JPS6279653A - ハイブリツドicのパツケ−ジング構造 - Google Patents
ハイブリツドicのパツケ−ジング構造Info
- Publication number
- JPS6279653A JPS6279653A JP22066585A JP22066585A JPS6279653A JP S6279653 A JPS6279653 A JP S6279653A JP 22066585 A JP22066585 A JP 22066585A JP 22066585 A JP22066585 A JP 22066585A JP S6279653 A JPS6279653 A JP S6279653A
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- Japan
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- hybrid
- case
- synthetic resin
- thin film
- opening
- Prior art date
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/562—Protection against mechanical damage
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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- Power Engineering (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔)概要〕
薄膜被覆でコーテングして封止したハイブリッドICを
、補強バーを設けて変形し難くした合成樹脂よりなるケ
ースに収容することにより、ハイブリッドICを機械的
に保護する。
、補強バーを設けて変形し難くした合成樹脂よりなるケ
ースに収容することにより、ハイブリッドICを機械的
に保護する。
本発明は、ハイブリッドICのパッケージング構造に関
する。
する。
セラミック基板に膜回路を形成し、さらに回路部品等を
実装したハイブリッドICは、耐湿性。
実装したハイブリッドICは、耐湿性。
耐衝撃性等を向上させるため、端子部分を除いた全表面
を合成樹脂等でパッケージングし、密封保護するのが一
般である。
を合成樹脂等でパッケージングし、密封保護するのが一
般である。
近年は、大形のセラミック基板に、高密度に膜回路1回
路部品等形成される傾向にあり、確実なパッケージング
手段の要求が強い。
路部品等形成される傾向にあり、確実なパッケージング
手段の要求が強い。
第3図は従来のパッケージング構造を示す斜視Mであっ
て、細長い板厚の薄い矩形板状のセラミック基板2の表
面に、所望の膜回路を形成し、さらに能動部品等を実装
してハイブリッドICIを構成している。
て、細長い板厚の薄い矩形板状のセラミック基板2の表
面に、所望の膜回路を形成し、さらに能動部品等を実装
してハイブリッドICIを構成している。
そして、セラミック基板2の一方の長手側縁に、端子3
を並列して設け、端子3をプリント板のスルーホールに
挿着、接続することにより、ハイブリッドTCIをプリ
ント板に実装する。
を並列して設け、端子3をプリント板のスルーホールに
挿着、接続することにより、ハイブリッドTCIをプリ
ント板に実装する。
従来はこのようなハイブリッドICIを、薄膜被覆5で
アンダコーテング後、薄膜被覆5の全表面を封着剤4で
厚くコーテングしてパッケージングしている。
アンダコーテング後、薄膜被覆5の全表面を封着剤4で
厚くコーテングしてパッケージングしている。
即ち、所望の温度に加熱したハイブリッドICIを、合
成樹脂、例えば溶融状態のシリコン樹脂にディップして
、端子3を除いた全表面に薄膜被覆5を形成させてコー
テングし、次に、ハイブリ・ラドICIを所望の温度(
例えばエポキシ樹脂の場合、150℃〜170°C)に
加熱して、封着剤4を構成する合成樹脂粉末、例えばエ
ポキシ樹脂粉末が浮遊流動している浸漬槽に浸漬して、
封着剤4を溶融付着させる手段、所謂、粉末流動浸漬法
により、薄膜被覆5′の全表面を、封着剤4で被覆して
いる。
成樹脂、例えば溶融状態のシリコン樹脂にディップして
、端子3を除いた全表面に薄膜被覆5を形成させてコー
テングし、次に、ハイブリ・ラドICIを所望の温度(
例えばエポキシ樹脂の場合、150℃〜170°C)に
加熱して、封着剤4を構成する合成樹脂粉末、例えばエ
ポキシ樹脂粉末が浮遊流動している浸漬槽に浸漬して、
封着剤4を溶融付着させる手段、所謂、粉末流動浸漬法
により、薄膜被覆5′の全表面を、封着剤4で被覆して
いる。
上述のアンダコーテングの薄膜被覆5は、厚さがQ、1
mm〜0.21の伸縮性ある被覆で、密着性が良いので
、防湿機能を備えている。
mm〜0.21の伸縮性ある被覆で、密着性が良いので
、防湿機能を備えている。
また封着剤4は、例えば厚さが0.6 +u〜0.8龍
であり、また硬いので、他の物品等が衝突等することに
よるハイブリッドIC1,特にセラミック基板2が破損
するのを阻止する機能を有する。
であり、また硬いので、他の物品等が衝突等することに
よるハイブリッドIC1,特にセラミック基板2が破損
するのを阻止する機能を有する。
しかしながら、近年の如(にハイブリッドICのセラミ
ック基板2が、細長く且つ大形になると、封着剤4でパ
ッケージングする際、封着剤4とセラミック基板2の熱
膨張係数の差に起因して、セラミック基板2に大きな応
力が付与され、セラミック基板2が破損するという問題
点がある。
ック基板2が、細長く且つ大形になると、封着剤4でパ
ッケージングする際、封着剤4とセラミック基板2の熱
膨張係数の差に起因して、セラミック基板2に大きな応
力が付与され、セラミック基板2が破損するという問題
点がある。
上記従来の問題点を解決するため本発明は、第1図のよ
うに、合成樹脂よりなる薄膜被覆5でコーテングしたハ
イブリッドIC1と、開口面より端子3が突出する如く
に、ハイブリッド(C1を収容する、合成樹脂よりなる
薄い箱形のケース1゜とよりなり、 ケース10にハイブリッドICIを収容後に、ケース1
0の変形を阻止する補強バー12を、対向する長手方向
の開口側縁11に架橋・固着するように構成したもので
ある。
うに、合成樹脂よりなる薄膜被覆5でコーテングしたハ
イブリッドIC1と、開口面より端子3が突出する如く
に、ハイブリッド(C1を収容する、合成樹脂よりなる
薄い箱形のケース1゜とよりなり、 ケース10にハイブリッドICIを収容後に、ケース1
0の変形を阻止する補強バー12を、対向する長手方向
の開口側縁11に架橋・固着するように構成したもので
ある。
上記本発明の手段によれば、ハイブリッドIC1は薄膜
被覆5で封止されているので、耐湿性が高く、且つケー
ス10に収容されているので、機械的に保護されている
。
被覆5で封止されているので、耐湿性が高く、且つケー
ス10に収容されているので、機械的に保護されている
。
また、ケース10は、長手方向の対向する開口側縁11
が、適宜の個所で補強バー12で支持、固定されて、開
口面が補強されているので、不用意なハイブリッドIC
の取扱いに起因して、ケース10に強い外力が付与され
ても、開口部が変形したり、或いは破壊する恐れがない
。
が、適宜の個所で補強バー12で支持、固定されて、開
口面が補強されているので、不用意なハイブリッドIC
の取扱いに起因して、ケース10に強い外力が付与され
ても、開口部が変形したり、或いは破壊する恐れがない
。
したがって、外力がハイブリッドIC1におよぶことが
なく、セラミック基板2が破損する恐れが少ない。
なく、セラミック基板2が破損する恐れが少ない。
以下図示実施例により、本発明を具体的に説明する。な
お、全図を通じて同一符号は同一対象物を示す。
お、全図を通じて同一符号は同一対象物を示す。
第1図は本発明の1実施例の一部破断斜視図、第2図は
側断面図である。
側断面図である。
第1図乃至第2図において、細長く大きい薄厚の矩形板
状のセラミック基板2の表面に、所望の膜回路を形成し
、さらに能動部品等を実装してハイブリッドICIを構
成している。なお、セラミック基板2の一方の長手側縁
には、端子3が並列している。
状のセラミック基板2の表面に、所望の膜回路を形成し
、さらに能動部品等を実装してハイブリッドICIを構
成している。なお、セラミック基板2の一方の長手側縁
には、端子3が並列している。
このようなハイブリッドICIは、合成樹脂、例えばシ
リコン樹脂の薄膜被覆5により、端子3を除いた全表面
がコーテングされている。
リコン樹脂の薄膜被覆5により、端子3を除いた全表面
がコーテングされている。
この薄膜被覆5は、厚さがQ、1mm〜0.2u+の伸
縮性ある被覆で、且つ密着性が良いので、防湿機能を有
する。
縮性ある被覆で、且つ密着性が良いので、防湿機能を有
する。
ケース10は、熱可ワ性樹脂、例えばポリブチレンテレ
フタレートよりなり、ハイブリッドICIを収容可能な
鞘厚が薄い箱形で、ハイブリッドIC1を挿入収容した
場合に、端子3例の側面が開口するように成形されてい
る。
フタレートよりなり、ハイブリッドICIを収容可能な
鞘厚が薄い箱形で、ハイブリッドIC1を挿入収容した
場合に、端子3例の側面が開口するように成形されてい
る。
ケース10の鞘厚側の側壁13の内壁には、セラミック
基板2の両側の側縁が挿入されるガイド14を対向して
設けである。
基板2の両側の側縁が挿入されるガイド14を対向して
設けである。
このガイド14にハイブリッドICIの側縁を挿入して
、案内となし、ハイブリッドIC1をケース10に挿入
・収容した後に、ガイド14の開口面側の端部を熱かし
め等して塞ぎ、ハイブリッドIC1をケース10に固定
して、抜落しないようにしている。
、案内となし、ハイブリッドIC1をケース10に挿入
・収容した後に、ガイド14の開口面側の端部を熱かし
め等して塞ぎ、ハイブリッドIC1をケース10に固定
して、抜落しないようにしている。
一方、ケース10の開口面の長手方向の一方の開口側縁
11には、予め平側板に並行に突出して、点線で示すよ
うに補強バー12を並列させである。この補強バー12
は、ハイブリッド■C1をケース10に収容した状態で
、端子3の間に位置する個所に設けたものである。
11には、予め平側板に並行に突出して、点線で示すよ
うに補強バー12を並列させである。この補強バー12
は、ハイブリッド■C1をケース10に収容した状態で
、端子3の間に位置する個所に設けたものである。
ケース10にハイブリッドICIを挿入収容後、補強バ
ー12の根本を加熱して軟化させ、補強バー12を実線
で示すように、対向する開口側縁11方向に直角に折曲
げて、その先端部を熱かしめ等して固定することにより
、対向する一対の開口側縁11に架橋・固着している。
ー12の根本を加熱して軟化させ、補強バー12を実線
で示すように、対向する開口側縁11方向に直角に折曲
げて、その先端部を熱かしめ等して固定することにより
、対向する一対の開口側縁11に架橋・固着している。
上述のように、ハイブリッドICIは、薄膜被覆5で封
止されているので、耐湿性が高い。
止されているので、耐湿性が高い。
また、ケース10は、長手方向の対向する開口側縁11
が、適宜の個所で補強バー12で支持、固定されて、開
口面が補強されているので、不用意なハイブリッドIC
の取扱いに起因して、ケース10に強い外力が付与され
ても、開口部が変形したり、或いは破壊する恐れがない
。
が、適宜の個所で補強バー12で支持、固定されて、開
口面が補強されているので、不用意なハイブリッドIC
の取扱いに起因して、ケース10に強い外力が付与され
ても、開口部が変形したり、或いは破壊する恐れがない
。
また、ケース10に収容しであるので、他の物品が直接
、ハイブリッドICIに衝突することが阻止され、機械
的に保護されるばかりでなく、薄膜被覆5が衝突等によ
り損傷することがないので、耐湿性の信頼度が高い。
、ハイブリッドICIに衝突することが阻止され、機械
的に保護されるばかりでなく、薄膜被覆5が衝突等によ
り損傷することがないので、耐湿性の信頼度が高い。
なお、補強バー12は、図示例と異なり、ビン形の補強
バーを別個に設け、対向する長手方向の開口側縁11の
間に、圧入固着、あるいは熱かしめ固着等して設けるこ
ともできる。
バーを別個に設け、対向する長手方向の開口側縁11の
間に、圧入固着、あるいは熱かしめ固着等して設けるこ
ともできる。
以上説明したように本発明は、薄膜被覆でコーテングし
たハイブリッドICを、補強バーを設は補強した、合成
樹脂よりなるケースに収容するようにしたもので、耐湿
性が高く、機械的に損傷する恐れが少ない等、実用上で
優れた効果がある。
たハイブリッドICを、補強バーを設は補強した、合成
樹脂よりなるケースに収容するようにしたもので、耐湿
性が高く、機械的に損傷する恐れが少ない等、実用上で
優れた効果がある。
第1図は本発明の1実施例の斜視図、
第2図は本発明の側断面図、
第3図は従来のパッケージング構造を示す斜視図である
。 図において、 1はハイブリッドIC。 2はセラミック基板、 3は端子、 4は封着剤、 5は薄膜被覆、 10はケース、 11は開口側縁、 12は(市強バー、 14はガイドを示す。
。 図において、 1はハイブリッドIC。 2はセラミック基板、 3は端子、 4は封着剤、 5は薄膜被覆、 10はケース、 11は開口側縁、 12は(市強バー、 14はガイドを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 合成樹脂よりなる薄膜被覆(5)でコーテングしたハ
イブリッドIC(1)と、 開口面より端子(3)が突出する如くに、該ハイブリッ
ドIC(1)を収容する、合成樹脂よりなる薄い箱形の
ケース(10)とよりなり、 該ケース(10)に該ハイブリッドIC(1)を収容後
に、該ケース(10)の変形を阻止する補強バー(12
)が、対向する長手方向の開口側縁(11)に架橋固着
するように、設けられたことを特徴とするハイブリッド
ICのパッケージング構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22066585A JPS6279653A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | ハイブリツドicのパツケ−ジング構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22066585A JPS6279653A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | ハイブリツドicのパツケ−ジング構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6279653A true JPS6279653A (ja) | 1987-04-13 |
Family
ID=16754530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22066585A Pending JPS6279653A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | ハイブリツドicのパツケ−ジング構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6279653A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1881530A1 (en) * | 2006-07-18 | 2008-01-23 | Mitsubishi Electric Corporation | Power semiconductor apparatus |
KR100879273B1 (ko) * | 2006-06-09 | 2009-01-19 | 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체장치 |
-
1985
- 1985-10-03 JP JP22066585A patent/JPS6279653A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100879273B1 (ko) * | 2006-06-09 | 2009-01-19 | 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체장치 |
EP1881530A1 (en) * | 2006-07-18 | 2008-01-23 | Mitsubishi Electric Corporation | Power semiconductor apparatus |
US7449726B2 (en) | 2006-07-18 | 2008-11-11 | Mitsubishi Electric Corporation | Power semiconductor apparatus |
KR100898774B1 (ko) * | 2006-07-18 | 2009-05-20 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 전력용 반도체장치 |
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