JPS627857A - 真空蒸着用溶融金属の吹出防止方法 - Google Patents

真空蒸着用溶融金属の吹出防止方法

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JPS627857A
JPS627857A JP14448385A JP14448385A JPS627857A JP S627857 A JPS627857 A JP S627857A JP 14448385 A JP14448385 A JP 14448385A JP 14448385 A JP14448385 A JP 14448385A JP S627857 A JPS627857 A JP S627857A
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JP14448385A
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JPH0328511B2 (ja
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Takehiko Ito
武彦 伊藤
Takuya Aiko
愛甲 琢哉
Yoshiteru Moriyama
森山 義輝
Koji Nakanishi
康二 中西
Kanji Wake
和気 完治
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nippon Steel Nisshin Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nisshin Steel Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/246Replenishment of source material

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
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  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野1 本発明は主として連続的に鋼帯などの基材に亜鉛などの
真空蒸着用金属を真空蒸着させるために大気圧下にある
真空蒸着用金属の溶解炉によって溶解された真空蒸着用
溶融金属を蒸着室の圧力と大気圧との差によって吸上管
を通して蒸着室内の蒸発槽へ供給するに際し、該吸上管
がその周囲に配置されている加熱体によって加熱される
ことにより生ずる真空蒸着用金属との電位腐食や熱疲労
その他の原因により損傷して大気がその損傷部分より該
吸上管内に侵入し真空蒸着用溶融金属を蒸着室内に吹き
出させることを防止する方法に関するものである。 【従来の技術】 従来より真空蒸着は被蒸着用の基材の片面に簡単且つ均
一に所望の厚さに真空蒸着用金属を蒸着できるため小さ
な物品には広く応用されていた。 しかしながら、鋼帯に亜鉛を真空蒸着させて大目の亜鉛
蒸着鋼帯を製造するというような大川りな連続真空蒸着
装置は技術的に種々の問題があって殆んど開発されてい
ない。
【発明が解決しようとする問題点】
このような現状において、本出願人等は工業的に人聞の
真空蒸着亜鉛鋼帯を製造すべく大規模なテストプラント
を製作して連続真空蒸着を行ってきた。 この連続真空蒸着装置の開発において蒸着室内に如何に
して真空蒸着可能な温度に加熱溶融された真空蒸着用金
属を供給するかという問題が生じたが、本出願人等は大
気圧下にある真空蒸着用金属の溶解炉によって溶解され
た真空蒸着用溶融金属を蒸着室の圧力と大気圧との差に
よって吸上管を通して蒸着室内の蒸発槽へ供給すればよ
いことを究明し、この吸上管を通して真空蒸着用溶融金
属を蒸着室内の蒸発槽に供給するに際して真空蒸着用溶
融金属が吸上管内を通過する際に冷却されないように吸
上管の周囲に加熱体を配置して真空蒸着作業を実施した
ところ、吸上管が加熱体により局部的に加熱されること
により生ずる真空蒸着用金属との電位腐食や熱疲労その
他の原因により吸上管が損傷しその損傷部分から大目の
大気が侵入して蒸着室内の蒸発槽内にある真空蒸着用溶
融金属を蒸着室内に吹き出し大事故が発生する可能性の
あることを認識した。
【問題点を解決するための手段】
本発明者等は上記したような問題点を除去すべく鋭意研
究の結果、吸上管の材質を損傷の生じない丈夫で且つ厚
さの厚いものとすることは非常に高価となると共に加熱
体による吸上管内を通過する真空蒸着用溶融金属の加熱
効率を著しく低減させて好ましくないため、その発生頻
度は少ないが発生すると大事故となる吸上管の損傷に対
してはその吸上管の損傷部分から大気が侵入しないよう
にすればよく、更にもし吸上管が損傷すれば損傷の発生
が直ちに判明するようにしておけばよいことを究明して
本発明を完成したのである。 すなわち、本発明は大気圧下にある真空蒸着用金属の溶
解炉によって溶解された真空蒸着用溶融金属を蒸着室の
圧力と大気圧との差によって吸上管を通して蒸着室内の
蒸発槽へ供給するに際し、該吸上管の周囲に配置されて
いる加熱体をその内部に収納するジャケットを該吸上管
に沿って取り付け、大気圧をP、真空蒸着用溶融金属の
比重旦をγ、該溶解炉中の溶融金属の液面からの該ジャ
ケット内愚高部までの高さをHとしたときに、該ジャケ
ット内の圧力を(P−Hγ)以下の圧力に維持して真空
蒸着を行うことを特徴とする真空蒸着用溶融金属の吹出
防止方法に関するものである。
【実施例】
以下、図面により本発明に係る真空蒸着用溶融金属の吹
出防止方法について詳細に説明する。 図は本発明方法を実施して真空蒸着を行っている状態を
示す真空蒸着装置の概略説明図である。 図中、1は蒸着室であり通常真空蒸着用金属の飽和蒸気
圧力より低い圧力p(例えば10”2Torr程度)の
不活性ガス雰囲気下にある。2は蒸着室1内に設置され
ている蒸発槽、3は蒸着室1内に設置されている巻付は
ロール、4は大気圧下にある真空蒸着用金属の溶解炉、
5は溶解炉4によって溶解された真空蒸着用溶融金属8
を蒸着室1の圧力pと大気圧Pとの差(P−p)によっ
て蒸着室1内の蒸発槽2へ供給する吸上管である。6は
吸上管5の周囲に配置されており吸上管5の内部を通過
する真空蒸着用溶融金属8が冷却されるのを防止する加
熱体であり、パイプ内に高温流体を流動させる型式のも
のや高周波誘導加熱用コイルも使用可能であるが、本発
明においてはジュール熱により加熱される電気的加熱体
が後記する理由により好ましく使用される。7は吸上管
5に沿って取り付けられており吸上管5の周囲に配置さ
れている加熱体6をその内部に収納するジャケットであ
って、このジャケット7内の圧力は大気圧をP、真空蒸
着用溶融金属の比重」をγ、溶解炉4中の真空蒸着用溶
融金R8の液面からのジャケット7内最高部までの高さ
をHとしたときに(P−Hγ)以下の圧力に維持されて
いる。7aはジャケット7内の圧力を上記圧力以下に維
持するために真空ポンプ(図示なし)に連結されている
吸引管、7bはジャケット7内の圧力を検知するための
圧力計でありこの圧力計7bはジャケット7内の圧力が
上記した所定圧力以下となると真空ポンプを自動的に作
動させるものが好ましい。9は真空蒸着用溶融金属8を
連続的に真空蒸着される鋼帯などの基材であり、予めそ
の表面を清浄に前処理され所定温度に加熱されて蒸着室
1内に供給され巻付はロール3に巻き付いてその移動方
向を変向される際に真空蒸着される。
【作用】
かかる構成において、もし溶解炉4中の真空蒸着用溶融
金属8の液面からの高さがh(但しH〉h)である吸上
管5のA部が損傷すると、そのA部における吸上管5の
周囲の圧力が(P−hγ)であれば圧力バランスが保た
れてジャケット7内の気体は吸上管5内に流入しないこ
とになるが、ジャケット7内の圧力はCP−Hγ)以下
の圧力に維持されており且つH>hであるから吸上管5
内の真空蒸着用溶融金R8は吸上管5の損傷部からその
圧力が低いジャケット7内に流入することになり、蒸着
室1内にジャケット7内の気体が侵入することがないか
ら、蒸着室1内の蒸発1ff2内の真空蒸着用溶融金属
8が蒸着室1内に吹き出すことがないのである。またこ
のように吸上管5に損傷が発生して真空蒸着用溶融金属
8がジャケット7内に流入すると当然ジャケラ]・7内
の加熱体6は流入した真空蒸着用溶融金属8によって損
傷することになるが、加熱体6をジュール熱によって加
熱する電気的加熱体とすればその加熱体6が流入した真
空蒸着用溶融金B8によってショートするため直ちに吸
上管5の損傷を知って真空蒸着装置の稼動を停止させて
大事故の発生を防止することができるのである。なお、
ジャケット7内の圧力を<P−H7)以下の圧力に維持
するに際し、ジャケット7内に存在する気体の圧力を著
しく低くすると熱伝導効果が損なわれて熱効率が低下す
ると共に不必要に強力な真空ポンプを設置しなければな
らないので、ジャケット7内の圧力はジャケット7内に
存在する気体の熱伝導効果を損わない圧力以上の圧力に
維持1−ることが好ましく、この気体の熱伝導効果を損
わない圧力以上の圧力としては+0Torr程度以上の
圧力である。 【効果1 以上詳述した如く本発明は、工業的規模で連続的に真空
蒸着を行うために大気圧下にある真空蒸着用金属の溶解
炉によって溶解された真空蒸着用溶融金属を蒸着室の圧
力と大気圧との差によって吸上管を通して蒸着室内の蒸
発槽へ供給するに際し、吸上管の周囲に配置されている
加熱体によって加熱されることにより生ずる真空蒸着用
金属との電位腐食や熱疲労などの原因で吸上管が損傷し
て大気が蒸着室内の蒸発槽内へ侵入して蒸発槽内の真空
蒸着用溶融金属を蒸着室内に吹き出すという大事故を確
実に防止できる画期的な方法であり、この方法を実施す
るための装置は非常に安画であって容易に製造できるの
であり、更に加熱体をジュール熱により加熱される電気
的加熱体とすれば加熱体のショートにより吸上管の損傷
を容易且つ確実に検知することも可能であるなど種々の
利点を有しており、真空蓋6を工業的に効率良〈実施で
きる本発明の工業的価値は非常に大きなものがある。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明方法を実施して真空蒸着を行っている状態
を示す真空蒸着装置の概略説明図である。 1・・・・蒸着室 2・・・・蒸発槽 3・・・・巻付はロール 4・・・・溶解炉 5・・・・吸上管 6・・・・加熱体 7・・・・ジャケット 7a・・・・吸引管 7b・・・・圧力計 8・・・・真空蒸着用溶融金属 9・・・・基材

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 大気圧下にある真空蒸着用金属の溶解炉によって溶
    解された真空蒸着用溶融金属を蒸着室の圧力と大気圧と
    の差によって吸上管を通して蒸着室内の蒸発槽へ供給す
    るに際し、該吸上管の周囲に配置されている加熱体をそ
    の内部に収納するジャケットを該吸上管に沿って取り付
    け、大気圧をP、真空蒸着用溶融金属の比重量をγ、該
    溶解炉中の溶融金属の液面からの該ジャケット内最高部
    までの高さをHとしたときに、該ジャケット内の圧力を (P−Hγ)以下の圧力に維持して真空蒸着を行うこと
    を特徴とする真空蒸着用溶融金属の吹出防止方法。 2 ジャケット内の圧力を該ジャケット内に存在する気
    体の熱伝導効果を損わない圧力以上の圧力に維持する特
    許請求の範囲第1項に記載の真空蒸着用溶融金属の吹出
    防止方法。 3 ジャケット内に存在する気体の該ジャケット内の圧
    力が10Torr以上の圧力である特許請求の範囲第2
    項に記載の真空蒸着用溶融金属の吹出防止方法。 4 加熱体としてジュール熱により加熱される電気的加
    熱体を使用する特許請求の範囲第1項から第3項までの
    いずれか1項に記載の真空蒸着用溶融金属の吹出防止方
    法。
JP14448385A 1985-07-03 1985-07-03 真空蒸着用溶融金属の吹出防止方法 Granted JPS627857A (ja)

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JPH0328511B2 JPH0328511B2 (ja) 1991-04-19

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0450011U (ja) * 1990-09-04 1992-04-27
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US20230152612A1 (en) * 2020-08-07 2023-05-18 Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Reflection rate detection device and reflection rate detection method for liquid crystal panel

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