JPS6271834A - ウエハ異物検査システム - Google Patents

ウエハ異物検査システム

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Publication number
JPS6271834A
JPS6271834A JP21280785A JP21280785A JPS6271834A JP S6271834 A JPS6271834 A JP S6271834A JP 21280785 A JP21280785 A JP 21280785A JP 21280785 A JP21280785 A JP 21280785A JP S6271834 A JPS6271834 A JP S6271834A
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JP
Japan
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wafer
air
foreign matter
rotating disk
inspection system
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Pending
Application number
JP21280785A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Taniuchi
谷内 俊明
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Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP21280785A priority Critical patent/JPS6271834A/ja
Publication of JPS6271834A publication Critical patent/JPS6271834A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業I1の利用分ツf] この発明は、ウェハの異物検査を行うウエハ異物検査ン
ステムに関し、特に、ウェハの保持に関連した改良に関
する。
[従来の技術コ ウェハ% 物’O査システムにおいては、ウェハをウエ
ハ保持面に負圧吸Xtシて保持した杖態で異物検査を行
うのが一般的である。
そのような従来のウエハ保持A装置では、ウエハ保t.
r面に比較的大きな1つの吸気{−1が設けられ、この
吸気[1により吸気して、ウェハをその中央部分だけで
吸着するような構成となっている。
[M決しようとする問題点] このように、ウェハは中央部分たけで吸着されるため、
ウェハの反りを吸収できなかったり、あるいは、ウェハ
に反りが生じさせ、この反りはウェハが大きくなるほど
顕著であった。
このようなウェハの反りがあると、ウエハ表面の人物を
検出するための光学系の焦点をl J、“、Cたけで調
整して固定したのでは、検合鞘度が低ドするため、検へ
点の移動に従って随時調節するための自動焦点調整機構
が必・易となり、システムが複剥1化するとともに、そ
の焦点調整操作により検査時間が増加するという問題が
あった。
[発明の目的コ この発明は、そのような問題点に鑑みなされたもCであ
り、ウェハのJ父りを防市し、異物検jl iの焦点の
随時調整を不易にしたウェハ人物検出シ7テムを提供す
ることを1.1的とするものである。
[問題点を解決するための丁・段] そのよ6な目的を性成するために、この発明によれば、
ウニ/・保持装置の平坦なウェハ保持面に、その1.に
載置されたウェハの下面をほぼ全面的にf’l圧吸前吸
着ための吸気領域が設けられる。
よりμ体内には、その吸気領域には、複数の吸気11が
分散させられて、没けられ、さらには、その吸’、:t
 l Iに接続し2゛こ1111)が延在せしめられる
[作用] このように、この発明によれば、ウェハは吸気領域でほ
ぼ仝面内に負圧吸着されて、・14川なウェハ保持面に
保持されるため、負j1°吸着力はウェハ全体にほぼ均
等に作用し、ウェハの反りは防IIされる。
[実施例] 以F1この発明の−・実hth例について、図面を参照
し説明する。
第1図は、この発明によるウェハ異物検査システムの概
略構成を示す。この図において、ウェハ保持装置10は
、回転円板12の:(i、坦なに而(ウェハ保持面)に
ウェハ14を位置決めし、負圧吸着にて保持するもので
ある。ウェハは搬送ベルト16により回転円板121へ
搬入され、また回転円板12から搬出される。回転円板
12に搬送ベルト16により搬入されたウェハは、後に
詳述するように、回転円板12の1−而の噴気[1より
斜めl−へ噴出するエアーにより、矢線18の方向へ移
送される。そして、位置決めピン20により係止位置決
めされる。詳細は後述するが、回転円板12には、ウェ
ハサイズ毎に、複数の通孔が同心円状に形成されており
、扱うウェハ14のサイズ(1径)に対応した通孔に、
位置決めビン20が挿通され、回転円板12の1−面よ
り突出せしめられる。
この荀置決めの際、位置決めビン20の弾性によりウェ
ハ14が入線22の方向へはじかれ、ウェハ14が振動
し、停止するまでに時間がかかるという問題が起こりや
すい。そこで、位置決め時に、ブツシャ−24が図示の
ような位置(後述のように、この位置も扱うウェハ14
のサイズによって5°になる)へ移動せしめられ、その
突出部24Aの先端で、ウェハ14の矢線22の方向へ
の移動を阻:[几、ウェハ14の振動を抑制して位1η
決めI+、’i間の短縮を図っている。
プソンヤ−24は、支持部26.28に固定されたガイ
ド、・ヤフト30に摺動自在に支持されていおり、また
スクリューシャフト32と螺合している。したがって、
モータ34によりスクリューシャフト32をIIE回転
させる志、プッシャー24は矢線18の方向へ移動(前
進)し、逆回転させるとブツシャ−24は矢線22の方
向へ移動(後退)する。なお、ガイドシャフト30およ
びスクリューシャフト32は、図tJ<のように傾けら
れているため、プッシャー24は前進するに従いl ’
j+’し、後退するに従い降ドする。位置決め時以外の
期間には、ブツシャ−24は、搬送ベルト16より低い
鎖線24Bの位置に退避せしめられる。
位置決めがなされると、回転円板12の1−而に形成さ
れた吸気D (後述)より、ウェハ14と回転円板1−
而との間のエアーが抜かれ、同時に噴気「ID)らのエ
アーの噴出が市められる。しかして、ウェハ14は、負
圧吸着により回転円板12+−に保持される。その後、
位置決めピン20は引き抜かれ、ま起ブツシャ−24は
後退せしめられる。
異物検査を終わり、ウェハ14を搬出する場合、回転円
板12は第1図の位置から180°回転せしめられ、噴
気1」よりエアーが噴出せしめられ、また吸気[1より
のエアー吸引が停止させられる。
しかして、噴出エアーによりウェハ14はχ線22の方
向へ送られ、搬送ベルト181に141出される。この
時、搬送ベルトi6は搬出用の力量へ回動せしめられて
おり、ウエノ114は搬送ベルト16により搬出される
なお、搬出用の搬送ベルトを別に設けてもよく、その場
合、その搬送ベルトにウエノ114を排出できるような
角度に、回転円板12を回転させ、同様な動作により搬
出できる。
このように、位置決めピン20を回転円板12の通孔よ
り抜去するから、同一の噴気[1からのエアーにより、
ウェハの搬入位置決めと搬出の両方を行うことができる
次に、第2図を参照し、回転円板12について詳細に説
明する。この図に示されるように、回転円板12の内部
には、中心部より放射状に延びたエアー通路40,42
.44.48.48が形成されている。
エアー通路40は吸着用エアーを通すためのものであり
、吸気L」50により回転円板12の1・、而に開II
+せしめられている。それぞれの吸気口50に連通して
、同心円状のi++/i 52が形成されている。
ウェハが回転円板上にセットされている場合% II’
)52の近傍のエアーが吸着1j50へ導かれるため、
吸気1150は実質的に回転円板1−面のほぼ全域に拡
大されたと同様である。換汀すれば、エアー吸引作用の
観点からは、溝52は吸着L150の延長部分とみなし
得るものであり、吸着[150と溝52により、ウェハ
をほぼ全面的に負圧吸着するための広い吸気領域を実現
している。
ただし、後述するように、最外周の1本の溝52は、5
インチウェハの扱い時には使用されず、4インチウェハ
の扱い時には、外周側の2木の溝52は使用されない。
エアー通路42,44.46.48は、ウェハ移送用の
エアーを送るためのものである。エアー通路44,4E
3からは、エアー通路44A、46Aが分岐し、ている
。回転円板12の]−面には、エアー通路44A、44
Bの間に挟まれて凹部12Aが形成されている。この凹
部12Aは、他の部分よりわずかに低くなっており、I
ll記プッシャー24の突出部24Aは、位置決め時に
、この凹部12Aに、ウェハサイズに応じた:11たけ
侵入させられるようになっている。エアー通路42.4
4゜44A、46,4eA、48の近傍ニハ、ソレラと
連通した噴気1iF、4が形成されている。各噴気11
54は、ある角度だけ傾けて形成されており、回転円板
12が図示の角度にあるときに、矢線18の力量にウェ
ハを移送するためのエアーを、斜めL方に噴出するもの
である。
また、回転円板52には、図中左゛1へ分鋼に位置大め
ビンを挿通するための通孔56が同心円状に配列形成さ
れている。また、回転円板12の動的I\ランスをとる
ために、回転円板12の右半分側に、ダミー通孔58か
同心円状に設けられている。
次に第3図も参照し、回転円板12と、その駆動機構な
どについて説明する。
まず、エアー通路410に関連して説明する。このエア
ー通路40の外周側部分は径大部40Aとなっている(
第2図参!!! )。この径大部4OAには、穴埋めロ
ッド60が挿入され、回転円板12の下面のり欠き62
より挿着されたOリング64により脱出をと11市され
、また側方より回転円板12に螺入された固定ねじ66
によって進退および回転できないように固定される。穴
埋めロッド60の側面には、その先端から最外周位置の
吸気1150に臨む位置まで延在する溝68と、外側よ
り2つ11の吸気[150に臨む位置まて廷在した溝6
9とが形成されている。また、穴埋めロッド60の先端
は、外側から3番11の吸気[150より外側に占位す
るような長さとなっている。65はエアーシールである
6インチのウェハを扱う場合、穴埋めロッド60は、i
h8εが1−側に来るように回し固定される。
つまり、第3図の状態となり、外側の2つの吸気]15
0は、いずれも溝68を介してエアー通路40と連通ず
る。この場合、最外周の溝52の内側領域が実質的に吸
気領域として作用する。
5インチのウェハを扱う場合、穴埋めロッド60は、?
A69が1−側になるように回されて固定される。その
結果、外側から2つ1−1の吸気+150はr+W 6
9を介してエフ′−通路4Qと連通ずるか、最外周の通
気1150は穴埋めロッド60の側面でふさがれ、エア
ー通に’s:40から切りJiltされるため、外側か
ら2つ11のI異52の内側領域が吸−1領域として働
く。
4インチのウユハの取り扱い時にlヨ、穴埋めロンドロ
0は、lI′1シロ8.69のいずれも:・、倶しこな
らないような角度で固定されるため、外側の2つの吸気
1150は、両刃ともエアー通路40から遮断される。
その結果、外側から3つ「1の溝52がら内側の領域が
吸気領域となる。
第3図に示すように、回転円板12の中心部より、回転
軸部70がド向きに延設されている。この回転軸部70
の内、隼には、前記エアー通路40と連通した縦方向の
エアー通路72と、前記エアー通路42,44,46.
48と連通した縦方向のエアー通路74が形成されてい
る。各エアー通路72 + 74の先端部72A、74
Aは、同転軸部78の側面に開1」シている。
回転軸部70は、その]−ド端において、ボールベアリ
ング7eを介しで筒体78に回転自在に支承されている
。11体78の内面には、エアー通路72の先端部72
Aに対応して1対のエアーシール80Aが設けられてい
る。船体78の内面には、この1対のJアーシール80
Aに挾まれた空間に臨む開「1(図示せず)が設けられ
ており、この開1−1は図示しないパイプを介して外部
のf〔空ポンプ系に接続される。またn体78の内面に
は、l−側のエアーシール80Aと」−側のボールベア
リング76との間の空間に臨む開1−1(図示せず)が
形成されており、この開Yコも図示しないパイプを介し
て外用<のコンプレッサ系と接続されている。なお、後
者の開[−1を挟むように、エアーシールを設けてもよ
い。
筒体78は、−1−ドにわずかな出離(例えば数++u
++)だけ移動可能なように支持ブロック84に取り付
けられおり、モータ86により図示しない偏心カム機構
などを介して一1ニドに駆動されるようになっている。
モータ86は支持ブロック84に固定されている。支持
ブロック84は、スライドブロック88に固定されてい
る。
90は位置決めピン20が6本植設さnたピンプレート
であり(ピン配列は第1図参!!(() 14インチ、
5インチ、6インチの各ウェハサイズ毎に月1意されて
おいる。このピンプレー:・90は、シフ。
降板92に植設されたボルト94と蝶ナツト96によっ
て、シミ′降板92に着脱容易に締Atされる。
昇降板92はプリング98によってη1.隋せしめられ
るか、このh’降を案内するため;こ、支持ブロック8
4に固′・rされたベアリングio2により摺動1″口
1に支承されたガイドンヤフ+−100が5+’ n 
板92に固着されている。このような↑1」kにおいて
、プリング98により昇降板92を1−yi’させるこ
とにより、それに取り付けられたピンプレート90の位
置決めピン20を、対応する通孔56に一斉に挿入し、
回転円板12の1−而より突出させることができる。位
置決めピン20を作用させない期間には、シ!1降板9
2は第2図に、jζT+:′bさまてド降せしめられ、
位置決めピン20の先端は回転円板12の下面よりさろ
にド方に重布する。
同転軸部70の上端部は、力、プリング104を介して
モータ106の回転軸と結合されている。
このモータ106はスライドブロック88に固定されて
いる。カンプリング104は、モータ106の回転軸と
回転軸部70との相対的回転は、1′1さないが、軸方
向(t−、ド方向)については、わずかな(たとえば数
■程度の)相対的移動を許容するものである。このよう
なカップリング104としては、入力端の回転力を板ば
ね部材を介して出力側へ伝達するような型式のものを用
いることができる。このようなカップリング104によ
り結合するため、モータ10Bなどを4・、−ドさせる
ことなく、回転円板12の高さ位置を調整して、光学系
(後述)の焦J、−1合わせを行うことができる。
スライドブロック88は、その前面および背面が固定べ
−・ス110と滑合せしめられ、固定ベース110に対
して矢線18,22の方向へスライドできるように支持
されている。スライドブロック88は、固定ベースll
o側に回転自在に設けられたスクリューシャフト112
と螺合しており、このスクリューシャフト112を回転
することにより、実線18,22の方向に移動するよう
になっている。114はスクリューシャツ)i12を1
111転駆動するためのモータである。
ここで、異物検出系の構成と人物検出I3’、理につい
て、第1図を参Hj((L説明する。この異物検出系2
00にあっては、S偏光レーザ光振器216から放射さ
れるS偏光レーザビーム・か、ンリンドリカルレンズ2
18によりトドノ」向(Z方向)に絞られてから、ウェ
ハ14の1−而に例えば2°の1((1射角度にて斜め
に!!(1射される。照射点にソ4物があると、S偏光
レーザビームは異物の表面(微小の凹凸がある)により
故乱し、偏光面が乱れるため、Z方向への反射レーザ光
には、P偏光成分が多1ilに含まれる。
反射レーザ光は対物レンズ220により集光され、視野
制限用のスリット222を経出し、S偏光カット用の偏
光板224へ入射せしめられる。
この偏光板224により、反射レーザ光のP偏光成分が
抽出されてホトマルチプライヤ226に人射し、電−(
信シシーに変換される。この光電変換信ジノ・は図示し
ない比較;Sによりある閾値と比較され、その閾値を越
えた場合に、S偏光レーザビームの1(J11射にン4
物かあると判定される。
S偏光レーザビームの11(1射点にパターンか存在す
る場合、2方向への反射光;lがかなり多くなることが
ある。しかし、パターンの表面は微視的には平滑である
ため、Z方向への反射レーザ光に含まれるP偏光成分は
わずかである。したがって、パターンは異物と弁別され
、異物としては検出されない。
照射点に異物もパターンもない場合、R(i耐レーザビ
ームはほぼ全ti1が正反射されるため、ホトマルチプ
ライヤ226の出力借りは1−分低レベルである。した
がって、その信号・のレベル比較により、異物なしと判
定される。
次に、ウェハ保持装置10によるウェハの位置決め吸着
動作、ウェハの搬入搬出を、′)′l!l接物動作と関
連させて説明する。
まず、ウェハの搬入が行われる。この時、回転円板12
がウェハ搬入位置に來るように、七−多114によりス
ライドブロック88が移動せしめられる。回転円板12
は、第2図の角度までモータlO6により回転せしめら
れる。また、プッシャー24は、第1図の鎖線24Bの
イ1)置まで後退せしめられる。その後、シリンダ98
によりピンプレート90が押しl−げられ、位置決めピ
ン20は通孔56を挿通し回転円板12より突出せしめ
られる。なお、ここでは、6インチウェハを扱うものと
すれば、ピンプレート90として、第2図および第3図
に示すようなピン配置のものが昇降板92に取り付けら
れる。位置決めピン20は、芽22図に小すように、最
外周の側孔5eに挿通されるこおになる。
この状態で、搬送ベルト16によりウェハが回転円板1
2 L:に搬入される。なお、ウエノ・の先端が回転円
板12の端を越えた時点で、ウェハ移送用のエアーが噴
気L154より(噴出せしめられている。搬入されたウ
ェハ14は噴出エアーにより実線18の方向へ移送され
るか、これとほぼ同時に、プッシャ−24が第1図の実
線に小すような位置まで前進せしめられる。ここでは6
インチウェハを、固定しているから、プッシャ−24の
突出部24Aの先端が、最外周のダミー通孔58よりや
や外側に占位するように、ブツシャ−24の前進位置が
制御される。つまり、突出部24Aの先端き、回転円板
12の中心からの距離は、3インチ(ウエノ・半径)よ
りわずかに大きくなる。
エアーで移送されたウェハ14は位置決めピン20に衝
突し、位置決めピン20の弾性により実線22の方向に
はね返される。ブツシャ−24がないと、つJ−ハ14
はかなりの距離後退した後、ilFびエアーにより位置
決めピン20側へ運ばれ、+1びはね返される。このよ
うにして、ウェハ14は、実線18.22の方向に振動
し、位置決め完γまでの1.v間が長くなってし2まう
これに対し、このウェハ吸着装置lOでは、ブツシャ−
24が役けられており、その突出部24Aの先端でウェ
ハ14の後退が阻止されるため、ウェハ14の振動が大
幅に抑制される。したがうて、ウェハ14は比較的短時
間に位置決めピン20に係11・、され位置決めされる
。これで、ウェハ14の中心と回転円板12の中心とが
・致する。
このようにして(1’/: 11vi”決tが終rする
と、吸気1150(ここでは6インチウェハであるから
、す八゛。
ての吸気+150)による吸気が開始せしめられ、il
’> 52を介してウェハ14の下面のほぼ全域と回転
円板との間のエアーがυi、出され、ウェハ14の下面
にほぼ全面的に負圧吸着力が作用し、ウェハ14は、反
りを起こすことな(、回転円板■2に1而実に吸?′i
保t、rされる。また、吸着動作の開始とほぼ同時に、
ウェハ移送用エアーの噴出は停車せしめられる。
そして、ブンンヤ−24が後退せしめられ、また位置決
めピン20か通孔56より抜去せしめられる。
次に、+J11!物検出系200におけるS偏光レーザ
ビームがつ1ハ14の外周近傍に照射されるように、モ
ータ114に、上りスライドブロック88がづ(線18
の方向へ移動せしめられる。その後、モータ103が起
動され、回転円板12が高速回転せしめられ、同時に、
モータ114により、スライドブロック88は入線22
の方向に ・定速度で移動せしめられる。かくして、ウ
ェハ′14の1−而は、外周側J:り中心へ向かい、S
偏光レーザビームにより螺旋状に走査される。
そして、各走査点の異物の有無が、ホトマルチプライヤ
226の出力・:3号に基づき判定され、異物検査が実
行される。
ウェハ14の中心まで走査が進み、異物検査を終−rす
るき、モータ114が停車せしめられる。
また、回転円板12が第1図に示す向きがら180°回
転した向きになるようにして、モータ106が停車せし
められる。ただし、排出用の搬送ベルトが別に存在する
場合は、その搬送ベルトに穴埋めLI Jドロ0の:M
<分が対向するような角度で回転円板12は停■1・せ
しめられる。
この状態で、ウェハ移送用のエアーが噴出せしめられ、
そのエアーによりウェハ14は搬送ベルト16(または
搬出用の搬送ベルト)上にtJF出され、その搬送ベル
トにより搬出される。
なお、5インチウェハを扱う場合、外側がら2番11の
通孔56に対応させて位置決めピン20を植゛設したピ
ンプレート90がシ?降板92に取り付iiられる。搬
入位置決め11、冒こ、プンシャー24は、その突11
1部24Aの先端と回転板12の中IL%との間隔が2
.5インチよりやや人きくなるような位置まで1)11
進せしめられる。また、穴埋めロッド60は、5インチ
ウェハに対応した溝69が1−側に東るように回転させ
られ、最外周の吸気L150がふさがれる。したかって
、サイズ外周の吸気「150からエアー漏れが生じるこ
とはなく、それ以外の吸−(1,’+ 50と、その拡
大部分である溝52に、より、ウェハはほぼ全面にわた
ってI’llI′吸着され、反りを生じることがない。
4インチウェハを扱う場合、外側から3番[Iの通孔5
6に対応さゼて位置決めピン20を植設したピンプレー
ト90が昇降板92に取り付けられる。搬入位置決め時
に、プッシャー24は、その突出部24Aの先端と回転
板12の中心との間隔が2インチよりやや大きくなるよ
うな位置まで前進せしめられる。また、穴埋めロッド6
0は、溝es、89のない而が1−側になるように回転
せしめられ、外側から1番[」と2番[1の吸気[15
0がふさがれる。したがって、外側の2つの吸気1−1
50からのエアー漏れは起こらず、それ以外の吸気l二
150と、それに接続した溝52により、ウェハはほぼ
全面的に吸着され、ウェハの反りも生じない。
このようにピンプレート90の交換と穴埋めロッド60
の回転操作を行うたけで、ソ4サイズのウェハを位置決
めして確実に負圧吸着することができ、そのサイズ変更
操作は容易である。
また、位置決めピン20は位置決め時に回転円板に挿入
されるものであり、それ以外の期間には抜去されるから
、共通の噴気口54からの噴出エアーにより、ウェハの
搬入と搬出の両方を行うことができる。また、回転円板
12の向きを調節するだけで、ウェハの搬出力量を任意
に選ぶことができる。
なP:τ、異物検出系200の対物レンズ220とウェ
ハ而との焦点合わせは、モータ86により円筒°体78
とともに回転円板12を1−ドに移動させることにより
l:われる。この時、同転円板i2の回転中JB’l<
70.と7固定されたモータ106の回転軸との1−上
方向の相文・1移動は、カンプリング104により吸収
される。もし、そのようなカップリング!04を介在さ
せない場合、モータ106を含めで1−ド移動させなけ
ればならず、関連機構の複雑化、駆動力の増大などを伴
いやすい。この点で、この実施例の構造は優れている。
以!−1この発明の一実施例について説明したが、この
発明は適宜変形して実施できるものである。
例えば、吸気Ll 50と溝52の配置、形態、個数も
、適宜変型してよい。倒えば、吸気領域に多数の吸気1
丁1を分散配置して溝を省いたり、溝を多数放射状に設
け、中心部の吸気11と接続したり、あるいは、螺旋状
の連続した溝を1本または複数4設けたりしてもよい。
穴埋めロンドロ0に相当ケる挿入部材を、エアー通路4
0の長さ方向に移動させることにより、吸気に150を
選択的に塞ぐようにしてもよい。あるいは、ウェハサイ
ズ毎に挿入部材を用意し、吸Fitべきウェハのサイズ
に応じて挿入部材を交換することもjrl能である。
なお、各吸気[1に弁を設けるか、エアー通路を各吸気
L1毎に独立させ、そのエアー通路に弁を設け、その弁
を選択的に開閉して、前述のような吸気「1の選択遮断
を行うことも可能であろう。ただし、そのような構成は
装置の複雑化を招きやすく、特に前記実施例の回転円板
12のように、而部材を高速回転させるような場合、そ
のような弁を用いる構成の実現は極めて困難である。こ
の点に関し、前記実施例の構成によれば、装置構造を簡
略化でき、回転面部材の場合でも実現容易である。
前記実施例において、サイズ対応のピンプレート90の
交換により、位置決めピン20の挿通位置の切り替えを
社っているが、ビンプレート90に各サイズに対応した
位置決めピンを配設しておき、特定のサイズの位置決め
ピンだけを回転円板の通孔に挿通させるようにしてもよ
い。具体的には、各サイズの通孔56に対応付けて各サ
イズ用のイー、:置決めピン20をピンプレート90に
配設し、前記最大サイズ用の位置決めピンを最も長(し
、中間サイズ用の位置決めピンをその次に長(し、最小
サイズ用の位置決めピンを最も短くしておき、ピンプレ
ート90のl二昇高さをウエノ\サイズに応じて変える
ようにすることができる。
あるいは、ピンプレート90に位置決めピンを移動+1
J能に取り付けておき、サイズに応じて位置決めピンを
移動させてから、44?、させるようにしてもよい。位
置決めピンを該当する通孔56の直ドに位置させるよう
に、ビンプレート90を移動させてもよい。
位置決めピン20および通孔56の個数オヨヒ配列は、
前記実施例のものに限らない。ただし、ウェハにはオリ
フラ(オリエンテーションフラット)と呼ばれる切欠き
部分があるため、位置決めピンを3木以」−1円弧状に
配列すれば、ウニ/Xを任、αの向きで搬入して、位置
決めすることができるという利点かある。
プッシャー24は、回転円板12の1一方より7讐に応
じて降ドさせるようにしてもよい。また、プッシャー2
4の駆動機構も適宜変型してよい。
才た、ウェハが位置決め保持される而部材は前記回転円
板12のような板状のものに限らず、また、それは静1
1−シていてもよい。
[発明の効果] この発明は以東に説明した通りであるから、ウェハをほ
ぼ全面的に吸着し、ウエノ1の反りを防+1して確実に
保持できるため、ウエノ1の1点で異物検出系の焦点合
わせを行うだけで高精度の異物検出が可能となり、複雑
高価な随時焦点調整機構などを設ける7認がな(、装置
を簡略化でき、また随時焦点調整を行った場合よりも検
査時間を短縮できる、などの効果を達成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明によるウェハ異物検査システムの概略
構成を示す概略正面図、第2図は回転円−の構成を示す
概略平面図、第3図は回転円板とその駆動機構などの構
成を小す一部断面概略+E面図である。 10・・・ウェハ保持装置、12・・・回転円板(面部
材)、14・・・つ1ハ、16・・・搬送ベルト、20
・・・位置決めビン、24・・・ブッンヤー、40.4
2゜44.46.46・・・エアー通路、50・・・吸
気[1,52・・・溝、54・・・噴気11.60・・
・穴埋めロッド、68.69・・・溝、70・・・回転
軸i%、80A・・・エアーンール、86,108.1
14・・・モータ、90・・・ピンプレート、92・・
・昇降板、98・・・シリンダ、104・・・カップリ
ング、112・・・スクリューシャフト。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ウェハを保持するウェハ保持装置と、このウェハ
    保持装置に保持されたウェハの表面の異物を光学的に検
    出する異物検出系とを備え、前記ウェハ保持装置は、平
    坦なウェハ保持面を有し、このウェハ保持面には、その
    上に載置されたウェハの下面をほぼ全面的に負圧吸着す
    るための吸気領域が設けられていることを特徴とするウ
    エハ異物検査システム。
  2. (2)前記吸気領域には、複数の吸気口が分散させられ
    て設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のウェハ異物検査システム。
  3. (3)前記吸気領域には、前記吸気口に接続した溝が延
    在せしめられていることを特徴とする特許請求の範囲第
    2項記載のウェハ異物検査システム。
  4. (4)前記溝は同心円状の溝であることを特徴とする特
    許請求の範囲第3項記載のウェハ異物検査システム。
JP21280785A 1985-09-26 1985-09-26 ウエハ異物検査システム Pending JPS6271834A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104297156A (zh) * 2014-09-29 2015-01-21 北京凌云光技术有限责任公司 图像检测设备及吸风展平装置
US20150276616A1 (en) * 2014-03-25 2015-10-01 Kla-Tencor Corporation Variable image field curvature for object inspection

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