JPS6283379A - 透明性ｂｎ系セラミツクスの製造方法 - Google Patents
透明性ｂｎ系セラミツクスの製造方法Info
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- JPS6283379A JPS6283379A JP61106581A JP10658186A JPS6283379A JP S6283379 A JPS6283379 A JP S6283379A JP 61106581 A JP61106581 A JP 61106581A JP 10658186 A JP10658186 A JP 10658186A JP S6283379 A JPS6283379 A JP S6283379A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はＢ、Ｎ及びＳｉ元素からなる透明性ＢＮ系セラ
ミックス材料の製造方法に関する。
ミックス材料の製造方法に関する。
優れた透明性を有するセラミックス材料は、今俊飛躍的
に進展すると予測されている光を媒体とする光デバイス
技術に関連する素材として待望されている。また、セラ
ミックス本来の耐熱性、耐食性、熱安定性、硬度などを
具備する透明性材料は各種の高温用窓材や高温用レンズ
などの特殊光学用途も期待される。
に進展すると予測されている光を媒体とする光デバイス
技術に関連する素材として待望されている。また、セラ
ミックス本来の耐熱性、耐食性、熱安定性、硬度などを
具備する透明性材料は各種の高温用窓材や高温用レンズ
などの特殊光学用途も期待される。
更に、宇宙空間において使用される各種機械装置の構成
部材としても期待される。
部材としても期待される。
［従来の技術］
特開昭５８−１４５６６５公報（ｒｓｉ３Ｎ４−ＢＮＮ
系非晶相料およびその製造方法」）において、透光性を
そなえた５ｉ）Ｎ４−ＢＮ系非晶質材料とその製造方法
が開示されている。それは次のような材料でおる。即ち
、化学気相析出法により同時析出させて得た５ｉｘＮ４
ニア０〜３０重量％、８Ｎ：３０〜７０重量％の組成に
なる非晶質の複合材料であって、透光性をそなえ、かつ
熱安定性、耐熱衝撃性および耐薬品性に富む透光性５ｉ
）Ｎ４−ＢＮＮ系非晶相料である。その製造方法として
、減圧下に保持した反応炉内に、けい素沈積源ガス、ほ
う素沈積源ガスおよび水素ガスと窒素沈積源ガスとを個
別に導入し、１１００〜１３００℃の範囲における上記
反応ガスの合底温度で化学気相反応させ、該反応炉内に
設置の基体上に８１３Ｎ４とＢＮの非晶質を同時析出さ
せることを特徴とする５ｉ３Ｎ４−ＢＮ系非晶質材料の
製造方法を開示している。
系非晶相料およびその製造方法」）において、透光性を
そなえた５ｉ）Ｎ４−ＢＮ系非晶質材料とその製造方法
が開示されている。それは次のような材料でおる。即ち
、化学気相析出法により同時析出させて得た５ｉｘＮ４
ニア０〜３０重量％、８Ｎ：３０〜７０重量％の組成に
なる非晶質の複合材料であって、透光性をそなえ、かつ
熱安定性、耐熱衝撃性および耐薬品性に富む透光性５ｉ
）Ｎ４−ＢＮＮ系非晶相料である。その製造方法として
、減圧下に保持した反応炉内に、けい素沈積源ガス、ほ
う素沈積源ガスおよび水素ガスと窒素沈積源ガスとを個
別に導入し、１１００〜１３００℃の範囲における上記
反応ガスの合底温度で化学気相反応させ、該反応炉内に
設置の基体上に８１３Ｎ４とＢＮの非晶質を同時析出さ
せることを特徴とする５ｉ３Ｎ４−ＢＮ系非晶質材料の
製造方法を開示している。
この公報でいう透光性の材料は褐色を呈する透光体であ
る。このことはその明細書中の記載により明白である。
る。このことはその明細書中の記載により明白である。
例えば、「白色から黄色、褐色と変化するにつれて透光
性はよくなり、とくに外観が褐色を呈する場合にすぐれ
た透光性が得られる。」との記述から明らかなように、
褐色に着色した場合に透光性を示すものであり、褐色着
色と透光性は密接不可分の関係におることを示している
。
性はよくなり、とくに外観が褐色を呈する場合にすぐれ
た透光性が得られる。」との記述から明らかなように、
褐色に着色した場合に透光性を示すものであり、褐色着
色と透光性は密接不可分の関係におることを示している
。
［発明が解決しようとする問題点コ
今後、発展する光技術をはじめとする革新的先端技術工
業分野において、多方面での応用が期待される透明性セ
ラミックス材料としては、無色透明であることが極めて
重要な要件と考えられるので、本発明者らは無色透明な
透明性セラミックスを開発すべく種々検討した。
業分野において、多方面での応用が期待される透明性セ
ラミックス材料としては、無色透明であることが極めて
重要な要件と考えられるので、本発明者らは無色透明な
透明性セラミックスを開発すべく種々検討した。
一般に、化学気相析出（ＣＶＤ）プロセスは多くの要因
を含む複雑な化学反応プロセスである。化学反応がそう
であるように、原料や条件により種々の変化を呈するた
め、ＣＶＤも極めて個別的かつ個性的である。ＣＶＤプ
ロセスのメカニズムは、少数の例外を除いて、全く未解
明でおり、反応条件と生成物の関係に関し予測・予見・
類推することは不可能な状況にある。
を含む複雑な化学反応プロセスである。化学反応がそう
であるように、原料や条件により種々の変化を呈するた
め、ＣＶＤも極めて個別的かつ個性的である。ＣＶＤプ
ロセスのメカニズムは、少数の例外を除いて、全く未解
明でおり、反応条件と生成物の関係に関し予測・予見・
類推することは不可能な状況にある。
ＣＶＤ条件として、例えば、析出温度、炉内全ガス圧、
原料ガスの種類とその流量などが変化すると、析出状態
や析出物の構造・組成が全く変化してしまうことは珍し
いことではない。
原料ガスの種類とその流量などが変化すると、析出状態
や析出物の構造・組成が全く変化してしまうことは珍し
いことではない。
特に原料ガスの種類が多くなるとこの傾向は極めて顕著
になる。本発明の対象となる３元素系からなる場合がこ
れに相当する。
になる。本発明の対象となる３元素系からなる場合がこ
れに相当する。
このような技術的状況のもとで、本発明者らは、実験的
検討を詳細に進めた結果無色かつ透明なＢＮ系セラミッ
クスの製造方法を見出し本発明に至った。
検討を詳細に進めた結果無色かつ透明なＢＮ系セラミッ
クスの製造方法を見出し本発明に至った。
［問題点を解決するための手段］
本発明は無色かつ透明性を有するＢＮ系セラミックスの
改良された製造方法を提示するものである。即ち、ほう
素元素含有化合物、窒素元素含有化合物及びけい素元素
含有化合物を用いて化学気相析出法によって、析出温度
を１４００℃以上１６００℃未満の温度に保ち、減圧下
で析出させ、１０〜４０ｉ量％のホウ素３５〜５５重四
％の窒素および３〜４０重量％のケイ素を主構成元素と
する非晶質材料を形成することを特徴とする透明性ＢＮ
系セラミックス材料の製造方法でおる。
改良された製造方法を提示するものである。即ち、ほう
素元素含有化合物、窒素元素含有化合物及びけい素元素
含有化合物を用いて化学気相析出法によって、析出温度
を１４００℃以上１６００℃未満の温度に保ち、減圧下
で析出させ、１０〜４０ｉ量％のホウ素３５〜５５重四
％の窒素および３〜４０重量％のケイ素を主構成元素と
する非晶質材料を形成することを特徴とする透明性ＢＮ
系セラミックス材料の製造方法でおる。
本発明により得られるＢＮ系材料は、ほう素（Ｂ）元素
、窒素（Ｎ＞元素及びけい素（Ｓ ｉ ）元素を主たる
構成元素として含む透明性材料である。上記の３元素以
外の元素として、例えば、０、Ｈ，ＣＩ、Ｆ、Ｃ，Ｎａ
、ｐ、ｙ、Ｌ ＋。
、窒素（Ｎ＞元素及びけい素（Ｓ ｉ ）元素を主たる
構成元素として含む透明性材料である。上記の３元素以
外の元素として、例えば、０、Ｈ，ＣＩ、Ｆ、Ｃ，Ｎａ
、ｐ、ｙ、Ｌ ＋。
ＡＩ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｃａなどを、それらの総和と
してｉｏｗｔ％以下好ましくは５重量％以下１重量％以
上の割合で含むこともある。３種の主構成元素の割合は
Ｂ元素＝１０〜４０ｗｔ％、Ｎ元素：３５〜５５ｗｔ％
及び３ｉ元素：３〜４０ｗｔ％の範囲にある。特にＢ元
素＝１５〜３５重量％、Ｎ元素：４４〜５５重量％、３
ｉ元素：１０〜３６重量％が好ましい。
してｉｏｗｔ％以下好ましくは５重量％以下１重量％以
上の割合で含むこともある。３種の主構成元素の割合は
Ｂ元素＝１０〜４０ｗｔ％、Ｎ元素：３５〜５５ｗｔ％
及び３ｉ元素：３〜４０ｗｔ％の範囲にある。特にＢ元
素＝１５〜３５重量％、Ｎ元素：４４〜５５重量％、３
ｉ元素：１０〜３６重量％が好ましい。
これらの元素は、主としてＢ−Ｎ結合と３ｉ−Ｎ結合を
形成しているが、全ての元素がこの結合に関与している
とは限らない。しかしＢ−Ｎ結合は常に存在するので、
ＢＮ系材利と称する。本発明の方法で製造された材料は
、厚さ０、７ｍｍの板状試料について分光光度計により
その透過率を測定した場合、波長４００ｎｍにおいて５
０％以上、４５０ｎｍにおいて６０％以上の光透過率を
示すものである。
形成しているが、全ての元素がこの結合に関与している
とは限らない。しかしＢ−Ｎ結合は常に存在するので、
ＢＮ系材利と称する。本発明の方法で製造された材料は
、厚さ０、７ｍｍの板状試料について分光光度計により
その透過率を測定した場合、波長４００ｎｍにおいて５
０％以上、４５０ｎｍにおいて６０％以上の光透過率を
示すものである。
本発明においては、このような無色かつ透明な材料を製
造するために、析出温度を１４００℃以上１６００℃未
満の温度に保ち、減圧状態に保持する。その全ガス圧力
は１０〜１００ 丁ｏｒｒの範囲がよい。１４００℃よ
り低い温度では、反応中間体を含むものが出来やすいた
めか、すぐれた透明体が得られない。一方１６００℃以
上だと、結晶の成長などのためか、透明性の低下したも
のとなる。
造するために、析出温度を１４００℃以上１６００℃未
満の温度に保ち、減圧状態に保持する。その全ガス圧力
は１０〜１００ 丁ｏｒｒの範囲がよい。１４００℃よ
り低い温度では、反応中間体を含むものが出来やすいた
めか、すぐれた透明体が得られない。一方１６００℃以
上だと、結晶の成長などのためか、透明性の低下したも
のとなる。
好ましい温度は１４００℃〜１５００℃であり、歩留り
よく無色かつ透明性にすぐれた材料を製造することがで
きる。この場合、温度は二色光高温計により（基体上に
析出した）析出物表面の温度を測定した値とする。
よく無色かつ透明性にすぐれた材料を製造することがで
きる。この場合、温度は二色光高温計により（基体上に
析出した）析出物表面の温度を測定した値とする。
反応装置内の気体の全ガス圧力は上記の如く１０〜１０
０ Ｔｏｒｒがよいが、より優れた性質の良好な透明体
を得たいときには２０〜６０Ｔｏｒｒに設定することが
望ましい。特に３０丁Ｏｒｒ前後が最善である。
０ Ｔｏｒｒがよいが、より優れた性質の良好な透明体
を得たいときには２０〜６０Ｔｏｒｒに設定することが
望ましい。特に３０丁Ｏｒｒ前後が最善である。
本発明の製造方法の概要は以下の通りである。
黒鉛、耐熱金属（Ｗ、ＭＯ，Ｔａなど）や耐熱セラミッ
クス（ＳｉＣ，ＴｉＢ２など）などの材料からなる所望
形状の基体を真空加熱炉中に設置し、これを１４００以
上１６００℃未満の間の所定温度に加熱する。そして、
ほう素含有化合物、窒素含有化合物、けい素含有化合物
及び搬送もしくは希釈ガスからなる気体をこの基体上に
吹きつけることにより、Ｂ、Ｎ及び３ｉ元素を主構成元
素とするＢＮ系材料を基体上に析出させる。そして、基
体より析出物を分離することにより透明性ＢＮ系材料が
得られる。
クス（ＳｉＣ，ＴｉＢ２など）などの材料からなる所望
形状の基体を真空加熱炉中に設置し、これを１４００以
上１６００℃未満の間の所定温度に加熱する。そして、
ほう素含有化合物、窒素含有化合物、けい素含有化合物
及び搬送もしくは希釈ガスからなる気体をこの基体上に
吹きつけることにより、Ｂ、Ｎ及び３ｉ元素を主構成元
素とするＢＮ系材料を基体上に析出させる。そして、基
体より析出物を分離することにより透明性ＢＮ系材料が
得られる。
本発明は、基体を使用する化学気相析出法に限定される
ものではなく、また、基体の材質が上記のものに限定さ
れるものでもない。一般の化学気相析出法ならびにその
装置において適宜適用されるものである。
ものではなく、また、基体の材質が上記のものに限定さ
れるものでもない。一般の化学気相析出法ならびにその
装置において適宜適用されるものである。
ほう素元素含有化合物としては、例えば、ＢＣＩ ３．
ＢＦ３などのハロゲン化合物；Ｂ ２ Ｈｓ 、Ｂ ｍ
Ｈμなどの水素化物：Ｎ元素を含むボラジン、塩素化
ボラジンなどを用いる。
ＢＦ３などのハロゲン化合物；Ｂ ２ Ｈｓ 、Ｂ ｍ
Ｈμなどの水素化物：Ｎ元素を含むボラジン、塩素化
ボラジンなどを用いる。
本発明においては、ＢＣｌ３が特に好ましい。
それは、本発明の方法によるとき特に優れた無色かつ透
明な材料が得やすいからである。
明な材料が得やすいからである。
窒素元素含有化合物としては、例えば、ＮＨ３、Ｎ２、
Ｆ２素未化合物が用いられる。
Ｆ２素未化合物が用いられる。
ＮＨ３が好ましい。また、けい素元素含有化合物として
は、例えば、３ｉＣ１４、ＳｉＨ４、Ｓｉ （ＣＨ３）
２ＣＩ２などが用いられる。
は、例えば、３ｉＣ１４、ＳｉＨ４、Ｓｉ （ＣＨ３）
２ＣＩ２などが用いられる。
５ｉＣ１４が好んで用いられる。搬送もしくは希釈ガス
としてＮ２、Ｎ２、Ａｒなどの非反応性ガスを用いる。
としてＮ２、Ｎ２、Ａｒなどの非反応性ガスを用いる。
Ｎ２ガスが好ましい。ほう素、窒素及びけい素元素含有
化合物の流量の総和に対し１／１０〜１００倍の範囲が
普通である。
化合物の流量の総和に対し１／１０〜１００倍の範囲が
普通である。
本発明においては、ＢＣｌ３−ＮＨ３−３ｉＣＩ４−８
２ガス系のＣＶＤからすぐれた透明性材料が容易に得ら
れるので、これらを原料とすることが最も好ましいもの
である。そしてこの場合、理由は不明であるが、ＢＣｌ
３ガスの流量（ＦＲ［ＢＣｌ３］）と３ｉＣ１４ガスの
流量（ＦＲ［５ｉＣ１４］）との和に対する５ＩＣ１４
の流量の比率、即ち ＦＲ［５ｉＣＩ＊］／（ＦＲ［ＢＣｌ３ガスＦ Ｒ［Ｓ
＋ ＣＩ ４コ）をＸ座標とし、析出温度（Ｔｅｍｐ
、 ℃）をＹ座標とするとき、第２図に示す点Ａ （０
，５，１５００＞ 、点Ｂ （０，１９，１４００）、
点Ｃ（０，６７、１４００＞ 、点Ｄ （０，６７、１
５００＞で囲まれる領域において製造するときに最も良
好な析出物が得られる。
２ガス系のＣＶＤからすぐれた透明性材料が容易に得ら
れるので、これらを原料とすることが最も好ましいもの
である。そしてこの場合、理由は不明であるが、ＢＣｌ
３ガスの流量（ＦＲ［ＢＣｌ３］）と３ｉＣ１４ガスの
流量（ＦＲ［５ｉＣ１４］）との和に対する５ＩＣ１４
の流量の比率、即ち ＦＲ［５ｉＣＩ＊］／（ＦＲ［ＢＣｌ３ガスＦ Ｒ［Ｓ
＋ ＣＩ ４コ）をＸ座標とし、析出温度（Ｔｅｍｐ
、 ℃）をＹ座標とするとき、第２図に示す点Ａ （０
，５，１５００＞ 、点Ｂ （０，１９，１４００）、
点Ｃ（０，６７、１４００＞ 、点Ｄ （０，６７、１
５００＞で囲まれる領域において製造するときに最も良
好な析出物が得られる。
本発明の方法を実施するにあたって、ＣＶＤ装置の内部
を清浄に保つことは極めて重要である。可及的に装置内
部に存在する付着物を取り除くことが望ましい。これら
の付着物は、基体の交換や析出物の取り出しのため装置
を開放する際大気中の水分を吸収しやすく、その結果析
出中に水分が徐々に放出され良好な析出物の製造に悪影
響を与えることになりやすいからである。例えば析出の
過程で析出物中にクランクが発生したり、局部的に基体
から剥離するなどのトラブルが生じやすい。
を清浄に保つことは極めて重要である。可及的に装置内
部に存在する付着物を取り除くことが望ましい。これら
の付着物は、基体の交換や析出物の取り出しのため装置
を開放する際大気中の水分を吸収しやすく、その結果析
出中に水分が徐々に放出され良好な析出物の製造に悪影
響を与えることになりやすいからである。例えば析出の
過程で析出物中にクランクが発生したり、局部的に基体
から剥離するなどのトラブルが生じやすい。
［実施例］
実施例１〜４
基板を通電加熱する方式のＣＶＤ装置を使って、黒鉛基
板上に試料を析出させた。源料ガスとして、ＮＨ３、Ｂ
ＣＩ ３．５ｉＣＩ４を用い搬送ガスとしてＮ２を用い
た。基板温度は二色光高温計を用いて測定した。
板上に試料を析出させた。源料ガスとして、ＮＨ３、Ｂ
ＣＩ ３．５ｉＣＩ４を用い搬送ガスとしてＮ２を用い
た。基板温度は二色光高温計を用いて測定した。
まず、基板をセットしてＣＶＤ装置を真空排気した俊、
基板を所定の温度まで加熱し、次に、反応ガス及び搬送
ガスを導入して所定の圧力において析出を行なう。析出
終了接基板から析出物を剥離させ、アルキメデス法で密
度を測定し、ざらに試料を切断して読みとり顕微鏡で厚
さを測定した。そして化学分析によって、３ｉ含有量を
測定した。ざらに、透明性を定量化するために分光光度
計を用いて２００止から２２００止の範囲で全透過率を
測定した。
基板を所定の温度まで加熱し、次に、反応ガス及び搬送
ガスを導入して所定の圧力において析出を行なう。析出
終了接基板から析出物を剥離させ、アルキメデス法で密
度を測定し、ざらに試料を切断して読みとり顕微鏡で厚
さを測定した。そして化学分析によって、３ｉ含有量を
測定した。ざらに、透明性を定量化するために分光光度
計を用いて２００止から２２００止の範囲で全透過率を
測定した。
その結果１３５０℃より低い温度では、優れた透明体は
得られず、１６００℃で実験を行なうと褐色となり不透
明であった。一方、１０Ｔｏｒｒより低い圧力では白濁
して透明性が低下し、１００ Ｔｏｒｒより高い圧力で
は、反応炉内の副生成物が多すぎて、優れた透明体を得
ることが妨げられた。
得られず、１６００℃で実験を行なうと褐色となり不透
明であった。一方、１０Ｔｏｒｒより低い圧力では白濁
して透明性が低下し、１００ Ｔｏｒｒより高い圧力で
は、反応炉内の副生成物が多すぎて、優れた透明体を得
ることが妨げられた。
表１及び表２に、優れた透明性セラミックスを得ること
のできた実施例の実験条件と結果を示す。実施例１．２
．４では２００ｎｌｌｌから６００ｎｍにかけて、透過
率は０％から１５％に上昇し、その後２２００ｎｍまで
８０％〜８５％Ｗであった。波長４００ｎｍでは７０％
、４５０ｎｍでは７６％であった。第１図にその結果を
示した。実施例３では他の例より少し低い透過率を示し
た。これも第１図に示す。
のできた実施例の実験条件と結果を示す。実施例１．２
．４では２００ｎｌｌｌから６００ｎｍにかけて、透過
率は０％から１５％に上昇し、その後２２００ｎｍまで
８０％〜８５％Ｗであった。波長４００ｎｍでは７０％
、４５０ｎｍでは７６％であった。第１図にその結果を
示した。実施例３では他の例より少し低い透過率を示し
た。これも第１図に示す。
表 １ 実験条件
表２ 結果
実施例５
先の実施例と同様に、基板を通電加熱する方式のＣＶＤ
装置を用いて、黒鉛基板上に試料を析出させた。析出温
度は１４００．１５００および１６００℃、析出圧力は
３０Ｔｏｒｒとした。原料ガスとして、ＢＣＩ ３、Ｎ
Ｈ３，５ｉＣ１４及びＨ２を用いた。ＮＨ３およびＨ２
の流量は、それぞれ、９０および６７０ＳＣＣ）ｆとし
、ＢＣｌ３と５ｉＣＩ４の流」はそれらの合計で１４０
ＳＣＣＭとした。
装置を用いて、黒鉛基板上に試料を析出させた。析出温
度は１４００．１５００および１６００℃、析出圧力は
３０Ｔｏｒｒとした。原料ガスとして、ＢＣＩ ３、Ｎ
Ｈ３，５ｉＣ１４及びＨ２を用いた。ＮＨ３およびＨ２
の流量は、それぞれ、９０および６７０ＳＣＣ）ｆとし
、ＢＣｌ３と５ｉＣＩ４の流」はそれらの合計で１４０
ＳＣＣＭとした。
ＢＣｌｘと３ｉＣ１４の流量の和に対する５ｉＣＩ４の
流量の比率を変化させた。原料ガスをＣＶＤ装置に導く
ガス導入管には同芯二重管を用い、内管にＮＨ：ｌ、外
管にＢＣｌ３．５ＩＣ１４及びＨ２を流した。
流量の比率を変化させた。原料ガスをＣＶＤ装置に導く
ガス導入管には同芯二重管を用い、内管にＮＨ：ｌ、外
管にＢＣｌ３．５ＩＣ１４及びＨ２を流した。
析出時間は２〜５時間とした。基板より析出物を剥がし
その透明性を肉眼判定した。第２図に結果を示した。こ
の図で、Ｏ印は無色透明な析出物、Ｘ印は不透明な析出
物、Δ印は耐湿性に劣る析出物を示している。少くとも
、点Ａ（０，５，１５００＞ 、点Ｂ （０，１９，１
４００＞ 、点Ｃ（０，６７、１４００＞および点Ｄ
（０，６７、１５００＞で囲まれる四角形の範囲では優
れた無色透明性を有するＢＮ形セラミックス材料が得ら
れることが明らかである。
その透明性を肉眼判定した。第２図に結果を示した。こ
の図で、Ｏ印は無色透明な析出物、Ｘ印は不透明な析出
物、Δ印は耐湿性に劣る析出物を示している。少くとも
、点Ａ（０，５，１５００＞ 、点Ｂ （０，１９，１
４００＞ 、点Ｃ（０，６７、１４００＞および点Ｄ
（０，６７、１５００＞で囲まれる四角形の範囲では優
れた無色透明性を有するＢＮ形セラミックス材料が得ら
れることが明らかである。
［発明の効果］
本発明は無色の透明性を有するセラミックス材料を容易
に得る方法で、かかる材料は耐熱性にすぐれたもので、
光を媒体とする光デバイス技術に関連する素材として有
用なものであり、また各種高温用窓材や高温用レンズな
どとしても有用なものである。そして、単体としてのみ
でなく、金属、セラミックスおよびポリマーとの複合材
料の形で種々の用途に適用可能な新規な材料である。
に得る方法で、かかる材料は耐熱性にすぐれたもので、
光を媒体とする光デバイス技術に関連する素材として有
用なものであり、また各種高温用窓材や高温用レンズな
どとしても有用なものである。そして、単体としてのみ
でなく、金属、セラミックスおよびポリマーとの複合材
料の形で種々の用途に適用可能な新規な材料である。
第１図は実施例で得られた材料の透過率を示すグラフ、
第２図は最も良好な析出物の得られる範囲を示したグラ
フである。
フである。
Claims (1)
- （１）ほう素元素含有化合物、窒素元素含有化合物及び
けい素元素含有化合物を用いて化学気相析出法によって
、析出温度を１４００℃以上１６００℃未満の温度に保
ち、減圧下で析出させ、１０〜４０重量％のホウ素、３
５〜５５重量％の窒素および３〜４０重量％のケイ素を
主構成元素とする非晶質材料を形成することを特徴とす
る透明なＢＮ系セラミックス材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61106581A JPS6283379A (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | 透明性ｂｎ系セラミツクスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61106581A JPS6283379A (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | 透明性ｂｎ系セラミツクスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6283379A true JPS6283379A (ja) | 1987-04-16 |
| JPH0329025B2 JPH0329025B2 (ja) | 1991-04-22 |
Family
ID=14437178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61106581A Granted JPS6283379A (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | 透明性ｂｎ系セラミツクスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6283379A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58145665A (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-30 | 平井 敏雄 | 透光性Ｓｉ―Ｎ―Ｂ系非晶質材料およびその製造方法 |
-
1986
- 1986-05-12 JP JP61106581A patent/JPS6283379A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58145665A (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-30 | 平井 敏雄 | 透光性Ｓｉ―Ｎ―Ｂ系非晶質材料およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0329025B2 (ja) | 1991-04-22 |
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