ja) | 1985-10-23 | 1985-10-23 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23517985A JPS6297118A (ja) | 1985-10-23 | 1985-10-23 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6297118A true JPS6297118A (ja) | 1987-05-06 |
Family
ID=16982232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23517985A Pending JPS6297118A (ja) | 1985-10-23 | 1985-10-23 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6297118A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2664729A1 (fr) * | 1990-07-11 | 1992-01-17 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication de tete magnetique possedant un entrefer presentant un azimut controlable. |
| US5167062A (en) * | 1990-04-13 | 1992-12-01 | Thomson-Csf | Method of manufacturing magnetic write/read head and fabrication method |
| US5680091A (en) * | 1994-09-09 | 1997-10-21 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive device and method of preparing the same |
| US5736921A (en) * | 1994-03-23 | 1998-04-07 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive element |
| US5738929A (en) * | 1993-10-20 | 1998-04-14 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistance effect element |
-
1985
- 1985-10-23 JP JP23517985A patent/JPS6297118A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5167062A (en) * | 1990-04-13 | 1992-12-01 | Thomson-Csf | Method of manufacturing magnetic write/read head and fabrication method |
| FR2664729A1 (fr) * | 1990-07-11 | 1992-01-17 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication de tete magnetique possedant un entrefer presentant un azimut controlable. |
| US5738929A (en) * | 1993-10-20 | 1998-04-14 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistance effect element |
| US5736921A (en) * | 1994-03-23 | 1998-04-07 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive element |
| US5680091A (en) * | 1994-09-09 | 1997-10-21 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive device and method of preparing the same |
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