JPS627421A - 選択性透過膜 - Google Patents
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 39
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 24
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 24
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract description 7
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 abstract description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 2
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 abstract description 2
- OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-triene Chemical group C1=CC=C2OC2=C1 OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- OBNDGIHQAIXEAO-UHFFFAOYSA-N [O].[Si] Chemical group [O].[Si] OBNDGIHQAIXEAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- -1 di[del Chemical group 0.000 description 25
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 19
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 19
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 19
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 6
- AOJHDNSYXUZCCE-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyloxy(trimethyl)silane Chemical group C[SiH](C)O[Si](C)(C)C AOJHDNSYXUZCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- LFOBOFBSSXPQGD-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)Cl LFOBOFBSSXPQGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 229920002852 poly(2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 208000023504 respiratory system disease Diseases 0.000 description 2
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PPWNCLVNXGCGAF-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbut-1-yne Chemical group CC(C)(C)C#C PPWNCLVNXGCGAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 125000004772 dichloromethyl group Chemical group [H]C(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 210000002816 gill Anatomy 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000006138 lithiation reaction Methods 0.000 description 1
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005691 oxidative coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/70—Polymers having silicon in the main chain, with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/52—Polyethers
- B01D71/522—Aromatic polyethers
- B01D71/5223—Polyphenylene oxide, phenyl ether polymers or polyphenylethers
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は流体混合物に対する選択性透過膜に関するもの
であり、さらに詳しくは良好な透過性、選択性、膜強度
を右するポリアリーレンオキシドーオルガノシロキザン
共重合体を構成成分とする気体透過膜に関するものであ
る。
であり、さらに詳しくは良好な透過性、選択性、膜強度
を右するポリアリーレンオキシドーオルガノシロキザン
共重合体を構成成分とする気体透過膜に関するものであ
る。
(従来の技術〕
最近、膜を用いた分離技術の進歩は茗しく、海水の淡水
化、超純水の製造、排液処理等の分野゛Cは、工業的規
模で実用化されている。また、膜による気体の分離にあ
いCも水素、炭化水素、二酸化炭素等について実用化か
進められている。
化、超純水の製造、排液処理等の分野゛Cは、工業的規
模で実用化されている。また、膜による気体の分離にあ
いCも水素、炭化水素、二酸化炭素等について実用化か
進められている。
このようイ^膜の気体分離への応用例の一つとして酸素
富化空気の製造が挙げられろ。酸素富化空気は、医療に
J3いては呼吸器疾患用専に、またニ「業分野では燃焼
システム用等に必要とされ、その応用分野は広い。通常
の燃焼システム(例えばボイラー)では燃料の仙に空気
を用いているが、この空気の代りに酸素温度を増した酸
素富化空気を燃焼システムに供給り゛れば、燃料効率・
燃焼温度の向上と燃焼排カス量の減少が達成でき、省エ
ネルギー・公害防止の両面において効果が期待できる。
富化空気の製造が挙げられろ。酸素富化空気は、医療に
J3いては呼吸器疾患用専に、またニ「業分野では燃焼
システム用等に必要とされ、その応用分野は広い。通常
の燃焼システム(例えばボイラー)では燃料の仙に空気
を用いているが、この空気の代りに酸素温度を増した酸
素富化空気を燃焼システムに供給り゛れば、燃料効率・
燃焼温度の向上と燃焼排カス量の減少が達成でき、省エ
ネルギー・公害防止の両面において効果が期待できる。
酸素富化空気の製造や他の気体分離に用いられる高分子
膜の気体の透過速度(Q)は、一般に次式で与えられる
。
膜の気体の透過速度(Q)は、一般に次式で与えられる
。
Q (cm/sCc ) =P−△p ・A/rlここ
でiつは透過係数(−・cm/−・sec ・0円11
す)、△[) !、!膜の両側での透過気体の分圧差(
cml!J)、△は膜面積(cn)、ffは膜厚(Cm
)を承り。酸素富化膜に使用される累月としては、酸素
透過係数PO2が高く、分離係数α(=PO2/PH2
”)の高い高分子膜か望ましい。更に、実際の膜分離シ
ステムにおいては、酸素透過速度QO2を大きくするた
めii!4薄膜または複合膜(酸素分離性能の優れた素
材を超薄膜として強度を持たせるために多孔質の支持体
上に積層した構成)が用いられる。
でiつは透過係数(−・cm/−・sec ・0円11
す)、△[) !、!膜の両側での透過気体の分圧差(
cml!J)、△は膜面積(cn)、ffは膜厚(Cm
)を承り。酸素富化膜に使用される累月としては、酸素
透過係数PO2が高く、分離係数α(=PO2/PH2
”)の高い高分子膜か望ましい。更に、実際の膜分離シ
ステムにおいては、酸素透過速度QO2を大きくするた
めii!4薄膜または複合膜(酸素分離性能の優れた素
材を超薄膜として強度を持たせるために多孔質の支持体
上に積層した構成)が用いられる。
したがって酸素富化膜に必要とされる性能としては、上
記分離係数と酸素透過速度の2つのパラメーターに加え
て、0.03〜0.3μ程度の超薄膜においても圧力差
によって膜の破断が生じない程十分な膜強度を有するこ
とが必要とされる。
記分離係数と酸素透過速度の2つのパラメーターに加え
て、0.03〜0.3μ程度の超薄膜においても圧力差
によって膜の破断が生じない程十分な膜強度を有するこ
とが必要とされる。
特公昭43−25022号公報では、このような気体分
離膜へのポリアリーレンオキシドの応用が提案されてい
る。このポリアリーレンオキシドは、分離係数が高く、
比較的高濃度の酸素富化空気を1ひるのに適している。
離膜へのポリアリーレンオキシドの応用が提案されてい
る。このポリアリーレンオキシドは、分離係数が高く、
比較的高濃度の酸素富化空気を1ひるのに適している。
しかしながら透過係数が小さいために、十分な透過速度
を得るためには、膜厚を非常に薄くしな(つればならな
いという課題があった。
を得るためには、膜厚を非常に薄くしな(つればならな
いという課題があった。
また、1?f間昭58−95538号公報ではボリフエ
ニレンオギシドとポリオルガノシロキリンとの混合物を
膜祠料とする気体分離膜か考案されているが、ポリオル
ガノシロキリンを多く混合するとポリオルガノシロキリ
ンがフィルム表面へ移行してしまい、性能が不安定にな
り、膜の長期使用ができなくなるという欠点があった。
ニレンオギシドとポリオルガノシロキリンとの混合物を
膜祠料とする気体分離膜か考案されているが、ポリオル
ガノシロキリンを多く混合するとポリオルガノシロキリ
ンがフィルム表面へ移行してしまい、性能が不安定にな
り、膜の長期使用ができなくなるという欠点があった。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明は、上記した欠点のない選択性透過膜、すなわら
選択性、透過性、薄膜成膜性に優れ、かつ耐久性におい
ても良好である選択性透過膜を提供することを目的とす
る。
選択性、透過性、薄膜成膜性に優れ、かつ耐久性におい
ても良好である選択性透過膜を提供することを目的とす
る。
(問題点を解決するための手段)
上記目的を達成するため本発明は下記の構成からなる。
「 ポリアリーレンオギシドーオルガノシロキザン共重
合体を、構成成分とし、該共重合体が総重量の1〜90
%のオルカノシロキリ−ンをS有し、かつ該共重合体の
両成分がアミノ基を介さずに結合した構造であることを
特徴とする選択性透過膜。」本発明において使用される
ポリアリーレンオキシドの基本横道は一般式 で表わされる。ここでmは1〜3の整数、nは75以上
の整数、好ましくは100以上の整数を示す。またポリ
マー主鎖中に含まれる芳香環は、一般式中の酸素原子と
隣接酸素原子との接続がパラ位であることが好ましいが
、いくつかの接続は他の位置であっても差し支えない。
合体を、構成成分とし、該共重合体が総重量の1〜90
%のオルカノシロキリ−ンをS有し、かつ該共重合体の
両成分がアミノ基を介さずに結合した構造であることを
特徴とする選択性透過膜。」本発明において使用される
ポリアリーレンオキシドの基本横道は一般式 で表わされる。ここでmは1〜3の整数、nは75以上
の整数、好ましくは100以上の整数を示す。またポリ
マー主鎖中に含まれる芳香環は、一般式中の酸素原子と
隣接酸素原子との接続がパラ位であることが好ましいが
、いくつかの接続は他の位置であっても差し支えない。
置J&基Rは、同一でもよく、それぞれ異なっていても
よく、アルキル基、置換アルキル基、フェニル基、置換
フェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニル
基、アルキニル是、アミノ基等から選ばれる。
よく、アルキル基、置換アルキル基、フェニル基、置換
フェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニル
基、アルキニル是、アミノ基等から選ばれる。
置換基Rに含まれる炭素原子数は15以下であることが
好ましいが、より好ましくは8以下である。
好ましいが、より好ましくは8以下である。
前記一般式で表わされるポリアリーレンオキシドは、主
鎖力香環上に水素原子またはハロゲン原子等が少なくと
も1個以上含まれているか、または主鎖芳香環に隣接し
た炭素原子上には少なくとも1個以上の水素原子または
ハロゲン原子等が保持されていることが必要でおる。特
にRがアルキル基、及び置換アルキル基の場合、主鎖芳
香環に隣接した炭素原子上には少なくとも1個の水素原
子が含まれていることが必要である。またポリアリーレ
ンオキシドに含まれる繰返し単位は、単一でもよく、ま
た異なっていてもよい。
鎖力香環上に水素原子またはハロゲン原子等が少なくと
も1個以上含まれているか、または主鎖芳香環に隣接し
た炭素原子上には少なくとも1個以上の水素原子または
ハロゲン原子等が保持されていることが必要でおる。特
にRがアルキル基、及び置換アルキル基の場合、主鎖芳
香環に隣接した炭素原子上には少なくとも1個の水素原
子が含まれていることが必要である。またポリアリーレ
ンオキシドに含まれる繰返し単位は、単一でもよく、ま
た異なっていてもよい。
これらのポリアリーレンオキシドは、種々の方法で合成
することができる。即ち、上記一般式に対応する置換フ
ェノールモノマーの酸化カップリング重合による方法、
または上記一般式に対応する置換ハロゲン化フェノール
の縮合重合法、さらにポリアリーレンオキシドの高分子
反応による方法等により合成できるが、これらに限定さ
れるものではない。
することができる。即ち、上記一般式に対応する置換フ
ェノールモノマーの酸化カップリング重合による方法、
または上記一般式に対応する置換ハロゲン化フェノール
の縮合重合法、さらにポリアリーレンオキシドの高分子
反応による方法等により合成できるが、これらに限定さ
れるものではない。
本発明において使用されるオルガノシロキサンの基本構
造は、一般式 で表わされる。ここでpはO以−にの整数、好ましくは
1から999までの整数、より好ましくは1から50ま
での整数を示す。置換基R′1、R−2、R−3は同一
でおっても、各々異なっていてもよく、水素、炭素数1
〜12のアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、
フェニル基、置換フェニル基等から選ばれる。置換基R
−t、R′2、R−3の具体例としては、下記の置換基
を挙げることができるが、これらに限られる訳ではない
。
造は、一般式 で表わされる。ここでpはO以−にの整数、好ましくは
1から999までの整数、より好ましくは1から50ま
での整数を示す。置換基R′1、R−2、R−3は同一
でおっても、各々異なっていてもよく、水素、炭素数1
〜12のアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、
フェニル基、置換フェニル基等から選ばれる。置換基R
−t、R′2、R−3の具体例としては、下記の置換基
を挙げることができるが、これらに限られる訳ではない
。
即ら、メチル、二[デル、n−プロピル、インプロピル
、n−ブチル、イソブチル、5QC−ブチル、tert
−ブチル、ネオペンチル、ヘキシル、オクチル、シクロ
ヘキシル等のアルキル基、クロロメチル基、クロロプロ
ピル基、メルカプトプロピルシアンエチル基、ベンジル
基、トリクロロプロピル基、メトキシエチル基、ニトロ
プロピル基、2−(カルボス1〜キシ)エチル基、ジク
ロロメチル基、トリフルオロプロピル基、(パーフルオ
ロヘキシル)エチル基、(パーフルオロオクチル)エチ
ル基等の置換アルキル基、シクロへキセニル基、ビニル
基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基、4−メチ
ルフェニル基、4−ニトロフェニル基、4−クロロフェ
ニル基、4−メトキシフェニル基、ペンタフルオロフェ
ニル基等の置換フェニル基である。
、n−ブチル、イソブチル、5QC−ブチル、tert
−ブチル、ネオペンチル、ヘキシル、オクチル、シクロ
ヘキシル等のアルキル基、クロロメチル基、クロロプロ
ピル基、メルカプトプロピルシアンエチル基、ベンジル
基、トリクロロプロピル基、メトキシエチル基、ニトロ
プロピル基、2−(カルボス1〜キシ)エチル基、ジク
ロロメチル基、トリフルオロプロピル基、(パーフルオ
ロヘキシル)エチル基、(パーフルオロオクチル)エチ
ル基等の置換アルキル基、シクロへキセニル基、ビニル
基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基、4−メチ
ルフェニル基、4−ニトロフェニル基、4−クロロフェ
ニル基、4−メトキシフェニル基、ペンタフルオロフェ
ニル基等の置換フェニル基である。
好ましい置換基としては(置換)アルキル基、より好ま
しくはメチル基が挙げられる。
しくはメチル基が挙げられる。
また置換基R′1、R−2、R−3(の一部分)がシル
アルキレン基および/またはシロキサン基等から選7話
こともできる。すなわち本発明において使用されるオル
ガノシロキサンは、直鎖状、分岐状のいずれの構造であ
っても差し支えない。
アルキレン基および/またはシロキサン基等から選7話
こともできる。すなわち本発明において使用されるオル
ガノシロキサンは、直鎖状、分岐状のいずれの構造であ
っても差し支えない。
オルガノシロキサン基に含まれる繰返し単位は、単一で
も異なっていてもよい。
も異なっていてもよい。
本発明を構成するポリアリーレンオキシド−オルガノシ
ロキサン共重合体としては、ブロック共重合体、グラフ
ト共単合体、ペンダント型共重合体等のいずれの状態で
おっても差し支えないが、ポリアリーレンオキシド斡ポ
リマー上にオルガノシロキサン鎖を有するペンダント型
共重合体、またはグラフト共重合体が特に膜性能が良好
でおり好ましい。ポリアリーレンオキシド−オルガノシ
ロキサンペンダント型共重合体、またはグラフト共重合
体としては、前記ボアリーレンAキシドの一般式中に含
まれる芳香族炭素または脂肪族炭素上の水素原子および
/またはハロゲン原子等が全部または一部がオルガノシ
ロキサン鎖で置換された構造のものや、前記一般式中に
含まれる不飽和結合等の全部または一部にオルガノシロ
キサン鎖が(=I 7川した構造のものをさす。
ロキサン共重合体としては、ブロック共重合体、グラフ
ト共単合体、ペンダント型共重合体等のいずれの状態で
おっても差し支えないが、ポリアリーレンオキシド斡ポ
リマー上にオルガノシロキサン鎖を有するペンダント型
共重合体、またはグラフト共重合体が特に膜性能が良好
でおり好ましい。ポリアリーレンオキシド−オルガノシ
ロキサンペンダント型共重合体、またはグラフト共重合
体としては、前記ボアリーレンAキシドの一般式中に含
まれる芳香族炭素または脂肪族炭素上の水素原子および
/またはハロゲン原子等が全部または一部がオルガノシ
ロキサン鎖で置換された構造のものや、前記一般式中に
含まれる不飽和結合等の全部または一部にオルガノシロ
キサン鎖が(=I 7川した構造のものをさす。
前記一般式で表わされるポリアリーレンオキシドへのオ
ルガノシロキサン鎖の導入法としては種々の方法がある
が、ポリアリーレンオキシド、含ハロゲンポリアリーレ
ンオキシド等から右は金属試薬等を用いて調製したメタ
ル化ポリアリーレンオキシドとオルガノハロシロキリン
、環状オリゴシ(」キリン等との反応や不飽和結合を有
するポリアリーレンオキシドへのヒドロシリル化反応、
工i磨s=シト、イソシアネー1〜、ジアゾ基等の反応
性基を右するオルガノシロキリ−ンとの反応等による合
成か挙げられるが、他の方法によっても合成は可能であ
る。
ルガノシロキサン鎖の導入法としては種々の方法がある
が、ポリアリーレンオキシド、含ハロゲンポリアリーレ
ンオキシド等から右は金属試薬等を用いて調製したメタ
ル化ポリアリーレンオキシドとオルガノハロシロキリン
、環状オリゴシ(」キリン等との反応や不飽和結合を有
するポリアリーレンオキシドへのヒドロシリル化反応、
工i磨s=シト、イソシアネー1〜、ジアゾ基等の反応
性基を右するオルガノシロキリ−ンとの反応等による合
成か挙げられるが、他の方法によっても合成は可能であ
る。
ポリアリーレンオギシドーオルガノシロキ1ノン共重合
体に含有されるオルガノシロキサンは、共重合体の総重
量の1〜90%、好ましくは5〜75%であることが望
ましい。オルガノシロキサンの上記含有率が1%未渦の
場合は、膜中を透過する気体の透過係数が低下し、また
含有率が90%を越す場合は膜の機械的強度の低下によ
り超薄膜の成形性が低下し好ましくない。
体に含有されるオルガノシロキサンは、共重合体の総重
量の1〜90%、好ましくは5〜75%であることが望
ましい。オルガノシロキサンの上記含有率が1%未渦の
場合は、膜中を透過する気体の透過係数が低下し、また
含有率が90%を越す場合は膜の機械的強度の低下によ
り超薄膜の成形性が低下し好ましくない。
ポリアリーレンオキシドと共重合するオルガノシロキサ
ン鎖は、はぼすべて主鎖芳香環上の炭素に直接結合して
いる場合、またはほぼすべて主鎖芳香環−[に結合して
なる置換以上に結合している場合、または、これらが任
意の割合で混合している場合のいずれでもよい。オルガ
ノシロキサン鎖が主鎖芳香環上の炭素に直接結合してい
る場合は気体透過性の向−りが著しい。この場合十分な
気体透過性を得るためにΔルガノシロキサン鎖の総数の
少なくとも1%以上のオルガノシロキサン鎖が主鎖芳香
環上の炭素に直接結合していることが好ましい。またオ
ルガノシロキサン鎖が主鎖芳香環上に結合してなる買換
基に結合している場合、溶媒への溶解性の向上が箸しく
、薄膜への加工が容易となり好ましい。
ン鎖は、はぼすべて主鎖芳香環上の炭素に直接結合して
いる場合、またはほぼすべて主鎖芳香環−[に結合して
なる置換以上に結合している場合、または、これらが任
意の割合で混合している場合のいずれでもよい。オルガ
ノシロキサン鎖が主鎖芳香環上の炭素に直接結合してい
る場合は気体透過性の向−りが著しい。この場合十分な
気体透過性を得るためにΔルガノシロキサン鎖の総数の
少なくとも1%以上のオルガノシロキサン鎖が主鎖芳香
環上の炭素に直接結合していることが好ましい。またオ
ルガノシロキサン鎖が主鎖芳香環上に結合してなる買換
基に結合している場合、溶媒への溶解性の向上が箸しく
、薄膜への加工が容易となり好ましい。
また、ポリアリーレンオギシドーオルガノシロキサン共
重合体において、両成分の結合としては炭素−炭素結合
、炭素=酸素結合、炭素−イオウ結合、炭素−ケイ累結
合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、イミド結
合等の通常の41機高分子を形成し得る結合であればい
ずれも着し支えない。しかし両成分がアミノ基を介して
結合されている場合は、長期使用において膜強度が低下
するため適当でない。
重合体において、両成分の結合としては炭素−炭素結合
、炭素=酸素結合、炭素−イオウ結合、炭素−ケイ累結
合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、イミド結
合等の通常の41機高分子を形成し得る結合であればい
ずれも着し支えない。しかし両成分がアミノ基を介して
結合されている場合は、長期使用において膜強度が低下
するため適当でない。
ざらに本発明の選択性透過膜の描成成分として、ポリア
リーレンオキシド−オルガノシロキサン共重合体の他に
、第2成分として下記のポリマーが含まれていても差し
支えない、叩ら、第2成分としては、ポリ(4−メチル
ペンテン)、ポリ(ビニル1〜リメチルシラン)、ポリ
スチレン、ポリ(フマル酸ジーtc「t−ブチル)笠の
各種オレフィン系ポリマー、ポリ(2,6−シメチルー
P−フェニレンオキシド)等の芳香族ポリエーテル、ポ
リジメヂルシロキ1ノ゛ン、ポリメチルフェニルシロキ
サン等のポリオルガノシロ4:ザン、シルフエニレンー
シロキ丈ン共重合体、ポリカーボネートーボリシロキザ
ン共重合体、ポリスルボンーボリシロキナン共重合体等
のポリオルカノシロキナン共重合体、ポリ(tert−
ブチルアセチレン〉、ポリ(トリメチルシリルプロピン
)等のポリアセチレン類等が挙げられる。添加方法とし
ては、第2成分ポリマーとの混合法、第2成分ポリマー
との積層法等がおる。
リーレンオキシド−オルガノシロキサン共重合体の他に
、第2成分として下記のポリマーが含まれていても差し
支えない、叩ら、第2成分としては、ポリ(4−メチル
ペンテン)、ポリ(ビニル1〜リメチルシラン)、ポリ
スチレン、ポリ(フマル酸ジーtc「t−ブチル)笠の
各種オレフィン系ポリマー、ポリ(2,6−シメチルー
P−フェニレンオキシド)等の芳香族ポリエーテル、ポ
リジメヂルシロキ1ノ゛ン、ポリメチルフェニルシロキ
サン等のポリオルガノシロ4:ザン、シルフエニレンー
シロキ丈ン共重合体、ポリカーボネートーボリシロキザ
ン共重合体、ポリスルボンーボリシロキナン共重合体等
のポリオルカノシロキナン共重合体、ポリ(tert−
ブチルアセチレン〉、ポリ(トリメチルシリルプロピン
)等のポリアセチレン類等が挙げられる。添加方法とし
ては、第2成分ポリマーとの混合法、第2成分ポリマー
との積層法等がおる。
ポリアリーレンオキシド−オルガノシロ主1ノン共単合
体は、その組成によっても異なるが、一般に、ベンピン
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、シク
ロヘキザン、n−ヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、
クロロベンゼン、クロロボルム、ジクロルメタン、トリ
ノルオロトリフ[10エタン等の含ハロゲン炭化水素系
溶媒、テ1〜ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
系溶媒等の単独または混合溶媒に可溶であり、これらの
溶媒を用いた溶液を用いて共重合体の製膜または薄膜化
が可能でおる。
体は、その組成によっても異なるが、一般に、ベンピン
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、シク
ロヘキザン、n−ヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、
クロロベンゼン、クロロボルム、ジクロルメタン、トリ
ノルオロトリフ[10エタン等の含ハロゲン炭化水素系
溶媒、テ1〜ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
系溶媒等の単独または混合溶媒に可溶であり、これらの
溶媒を用いた溶液を用いて共重合体の製膜または薄膜化
が可能でおる。
本発明の共(F合体からなる膜は、平膜状、中空糸状、
チューブ状などいかなる形態でも良い。本発明の共重合
体からなる膜の膜厚は、実用的な機械的強度を有しかつ
−F分な気体透過速度を得るために、通常0.01〜3
00μであり、好ましくは0.05〜100μである。
チューブ状などいかなる形態でも良い。本発明の共重合
体からなる膜の膜厚は、実用的な機械的強度を有しかつ
−F分な気体透過速度を得るために、通常0.01〜3
00μであり、好ましくは0.05〜100μである。
本発明の共重合体を用いた膜は、支持体との複合化され
た構造を有していても差し支えない。この場合支持体の
上に本発明の共重合体を主とする薄膜を均一に積層する
のが好ましい。
た構造を有していても差し支えない。この場合支持体の
上に本発明の共重合体を主とする薄膜を均一に積層する
のが好ましい。
積層法としては、共重合体の稀″a溶液を、水面上に流
延し溶媒を蒸発させることによって得られた共重合体薄
膜を多孔質支持体上にラミネートする方法ないしは浸漬
法、ロールコーティング法、スプレーコーティング法等
のコーティングによる方法が挙げられる。この場合本発
明の共重合体から主としてなる薄膜(分離活性層)の膜
厚は、高い気体透過速度を得るために3000人以F1
おるのが好ましい。また複合膜は本発明の共重合体から
主としてなる簿膜と多孔質支持体以外に他のポリマーか
らなる層をイテしている構成(積層複合膜)であっても
差し支えない。
延し溶媒を蒸発させることによって得られた共重合体薄
膜を多孔質支持体上にラミネートする方法ないしは浸漬
法、ロールコーティング法、スプレーコーティング法等
のコーティングによる方法が挙げられる。この場合本発
明の共重合体から主としてなる薄膜(分離活性層)の膜
厚は、高い気体透過速度を得るために3000人以F1
おるのが好ましい。また複合膜は本発明の共重合体から
主としてなる簿膜と多孔質支持体以外に他のポリマーか
らなる層をイテしている構成(積層複合膜)であっても
差し支えない。
本発明の共重合体を用いて複合膜を製造するに際して使
用される支持体としては、多孔質支持体が好ましい。多
孔質支持体の有する微細孔の大ぎさは、積層する薄膜の
分離特性を効果的に発現しかつ十分な気体透過速度を得
るために、10〜1oooo人、好ましくは10−20
00大である。
用される支持体としては、多孔質支持体が好ましい。多
孔質支持体の有する微細孔の大ぎさは、積層する薄膜の
分離特性を効果的に発現しかつ十分な気体透過速度を得
るために、10〜1oooo人、好ましくは10−20
00大である。
多孔質支持体としては、抽出法、層分離法、延伸法、焼
成法等の種々の方法で作られた有機多孔質支持体または
無機多孔質支持体が用いられる。有機多孔質支持体は、
その支持体としてポリスルホン類、セルロース類、ポリ
オレフィン類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリイ
ミド類等の小モボリマーあるいはこれらのポリマーのブ
レンド物が通常使用されるが、特にこれらに限定されな
い。
成法等の種々の方法で作られた有機多孔質支持体または
無機多孔質支持体が用いられる。有機多孔質支持体は、
その支持体としてポリスルホン類、セルロース類、ポリ
オレフィン類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリイ
ミド類等の小モボリマーあるいはこれらのポリマーのブ
レンド物が通常使用されるが、特にこれらに限定されな
い。
多孔質支持体の形状としては、平膜状以外にも中空糸状
、チューブ状などを使用することができる。
、チューブ状などを使用することができる。
本発明の膜は、気体混合物の分離特性および透過特性に
優れ、水素、酸素、窒素、−酸化炭素、二酸化炭素、炭
化水素、硫化水素、アルゴン、ヘリウム、二酸化硫黄等
の種々の気体の分離、濃縮に用いることができる。また
、本発明の膜を空気より酸素富化空気を製造する酸素富
化システムに組込み、エンジン、ボイラー、暖房器具等
の燃焼システムに用いることにより燃焼効率を向上する
ことができる。さらに酸素富化システムは、呼吸器疾患
用や未熟児用の治療器、人工肺等の医療用途、人工えら
、窒素富化空気製造等の気体回収用途に利用することが
できる。
優れ、水素、酸素、窒素、−酸化炭素、二酸化炭素、炭
化水素、硫化水素、アルゴン、ヘリウム、二酸化硫黄等
の種々の気体の分離、濃縮に用いることができる。また
、本発明の膜を空気より酸素富化空気を製造する酸素富
化システムに組込み、エンジン、ボイラー、暖房器具等
の燃焼システムに用いることにより燃焼効率を向上する
ことができる。さらに酸素富化システムは、呼吸器疾患
用や未熟児用の治療器、人工肺等の医療用途、人工えら
、窒素富化空気製造等の気体回収用途に利用することが
できる。
以下の実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。
実施例中のフィルムの酸素透過係数P○2、窒素透過係
数PN2および分離係数α(=P 02 / P N
2 )は、(株)柳本製作所製ガス透過率測定装置を用
い、25°Cにて測定を行なった。
数PN2および分離係数α(=P 02 / P N
2 )は、(株)柳本製作所製ガス透過率測定装置を用
い、25°Cにて測定を行なった。
比較例
ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フエニレンオキシド
)(アルドリッチ社販売品〉の5%クロロホルム溶液を
ガラス板上にギヤスト後、室温で1日乾燥した。このよ
うにして得られた厚さ50μのフィルム(均質膜)のP
o2は9.4X10” (ad・Cm/cJ −sec
−cmllg> 、PN 2は2.0×10−10(
cm−cm/ci −sec −cmllq) 、分離
係数αは4.7であった。
)(アルドリッチ社販売品〉の5%クロロホルム溶液を
ガラス板上にギヤスト後、室温で1日乾燥した。このよ
うにして得られた厚さ50μのフィルム(均質膜)のP
o2は9.4X10” (ad・Cm/cJ −sec
−cmllg> 、PN 2は2.0×10−10(
cm−cm/ci −sec −cmllq) 、分離
係数αは4.7であった。
実施例1
ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フエニレンオギシド
)1.2gを100m1の無水テトラヒドロフランに溶
解し、室温にてN、N、N’ 、N’ −テ1〜ラメチ
ルエチレンジアミノ1.6mlとn−ブチルリチウムの
n−ヘキザン溶液(1,62M)5.6mlを添加し2
0分間攪拌した。反応溶液にペンタメチルクロロジシロ
キサン2.6mlを加えざらに50分間攪拌を続けた。
)1.2gを100m1の無水テトラヒドロフランに溶
解し、室温にてN、N、N’ 、N’ −テ1〜ラメチ
ルエチレンジアミノ1.6mlとn−ブチルリチウムの
n−ヘキザン溶液(1,62M)5.6mlを添加し2
0分間攪拌した。反応溶液にペンタメチルクロロジシロ
キサン2.6mlを加えざらに50分間攪拌を続けた。
反応溶液を濃縮後、約400m1のメタノール中に投入
し、濾過によりポリマーを回収した。メタノール再沈澱
によりポリマーを精製した後、減圧下で乾燥して1.3
gを得た。
し、濾過によりポリマーを回収した。メタノール再沈澱
によりポリマーを精製した後、減圧下で乾燥して1.3
gを得た。
このポリマーの赤外分光スペクトルでは、10500m
−1にシロキサンに由来する吸収が見られ、さらにブロ
ーヘン核磁気共鳴スペクトルにおいては、繰返し単位の
約1割にペンタメチルジシロキサン基が導入されており
、そのうら主鎖芳香屋上に導入されているものは全体の
3割であることが確認された。
−1にシロキサンに由来する吸収が見られ、さらにブロ
ーヘン核磁気共鳴スペクトルにおいては、繰返し単位の
約1割にペンタメチルジシロキサン基が導入されており
、そのうら主鎖芳香屋上に導入されているものは全体の
3割であることが確認された。
このポリマーを比較例と同様な方法でフィルムを作成し
、気体透過係数を雷電した。分離係数αは、4.3でお
り原料ポリマーとほぼ同じレベルに必るのに対し、Po
は1.5X10−9(a+t・cm/cd −sec
−cmtlg)と1.6倍に向上した。
、気体透過係数を雷電した。分離係数αは、4.3でお
り原料ポリマーとほぼ同じレベルに必るのに対し、Po
は1.5X10−9(a+t・cm/cd −sec
−cmtlg)と1.6倍に向上した。
実施例2
N、N、N’ 、N’−テトラメチルエチレンジアミノ
3.35m1、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液
(1,62M> 12.5ml、ペンタメヂルクロロジ
シロキザン4.6mlを使用し、リチウム化の反応時間
を70分間にした以外は、実施例1と同様にしてポリマ
ーを合成した。プロトン核磁気共鳴スペクl〜ルにより
、このポリマーの繰返し単位の5割にペンタメチルジシ
ロキサン基が存在し、このうち主鎖芳香環上のペンタメ
チルジシロキサン基は全体の6割であり、残りは側鎖メ
チル基に導入されていることが確認された。このボlJ
マーのPo2ハ3.5x 10−” (cr&−cm/
ci・Sec−Cmll(])と原料ポリマーの3倍以
上に向上した。
3.35m1、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液
(1,62M> 12.5ml、ペンタメヂルクロロジ
シロキザン4.6mlを使用し、リチウム化の反応時間
を70分間にした以外は、実施例1と同様にしてポリマ
ーを合成した。プロトン核磁気共鳴スペクl〜ルにより
、このポリマーの繰返し単位の5割にペンタメチルジシ
ロキサン基が存在し、このうち主鎖芳香環上のペンタメ
チルジシロキサン基は全体の6割であり、残りは側鎖メ
チル基に導入されていることが確認された。このボlJ
マーのPo2ハ3.5x 10−” (cr&−cm/
ci・Sec−Cmll(])と原料ポリマーの3倍以
上に向上した。
実施例3
N、N、N’ 、N’ −ブトラメチルエチレンジアミ
ノ1.9ml、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液
(1,62M>7.0mlを使用した以外は、実施例2
と同様な条件でポリマーを合成した。
ノ1.9ml、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液
(1,62M>7.0mlを使用した以外は、実施例2
と同様な条件でポリマーを合成した。
プロ1ヘン核磁気共鳴スペクトルにより、このポリマー
の繰返し単位の3割にペンタメチルジシロキサン基が存
在し、このうら主鎖芳香環上のペンタメチルジシロキサ
ン基は全体の4割であり、残りは側鎖メチル基に導入さ
れていることか確認された。このポリマーのPO2は2
.6X10−9(o+f−cm/+oyf −sec
−cmHg)と原料ポリマの2倍以上に向上した。
の繰返し単位の3割にペンタメチルジシロキサン基が存
在し、このうら主鎖芳香環上のペンタメチルジシロキサ
ン基は全体の4割であり、残りは側鎖メチル基に導入さ
れていることか確認された。このポリマーのPO2は2
.6X10−9(o+f−cm/+oyf −sec
−cmHg)と原料ポリマの2倍以上に向上した。
実施例4
実施例3で合成したペンタメチルジシロキサン基を有す
るポリマー0.5gを16C]のクロロホルムに均一に
溶解して得られたポリマー溶液の一部を水面上に流延し
、溶媒を空温で揮散させることにより薄膜を得た。この
薄膜の厚さは、薄膜面積と流延した溶液量から約700
1程度と推定される。
るポリマー0.5gを16C]のクロロホルムに均一に
溶解して得られたポリマー溶液の一部を水面上に流延し
、溶媒を空温で揮散させることにより薄膜を得た。この
薄膜の厚さは、薄膜面積と流延した溶液量から約700
1程度と推定される。
この薄膜を空気透過速度的100(T13/Tr12・
hr・atm >のポリスルホン多孔質支持体上に吸引
法により3枚積層し、複合膜を19だ。この複合膜の酸
素透過速度Q○2は0.3 (m!/112−hr−a
tm )であり、高圧側に空気を供給し低圧側を真空ポ
ンプで吸引した場合の透過ガス中の酸素濃度は40%を
越えることを確認した。
hr・atm >のポリスルホン多孔質支持体上に吸引
法により3枚積層し、複合膜を19だ。この複合膜の酸
素透過速度Q○2は0.3 (m!/112−hr−a
tm )であり、高圧側に空気を供給し低圧側を真空ポ
ンプで吸引した場合の透過ガス中の酸素濃度は40%を
越えることを確認した。
実力10Pレリ5
実施例4で調製した薄膜を、ポリスルホン多孔質支持体
を用いて19られた架橋シロキサン複合膜上に積層し、
積層複合膜を作製した。この積層複合膜の各種気体の透
過速度は表1の通りであり、種々の気体の分離が可能で
めった。
を用いて19られた架橋シロキサン複合膜上に積層し、
積層複合膜を作製した。この積層複合膜の各種気体の透
過速度は表1の通りであり、種々の気体の分離が可能で
めった。
実施例5
実施例3で合成した共重合体を1ヘリフルオロ1〜リク
ロロエタンに溶解して1qられる0、12%溶液を、ポ
リスルホン多孔質支持体を用いた架橋シロキサン複合膜
上に浸漬法により塗布し、乾燥させることにより積層複
合膜を得た。この積層複合膜の酸素透過速度Qo2は1
、4 (m’/m2・hr・atm ) 、分離係数
a (= Q O2/ Q N 2 )は3.3であっ
た。
ロロエタンに溶解して1qられる0、12%溶液を、ポ
リスルホン多孔質支持体を用いた架橋シロキサン複合膜
上に浸漬法により塗布し、乾燥させることにより積層複
合膜を得た。この積層複合膜の酸素透過速度Qo2は1
、4 (m’/m2・hr・atm ) 、分離係数
a (= Q O2/ Q N 2 )は3.3であっ
た。
本発明の選択性透過膜は、透過性、選択性に優れ、かつ
膜強度、耐久性が良好であり、本発明の膜により効果的
、経済的な気体分離が可能となる。
膜強度、耐久性が良好であり、本発明の膜により効果的
、経済的な気体分離が可能となる。
特に長期安定使用することができる点特徴的なことでお
る。
る。
Claims (4)
- (1)ポリアリーレンオキシド−オルガノシロキサン共
重合体を構成成分とし、該共重合体が総重量の1〜90
%のオルガノシロキサンを含有し、かつ該共重合体の両
成分がアミノ基を介さずに結合した構造であることを特
徴とする選択性透過膜。 - (2)ポリアリーレンオキシド−オルガノシロキサン共
重合体が、ポリアリーレンオキシド幹ポリマー上にオル
ガノシロキサン鎖を有するペンダント型共重合体または
グラフト共重合体であり、オルガノシロキサン鎖がポリ
アリーレンオキシド主鎖中の芳香環上に直接結合および
/またはポリアリーレンオキシド主鎖中の芳香環上の置
換基を介して結合してなる共重合体であることを特徴と
する特許請求の範囲第(1)項記載の選択性透過膜。 - (3)ポリアリーレンオキシド−オルガノシロキサン共
重合体が、ポリアリーレンオキシド幹ポリマー上にオル
ガノシロキサン鎖を有するペンダント型共重合体または
グラフト共重合体であり、オルガノシロキサン鎖の総数
の少なくとも1%以上のオルガノシロキサン鎖がポリア
リーレンオキシド主鎖中の芳香環上に直接結合してなる
共重合体であることを特徴とする特許請求の範囲第(1
)項記載の選択性透過膜。 - (4)ポリアリーレンオキシド−オルガノシロキサン共
重合体が、オルガノシロキサン成分単位当りに含まれる
ケイ素原子の数が1000以下の共重合体であることを
特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の選択性透過
膜。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5427185 | 1985-03-20 | ||
JP60-54271 | 1985-03-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS627421A true JPS627421A (ja) | 1987-01-14 |
Family
ID=12965912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61059267A Pending JPS627421A (ja) | 1985-03-20 | 1986-03-19 | 選択性透過膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS627421A (ja) |
-
1986
- 1986-03-19 JP JP61059267A patent/JPS627421A/ja active Pending
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