JPS6286520A - ツイン・トラツク用磁気ヘツド - Google Patents
ツイン・トラツク用磁気ヘツドInfo
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- JPS6286520A JPS6286520A JP61185391A JP18539186A JPS6286520A JP S6286520 A JPS6286520 A JP S6286520A JP 61185391 A JP61185391 A JP 61185391A JP 18539186 A JP18539186 A JP 18539186A JP S6286520 A JPS6286520 A JP S6286520A
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- Japan
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- magnetic
- sensor
- twin
- sensors
- magnetic flux
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
A、産業上の利用分野
本発明はツイン・トラック磁気記録のための読取り/書
込みヘッドに関する。
込みヘッドに関する。
B、従来技術
ツイン・トラック磁気記録、即ち対になっている2つの
トラックを用いて情報を記録する技術は米国特許第44
84238号に開示されている。
トラックを用いて情報を記録する技術は米国特許第44
84238号に開示されている。
又、特願昭59−266577号には、このツイン・ト
ラック記録技術に従った磁気ヘッドが開示されている。
ラック記録技術に従った磁気ヘッドが開示されている。
この磁気ヘッドは、一対のトラックに対応する2つの脚
を有する透磁性部材と、この2つの脚を連結すると共に
磁気抵抗効果薄膜を支持する連結部材とを具備しており
、各脚は電磁駆動部と磁気センス部との間にギャップを
有する。
を有する透磁性部材と、この2つの脚を連結すると共に
磁気抵抗効果薄膜を支持する連結部材とを具備しており
、各脚は電磁駆動部と磁気センス部との間にギャップを
有する。
C0発明が解決しようとする問題点
前記磁気ヘッドについては、出力信号中にノイズが出現
しうろことと、記録媒体に対してバイアス磁束が結合さ
れることについて更に改善の余地がある。
しうろことと、記録媒体に対してバイアス磁束が結合さ
れることについて更に改善の余地がある。
D1問題点を解決するための手段
本発明はツイン・トラックに対応する第1及び第2の透
磁性部材を有するツイン・トラック読取り/書込み用ヘ
ッドにおいて、差動構成を採用することによって前記問
題点を解決している。即ち、第1及び第2の透磁性部材
にまたがって配置されていて、それらと磁気的に結合さ
れており且つ互いに直列接続された一対のセンサと、こ
の一対のセンサの中央接続部に電気的且つ磁気的に結合
された第3の透磁性部材とを設けることによって差動構
成を実現している。
磁性部材を有するツイン・トラック読取り/書込み用ヘ
ッドにおいて、差動構成を採用することによって前記問
題点を解決している。即ち、第1及び第2の透磁性部材
にまたがって配置されていて、それらと磁気的に結合さ
れており且つ互いに直列接続された一対のセンサと、こ
の一対のセンサの中央接続部に電気的且つ磁気的に結合
された第3の透磁性部材とを設けることによって差動構
成を実現している。
E、実施例
第1図は一対の結合薄膜型磁気抵抗効果センサIA及び
IBを有する磁気ヘッドを示している。
IBを有する磁気ヘッドを示している。
このセンサは集積回路製造技術によって製造するのが好
ましい。従って、図示のセンサの構成要素は半導体若し
くはセラミック基板の表面上に形成される。この様な基
板は図面を簡素にするために省略しである。センサIA
及びIBは共通の中央脚部2において跡続されている。
ましい。従って、図示のセンサの構成要素は半導体若し
くはセラミック基板の表面上に形成される。この様な基
板は図面を簡素にするために省略しである。センサIA
及びIBは共通の中央脚部2において跡続されている。
中央脚部2はセンサIA及びIBに電気的且つ磁気的に
結合されている。センサIA及びIBの両側の端部には
、結合薄膜対内に逆平行磁化を生じるための低い駆動電
流が接点3A及び3Bを介して供給される。
結合されている。センサIA及びIBの両側の端部には
、結合薄膜対内に逆平行磁化を生じるための低い駆動電
流が接点3A及び3Bを介して供給される。
第1図には、上位の磁気薄膜しか示されていないが、各
センサは一対の磁気薄膜及びその間に介在して両者の交
換結合を磁気的に遮断するためのチタン層から成ってい
る。一対の磁気薄膜は第1図において上下の縁に沿って
結合されている。
センサは一対の磁気薄膜及びその間に介在して両者の交
換結合を磁気的に遮断するためのチタン層から成ってい
る。一対の磁気薄膜は第1図において上下の縁に沿って
結合されている。
センサIA及びIBは記号A及びBで示された領域にお
いて磁気結合脚部4A及び4Bに磁気的に接触している
が、電気的にはそれらから絶縁されている0脚部4A及
び4Bはそれらの上下の二酸化ケイ素等の層によって基
板及びセンサIA及びIBから電気的に絶縁されている
。脚部4A及び4Bはパーマロイ又はセンダストとして
知られている焼結された高透磁率材料で造られる。空気
の透磁率を1として基準にすると、各脚部は約2000
の相対透磁率を有する。各脚部は図面に垂直な方向にお
いて約4000オングストロームの厚さを有し且つ水平
方向において約3ミクロンの幅を有する。脚部4A及び
4Bは記録層5及び保磁層6から成る磁気記録媒体と相
互作用を行う。
いて磁気結合脚部4A及び4Bに磁気的に接触している
が、電気的にはそれらから絶縁されている0脚部4A及
び4Bはそれらの上下の二酸化ケイ素等の層によって基
板及びセンサIA及びIBから電気的に絶縁されている
。脚部4A及び4Bはパーマロイ又はセンダストとして
知られている焼結された高透磁率材料で造られる。空気
の透磁率を1として基準にすると、各脚部は約2000
の相対透磁率を有する。各脚部は図面に垂直な方向にお
いて約4000オングストロームの厚さを有し且つ水平
方向において約3ミクロンの幅を有する。脚部4A及び
4Bは記録層5及び保磁層6から成る磁気記録媒体と相
互作用を行う。
脚部の領域り及びEを通る垂直結合磁束は、保磁層6を
介する結合によってイメージ極対を相殺しつつ垂直分極
モードで記録層5への磁気的書込みを行う。脚部の他方
の端部も基板から電気的に絶縁されており、且つ導電性
及び磁性を有する中央脚部2の両側に空隙7A及び7B
を形成する様に配置されている。中央脚部2は脚部4A
及び4Bと同じ材料で造られており、且つセンサIA及
びIBに対して良好な電気的接触をもたらすための金の
層を上面に有する。金の層を点Cにおいて接地されてい
る。中央脚部2には、バイアス用のコイル8を設けても
よい。その場合、コイル8は点Fにおいて金の層に取り
付けられるだけで、他の領域においては絶縁される。
介する結合によってイメージ極対を相殺しつつ垂直分極
モードで記録層5への磁気的書込みを行う。脚部の他方
の端部も基板から電気的に絶縁されており、且つ導電性
及び磁性を有する中央脚部2の両側に空隙7A及び7B
を形成する様に配置されている。中央脚部2は脚部4A
及び4Bと同じ材料で造られており、且つセンサIA及
びIBに対して良好な電気的接触をもたらすための金の
層を上面に有する。金の層を点Cにおいて接地されてい
る。中央脚部2には、バイアス用のコイル8を設けても
よい。その場合、コイル8は点Fにおいて金の層に取り
付けられるだけで、他の領域においては絶縁される。
脚部4A及び4Bには、°書込み及び読取りバイアスの
ためのコイル9A及び9Bが設けられている。コイル9
A及び9Bは互いに逆向きに巻回されており、共に端子
10に連結されている。これらのコイルに対する書込み
電流及び読取り時のバイアス電流は端子11A及び11
Bに供給される。
ためのコイル9A及び9Bが設けられている。コイル9
A及び9Bは互いに逆向きに巻回されており、共に端子
10に連結されている。これらのコイルに対する書込み
電流及び読取り時のバイアス電流は端子11A及び11
Bに供給される。
バイアス電流は端子11Aから端子11Bへ又はその逆
向きに流され、領域A及びBにおけるインターフェース
を介する磁束結合によりセンサIA及びIBを適正な動
作範囲に設定する。
向きに流され、領域A及びBにおけるインターフェース
を介する磁束結合によりセンサIA及びIBを適正な動
作範囲に設定する。
センサIA及びIBはそれぞれ一対の磁気抵抗効果薄膜
を有する。縦方向に延びる脚部4A及び4Bは領域A及
びBにおいてセンサIA及びIBと密接な磁束結合関係
を有する。脚部4A及び4Bの機能は記録層5に記録さ
れているツイン・トラックに関連して磁束を伝えること
である。データの読取り中、磁束はセンサIA及びIB
に結合され、書込み中には、コイル9A及び9Bの電流
に基く磁束が記録層5に結合される。中央脚部2はセン
サIA及びIBの中央において、これらと電気的且つ磁
気的に接触している。中央脚部2は他方の端部近くにお
いて空間を2分して2つの空隙7A及び7Bを形成して
いる。各空隙は2つの脚部4A及び4Bから成る二重脚
部構造のバック・ギャップにおける単一の磁気抵抗をも
たらす。空隙7A及び7Bは記録層5からセンサIA及
びIBに結合される磁束の量を調整し且つデータの書込
み中に使用される磁束路の磁気抵抗を調整する。
を有する。縦方向に延びる脚部4A及び4Bは領域A及
びBにおいてセンサIA及びIBと密接な磁束結合関係
を有する。脚部4A及び4Bの機能は記録層5に記録さ
れているツイン・トラックに関連して磁束を伝えること
である。データの読取り中、磁束はセンサIA及びIB
に結合され、書込み中には、コイル9A及び9Bの電流
に基く磁束が記録層5に結合される。中央脚部2はセン
サIA及びIBの中央において、これらと電気的且つ磁
気的に接触している。中央脚部2は他方の端部近くにお
いて空間を2分して2つの空隙7A及び7Bを形成して
いる。各空隙は2つの脚部4A及び4Bから成る二重脚
部構造のバック・ギャップにおける単一の磁気抵抗をも
たらす。空隙7A及び7Bは記録層5からセンサIA及
びIBに結合される磁束の量を調整し且つデータの書込
み中に使用される磁束路の磁気抵抗を調整する。
典型的な空隙7A及び7Bの幅は1ミクロンであり、読
取り中のセンサの磁気抵抗より高い磁気抵抗を示す様に
選定されている。又、書込み中、ヘッドと記録層5との
間の間隔とはほとんど無関係に、書込みのための所定の
起磁力によってほぼ一定レベルの磁束が得られる様に、
空隙7A及び7Bの磁気抵抗は脚部4A及び4Bと記録
層5との間の空隙の磁気抵抗より十分高く選定されてい
る。
取り中のセンサの磁気抵抗より高い磁気抵抗を示す様に
選定されている。又、書込み中、ヘッドと記録層5との
間の間隔とはほとんど無関係に、書込みのための所定の
起磁力によってほぼ一定レベルの磁束が得られる様に、
空隙7A及び7Bの磁気抵抗は脚部4A及び4Bと記録
層5との間の空隙の磁気抵抗より十分高く選定されてい
る。
第2A図及び第2B図は第1図の構造の異なった部分に
おける断面図である。先ず、第2A図は第1図に示され
ている様に一方の脚部4B、コイル9B及びセンサIB
を通る線2A−2Aに沿う部分の断面図である。半導体
基板12の上には最初の製造工程において付着させられ
た二酸化ケイ素の絶縁層14がある。その上にはコイル
9Bが形成されており、コイル9Bは二酸化ケイ素の絶
縁層15によって覆われている。絶縁層15の上にはパ
ーマロイ又はセンダストから成る透磁性の脚部4Bが形
成され、この脚部4Bは二酸化ケイ素の絶縁[16によ
って覆われている。絶縁層16の上にはコイル9Bの上
位部分と、センサIBが設けられている。センサIBは
磁気抵抗効果センサの技術分野において周知の如くニッ
ケルー鉄又はニッケルー鉄−コバルトから成る下位層I
B1を有し、この層の上には、チタンから成る交換結合
遮断層IB3が設けられている。遮断MIB3の上には
、その両側で下位層IBIと磁気的且つ電気的に連結さ
れた同じ材料の上位層IB2が設けられている。2つの
層IBI及びIB2はセンサとして用いられる結合薄膜
対を形成しており。
おける断面図である。先ず、第2A図は第1図に示され
ている様に一方の脚部4B、コイル9B及びセンサIB
を通る線2A−2Aに沿う部分の断面図である。半導体
基板12の上には最初の製造工程において付着させられ
た二酸化ケイ素の絶縁層14がある。その上にはコイル
9Bが形成されており、コイル9Bは二酸化ケイ素の絶
縁層15によって覆われている。絶縁層15の上にはパ
ーマロイ又はセンダストから成る透磁性の脚部4Bが形
成され、この脚部4Bは二酸化ケイ素の絶縁[16によ
って覆われている。絶縁層16の上にはコイル9Bの上
位部分と、センサIBが設けられている。センサIBは
磁気抵抗効果センサの技術分野において周知の如くニッ
ケルー鉄又はニッケルー鉄−コバルトから成る下位層I
B1を有し、この層の上には、チタンから成る交換結合
遮断層IB3が設けられている。遮断MIB3の上には
、その両側で下位層IBIと磁気的且つ電気的に連結さ
れた同じ材料の上位層IB2が設けられている。2つの
層IBI及びIB2はセンサとして用いられる結合薄膜
対を形成しており。
センサを脚部に結合する軸に直角の方向に容易軸を有す
る。センサIBの3つの層は、それぞれ約300オング
ストロームの厚さを有する。
る。センサIBの3つの層は、それぞれ約300オング
ストロームの厚さを有する。
センサIA及びIBの動作に必要な電流は第1図におい
て端子3Aから3Bへ又はその逆の方向に流れる。これ
によって容易軸に関する逆平行磁化が得られる。センサ
を動作範囲に設定するためには、図示の如きバイアス磁
束φ1及びφ2をセンサに与えて容易軸に関する逆平行
磁化を角度θだけ回転させておくことが必要である。バ
イアス磁束はコイル8又はコイル9A及び9Bにわずか
な直流を供給することによって生成される1図示の構造
においては、領域A及びBにおける起磁力が等しいので
、バイアス磁束が記録層5に与えられることはない。
て端子3Aから3Bへ又はその逆の方向に流れる。これ
によって容易軸に関する逆平行磁化が得られる。センサ
を動作範囲に設定するためには、図示の如きバイアス磁
束φ1及びφ2をセンサに与えて容易軸に関する逆平行
磁化を角度θだけ回転させておくことが必要である。バ
イアス磁束はコイル8又はコイル9A及び9Bにわずか
な直流を供給することによって生成される1図示の構造
においては、領域A及びBにおける起磁力が等しいので
、バイアス磁束が記録層5に与えられることはない。
再び第2A図の説明に戻ると、コイル9Bの上位部分の
形成の際には、エツチング技術によって絶縁層15及び
16に孔をあけてコイル9Bの上位部分と下位部分とを
連結する作業も行われる。
形成の際には、エツチング技術によって絶縁層15及び
16に孔をあけてコイル9Bの上位部分と下位部分とを
連結する作業も行われる。
コイル9B及びセンサIBは絶縁層17によって覆われ
る。
る。
第2B図は第1図に示されている様に中央脚部2を通る
線2B −2Bに沿う部分の断面図である。
線2B −2Bに沿う部分の断面図である。
この部分も第2A図の部分と同様に形成されるが、脚部
4Bの代りに中央脚部2が形成され且つコイル9Bの代
りにコイル8が形成されている。この中央脚部2も透磁
性材料から成り、この上には、センサIA及びIBの下
位中央領域に対する電気的接続をもたらす金の層13が
設けられている。
4Bの代りに中央脚部2が形成され且つコイル9Bの代
りにコイル8が形成されている。この中央脚部2も透磁
性材料から成り、この上には、センサIA及びIBの下
位中央領域に対する電気的接続をもたらす金の層13が
設けられている。
第2B図では、金の層13はセンサIBの下位層に接触
するものとして示されている。センサIB及び金の層1
3は絶縁層18によって覆われている。中央脚部2は元
の逆平行磁束結合をもたらすのに必要な初期電流を導く
。更に、中央脚部2は、直流バイアス電流がコイル8又
はコイル9A及び9Bに供給されるとき、逆平行磁化ベ
クトルM1及びM2を01及びθ2だけ回転させる磁気
バイアスを生成する様に磁束を導く。
するものとして示されている。センサIB及び金の層1
3は絶縁層18によって覆われている。中央脚部2は元
の逆平行磁束結合をもたらすのに必要な初期電流を導く
。更に、中央脚部2は、直流バイアス電流がコイル8又
はコイル9A及び9Bに供給されるとき、逆平行磁化ベ
クトルM1及びM2を01及びθ2だけ回転させる磁気
バイアスを生成する様に磁束を導く。
センサIA及びIBの抵抗値は角度θ(θl及び02)
に非直線的に依存している。角度θは薄膜の困難軸、即
ち、電流が流れる方向(第1図では水平方向)を示す軸
に対して磁化ベクトルM1及びM2が成す角度である。
に非直線的に依存している。角度θは薄膜の困難軸、即
ち、電流が流れる方向(第1図では水平方向)を示す軸
に対して磁化ベクトルM1及びM2が成す角度である。
次の式(1)はセンサの抵抗Rと角度θとの関係を表わ
している。なおQは各センサの長さ、Aは各センサの断
面積(導電部のみ)ρ。はセンサの固有抵抗Δρは磁束
による固有抵抗の変化分である。
している。なおQは各センサの長さ、Aは各センサの断
面積(導電部のみ)ρ。はセンサの固有抵抗Δρは磁束
による固有抵抗の変化分である。
Ω
R= Cpa+Δp cos”θ)(1)この式
(1)をθに関して微分することにより。
(1)をθに関して微分することにより。
微分抵抗R′に関する次の式(2)が得られる。
R’ =−2Δp −c o sθsinθ (2
)微分抵抗は0が45度のとき最大値になる。センサー
A及びIBがツイン・トラックからの両極性の磁束に応
答するためには、各センサにおける磁化ベクトルを45
度の方向にバイアスする必要がある。このために、中央
脚部2に設けられた3回巻きのコイル8又はコイル9A
及び9Bに約50ミリアンペアの電流が供給される。こ
れによって同等のバイアス磁束φ1及びφ2が生成され
て、ヘッドの左右の部分を通る。バイアス磁束の作用に
より、各センサの一対の薄膜における磁化ベクトルは容
易軸から45度の方向へバイアスされる。
)微分抵抗は0が45度のとき最大値になる。センサー
A及びIBがツイン・トラックからの両極性の磁束に応
答するためには、各センサにおける磁化ベクトルを45
度の方向にバイアスする必要がある。このために、中央
脚部2に設けられた3回巻きのコイル8又はコイル9A
及び9Bに約50ミリアンペアの電流が供給される。こ
れによって同等のバイアス磁束φ1及びφ2が生成され
て、ヘッドの左右の部分を通る。バイアス磁束の作用に
より、各センサの一対の薄膜における磁化ベクトルは容
易軸から45度の方向へバイアスされる。
その結果、約0.7テスラ(Tesla)の磁束密度の
磁束が各センサを通過する。各センサの上位置における
磁化ベクトルの方向は実線の矢印で示され、下位層にお
ける磁化ベクトルの方向は破線の矢印で示されている。
磁束が各センサを通過する。各センサの上位置における
磁化ベクトルの方向は実線の矢印で示され、下位層にお
ける磁化ベクトルの方向は破線の矢印で示されている。
この結合薄膜型センサにおける逆平行磁化の場合、容易
軸に沿う減磁界は実質的に存在しない。これは、薄膜内
で180度の境界壁が生成されるのを阻止することによ
り、バルクハウゼン雑音を完全に除去するので、重要で
ある。
軸に沿う減磁界は実質的に存在しない。これは、薄膜内
で180度の境界壁が生成されるのを阻止することによ
り、バルクハウゼン雑音を完全に除去するので、重要で
ある。
センサの一対の層の縁部に沿う磁束結合はその縁部に沿
ってイメージ極の生成を阻止する。
ってイメージ極の生成を阻止する。
読取り動作においては、前述の様にコイル8又はコイル
9A及び9Bに適当な電流を供給することによってバイ
アス磁束を生成する必要がある。
9A及び9Bに適当な電流を供給することによってバイ
アス磁束を生成する必要がある。
領域A及びBにおいて生じる起磁力は中央脚部2におけ
るセンタの中央を基準として同じ極性及び大きさを有す
る。従って、センサが読取りのためにバイアスされると
き、バイアス磁界成分は実質的に全く記録層5に結合さ
れない。これは望ましい事である。即ち、読取り中にバ
イアス磁界成分が記録層に結合されると、読取るべきデ
ータに対する干渉が起こるのである。
るセンタの中央を基準として同じ極性及び大きさを有す
る。従って、センサが読取りのためにバイアスされると
き、バイアス磁界成分は実質的に全く記録層5に結合さ
れない。これは望ましい事である。即ち、読取り中にバ
イアス磁界成分が記録層に結合されると、読取るべきデ
ータに対する干渉が起こるのである。
データ読取り中、一定電流が接点3A及び3Bを介して
センサに供給され、金の層13から中央脚部2を通って
接地点へ流れる。この電流により前述の逆平行磁化がも
たらされる。コイル8又はコイル9A及び9Bによって
生成されるバイアス磁束がセンサを動作領域にバイアス
するために45度回転させるのは、この逆平行磁化であ
る。読取り及び書込みのいずれの場合も、静止状態にあ
るセンサの各端部における電位は同等であり、同等の電
流、同等のバイアス角及び同等の抵抗値に起因して、端
子3A及び3Bにおける出方電圧のオフセットはほとん
どない。
センサに供給され、金の層13から中央脚部2を通って
接地点へ流れる。この電流により前述の逆平行磁化がも
たらされる。コイル8又はコイル9A及び9Bによって
生成されるバイアス磁束がセンサを動作領域にバイアス
するために45度回転させるのは、この逆平行磁化であ
る。読取り及び書込みのいずれの場合も、静止状態にあ
るセンサの各端部における電位は同等であり、同等の電
流、同等のバイアス角及び同等の抵抗値に起因して、端
子3A及び3Bにおける出方電圧のオフセットはほとん
どない。
記録層5のツイン・トラックからの磁束が第1図におい
てD−A−B−E又はその逆の順序でヘッド中を通ると
、センサIA中の磁化ベクトルの角度とセンサIB中の
磁化ベクトルの角度は異なる。例えば、記録層5からの
磁束がE−B−A−Dの順序でヘッドを通ると、センサ
IB中の磁化ベクトルの角度01は増加し、抵抗値は減
少する。
てD−A−B−E又はその逆の順序でヘッド中を通ると
、センサIA中の磁化ベクトルの角度とセンサIB中の
磁化ベクトルの角度は異なる。例えば、記録層5からの
磁束がE−B−A−Dの順序でヘッドを通ると、センサ
IB中の磁化ベクトルの角度01は増加し、抵抗値は減
少する。
一方、センサIA中の磁化ベクトルの角度θ2は減少し
、抵抗値は増加する。従って、センサIA及びIBに流
れる一定電流は端子3A−3B間に差動電圧をもたらす
。同等の磁束がヘッドを逆回りに通過する場合には、同
等の大きさで極性の異なる差動電圧が端子3A−3B間
に生じる。各センサの幅が約10.16X10−’am
、長さが約20.32X10−’aa、各薄膜層の厚さ
が約300オングストロームの場合、各センサの抵抗値
は約1.5オームである。記録層からの磁束に起因する
抵抗値の最大変化は約2%であり、30ミリオームの変
化がある。センサ電流が約15ミリアンペアであると仮
定すると、最大差動出力電圧は約900マイクロボルト
である。
、抵抗値は増加する。従って、センサIA及びIBに流
れる一定電流は端子3A−3B間に差動電圧をもたらす
。同等の磁束がヘッドを逆回りに通過する場合には、同
等の大きさで極性の異なる差動電圧が端子3A−3B間
に生じる。各センサの幅が約10.16X10−’am
、長さが約20.32X10−’aa、各薄膜層の厚さ
が約300オングストロームの場合、各センサの抵抗値
は約1.5オームである。記録層からの磁束に起因する
抵抗値の最大変化は約2%であり、30ミリオームの変
化がある。センサ電流が約15ミリアンペアであると仮
定すると、最大差動出力電圧は約900マイクロボルト
である。
書込み動作においては、コイル9A及び9Bが −
使用される。2つのコイルは直列接続されており、中央
端子10を有する。コイル9A及び9Bの機能は、供給
される電流の方向に依存してD−A−C−B−E又はそ
の逆回りにヘッドを通って記録層5に結合されるべき約
0.12テルサの磁束密度の磁束をもたらす。書込み動
作中、コイル8には電流が供給されない。コイル9A及
び9Bは読取り動作中にセンサのバイアス用の電流を流
すためにも使用可能であるから、コイル8は無くてもよ
い。コイル9A及び9Bに書込みのための電流を供給す
る前に、各センサの結合薄膜層の磁化は容易軸に沿って
逆平行状態にある。書込み電流が増加するにつれて各セ
ンサの磁化は困難軸方向へ回転し、飽和する。そのとき
、センサIA及びIBを通る磁束は増加を停止し、セン
サ全体の相対透磁率は1になる。書込み電流がそれ以上
増加することに応じて、脚部4A及び4Bの端部り及び
Eを通り記録層5に結合される磁束が増加する。
使用される。2つのコイルは直列接続されており、中央
端子10を有する。コイル9A及び9Bの機能は、供給
される電流の方向に依存してD−A−C−B−E又はそ
の逆回りにヘッドを通って記録層5に結合されるべき約
0.12テルサの磁束密度の磁束をもたらす。書込み動
作中、コイル8には電流が供給されない。コイル9A及
び9Bは読取り動作中にセンサのバイアス用の電流を流
すためにも使用可能であるから、コイル8は無くてもよ
い。コイル9A及び9Bに書込みのための電流を供給す
る前に、各センサの結合薄膜層の磁化は容易軸に沿って
逆平行状態にある。書込み電流が増加するにつれて各セ
ンサの磁化は困難軸方向へ回転し、飽和する。そのとき
、センサIA及びIBを通る磁束は増加を停止し、セン
サ全体の相対透磁率は1になる。書込み電流がそれ以上
増加することに応じて、脚部4A及び4Bの端部り及び
Eを通り記録層5に結合される磁束が増加する。
結局、脚部4A及び4Bを連結するセンサの分路作用に
より、記録層5に有効に結合される磁束を生じるために
必要な電流の閾値が定められる。書込み電流の方向が変
わると、各センサにおける磁化はそれと同時に回転して
逆方向に飽和し、逆方向の電流の閾値を定める。コイル
9A及び9Bの全体の巻き数が6回であり且つ約200
ミリアンペアの書込電流が供給される場合、約0.1テ
スラの磁束密度の磁束が記録層5に与えられる。
より、記録層5に有効に結合される磁束を生じるために
必要な電流の閾値が定められる。書込み電流の方向が変
わると、各センサにおける磁化はそれと同時に回転して
逆方向に飽和し、逆方向の電流の閾値を定める。コイル
9A及び9Bの全体の巻き数が6回であり且つ約200
ミリアンペアの書込電流が供給される場合、約0.1テ
スラの磁束密度の磁束が記録層5に与えられる。
詳しく説明した実施例は磁気抵抗効果型センサを用いる
ものであったが、本発明はこれらに限らず他の型のセン
サを用いて実施することも可能である。例えば、ホール
効果素子や磁気感知性トランジスタ若しくはダイオード
などを磁気抵抗効果型センサの代りに磁束路に配置する
ことが考えられる。
ものであったが、本発明はこれらに限らず他の型のセン
サを用いて実施することも可能である。例えば、ホール
効果素子や磁気感知性トランジスタ若しくはダイオード
などを磁気抵抗効果型センサの代りに磁束路に配置する
ことが考えられる。
F0発明の効果
本発明のヘッドにおいては、読取り動作中にセンサに与
えられるバイアス磁束が記録層に結合されることはない
、即ち、中央脚部付きの差動構成を採用しているので、
記録層に対面する2つの磁気結合脚部に接触している一
対のセンサの両側の端部において同等の起磁力が相殺し
てゼロになるため、記録層に対して磁束が与えられるこ
とはないのである。又、差動構成により、種々のノイズ
や温度変化に起因するセンサの抵抗変化も相殺されてし
まう。更に、書込み中、差動出力信号は0であるから、
出力端子に接続される感知増幅器を飽和状態から回復さ
せるための時間は不必要であり、従って自己平衡型の感
知増幅器の構成を単純にすることができる。
えられるバイアス磁束が記録層に結合されることはない
、即ち、中央脚部付きの差動構成を採用しているので、
記録層に対面する2つの磁気結合脚部に接触している一
対のセンサの両側の端部において同等の起磁力が相殺し
てゼロになるため、記録層に対して磁束が与えられるこ
とはないのである。又、差動構成により、種々のノイズ
や温度変化に起因するセンサの抵抗変化も相殺されてし
まう。更に、書込み中、差動出力信号は0であるから、
出力端子に接続される感知増幅器を飽和状態から回復さ
せるための時間は不必要であり、従って自己平衡型の感
知増幅器の構成を単純にすることができる。
第1図はツイン・トラックを有する磁気記録媒体のそば
に′置かれた本発明のヘッドの概略図、第2A図及び第
2B図は第1図のヘッドの異なった部分における断面図
である。 IA、IB・・・・センサ、2・・・・中央脚部、4A
、4B・・・・磁気結合脚部、5・・・・記録層、8,
9A、9B・・・φコイル。 8.9A、9B−ツイン 膚阪に株媒
体BI−−
に′置かれた本発明のヘッドの概略図、第2A図及び第
2B図は第1図のヘッドの異なった部分における断面図
である。 IA、IB・・・・センサ、2・・・・中央脚部、4A
、4B・・・・磁気結合脚部、5・・・・記録層、8,
9A、9B・・・φコイル。 8.9A、9B−ツイン 膚阪に株媒
体BI−−
Claims (3)
- (1)磁気記録媒体との間で授受する磁束を導く磁気回
路を構成するように配置され且つ互いに電気的に分離し
ている第1及び第2の透磁性部材を有するツイン・トラ
ック用磁気ヘッドにおいて、上記第1及び第2の透磁性
部材にまたがつて配置されていて、それらと磁気的に結
合されており且つ互いに直列に接続されている一対のセ
ンサと、該一対のセンサの中央接続部に電気的且つ磁気
的に結合された第3の透磁性部材とを有し、差動的に磁
束を感知するツイン・トラック用磁気ヘッド。 - (2)上記一対のセンサの両側の端部に差動出力用の端
子が設けられている特許請求の範囲第(1)項記載のツ
イン・トラック用磁気ヘッド。 - (3)上記第1及び第2の透磁性部材のそれぞれの一方
の端部が上記磁気記録媒体のツイン・トラックに対面す
る様になつており且つそれぞれの他方の端部が上記第3
の透磁性部材との間に空隙を形成している特許請求の範
囲第(1)項記載のツイン・トラック用磁気ヘッド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/782,660 US4782415A (en) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | Differential twin track vertical read/write magnetic head structure |
US782660 | 2001-02-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6286520A true JPS6286520A (ja) | 1987-04-21 |
Family
ID=25126772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61185391A Pending JPS6286520A (ja) | 1985-10-02 | 1986-08-08 | ツイン・トラツク用磁気ヘツド |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4782415A (ja) |
EP (1) | EP0218814B1 (ja) |
JP (1) | JPS6286520A (ja) |
DE (1) | DE3674706D1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07105006B2 (ja) * | 1985-11-05 | 1995-11-13 | ソニー株式会社 | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド |
NL8702607A (nl) * | 1987-11-02 | 1989-06-01 | Philips Nv | Inrichting voor het uitlezen van informatie uit een magnetisch registratiemedium. |
US4860138A (en) * | 1987-11-12 | 1989-08-22 | International Business Machines Corp. | Differentially sensitive single track read/write head design with improved biasing |
US4881143A (en) * | 1988-01-19 | 1989-11-14 | Hewlett-Packard Company | Compensated magneto-resistive read head |
JPH02232803A (ja) * | 1989-03-06 | 1990-09-14 | Nec Corp | 磁気ヘッド |
FR2645314B1 (fr) * | 1989-03-29 | 1991-05-31 | Commissariat Energie Atomique | Tete magnetique a magnetoresistance pour enregistrement longitudinal et procede de realisation d'une telle tete |
FR2645315B1 (fr) * | 1989-03-29 | 1991-05-31 | Commissariat Energie Atomique | Tete magnetique de lecture a magnetoresistance pour enregistrement perpendiculaire et procede de realisation d'une telle tete |
US5164869A (en) * | 1991-02-27 | 1992-11-17 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording head with integrated magnetoresistive element and open yoke |
JPH05114119A (ja) * | 1991-10-21 | 1993-05-07 | Fujitsu Ltd | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド |
FR2683661B1 (fr) * | 1991-11-08 | 1994-02-04 | Schlumberger Industries | Tete magnetique ayant un systeme de bobinages a compensation des fuites magnetiques. |
EP0650156A1 (en) * | 1993-10-21 | 1995-04-26 | Seagate Technology International | Contact scheme for minimizing inductive pickup in magnetoresistive read heads |
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US5546256A (en) * | 1994-10-21 | 1996-08-13 | Seagate Technology, Inc. | Inductive transducer with closed-loop pole circumscribing I-shaped pole to reduce leakage flux |
EP0780833A3 (en) * | 1995-12-20 | 1999-01-07 | Ampex Corporation | Improved magnetic recording system having a saturable layer and detection using MR element |
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US5861220A (en) * | 1996-08-06 | 1999-01-19 | Ampex Corporation | Method and apparatus for providing a magnetic storage and reproducing media with a keeper layer having a longitudinal anisotropy |
US5843565A (en) * | 1996-10-31 | 1998-12-01 | Ampex Corporation | Particulate magnetic medium utilizing keeper technology and methods of manufacture |
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US6717770B1 (en) | 2000-03-24 | 2004-04-06 | Seagate Technology Llc | Recording head for applying a magnetic field perpendicular to the magnetizations within magnetic storage media |
US7589936B1 (en) * | 2003-12-04 | 2009-09-15 | Seagate Technology Llc | Center-tapped write coil |
US7251878B2 (en) * | 2004-06-30 | 2007-08-07 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method and apparatus for defining leading edge taper of a write pole tip |
US7692893B2 (en) * | 2004-06-30 | 2010-04-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Side-by-side magnetic head configuration with flared pole tip layer and read sensor sharing same plane |
JP4358279B2 (ja) | 2007-08-22 | 2009-11-04 | 株式会社東芝 | 磁気記録ヘッド及び磁気記録装置 |
JP2009080875A (ja) | 2007-09-25 | 2009-04-16 | Toshiba Corp | 磁気ヘッド及び磁気記録装置 |
US8310782B2 (en) * | 2008-04-04 | 2012-11-13 | Seagate Technology Llc | Dedicated ID-OD writer with beveled pole tips and method of manufacture |
JP5361259B2 (ja) * | 2008-06-19 | 2013-12-04 | 株式会社東芝 | スピントルク発振子、磁気記録ヘッド、磁気ヘッドアセンブリ及び磁気記録装置 |
JP5558698B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2014-07-23 | 株式会社東芝 | 磁気記録ヘッド、磁気ヘッドアセンブリ、磁気記録装置及び磁気記録方法 |
JP5606482B2 (ja) | 2012-03-26 | 2014-10-15 | 株式会社東芝 | 磁気ヘッド、磁気ヘッドアセンブリ、磁気記録再生装置及び磁気ヘッドの製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE3014469A1 (de) * | 1980-04-15 | 1981-10-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Magnetoresistiver sensor |
EP0081240B1 (en) * | 1981-12-09 | 1989-06-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head |
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CA1209260A (en) * | 1982-10-29 | 1986-08-05 | Tetsuo Sekiya | Magnetic transducer head using magnetroresistance effect |
US4626946A (en) * | 1984-02-28 | 1986-12-02 | International Business Machines Corporation | Twin track vertical read-write head structure |
-
1985
- 1985-10-02 US US06/782,660 patent/US4782415A/en not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-07-22 DE DE8686110052T patent/DE3674706D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-07-22 EP EP86110052A patent/EP0218814B1/en not_active Expired
- 1986-08-08 JP JP61185391A patent/JPS6286520A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3674706D1 (de) | 1990-11-08 |
EP0218814A1 (en) | 1987-04-22 |
EP0218814B1 (en) | 1990-10-03 |
US4782415A (en) | 1988-11-01 |
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