JPS62725B2 - - Google Patents

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JPS62725B2
JPS62725B2 JP53125435A JP12543578A JPS62725B2 JP S62725 B2 JPS62725 B2 JP S62725B2 JP 53125435 A JP53125435 A JP 53125435A JP 12543578 A JP12543578 A JP 12543578A JP S62725 B2 JPS62725 B2 JP S62725B2
Authority
JP
Japan
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gas
activated carbon
bromine
columns
chlorine
Prior art date
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Expired
Application number
JP53125435A
Other languages
English (en)
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JPS5551421A (en
Inventor
Hiroshi Nishino
Norio Aibe
Yoshio Dai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Takeda Chemical Industries Ltd filed Critical Takeda Chemical Industries Ltd
Priority to JP12543578A priority Critical patent/JPS5551421A/ja
Publication of JPS5551421A publication Critical patent/JPS5551421A/ja
Publication of JPS62725B2 publication Critical patent/JPS62725B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、ガス中の硫化水素、メルカプタン
類、サルフアイド類、アンモニア、アミン類など
の悪臭成分を除去する方法に関する。 し尿処理場、下水処理場、ごみ処理場、動物飼
育室、紙パルプ工場、ビスコースレーヨン工場、
食品工場、医薬工場、石油化学工場などにおいて
は、悪臭を呈する硫化水素、メルカプタン類、サ
ルフアイド類、ジサルフアイド類、アンモニア、
アミン類などを含有するガスの発生を伴う。 従来より活性炭を用いてガス中の種々の悪臭成
分を吸着除去する方法が知られているが、これら
悪臭成分のうち、低級メルカプタン類(メチルメ
ルカプタン、エチルメルカプタンなど)、低級サ
ルフアイド類(硫化メチル、硫化エチルなど)、
低級ジサルフアイド類(二硫化メチル、二硫化エ
チルなど)、アンモニアおよび低級アミン類(モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア
ミン、モノエチルアミンなど)は、通常の活性炭
では、吸着容量が小さいか、ほとんど吸着しない
ため、これらの成分を含む悪臭ガスを完成に脱臭
することはできなかつた。 本発明者らは、上記欠点に鑑み種々検討した結
果、硫化水素、メルカプタン類、サルフアイド
類、ジサルフアイド類、アンモニア、アミン類を
悪臭成分として含有するガスに塩素または臭素を
添加して活性炭に接触させることによつて効率よ
く脱臭できることを見出した。 すなわち、本発明は、硫化水素、メルカプタン
類、サルフアイド類、ジサルフアイド類、アンモ
ニア、アミン類のうち少なくとも一つを主要悪臭
成分とするガスに塩素および/または臭素を添加
し、ついで活性炭に接触させることを特徴とする
悪臭を除去する方法である。 本発明の方法において、除去の対照となる悪臭
成分としてのメルカプタン類としては、たとえば
メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロ
ピルメルカプタンなどのアルキルメルカプタン、
フエニルメルカプタンなどのアリールメルカプタ
ンがあげられ、サルフアイド類としては、たとえ
ば硫化メチル、硫化エチルなどのアルキルサルフ
アイド、硫化フエニルなどのアリールサルフアイ
ドなどがあげられ、ジサルフアイド類としては、
たとえば二硫化メチル、二硫化エチルなどのアル
キルジサルフアイド、二硫化フエニルなどのアリ
ールジサルフアイドがあげられ、アミン類として
は、たとえばメチルアミン、エチルアミン、プロ
ピルアミンなどのアルキルアミン、ジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、メチルエチルアミンなどの
ジアルキルアミン、トリメチルアミン、ジメチル
エチルアミン、トリエチルアミンなどのトリアル
キルアミン、ヒドラジン、メチレンジアミンなど
のアルキレンジアミン、ヒドロキシルアミン、メ
タノールアミン、エタノールアミンなどのヒドロ
キシアルキルアミン、アニリンなどのアリールア
ミン、ピリジン、ピロール、インドール、スカト
ールなどの含窒素複素環式化合物などがあげられ
る。 本発明の方法において、塩素源としては、液化
塩素ボンベを用いる方法、次亜塩素酸塩、亜塩素
酸塩、塩素酸塩などに塩酸、硫酸、硝酸などの酸
を加える方法など通常の塩素発生方法があげられ
る。特に次亜塩素酸ソーダに硫酸を加える方法が
経済的で好ましい。 また臭素源としては、液体臭素を気化させて用
いる方法、次亜臭素酸塩に塩酸、硫酸、硝酸など
の酸を加える方法、臭化カリなどの臭素化合物に
硝酸、過酸化水素、過硫酸アンモンなどの酸化剤
を加える方法など通常の臭素発生方法があげられ
る。特に次亜臭素酸ソーダに硫酸を加える方法が
経済的で好ましい。 塩素または臭素の必要量は、被処理ガス中に含
まれる硫化水素、メルカプタン類、サルフアイド
類、ジサルフアイド類、アンモニア、アミン類の
量により異なり、これら悪臭成分の1モルに対し
て0.5モル以上である。 被処理ガスに塩素または臭素を添加した後、塩
素、臭素、被処理ガスに対して化学的に安定なガ
ラス製充填剤、磁製充填剤、樹脂製充填剤、天然
粘土鉱物充填剤などの充填層を通すことにより塩
素または臭素と被処理ガスとの接触効率を向上さ
せることができる。 本発明において使用される活性炭は、木炭、コ
ークス、ヤシガラ、樹脂などを原料として、公知
の方法により賦活されたもので、その比表面積が
200〜2000m2/gのものであれば、いかなるもの
でもよい。 被処理ガスを活性炭に接触させる場合、ガスの
空間速度は、50〜50000hr-1、好ましくは200〜
15000hr-1であり、また接触温度は80℃以下、好
ましくは5〜50℃である。この際、ガスと活性炭
との気固接触方式は、移動床、流動床、固定床な
どいずれであつてもよい。 以下に実施例を記載して本発明をより具体的に
説明する。 実施例 1 1.6cmφのガラス製カラムAおよびBそれぞれ
に、ガス入口側に1.5mmφのガラス球4mlとガス
出口側に16〜24meshの活性炭a(BET比表面積
1250m2/g)4mlを充填した。 これらのカラムAおよびBにCH3SH−1.0ppm
を含有する25℃の大気(相対湿度80%)を線流速
40cm/secで流通し、カラムAの入口ガスにはCl2
−5000ppm含有の窒素ガスを10ml/minを混合し
た。 カラムAおよびBにおけるCH3SH除去率の経
時変化は、第1表の通りである。
【表】 実施例 2 実施例1において、CH3SH−1.0ppmの代りに
(CH32S−1.0ppmを含有する25℃の大気を用い
て、実施例1と同じ条件で(CH32S除去テスト
を行ない、結果を第2表に示した。
【表】 実施例 3 実施例1において、CH3SH−1.0ppmの代りに
(CH32S2−1.0ppmを含有する25℃の大気を用い
て、実施例1と同じ条件で(CH32S2除去テスト
を行ない、結果を第3表に示した。
【表】 実施例 4 実施例1において、CH3SH−1.0ppmの代りに
NH3−1.0ppmを含有する25℃の大気を用いて、
実施例1と同じ条件でNH3除去テストを行ない、
結果を第4表に示した。
【表】 実施例 5 実施例1において、CH3SH−1.0ppmの代りに
(CH33N−1.0ppmを含有する25℃の大気を用い
て、実施例1と同じ条件で(CH33N除去テスト
を行ない、結果を第5表に示した。
【表】 実施例 6 1.6cmφのガラス製カラムC、DおよびEの各
カラムのガス入口側に1.5mmφのガラス球4mlと
ガス出口側に16〜24meshの活性炭b(BET比表
面積1300m2/g)20mlを充填した。 これらカラムC〜Eに(CH32S−0.2ppm、
(CH32S2−0.2ppmおよび(CH33N−1.5ppmを
含有する25℃の大気(相対湿度80%)を線流速40
cm/secで流通し、カラムCおよびDの入口ガス
には、それぞれCl2−5000ppm含有の窒素ガス−
10ml/minおよびBr2−1000ppm含有の窒素ガス
−50ml/minを混入した。 カラムC〜Eにおける(CH32S、(CH32S2
よび(CH33Nの除去率の経時変化はそれぞれ第
6表、第7表および第8表に示す通りである。
【表】
【表】
【表】 実施例 7 4cmφの塩ビ製カラムF、GおよびHの各カラ
ムガス入口側にジークライト工業製の4〜6mesh
の天然ゼオライト126mlとガス出口側に4〜
6meshの粒状活性炭C(BET比表面1200m2
g)377mlを充填した。 カラムF−HにH2S−10ppm、CH3SH−
0.8ppm、(CH32S−0.2ppm、(CH32S2
0.1ppm、NH3−1.3ppmおよび(CH33N−
0.2ppmを含有する25℃の大気(相対湿度80%)
を線流速30cm/secで流通し、カラムFおよびG
の入口ガスには、それぞれCl2およびBr2濃度が
4ppmになるようにCl2およびBr2混合ガスを導入
した。 カラムFおよびGの出口ガスは、10日後も無臭
であつたが、Cl2およびBr2を混入しないカラムH
の出口ガスは、約1日後に著しい臭気が感じら
れ、(CH32S、NH3および(CH33Nがリークし
た。 実施例 8 BET比表面積1200m2/gの4〜6メツシユの
粒状活性炭を破砕、篩別し、16〜24メツシユの活
性炭Aを調製した。活性炭Aを内径60mmφのガラ
スカラムに20gを層状に充填し、ポンプガラス混
合びんおよび活性炭充填カラムを介して密閉循環
系のガス流路を形成する系内の乾燥空気を30/
minの流速で循環しつゝガス混合ビンに液体臭素
2gを0.5g/minで注入し、導入臭素を活性炭
に完全に吸着せしめる。活性炭の重量増加より、
臭素吸着量を求め、9.85gBr2/100g活性炭の臭
素添着炭Bを得た。 同様にして液体臭素の代りに塩素ガス320ml
(25℃)を注入し4.34gCl2/100g活性炭の塩素
添着炭Cを得た。 1.6cmφのガラスカラム(1)、(2)に夫々ガス入口
側に1.5mmφのガラス球4mlとガス出口側に活性
炭Aを20ml積層充填した。(CH32S2.0ppmを含
有する25℃の大気(相対湿度80%)4.8/min
と1000ppmのBr2を含有する窒素ガス10ml/min
を混合したガスをカラム(1)に、また同じく
(CH32S2.0ppm含有の25℃の大気(相対湿度80
%)4.8/minとCl21000ppmを含有する窒素ガ
ス10ml/minを混合したガスをカラム(2)に線流速
40cm/secで流通した。別に1.6mmφのガラスカラ
ム(3)、(4)には夫々活性炭B、Cを20ml充填し、そ
れぞれ(CH32S2.0ppm含有の25℃の大気(相対
湿度80%)4.8/minを流通した。 これらのカラムの出口における(CH32S濃度
を各時間毎に測定し(CH32S除去率を求め次表
に示した。又0.002ppm破過までのライフを求め
て示した。
【表】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 メルカプタン類、サルフアイド類、ジサルフ
    アイド類、アンモニア、アミン類のうち少なくと
    も一つを主要悪臭成分とするガスに塩素および/
    または臭素を添加し、ついで活性炭に接触させる
    ことを特徴とする脱臭方法。
JP12543578A 1978-10-11 1978-10-11 Deodorization Granted JPS5551421A (en)

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JP12543578A JPS5551421A (en) 1978-10-11 1978-10-11 Deodorization

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JP12543578A JPS5551421A (en) 1978-10-11 1978-10-11 Deodorization

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JPS5551421A JPS5551421A (en) 1980-04-15
JPS62725B2 true JPS62725B2 (ja) 1987-01-09

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ID=14910011

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0612711U (ja) * 1992-07-15 1994-02-18 日産ディーゼル工業株式会社 トラップの担体の構造

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