JPS6273993A - 光記録媒体 - Google Patents
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- JPS6273993A JPS6273993A JP60214064A JP21406485A JPS6273993A JP S6273993 A JPS6273993 A JP S6273993A JP 60214064 A JP60214064 A JP 60214064A JP 21406485 A JP21406485 A JP 21406485A JP S6273993 A JPS6273993 A JP S6273993A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光記録媒体に関する。
従来の技術としては、例えばスチレンオリゴマーに色素
を混合して光記録媒体に用いるものがある〔ジャパニー
ズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フイジクス22巻
840頁(1983) ’II。
を混合して光記録媒体に用いるものがある〔ジャパニー
ズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フイジクス22巻
840頁(1983) ’II。
しかし上記の技術では書込み後の消去が極めて非実用的
である。即ち赤外線ランプやホットプレー1・を用いる
場合は、約10秒程度の時間を要し、レーザビームを光
記録媒体上を走査して消去する場合は、試料上の走査速
度が極めて遅い。また前者の消去法では記R層上の限定
した場所を選択的に消去することは困難である。
である。即ち赤外線ランプやホットプレー1・を用いる
場合は、約10秒程度の時間を要し、レーザビームを光
記録媒体上を走査して消去する場合は、試料上の走査速
度が極めて遅い。また前者の消去法では記R層上の限定
した場所を選択的に消去することは困難である。
C問題点を解決するための手段〕
本発明者らはレーザビームを光記録媒体層上に高速で走
査した場合でも記録ピットの消去が行える光記録媒体を
得ることを目的として鋭意検討した結果、本発明に到達
した。
査した場合でも記録ピットの消去が行える光記録媒体を
得ることを目的として鋭意検討した結果、本発明に到達
した。
すなわち本発明は、基体上にポリフェニレンスルフィド
(以下、PPSと略記)と光吸収体とを含む記録層を有
することを特徴とする光記録媒体である。
(以下、PPSと略記)と光吸収体とを含む記録層を有
することを特徴とする光記録媒体である。
本発明におけるPPSとしてはプラスチックエージ、V
ol、29. No、1.1]、6〜121頁(198
8)および[8984のfヒ学商品J、581〜582
頁(昭和59年1月30日、化学工業日報社)記載のポ
リフェニレンサルファイドがあげられる。
ol、29. No、1.1]、6〜121頁(198
8)および[8984のfヒ学商品J、581〜582
頁(昭和59年1月30日、化学工業日報社)記載のポ
リフェニレンサルファイドがあげられる。
一般には直鎖状の物質であり、その融点は通常250〜
290°Cである。
290°Cである。
具体的な商品としては、フイリプス・ペトローリアム社
のライドンシリーズがあり、ライ1−ン■)−4および
P−6が好ましい。
のライドンシリーズがあり、ライ1−ン■)−4および
P−6が好ましい。
PPSにはガラス繊維、カーボン繊維、二硫化モリブデ
ン、グラファイト、PTFE (ポリテトラフルオロエ
チレン)などとブレンドした製品もあるが、本発明にお
いては未完てんのPPS樹脂が好ましい。
ン、グラファイト、PTFE (ポリテトラフルオロエ
チレン)などとブレンドした製品もあるが、本発明にお
いては未完てんのPPS樹脂が好ましい。
本発明においてはPPSに加えて必要により他の熱可塑
性樹脂たとえばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合物などのポリオレフ
ィンハロゲン化物;アクリル樹脂、ポリアクリロニトリ
ル、ポリアクリルアミドなどのアクリル樹脂;ポリアミ
ド;ポリエステル;ポリビニルアセタール;ポリビニル
カルバゾール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリ
ジンなどの含窒素ビニル重合体;ポリエーテル;セルロ
ース系樹脂などを併用することもできる。併用する場合
のPPSの含量は全樹脂の重量に基づいて通常20%以
上、好ましくは50%以上である。
性樹脂たとえばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合物などのポリオレフ
ィンハロゲン化物;アクリル樹脂、ポリアクリロニトリ
ル、ポリアクリルアミドなどのアクリル樹脂;ポリアミ
ド;ポリエステル;ポリビニルアセタール;ポリビニル
カルバゾール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリ
ジンなどの含窒素ビニル重合体;ポリエーテル;セルロ
ース系樹脂などを併用することもできる。併用する場合
のPPSの含量は全樹脂の重量に基づいて通常20%以
上、好ましくは50%以上である。
本発明における光吸収体としては、使用する記録光を吸
収して熱に変換し、PPS薄1摸を融解、変形させるも
のたとえばその記録光の波長(こ吸収のある色素、金属
、カーボンブラックなどがあげられる。
収して熱に変換し、PPS薄1摸を融解、変形させるも
のたとえばその記録光の波長(こ吸収のある色素、金属
、カーボンブラックなどがあげられる。
記録光としては半導体レーザ(λ=750〜900nm
)およびそのfmのレーザ(He−Neレーザ633n
m。、へ1−レーザ488,515nm など)があ
げられる。小型、高能率、経済性などの点から半導体レ
ーザが好ましい。
)およびそのfmのレーザ(He−Neレーザ633n
m。、へ1−レーザ488,515nm など)があ
げられる。小型、高能率、経済性などの点から半導体レ
ーザが好ましい。
記録光の波長に吸収ある色素としては、半導体レーザを
用いる場合は近赤外線吸収色素を用いるのが好ましく、
He−Neレーザ、Arレーザなどを用いる場合は可視
光吸収色素を用いるのが好ましい1゜近赤外線吸収色素
は近年種々のものが開発されており、有機合成化学第4
3巻、第4号、36〜45頁(1985)に記載のもの
たとえばフタロシアニン色素、テトラデヒドロコリン、
ベンゼンジチオールニッケル錯体、ナフトキノン染料な
どがあげられる。市販品としては、IR−750(74
3)、 IRG −002(980)、IRG−008
(980)、(以上日本fb薬製);NKシリーズたと
えばNK−78(800)、128 (817)、12
5(740)、 126(761)、2014(780
)、2421(740)、2772(770) (以上
日本感光色素研究新製);IRアブソーバPAシリーズ
たとえばPA−1001(1110)、1008(88
5)、1005(850)、 1006(870)
; (三井東圧化学製)がある(上記において括孤内の
数字はλmax を示す)。
用いる場合は近赤外線吸収色素を用いるのが好ましく、
He−Neレーザ、Arレーザなどを用いる場合は可視
光吸収色素を用いるのが好ましい1゜近赤外線吸収色素
は近年種々のものが開発されており、有機合成化学第4
3巻、第4号、36〜45頁(1985)に記載のもの
たとえばフタロシアニン色素、テトラデヒドロコリン、
ベンゼンジチオールニッケル錯体、ナフトキノン染料な
どがあげられる。市販品としては、IR−750(74
3)、 IRG −002(980)、IRG−008
(980)、(以上日本fb薬製);NKシリーズたと
えばNK−78(800)、128 (817)、12
5(740)、 126(761)、2014(780
)、2421(740)、2772(770) (以上
日本感光色素研究新製);IRアブソーバPAシリーズ
たとえばPA−1001(1110)、1008(88
5)、1005(850)、 1006(870)
; (三井東圧化学製)がある(上記において括孤内の
数字はλmax を示す)。
可視光吸収色素としてはソルベントイエロー98ソルベ
ントオレンジ72、ソルベントイエロー2、ローダミン
Bなどがあげられる。
ントオレンジ72、ソルベントイエロー2、ローダミン
Bなどがあげられる。
光吸収体として用いる金属としてはCu、 Au、 B
i 。
i 。
Te、 Se、 Inなどおよびそれらの合金(Te−
Se合金など)があげられる。
Se合金など)があげられる。
PPSを含む樹脂と光吸収体の重量比は通常1:0.1
〜1 : 100、好ましくは1:2〜1:50である
。
〜1 : 100、好ましくは1:2〜1:50である
。
基体は熱伝導性、平面清明、機械的強度、吸湿性、ソリ
、軽量性、加工性、コストなどを考慮して選択するのが
好ましい。基体の例としては、ガラス、セラミックス、
プラスチックス(アクリル樹脂、メタクリルtM Ba
、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ
樹脂など)、金属などの一般に使用されている記録材料
の清体があげられる。
、軽量性、加工性、コストなどを考慮して選択するのが
好ましい。基体の例としては、ガラス、セラミックス、
プラスチックス(アクリル樹脂、メタクリルtM Ba
、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ
樹脂など)、金属などの一般に使用されている記録材料
の清体があげられる。
これらのうち、平面精度などの点からはガラスが好まし
い。また軽量性、加工性、コストなどの点からはプラス
チックスが好ましい。
い。また軽量性、加工性、コストなどの点からはプラス
チックスが好ましい。
基体の形状は用途に応じ種々変えることができ、たとえ
ば板状、ディスク(円盤)状、ドラム(円筒)状などが
あげられる。
ば板状、ディスク(円盤)状、ドラム(円筒)状などが
あげられる。
本発明において、基体上にPPSおよび光吸収体からな
る記録層を製造する方法としては、大別して基体上にP
PSおよび光吸収体を蒸着させる方法および塗布する方
法があげられる。
る記録層を製造する方法としては、大別して基体上にP
PSおよび光吸収体を蒸着させる方法および塗布する方
法があげられる。
蒸着させる方法としては、通常の真空蒸符法、スバタリ
ング法、イオンビーム法などがあげられ、好ましいのは
通常の真空蒸着法である。
ング法、イオンビーム法などがあげられ、好ましいのは
通常の真空蒸着法である。
真空蒸着法は真空(約10’Torr以f)巾で気化し
た原子や分子を基体たとえば基板」二に衝突させ膜を形
成する技術である。
た原子や分子を基体たとえば基板」二に衝突させ膜を形
成する技術である。
蒸着に用いるヒーターはアルミナ粉末を焼結しタタング
ステンバスケツトフィラメント(アルミナコートタング
ステンバスケットフィラメント)が望ましいが、タング
ステンやモリブデンなどの高融点金属のボートを用いる
こともできる。ヒーターの加熱温度はPPSの場合、通
常350〜450”0゜光吸収体の場合は通常、50〜
5oo’cである。
ステンバスケツトフィラメント(アルミナコートタング
ステンバスケットフィラメント)が望ましいが、タング
ステンやモリブデンなどの高融点金属のボートを用いる
こともできる。ヒーターの加熱温度はPPSの場合、通
常350〜450”0゜光吸収体の場合は通常、50〜
5oo’cである。
PPSの場合、蒸着により結晶のない白色の均一透明な
薄膜を得ることができる。高分子の場合、蒸着により分
子鎖が切断され、分子量分布の狭いオリゴマーが形成さ
れこのため得られる高分子膜は数十度元の高分子よりも
融点が下がるのが普通である。ppsの場合、元のPP
Sの融点が2 s o ’aの場合、PPS蒸着膜の融
点は210°C程度に下がる。
薄膜を得ることができる。高分子の場合、蒸着により分
子鎖が切断され、分子量分布の狭いオリゴマーが形成さ
れこのため得られる高分子膜は数十度元の高分子よりも
融点が下がるのが普通である。ppsの場合、元のPP
Sの融点が2 s o ’aの場合、PPS蒸着膜の融
点は210°C程度に下がる。
基体上にPPSおよび光吸収体を塗布する方法としては
通常、PPSおよび光吸収体をジフェニルエーテルまた
はN−メチル−2−ピロリドンなどの溶剤に溶解した液
を用いて塗布する方法があげられる。PPSと光吸収体
の濃度は通常0.5〜10重量のである。
通常、PPSおよび光吸収体をジフェニルエーテルまた
はN−メチル−2−ピロリドンなどの溶剤に溶解した液
を用いて塗布する方法があげられる。PPSと光吸収体
の濃度は通常0.5〜10重量のである。
溶解はPPSおよび光吸収体の溶解速度が遅いので20
0〜230°Cに保って攪拌することが好ましい。
0〜230°Cに保って攪拌することが好ましい。
塗布法としてはディッピング、ローラーコーティング、
スピンコーティングなどの方法があげられる。
スピンコーティングなどの方法があげられる。
塗膜から溶剤を取除くIζは通常80〜x2o’Cで1
〜2時間真空中に放置する。
〜2時間真空中に放置する。
塗布に際しては、一般にPPSと光吸収体を混合溶解し
て一層塗布が行われるが、 −′1柵別々に溶解し
て多層に塗 布することもできる。
て一層塗布が行われるが、 −′1柵別々に溶解し
て多層に塗 布することもできる。
本発明の光記録媒体はPPSと光吸収体を含む記録層を
有するものであり、この記録層は多層構造であっても、
単層構造であってもよい。
有するものであり、この記録層は多層構造であっても、
単層構造であってもよい。
二層構造の場合(PPS、IIと光吸収体層からなる)
、光吸収体層はPPSに対し基板側に設置してもよくま
たその逆でもよい。
、光吸収体層はPPSに対し基板側に設置してもよくま
たその逆でもよい。
熱伝導効率を高めるためには、光吸収体層とPPS層と
を交互に配した多層構造とすることもでき、前述の方法
で繰返しくたとえば3〜5回)付着させればよい。
を交互に配した多層構造とすることもでき、前述の方法
で繰返しくたとえば3〜5回)付着させればよい。
また単層構造にしても、熱伝導効率をあげることもでき
る。単m ’rtl造はたとえば光吸収体とPPSを基
板に共蒸着させることにより得ることができる。
る。単m ’rtl造はたとえば光吸収体とPPSを基
板に共蒸着させることにより得ることができる。
本発明におけるPPS層の厚さは通常0.007〜20
μn1、好ましくは0.05〜571mである。
μn1、好ましくは0.05〜571mである。
記録媒体は長時間使用中に酸化され性能が劣化する恐れ
があるので、必要により保護層を設ける。
があるので、必要により保護層を設ける。
この保護層に用いられる材料としては、光に対して透明
であり、機械的強度が大で、記録層と反応しにくく被覆
性が良いものであれば種々のものを使用することができ
る。たとえば、無機材料とし書込みは記R層に記録光の
照射を行い泥層を変形せしめて行うことができる。記録
光としては前述の半導体レーザおよびその他のレーザが
あげられる。
であり、機械的強度が大で、記録層と反応しにくく被覆
性が良いものであれば種々のものを使用することができ
る。たとえば、無機材料とし書込みは記R層に記録光の
照射を行い泥層を変形せしめて行うことができる。記録
光としては前述の半導体レーザおよびその他のレーザが
あげられる。
記録光の照射方法としては一般に0.7〜2μmφに絞
ったビームをパルス幅0.1〜1.07xsecで、エ
ネルギー5〜20mWで照射する方法があげられる。
ったビームをパルス幅0.1〜1.07xsecで、エ
ネルギー5〜20mWで照射する方法があげられる。
消去は熱または光によって行うことができる。
熱によって消去する方法としては赤外線ランプ、ニクロ
ム線ヒータなどで100°〜150°Cの温度で数十秒
間加熱する方法があげられる。
ム線ヒータなどで100°〜150°Cの温度で数十秒
間加熱する方法があげられる。
光によって消去する方法において、光としては前述の書
込みに使用することができる半導体レーザおよびその曲
のレーザがあげられる。書込みと消去に別のレーザ(た
とえば半導体レーザとアルゴンレーザ)を用いることも
できる。
込みに使用することができる半導体レーザおよびその曲
のレーザがあげられる。書込みと消去に別のレーザ(た
とえば半導体レーザとアルゴンレーザ)を用いることも
できる。
光によって消去する方法としてはフォーカス(焦点)を
通常2〜10ttmに絞り、通常10〜200mm /
秒の速度で半導体レーザを走査する方法があげられる。
通常2〜10ttmに絞り、通常10〜200mm /
秒の速度で半導体レーザを走査する方法があげられる。
書込み・消去は繰り返しくたとえば10回ないし100
回以上)行うことができる。
回以上)行うことができる。
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。実施例中の部は重量
部を示す。PPSはフィリプス・ペトローリアム社のラ
イドンP−4を使用した。
はこれに限定されるものではない。実施例中の部は重量
部を示す。PPSはフィリプス・ペトローリアム社のラ
イドンP−4を使用した。
レーザ照射による消去にはコントローラC−20H(メ
レツク社■)によって駆動されたリニアボジシEt
P−406(西独フィジックィンストルメンテ社)ノス
テーシの上に試料を置いて定速にてレーザ走査を行った
。
レツク社■)によって駆動されたリニアボジシEt
P−406(西独フィジックィンストルメンテ社)ノス
テーシの上に試料を置いて定速にてレーザ走査を行った
。
実施例・ニ
ガラス基板上に近赤外線吸収色素IRアブソーバ−P
A 1006 (三井東圧製)をスピンコードして0.
2μm厚の光吸収層を設けた。
A 1006 (三井東圧製)をスピンコードして0.
2μm厚の光吸収層を設けた。
アルミナコート・タングステンバスケットフィラメント
にPPSを載せ、10 Torr の真空中で上記基
板に蒸着し、均一透明な膜厚OJ fimのPPS薄膜
を得た。
にPPSを載せ、10 Torr の真空中で上記基
板に蒸着し、均一透明な膜厚OJ fimのPPS薄膜
を得た。
これに半導体レーザ(λ=8aOnm)の2μm−に絞
ったビームをパルス幅1μsecエネルキ18mWで照
射することにより書込みを行うことができた。
ったビームをパルス幅1μsecエネルキ18mWで照
射することにより書込みを行うことができた。
消去はフォーカスを4μmφにして110Ox/秒の速
度で半導体レーザを走査することで可能であつた。
度で半導体レーザを走査することで可能であつた。
書込み・消去は100回以上に繰返し可能であることを
確認した。
確認した。
実施例2
ガラス基板にf5iを蒸着して光吸収層を設け、つづい
てPPSを蒸着して、膜厚05μn〕の均一透明なPP
S薄膜を得た。
てPPSを蒸着して、膜厚05μn〕の均一透明なPP
S薄膜を得た。
これに半導体レーザ(λ=830nm)の2μmφに絞
ったビームをパルス幅16μsec 、エネルギー18
rnWで照射することにより書込みを行うことができた
。
ったビームをパルス幅16μsec 、エネルギー18
rnWで照射することにより書込みを行うことができた
。
消去はフォーカスを4μmφに絞り、20mm/ se
cの速度で半導体レーザを走査することにより行った。
cの速度で半導体レーザを走査することにより行った。
書込み・消去は60回以上繰返し可能であることを確認
した。
した。
実施例3
PMMA (ポリメチルメタクリレ−1・)基板上に、
近赤外吸収色素IR−7501:λmax=750 s
日本上薬■製)とPPSを同時に蒸着して、緑色の均−
迅明記録層を形成した。
近赤外吸収色素IR−7501:λmax=750 s
日本上薬■製)とPPSを同時に蒸着して、緑色の均−
迅明記録層を形成した。
こ几を実施例1と全く同様にして書込み・消去を100
回以上繰返し行うことができた。
回以上繰返し行うことができた。
実施例4
PP8100部とローダミンB(λmax = 515
,555部m)200部をジフェニルエーテルに溶解し
たものをスピンコードし、真空中で70°に加温して乾
燥し、約0.4μm厚の記録層を設けた。
,555部m)200部をジフェニルエーテルに溶解し
たものをスピンコードし、真空中で70°に加温して乾
燥し、約0.4μm厚の記録層を設けた。
Arレーザ(5151m)のビーム径を2μmφに絞り
パルス幅111SeCsエネルギー15mWで照射して
書込みを行った。
パルス幅111SeCsエネルギー15mWで照射して
書込みを行った。
消去は、100men/ s e cの速度でフォーカ
スを4μmにして半導体レーザを走査して行い、1o回
以上の書込み・消去の繰返しを実行し、繰返しが可能で
することを確認した。
スを4μmにして半導体レーザを走査して行い、1o回
以上の書込み・消去の繰返しを実行し、繰返しが可能で
することを確認した。
実施例5
ガラス基板上にPPSを蒸着し、1.2μmの膜厚の蒸
着膜を得た。
着膜を得た。
これに近赤外色素IRG−00,9(日本上薬■製)を
スピンコードした。
スピンコードした。
これに半導体レーザ(830部m) をビーム光を2
μmφに絞ってパルス幅4μSeC、エネルギー18m
Wで照射、書込みを行った。
μmφに絞ってパルス幅4μSeC、エネルギー18m
Wで照射、書込みを行った。
消去は50m+++/s e cの半導体レーザ光走査
でフォーカスを4μmφにして行うことができた6書込
み・消去の繰返しも10回以上可能であった。
でフォーカスを4μmφにして行うことができた6書込
み・消去の繰返しも10回以上可能であった。
本発明の光記録媒体は下記の効果を奏する。
(1) PPSと吸収体とを含む本発明の光記録媒体は
従来の技術だと几ば前記ジャパニーズ・ジャーナル・オ
ブ・アプライド・フイジクスの技術で1mm/sec
とされたのにメ寸して20〜100mm/secの速度
で消去を行うことができる。
従来の技術だと几ば前記ジャパニーズ・ジャーナル・オ
ブ・アプライド・フイジクスの技術で1mm/sec
とされたのにメ寸して20〜100mm/secの速度
で消去を行うことができる。
(2)本発明の光記録媒体は従来のホットプレートや赤
外線ランプ照射による消去法と異なり、レーザによる書
込みとレーザによる消去を実用的な速度で行うことがで
きるので限定された部分のみを消去することも可能であ
る。
外線ランプ照射による消去法と異なり、レーザによる書
込みとレーザによる消去を実用的な速度で行うことがで
きるので限定された部分のみを消去することも可能であ
る。
(3)本発明の光記録媒体は書込み・消去の繰返し耐久
性の大きな光記録媒体である。
性の大きな光記録媒体である。
第1図は実施例1のPPSの膜厚と書込み速度の図面の
浄書ど内容に変更なし) 竿1 図 0O510,2σ、3 0.4− ci5
始PPS酵厚C/lA匈 手続補ilE書(絋) 2、発明の名称 光記録媒体 3、補正をする者 胴牛との関係 特許出願人 昭和61年1月88 (発送旧 昭和61年1月28印 5、補正の対象 図面 6、補正の内容 適正な用紙を用いて十分に濃厚な黒色で鮮明に描いた図
面を提出します。
浄書ど内容に変更なし) 竿1 図 0O510,2σ、3 0.4− ci5
始PPS酵厚C/lA匈 手続補ilE書(絋) 2、発明の名称 光記録媒体 3、補正をする者 胴牛との関係 特許出願人 昭和61年1月88 (発送旧 昭和61年1月28印 5、補正の対象 図面 6、補正の内容 適正な用紙を用いて十分に濃厚な黒色で鮮明に描いた図
面を提出します。
Claims (1)
- 1、基体上に、ポリフェニレンスルフィドと光吸収体と
を含む記録層を有することを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60214064A JPS6273993A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60214064A JPS6273993A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 光記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6273993A true JPS6273993A (ja) | 1987-04-04 |
Family
ID=16649656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60214064A Pending JPS6273993A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6273993A (ja) |
-
1985
- 1985-09-26 JP JP60214064A patent/JPS6273993A/ja active Pending
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