JPS6275622A

JPS6275622A - 光走査記録装置

Info

Publication number: JPS6275622A
Application number: JP21772685A
Authority: JP
Inventors: Nobuharu Nozaki; 野崎　信春; Hiroshi Nishihara; 西原　浩; Toshiaki Suhara; 敏明栖原
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1985-09-30
Filing date: 1985-09-30
Publication date: 1987-04-07

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（発明の分野）本発明は光走査記録装置、特に詳細には光導波路に表面
弾性波を発生させ、この表面弾性波の回折作用によって
導波光を偏向させて光走査を行なうようにした光走査記
録装置に関するものである。

（従来の技術）周知の通り従来より、感光体を光で走査して、該感光体
に連続調画像や白黒の２値画像を記録するようにした光
走査記録装置が種々提供されている。このような記録装
置において記録光を１次元的に走査づる光走査装置とし
て従来より、■例えばガルバノメータミラーやポリゴン
ミラー（回転多面鏡）等の機械式光偏向器により光ビー
ムを偏向走査させるもの、 ■ＥＯＤ　（電気光学光偏向器）やＡＯＤ　（音響光学
光偏向器）など光偏向素子を用いた光偏向器により光ビ
ームを偏向走査させるもの、 ■液晶素子アレイやＰＬＺＴアレイ等のシャッタアレイ
と線光源とを組み合わせ、シャッタアレイの各シャッタ
素子に個別的に駆動回路を接続し、画像信号に応じて、
０Ｎ１０ＦＦを選択して同時に開くことにより線順次走
査をさせるもの、さらには ■ＬＥＤ等の発光素子を多数−列に並設し、各発光素子
に個別的に駆動回路を接続し、画像信号に応じて０Ｎ１
０ＦＦを選択して同時に発光させることにより線順次走
査させるもの等が知られている。

ところが上記■の機械式光偏向器は振動に対して弱く、
また機械的耐久性も低く、その上調整が面倒であるとい
う欠点を有している。さらに光ビームを振って偏向させ
るために光学系が大きくなり、記録装置の大型化を招く
という問題もある。

また■のＥＯＤやＡＯＤを用いる光走査記録装置にあっ
ても、上記と同様に光ビームを振って偏向させるために
、装置が大型になりやすいという問題がある。特に上記
ＥＯＤやＡＯＤは光偏向角が大きくとれないので、■の
機械式光偏向器を用いる場合よりもさらに光学系が大ぎ
くなりがちである。

一方■の２１戸ツタアレイを用いる光走査記録装置にあ
っては、偏光板を２枚使用する必要があることから、光
源の光利用効率が非常に低いという問題がある。

また■の発光素子を多数並設して用いる光走査記録装置
にあっては、各発光素子の発光強度にバラツキが生じる
ため、精密走査には不向きであるという問題がある。

そこで光導波路内を進む導波光を表面弾性波（ＳＡＷ：
５ｕｒｆａｃｅ　　ＡＣＯｕＳｔｉＣＷａｖｅ）によっ
て偏向させ、そしてこの偏向の角度を変化させることに
よって光を走査させるようにした光走査装置が考えられ
ている。この光走査装置は、表面譬性波が伝播可能な材
料から形成された光導波路と、この光導波路内に光を入射させる光源と、上記光導波路
内を進む導波光を平行光とする光学系と、上記導波光の光路に交わる方向に進行して該導波光を偏
向させる表面弾性波を光導波路において発生させる手段
と、この表面弾性波発生手段を、連続的に周波数が変化する
表面弾性波を発生するように駆動する駆動回路とからな
るものであり、このような光走査装置を用いた光走査記
録装置は、耐久性、耐振動性に優れ、調整が容易で、光
利用効率が高く、精密走査が可能で、しかもある程度小
型に形成されるものとなる。

しかし上記のような光走査装置を用いる光走査記録装置
にあっては、偏向された導波光を光導波路外に出射させ
るためにプリズムカプラー等の光学素子が設けられ、さ
らには光導波路外に出射された走査光を感光体上におい
て集束させるための集束レンズが設けられるため、十分
な小型化が達成され１りないという問題があった。また
上記導波光の偏向は、導波光と表面弾性波との音響光学
相互作用に基づ＜Ｂｒａｏａ回折によるものであるが、
このような光偏向においては偏向角が大きくとれず、し
たがって光走査幅を大きく設定しようとすると光導波路
から感光体までの距離を長く設定しなければならず、そ
の結果記録装置が大型化してしまうという問題が生じる
。

さらに、上記プリズムカプラーを用いる場合には、プリ
ズム底面と光導波路との間のギャップを精密に調整する
必要があるので、そのための高価な微調整Ｒ構が必要と
なり、またプリズムカプラーも高価であるので、記録装
置は高価なものとなつ−Ｃしまう。

また上述の調整作業に加え、光導波路と集束レンズとの
相対位置を精密に調整する作業も必要になるので、上記
光走査装置を用いる記録装置は調整が極めて面倒なもの
となる。そしてこのように多くの調整作業を必要とする
から、この種の光走査記録装置は信頼性も低いものとな
っていた。

さらに上記プリズムカプラーを用いて導波光を光導波路
外に出ＤＡさせる場合、出射光の形状が、プリズム底陵
と平行な方向には平行光束、垂直な方向には発散光束と
なってしまうので、走査光を円形スポットに絞るために
は通常の球面レンズ以外の特殊な集束レンズが必要にな
るという問題もある。

さらに上記プリズムカプラーや集束レンズ等を用いる場
合、これらの光学素子や光導波路端面に欠損が生じると
走査ビームスポットの形状に影響が及び〈特に光導波路
端面から光を出射させる場合には、この端面の欠損がそ
のまま走査ビームスポットの欠けにつながる〉、精密走
査が不可能になる、という不具合もある。

〈発明の目的）そこで本発明は、以」−述べＩＣ種々の問題を解消する
ことができる光走査記録装置を提供することを目的とす
るものである。

（発明の構成）本発明の第１の光走査記録装置は、前述のような光導波
路と、光源と、導波光を平行光とする光学系と、表面弾
性波発生手段と、駆動回路とからなる光走査装置におい
て、偏向された導波光を光導波路外に出射させるとともに該
導波路外の空間において集束させる集光性回折格子（Ｆ
ＧＣ：Ｆｏｃｕｓｉｎｇ　　Ｇｒａｔｉｎｇ　Ｃｏｕｐ
ｌｅｒ）が設けられ、さらにこの光走査表向に加えて、
上記集束された光が照射される位置に配された感光体と
光導波路とを、前記偏向によるこの尤の走査の方向と略
直角な方向に相対移動させる副走査手段と、上記導波光
を画像信号に応じて変調する変調手段とが設けられてな
るものである。

また本発明の第２の光走査記録装置は、−［述の第１の
光走査記録装置にさらに、相対向する両表面にそれぞれ
光反射層を有し、光導波路外に出射した光が前記集束の
位置に至る前に該両表面の間で反射を繰り返すように光
導波路の橋板に接合されたガラスブロックが設けられて
なるものである。

（作　　用）表面弾性波による導波光の偏向については従来から知ら
れているが、ここで簡単に説明する。第１図に示すよう
に、例えば交叉くし形電極対（■ＤＴ：Ｉｎｔｅｒ　　
Ｄｉｇｉｔａｌ　　Ｔｒａｎｓｄ　ｕ　ｃ　ｅ　ｒ　＞
　１５によって発生されて光導波路１１を伝播する表面
弾性波１２の進行方向と、導波光１３の進行方向とがな
す角（Ｂｒａｇｃｈ角）をθとすると、萌述の音響光学
相互作用による導波′＃：１３のｔ−面角δは、δ＝２
θとなる。そして導波光１３の波長、実効屈折率をλ、
Ｎｅとし、表面弾性波１２０波長、周波数、速度をそれ
ぞれ△、ｆ、ｖとすれば、２θ＝２　ｓｉｎ’　（λ／２Ｎｅ−Ａ）２λ／Ｎｅ・
△ 一λ・ｔ／Ｎｅ−■ となり、２０つまりδは表面弾性波の周波数ｆにほぼ比
例する。そこで電極対１５に印加するパルス状の電圧の
周波数を連続的に変化させて、表面弾性波１２の周波数
を連続的に変化させれば、偏向角δが連続的に変化する
ようになる。したがってこの導波光１３を光導波路１１
外に取り出せば、その光は１次元的に走査するようにな
る。

一方集光性回折格子（ＦＧＣ）１４は、曲りとチト−プ
を有する回折格子であり、光導波路１１内の平面波と、
該光導波路１１外の空間の一点に焦点を有する球面波と
を直接結合する。したがって上述のように偏向された導
波光１３の光路において光導波路表面に、この集光性回
折格子１４を設けてＪ３けば、偏向された光は光導波路
１１外に取り出され、しかも該光導波路１１外の空間に
おいて集束される。

そこでこの光の集束位置に感光体３１を配置すれば、こ
の感光体３１は集束された円形のビームスポットによっ
て１次元的に走査されるようになる。

なお上述のような集光性回折格子については、例えば電
子通信学会技術研究報告ＭＷ８３−８８の４７〜５４ペ
ージ等に詳しく記載されている。

（実施態様）以下、図面に示す実施態様に塞づいて本発明の詳細な説
明する。

第１図および第２図は、本発明の第１の光走査記録装置
の一実施態様を示すものである。図示されるようにこの
光走査記録装置は、光走査部１０と、副走査手段として
のエンドレスベルト装置３０と、変調回路４０とを備え
ている。まず上記光走査部１０について詳しく説明する
。この光走査部１０は、細長い基板１６上に形成された
光導波路１１と、この光導波路１１の側端部に設けられ
た交叉くし形電極対１５と、この電極対１５にパルス状
の電圧を印加する駆動回路１７と、−り配光導波路１１
の一端面１１ａ（エンドレスベルト装置３０と反対側の
端面）に直接結合された半導体レーザ１８と、この半導
体レーザ１８を駆動するレーザ駆動回路２０とを有して
いる。そして上記一端面１１ａに近い位置において光導
波路１１には導波路レンズ１９が形成され、また上記一
端面１１ａと反対側の端面１１ｂに近い位置において光
導波路１１の表面には、曲りとチャーブを有する集光性
回折格子１４が形成されている。

本実ｆＭ　ｒＰＡ様においては一例として、基板１６に
［−１ＮｂＱ３ウエハを用い、このウェハの表面にＴ１
拡散膜を設けることにより光導波路１１を形成している
。なお基（反１６としてその他ナファイア、８１等から
なる結晶性塁板が用いられてもよい。また光導波路１１
も上記のＴ１拡散に限らず、基板１６上にその他の材料
をスパッタ、蒸４する等して形成づることもできる。な
お光導波路については、例えばティー　タミール（Ｔ、
Ｔａｍ１　ｒ）ｌｉ「インチグレイテッド　オブテイク
ス（■ｎｔｅｇｒａｔｅｄ　　０ｐｔｉｃｓ）Ｊ　　（
トビツクスイン　アプライド　フィジックス（Ｔｏｐ　
ｉ　ｃｓｉｎ　　Ａｐｐｌｉｅｄ　　Ｐｈｙｓｉｃｓ）
第７巻）スプリンガー　フエアラーグ（３ｐｒｉｎｇｅ
ｒ−Ｖｅｒ　ｌ　ａｇ）刊（１９７５）；西原、春名、
栖原共署「光集積回路」オーム社刊（１９８５）等の或
著に詳細な記述があり、本発明では光導波路１１として
これら公知の光導波路のいずれをも使用できる。ただし
、この光導波路１１は、上記Ｔｉ拡散膜等、後述する表
面弾性波が伝播可能な材料から形成されなければならな
い。また光導波路は２層以上の積層構造を有していても
よい。

本実１Ｍ態様における導波路レンズ１９は一例としてプ
ロトン交換形導波路フレネルレンズであるが、このよう
な導波路レンズ１９は、上記光導波路１１の表面に３ｉ
Ｎｘ膜を堆積し、その表面にポジ型電子線レジストを塗
布し、さらにその上にＡＬＪ導電用７ａ膜を蒸着し、フ
レネルレンズパターンを電子線描画し、ΔＵ薄薄膜剥離
用現像て得られたレジストパターンをイオンエツヂング
して３ｉＮｘｊｌｌに転写し、レジストを剥離後公知の
プロトン交換を行なって形成することができる。また集
光性回折格子１４は、例えば上記導波路レンズ１９形成
後５ｉＮＸ膜の表面にネガ型電子線レジストを塗布し、
さらにその上に△ＵＵ電用薄膜を蒸着し、回折格子パタ
ーンを電子線描画し、その後は上述のＡｕ薄膜剥離から
レジスト剥離までの工程を実施することによって形成す
ることができる。また交叉くし形電極対１５は、例えば
光導波路１１の表面にポジ型電子線レジストを塗布し、
さらにその上にＡｕ導電用薄膜をＭ肴し、電極パターン
を電子線描画し、Ａｕ薄膜を剥離後現像を行ない、次い
でＣｒ薄膜、ＡＩ薄膜を蒸着後、有機溶媒中でリフトオ
フを行なうことによって形成することができる。

なお電極対１５は、基板１６や光導波路１１が圧電性を
有する材料からなる場合には、直接光導波路１１内ある
いは基板１６上に設置しても表面弾性波１２を発生させ
ることができるが、そうでない場合には基板１Ｇあるい
は光導波路１１の一部に例えばＺｎＯ等からイ５る圧電
性薄膜を蒸着、スパッタ等によって形成し、そこに電極
対１５を設置ずればよい。

前述の半導体レーザ１８は光導波路１１の一端面（光入
射端面）１１ａから該光導波路１１内に向けてレーザビ
ーム（放射ビーム）１３′を射出する。この放射ビーム
１３゛は導波路レンズ１９によって平行ビーム１３とさ
れ、このビーム１３は光導波路１１内において導波モー
ドで矢印へ方向に進行する。なお半導体レーザ１８を上
記のように光入射端面１１ａに直接結合せずに、レンズ
やカプラープリズム、回折格子〈グレーティングカプラ
ー）等を介して、光導波路１１内にビーム１３′を入射
させるようにしてもよい。ここで特に回折格子を用いる
場合、それを導波路表面に形成された集光性回折格子と
すれば光導波路１１内に入射するビーム１３′を平行ビ
ームとすることができ、上記導波路レンズ１９に代える
ことができる。しかしこの実施態様におけるように半導
体レーザ１８を光入射端面１１ａに直接結合し、放射ビ
ーム１３′を平行ビーム化するために導波路レンズ１９
を用いれば、光走査部１０は極めて小型で、かつ信頼性
の高いものとなりうる。また走査光を発生する光源も上
述の半導体レーザ１８に限らず、その伯例えばガスレー
ザや固体レーザ等が用いられてもよい。

上記構造の光走査記録装置によって画像記録を行なう際
、感光体３１はエンドレスベルト装置３０により、第１
図の矢印Ｙ方向に移送される。そして半導体レーザ１８
はレーザ駆動回路２０により、レーザビーム１３′を射
出するように駆動され、それとともに電極対１５には駆
動回路１７から連続的に周波数が変化するパルス状電圧
が印加される。なおレーザ駆動回路２０は変調回路４０
によって制御され、画像信号Ｓに応じて光出力を変える
ように（すなわちビーム１３′の強度や、ビーム１３′
をパルス状に射出する場合はパルス敗やパルス幅を変え
るように）半導体レーザ１８を駆動する。

電極対１５に上述のような電圧印加がなされることによ
り、光導波路１１の表面を表面弾性波１２が第１図の矢
印Ｂ方向に進行する。電極対１５は、この表面弾性波１
２が前記導波光（平行ビーム）１３の光路に交わる方向
に進行するように配設されている。

したがって導波光１３は、表面弾性波１２を横切るよう
に進行するが、その際該導波光１３は前述したように表
面弾性波１２によって偏向される。そして電極対１５に
は上述のような電圧が印加されるから、表面弾性波１２
の周波数が連続的に変化するようになり、その結果導波
光１３の偏向角は連続的に変化する。こうして偏向され
た導波光１３は、曲りとチャーブを有する集光性回折格
子１４により基板１６側に回折されて光導波路１１外に
出射し、該基板１６を通過して、斜めにカットされた端
面１６ｃから基板１６外に出射する（＠２図参照）。そ
れとともに導波光１３は集光性回折格子１４の作用によ
り、光導波路１１外の空間において円形のスポットＰに
集束される。上述の通り導波光１３の偏向角は連続的に
変化するので、このビームスポットＰは、第１図の矢印
Ｘ方向に１次元的に走査する。先に述べた通り、上記ス
ポットＰに集束する導波光１３７１’なわらレーザビー
ム１３°は画像信号Ｓに応じて変調されているので、感
光体３１にはこのビームスポットＰにより、画像信Ｈ３
が担持−４る連続調画像が１主走査ライン分記録される
。それとともにエンドレスベルト装置３０がビームスポ
ットＰの走査と同期をとって駆動され、感光体３１が矢
印Ｙ方向に移送されて副走査がなされるので、該感光体
３１には画像信号Ｓが担持する２次元画像が記録される
。

１主走査ライン分の画像信号ＳとビームスポットＰの主
走査との同期をとるためには、この画像信号Ｓに含まれ
るブランキング信号ｓｂをトリガ信号として用いて、電
極対１５への電圧印加タイミングをｔＩｌｊＩＩｌすれ
ばよい。またこのブランキング信号ｓｂによりエンドレ
スベルト装置３０の駆動タイミングをυｆｉｌｌするこ
とにより、上記主走査とｎ１走査との同期をとることが
できる。

なおこの実施ｔＪ３様においては、画像信号Ｓに応じて
半導体レーザ１８を直接変調しているが、半導体レーザ
１８から一定強反のレーザビームを射出させ、該半導体
レーザ１８と光導波路１１との間に介設したＡＯＭ（音
響光学光変調１ｖｉ）や、ＥＯＭ（電気光学光変調器）
等の外部変調器によりレーザビームを変調するようにし
てもよい。さらには電極対１５に印加する電圧の大きさ
を変えることによって、表面弾性波１２により回折され
る光の強度を変えることができるので、該印加電圧の大
きさを画像信号Ｓに応じて制御することにより、導波光
１３を強度変調することもできる。また変調方式もレー
ザビームの強度変調に限らず、レーザビームをパルス状
に射出させ、画像信号Ｓに応じてこのパルスの幅やパル
ス数を変調するようにしてもよい。

さらにこの実施態様においては、感光体３１に連続調画
像を記録するようにしているが、画像信号に応じて半導
体レーザ１８をＯＮ　−ＯＦ　Ｆ　ｂ１罪することによ
り、白黒の２値画像を記録することも勿論可能である。

以上説明した実ＩＡ態様においては、導波光１３は集光
性回折格子１４によって基板１６側に回折されるように
なっているが、第３図に示すように導波光１３が基板１
Ｇとは反対側に回折されて直接空気中に出射するように
集光性回折格子１４を形成してもよい。また長い主走査
幅が求められる場合には、以上述べた構造の光走査機構
を同一基板上に複数並設し、何本かの走査ビームによる
各走査線を合成して１本の主走査線を構成するようにし
てもよい。

次に第４．５図を参照して、本発明の第２の光走査記録
装置の実施態様について説明する。なおこの第４．５図
において、前記第１．２図中の及索と同等の要素には同
番号を付し、それらについての説明は特に必要の無い限
り省略する。この実施態様装置の光走査部１０′におい
て、基板１６の底面１６ａにはガラスブロック６０が接
合されている。

このガラスブロック６０は、上記基板１６に接合される
側の表面６０ａと、この表面ＧＯａに対向する表面６０
ｂにそれぞれ光反射層６１ａ、６１ｂを有している。

これらの光反射層６１ａ、６１ｂは例えば蒸着ミラー等
からなるものである。そして集光性回折格子１４は、導
波光１３の１次回折光が基板１６側に回折するように形
成され、また基板１６の半導体レーザ１８取付側の端面
１６ｂに対向する端面１６ｃは、図中上方を向くように
斜めに形成されている。したがって、回折された光１３
は上記端面１６Ｇにおいて全反射し、ガラスブロック６
０内に入射する。なお当然ながら端面１６ｃの斜めカッ
ト角度は、上述の全反射が生じるような角度に設定され
、またガラスブロック６０の表面６０ａにおいて、−上
記光１３が入射する範囲には光反射層６１ａが形成され
ていない。

上記のようにしてガラスブロック６０内に入射した光１
３は相対向する２つの光反射１１ｉ６１ａ、６１ｂとの
間で反射を繰り返し、部分的に光反射１１６１ｂが除か
れた表面６０ｂからガラスブロック６０外に出射する。

したがってこの場合も、ガラスブロック６０から出射し
た光１３の集束スポットＰによって照射される位置に感
光体３１を配置し、前述の副走査を行なわせれば、この
感光体３１は上記スポットＰによって２次元的に走査さ
れ、画像信号Ｓが担持する画像がこの感光体３１に記録
される。そしてこの光走査記録装置においては、上述の
ようにガラスブロック６０内に走査光の折返し光路を形
成したから、ガラスブロック６０を含む光走査部１０′
を小型に形成しても、表面弾性波１２によって偏向され
る部分から感光体３１までの光路長を十分長く設定する
ことができ、長い主走査幅を確保することが可能になる
。

なおガラスブロックＧｏ内における折返し光路の長さを
より長くするために、そして端面１６Ｃで反射した光１
３をより効率良くガラスブロック６０内に入射させるた
めに、当然ながら、光１３ができるだけ小さな入射角で
ガラスブロック６０内に入用するように、端面ＩＧｃの
斜めカット角度を設定するのが好ましい。また勿論なが
ら上記折返し光路の光路長は、光１３が、スポットＰに
集束する前にガラスブロック６０から出射するように設
定する必要がある。

次に第６図を参照して、本発明の第２の光走査記録装置
の別の実ｍ態様について説明する。この実施態様装置に
おいて、幕板１６の端面１６ｃは上記第４．５図の装置
におけるのと反対向きに斜めカットされており、ここに
ガラスブロック６０が接合されている。この場合端面１
６ｃの斜めカット角度は、上記光１３ができるだけ小さ
な入射角でガラスブロック６０内に入射するように設定
される。そのようにすれば、集光性回折格子１４におい
て回折された光（１次回折光）１３が効率良くガラスブ
ロック６０内に入射し、またガラスブロック６０内の折
返し光路の光路長が十分長く設定されうる。

以上のように構成された光走査記録装置においても、ガ
ラスブロック６０内において折返し光路が形成され、前
記第４．５図に示した装置におけるのと同様の効果が１
ｑられる。

なお副走査手段としては前記エンドレスベル１〜装置３
０に限らり゛、例えば回転ドラム等、その他の公知のも
のが用いられてもよい。勿論、この副走査手段は感光体
を移幼させるものの他、静置された感光体の表面に沿っ
て光走査部を移動させるものであってもよい。特に本発
明装置においては、機械的作動部分を持たない曲中な光
走査部が用いられているので、容易に光走査部を移動さ
せることができる。

さらに本発明の光走査記録装置は、光走査部を複数曲ｊ
して、複数本の光を同時に走査づるよ・うに形成されて
もよい。例えば光走査部を３つ並置して、それぞれにＲ
ＳＧ、Ｂ等の相異なる色フィルタ、あるいは相異なる発
光色の光源を組み合わせて、カラー画像記録のために使
用することも可能である。

（発明の効果）以上詳細に説明した通り本発明の光走査記録装置は、単
一の光源を使用して光走査を行なうものであるから、前
記ＬＥＤアレイ等にみられる光源の発光強度バラツキの
問題が無く、精密走査が可能となり、光源の光利用効率
も高められる。Ｊ、た本発明の光走査記録装置は、機械
的作動部分を協えない鈴１ｔ１な光走査部によって光走
査を行なうものであるから、耐久性、ｆｔ４振動性に優
れたものとなる。しかも本発明装置は、導波光を光導波
路外に出射させるためのプリズムカプラーや、走査光を
集束させるだめの集束レンズ等を８廿としないので、極
めて小型で、また調整も容易で、しかも安価に形成され
るものとなる。

特に本発明の第２の光走査記録装置警よ、ガラスブロッ
ク内に折返し光路を形成しているので、主走査幅が比較
的長い場合でも感光体に近接させて光走査部を配置する
ことが可能となり、特に小型に形成されうるちのとなる
。

さらに本発明の光走査記録装置は、導波光を光導波路外
に出射させそして集束させるために、冗長性を有する集
光性回折格子を用いているから、この回折格子部分に多
少の欠損があっても集束スポット形状に影響が及ぶこと
がなく、常に所定形状のビームスポットで精密な画像記
録を行なうことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図はそれぞれ、本発明の第１の光走査
記録装置の一実施態様を示す概略斜視図と側面図、第３図は本発明の第１の光走査記録装置の他の実施態様
を示す概略側面図、第４図および第５図はそれぞれ、本発明の第２の光走査
記録装置の一実Ｍ態様を示す概略斜視図と側面図、第６図は本発明の第２の光走査記録装置の他の実施態様
を示す側面図である。１０．１０′・・・光走査部　　１１・・・光導波路１
２・・・表面弾性波　　　　１３・・・導波光１４・・
・集光性回折格子　　７５・・・交叉くし形電極対１６
・・・基板　　　　　　　１６ａ・・・基板の底面１６
ｂ、ｃ・・・基板の端面　１７・・・駆動回路１８・・
・半導体レ一番ア　　　１９・・・導波路レンズ２０・
・・レーザ駆動回路　３０・・・エンドレスベルｌ−装
置３１・・・感光体　　　　　　４０・・・変調回路６
０・・・ガラスブロック

Claims

【特許請求の範囲】

（１）表面弾性波が伝播可能な材料から形成された光導
波路と、この光導波路内に光を入射させる光源と、前記光導波路内を進む導波光を平行光とする光学系と、前記導波光の光路に交わる方向に進行して該導波光を偏
向させる表面弾性波を前記光導波路において発生させる
手段と、この表面弾性波発生手段を、連続的に周波数が変化する
表面弾性波を発生するように駆動する駆動回路と、前記光導波路の表面に形成され、偏向された導波光を該
光導波路外に出射させるとともに該光導波路外の空間に
おいて集束させる集光性回折格子と、前記集束された光が照射される位置に配された感光体と
前記光導波路とを、前記偏向によるこの光の走査の方向
と略直角な方向に相対移動させる副走査手段と、前記導波光を画像信号に応じて変調する変調手段とから
なる光走査記録装置。
（２）前記光学系が、前記光導波路に形成された導波路
レンズあるいは集光性回折格子からなることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の光走査記録装置。
（３）前記光源が、前記光導波路と同一の基板に結合さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項または
第２項記載の光走査記録装置。
（４）表面弾性波が伝播可能な材料から形成された光導
波路と、この光導波路内に光を入射させる光源と、前記光導波路内を進む導波光を平行光とする光学系と、前記導波光の光路に交わる方向に進行して該導波光を偏
向させる表面弾性波を前記光導波路において発生させる
手段と、この表面弾性波発生手段を、連続的に周波数が変化する
表面弾性波を発生するように駆動する駆動回路と、前記光導波路の表面に形成され、偏向された導波光を該
光導波路外に出射させるとともに該光導波路外の空間に
おいて集束させる集光性回折格子と、相対向する両表面にそれぞれ光反射層を有し、前記光導
波踏外に出射した光が前記集束の位置に至る前に前記両
表面の間で反射を繰り返すように前記光導波路の基板に
接合されたガラスブロックと、前記集束された光が照射される位置に配された感光体と
前記光導波路とを、前記偏向によるこの光の走査の方向
と略直角な方向に相対移動させる側走査手段と、前記導波光を画像信号に応じて変調する変調手段とから
なる光走査記録装置。
（５）前記集光性回折格子が前記基板側に向けて前記導
波光を回折するように形成され、前記ガラスブロックが
前記光導波路の基板の底面に接合され、前記基板の光入
射側の端面に対向する端面が、前記集光性回折格子によ
って回折された光を前記ガラスブロックに向けて全反射
するように斜めに形成されていることを特徴とする特許
請求の範囲第４項記載の光走査記録装置。
（６）前記集光性回折格子が前記基板側に向けて前記導
波光を回折するように形成され、前記基板の光入射側の
端面に対向する端面が斜めに形成されており、この端面
に、前記ガラスブロックが接合されていることを特徴と
する特許請求の範囲第４項記載の光走査記録装置。