JPS6271091A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPS6271091A
JPS6271091A JP60211542A JP21154285A JPS6271091A JP S6271091 A JPS6271091 A JP S6271091A JP 60211542 A JP60211542 A JP 60211542A JP 21154285 A JP21154285 A JP 21154285A JP S6271091 A JPS6271091 A JP S6271091A
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JP
Japan
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bit line
level
line
bit
lines
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JP60211542A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshio Takeshima
竹島 俊夫
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NEC Corp
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NEC Corp
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Publication of JPS6271091A publication Critical patent/JPS6271091A/en
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Abstract

PURPOSE:To offset coupling noise between a selected word line and a bit line by newly forming a MISFET, and when the memory cell is selected, disconnecting a dummy circuit belonging to the same bit line as the selected memory cell from the bit line. CONSTITUTION:Dummy word lines DW0, DW1 for controlling ON/OFF of MOSFETs T0, T1 are formed and the dummy circuit belonging to the same bit line B1 as the selected memory cell is separated from the bit line B1, so that noise with a phase inverted from coupling noise generated at the selection of the word line W1 is previously generated on the bit line B1. If the size of the MOSFET constituting the memory cell is set up equally to that of the MOSFET constituting the dummy circuit and the level amplitude of the word line W1 and the dummy word line DW1 are set up equally to each other, coupling noises generated on the bit line B1 are offset each other, so that a difference signal between the bit lines B0, B1 which is applied to a sense amplifier SA does not include offset due to the coupling noise.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体メモリに関し、特にリファレンスレベ
ルを発生するためのダミー回路を有する半導体メモリに
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor memory, and more particularly to a semiconductor memory having a dummy circuit for generating a reference level.

(従来の技術) 従来の半導体メモリのなかで、特にビット線プリチャー
ジレベルを供給電源電圧の半分程度に設定してメーモリ
セルから二値情報をピッl−線上に読出し、それと同時
に、そのビット線と対をなす他方のビット線上にダミー
回路によりリファレンスレベルを発生させ、これら対を
なすビット線間に生じた微小差信号を、接地レベルまた
は供給電源電圧レベルに増幅するダイナζツク型の半導
体メモリとしては、斉藤他がアイ・ニス・ニス・シー・
シータイジェス) (l5SCCdigest )’t
985年、2521253頁で発表したものがある。
(Prior Art) In a conventional semiconductor memory, binary information is read from a memory cell onto a pin line by setting the bit line precharge level to about half of the supply voltage, and at the same time, the bit line is A dynamic ζ-type semiconductor memory that generates a reference level on the other bit line of the pair using a dummy circuit, and amplifies the minute difference signal generated between the bit lines of the pair to the ground level or supply voltage level. Saito et al.
(l5SCCdigest)'t
There is one published in 1985 with 2,521,253 pages.

従来の、この種半導体メモリの一例の回路図を第3図に
示し、その動作波形図を第4図に示す。
FIG. 3 shows a circuit diagram of an example of a conventional semiconductor memory of this type, and FIG. 4 shows its operating waveform diagram.

第、3図において、センス増幅器SAはビット線BO、
Blのレベルを比較して、この時のレベルがより低い方
のビット線のレベルを接地レベルまで引き下け、一方、
より高い方のビット線のレベルを供給電源電圧VCのレ
ベルまで引き上げる機能を持っているも、のとし、加え
て、MISFETはNチャネル型のMOSFETを用い
た場合を仮定して以下の説明を行う。
In FIG. 3, the sense amplifier SA is connected to the bit line BO,
The level of Bl is compared, and the level of the bit line with the lower level at this time is lowered to the ground level, while,
The following explanation assumes that the MISFET has the function of raising the level of the higher bit line to the level of the supply voltage VC, and that an N-channel MOSFET is used as the MISFET. .

第3図及び第4図において、チップが選択されると、ま
ずリセット信号POを低レベルにしてビット線BO、B
)を分離させる。このときのビット線B O+ B :
のプリチャージレベルvOは供給電源電圧VCのlυヂ
半分近(にバランスしている。
In FIGS. 3 and 4, when a chip is selected, first the reset signal PO is set to low level and the bit lines BO, B
) are separated. Bit line B O+ B at this time:
The precharge level vO is balanced at nearly half of the supply voltage VC.

次に、ワード線ν、’0.Wlの中の一本、例えHwl
が選択されてピッl−@B 1上にメモリセルから二値
情報が読出される。このとき、と、ト線Blと対をなす
他方のピッ)線BO上にはクロック信号POO、POl
に工りセンス増幅器SAへのり7アレンスレベルを発生
させている。
Next, word line ν, '0. One of Wl, for example Hwl
is selected and binary information is read from the memory cell onto the pin l-@B1. At this time, the clock signals POO and POL are on the other pin line BO that is paired with the pin line Bl.
This generates an average level of 7 to the sense amplifier SA.

すなわち、クロック信号POO、POIのレベルをチッ
プ選択前にはビット線プリチャージレベルvOと等しく
シておき、リファレンスレベル発生時には供給電源電圧
VCレベル及び接地レベルに変化させ、リファレンス容
量CRC’= CS / 2、ただ(、CSはセル容f
k)を介した容量結合により最適なリファレンスレベル
を発生させでいる。
That is, the levels of the clock signals POO and POI are set equal to the bit line precharge level vO before chip selection, and when the reference level is generated, they are changed to the supply power voltage VC level and the ground level, and the reference capacitance CRC'=CS/ 2, just (, CS is the cell capacity f
The optimum reference level is generated by capacitive coupling via k).

他の一組のクロック信号pio、pttはビット線Bl
上にリファレンスレベルを発生させるためのもので、ビ
ット線Blにつくメモリキルが選択されるときはビット
線プリチャージレベルVGと等しいレベルをずっと保持
しているった7どし、ビット線BOにつくメモリセルが
選択されたときは、クロック信号POO,POIと同様
なレベル変化によりIIファレンスレベルをビット線B
l上に発生させる。このとき、クロック信号FoC。
Another set of clock signals pio and ptt are bit lines Bl
It is used to generate a reference level on the bit line BO, and when the memory kill connected to the bit line BL is selected, it remains at a level equal to the bit line precharge level VG. When a memory cell is selected, the II reference level is set to bit line B by a level change similar to that of clock signals POO and POI.
Generate on l. At this time, the clock signal FoC.

POIのレベルはvOで変化きでない。The level of POI does not change with vO.

その後、センス信号SEによりセンス増幅器SAを活性
化してピッ)@BO,Bl上に読出された微小差信号を
増幅し、ビット線レベルを接地レベル及び供給電源電圧
VCレベルにする。
Thereafter, the sense amplifier SA is activated by the sense signal SE to amplify the minute difference signals read out on the pins @BO and Bl, thereby setting the bit line level to the ground level and the supply power voltage VC level.

チップが非選択になると、ワード線W1とクロック信号
POO,Potとを初期のレベル、すなわち接地レベル
とvOレベルにし、センス増幅器SAを非活性化する。
When the chip becomes non-selected, the word line W1 and the clock signals POO and Pot are set to initial levels, that is, the ground level and the vO level, and the sense amplifier SA is deactivated.

次に、リセット信号POを高レベルにしてビット線BO
、Blを短絡し、ビット)iiBO,Blのレベルをバ
ランスさせる。このレベルがビット線BO,Elのプリ
チャージレベルVOとなり、バランス直前のビット線B
O。
Next, the reset signal PO is set to high level and the bit line BO
, Bl are shorted and the levels of bit) iiBO, Bl are balanced. This level becomes the precharge level VO of the bit lines BO and El, and the bit line B immediately before the balance
O.

B1のレベルは接地し゛ペルと供給電源電圧VCレベル
であるのでVO=VC,′2となることがわかる。
Since the level of B1 is at the level of the ground voltage and the supply voltage VC, it can be seen that VO=VC,'2.

(発明が解決しよりとする面題点) 上述した従来の半導体メモリは、被選択メモリセルのト
ランスファゲートを介して選択ワード線からビット線対
の片側にのみカップリングノイズが発生し、メ王リセル
からの読出し信号に正のオフセットとして加わるために
見掛は上メモリでルの低レベル情報読出し時のセンス増
幅器動作マージンが劣化して狭くなるという欠点がある
。さらに、センス増幅器活性時にビット線対につく容量
がセル容量C8の分だけアンバランスとなりセンス増幅
器の動作マージンが狭くなるという欠点もをJる。
(Problems to be Solved by the Invention) In the conventional semiconductor memory described above, coupling noise is generated only on one side of the bit line pair from the selected word line via the transfer gate of the selected memory cell, and Since it is added as a positive offset to the read signal from the recell, there is a drawback that the operating margin of the sense amplifier when reading low level information from the upper memory is apparently degraded and narrowed. Furthermore, when the sense amplifier is activated, the capacitance attached to the bit line pair becomes unbalanced by the cell capacitance C8, and the operating margin of the sense amplifier becomes narrow.

本発明の目的は、メモリセルから読出された信号をセン
ス増幅器で増幅する時にビット線対で容量のアンバラン
スが発生せず、さらにこのビット線上に生じるカップリ
ングノイズを消滅せしめ得る半導体メモリを提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory in which capacitance imbalance does not occur between a pair of bit lines when a signal read from a memory cell is amplified by a sense amplifier, and coupling noise generated on the bit lines can be eliminated. It's about doing.

(問題点を解決するための手段) 本発明の半導体メモリは、行をなすビット線と、列をな
すワード線と、該ワード線により選択されて前記ビット
線との間で情報の出し入れを行う行2よび列状に配置さ
れたメモリセルと、前記ビット線のうち一対が入出力信
号線となるセンス増幅器と、 f;i+記ビット線に一
回路ずつ設けられチップアクセスの待機中は前記ビット
線のプリチャージレベルと同電位を保ちチップアクセス
時に第1及び第2の制御信号に応じてそれぞれ接地11
位及び供給電#、電位にそれぞれ変化する第1及び第2
の信号線と、該第1及び第2の信号線の間に直列接続さ
れた第1及び第2の容量と、該第1及び第2の容量の共
通接続点にソース電極が前記ビット線にビレ1ノ電jが
接続されチップアクセスの待機中はオ〉状態を保つMI
SPETと、該MISFETのゲート電極に接続され前
記Δ4ISFETのオ/・オフ制御を行うだめのダミー
ワード線とからなるダミー回路とを含んで構成される。
(Means for Solving the Problems) A semiconductor memory of the present invention has bit lines forming rows, word lines forming columns, and information is transferred between and from the bit lines selected by the word lines. memory cells arranged in rows and columns, a sense amplifier with one pair of the bit lines serving as input/output signal lines, and one circuit provided for each bit line f; It maintains the same potential as the precharge level of the line and connects to ground 11 according to the first and second control signals during chip access.
The first and second
a signal line, first and second capacitors connected in series between the first and second signal lines, and a source electrode connected to the bit line at a common connection point of the first and second capacitors. The MI remains in the O state while the Billet 1 electric wire is connected and waiting for chip access.
The dummy circuit includes a SPET and a dummy word line connected to the gate electrode of the MISFET and used to control on/off of the Δ4ISFET.

(作用) 2個のリファレンス容量CB、(=C8/2) とビッ
ト線との接続を制御するだめのMISFETを新たに設
け、メモリセルが選択されたとき、この被選択メモリセ
ルと同一のビット線に属するタベー回路とビット線との
接続を断つことによって、選択ワード線からビット線へ
のカップリングツ1ズを打消し、6らに、センス増幅器
動作時のビット線対全構成するビット線間の容量のアン
バランスをなくすことで、センス増幅器の動作マージじ
/の劣化を防止している。
(Function) A new MISFET is provided to control the connection between the two reference capacitors CB, (=C8/2) and the bit line, and when a memory cell is selected, the same bit as this selected memory cell is connected. By cutting off the connection between the Tabe circuit belonging to the bit line and the bit line, the coupling from the selected word line to the bit line is canceled, and furthermore, the coupling between the selected word line and the bit line is canceled, and the bit line pair constituting all the bit lines during sense amplifier operation is By eliminating the capacitance imbalance between the two, deterioration of the sense amplifier's operational merge is prevented.

(実施例) 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
(Example) Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1茗は大発明の・一実施例の回路図、第2必は第1図
に示す半導体メモリの動作波形図である。
The first part is a circuit diagram of one embodiment of the great invention, and the second part is an operation waveform diagram of the semiconductor memory shown in FIG.

第1図に示す半導体メモリと前述した第3図に示す従来
の半導体メモリとの相異点は、MISFETTQ、Tl
をビット1llBO,Blとリファレンス容量0880
間に挿入し、MOSFET  TO,Tlのオン・オフ
を制御するためのダミーワード線DWO,DWIを設け
、ダミー回路駆動用のクロック信号をPOO,POIの
2種類に減じたことである。
The differences between the semiconductor memory shown in FIG. 1 and the conventional semiconductor memory shown in FIG.
The bit 1llBO, Bl and the reference capacitance 0880
Dummy word lines DWO and DWI are inserted between the two to control on/off of MOSFETs TO and Tl, and the number of clock signals for driving the dummy circuit is reduced to two types: POO and POI.

第1図及び第2図において、り七ッ卜(i号POとタミ
ーワード@DWO、DWIを高レベルに保ち、ダミー回
路を構成するすべてのリファレンス容量CRをビット線
HO、Blと同じレベルvOにプリチャージする。次に
、リセット信号I) Qを低レベルにしてビット線Bo
 、BLを分2「ダミー ワ−)”線DW1t−低L’
ベルしt、てMO8f’ETT1を非導通とし、被選択
メモリセルの属するビット線B1から2個の1.1ファ
レンス容ftc:H・f:切離す。
In Fig. 1 and Fig. 2, the input voltage (i) PO and tummy word @DWO, DWI are kept at high level, and all the reference capacitors CR constituting the dummy circuit are set to the same level vO as the bit lines HO and Bl. Next, reset signal I)Q is set to low level and bit line Bo is precharged.
, BL to minute 2 "Dummy War)" line DW1t-Low L'
The MO8f'ETT1 is made non-conductive and the two 1.1 reference capacitors ftc:H.f: are disconnected from the bit line B1 to which the selected memory cell belongs.

被選択ワード線W1を高レベルにしてビット線りl上に
メモリセルから二値情報を読出すと同時に、クロツタ信
号POO、Potをそれぞれ低レベルと高レベルにし、
ビット線BO上にダミー回路のリファレンス容量CBを
介して、リファレンスレベルを発生させる。
At the same time, the selected word line W1 is set to a high level and binary information is read from the memory cell on the bit line 1, the clock signals POO and Pot are set to a low level and a high level, respectively.
A reference level is generated on the bit line BO via a reference capacitor CB of a dummy circuit.

センス増幅器8Aを活性化してビット線BO。Activate sense amplifier 8A to connect bit line BO.

Bl上の似小差信号を増幅した後、先に低レベルにした
ダミーワード線DW1を亮レベルにしてMOSFET 
Tie導通状態とし、ビット線B1にダミー回路内のり
ファレ:/ス容量C几を接続する。
After amplifying the small difference signal on Bl, the dummy word line DW1, which was previously set to low level, is set to a bright level and the MOSFET is
Tie is made conductive, and the transfer capacitor C in the dummy circuit is connected to the bit line B1.

以稜の動作は、前述した従来例と同様に行われる。The subsequent operations are performed in the same manner as in the conventional example described above.

このように、本実施例においてかよ、被選択メモリセル
と同一のビット線B1に属するダ(°−回路をビット線
B1から分離することで、ワード線TV1が選択される
ときに発生するカップリングノイズと逆相のノイズをビ
ット線りl上に前もって発生させておく。ここで、メモ
リセルとダミー回路を構成するMOSFETの大きさを
等1.<+、、さらにワード′7aw1とダミーワード
@ D W ]のレベル振幅を吟しくすれば、ビット線
りl上に発生するカップリングノイズは互いに打消し合
うように働き、結果として、センス増幅i8Aに加わる
ビット線BO、B1間の差信号には、従来例のようなカ
ップリングノイズによるオフセットは含まれなくなる。
As described above, in this embodiment, by separating the circuit belonging to the same bit line B1 as the selected memory cell from the bit line B1, the coupling that occurs when the word line TV1 is selected can be reduced. A noise having a phase opposite to that of the noise is generated on the bit line l in advance.Here, the sizes of the MOSFETs constituting the memory cell and the dummy circuit are set to 1.<+, and the word '7aw1 and the dummy word @ If the level amplitude of D W ] is carefully set, the coupling noise generated on the bit line L will work to cancel each other out, and as a result, the difference signal between the bit lines BO and B1 applied to the sense amplifier i8A will be does not include the offset due to coupling noise as in the conventional example.

さらに、従来例と同様に、ダミー回路日のリファレンス
容量CF&の大きさをセル容量C8の17′2にすると
一、2CR=C8となり、1個のダ(−回路内の全容量
(2CR〕がメモリセル内のセル容量C8と等しくなる
ためにビット線Bo 、BL間の容量のアンバランスが
なくなる。従って、センス増幅器SAの動作マージンが
大きくなると共に、従来のセンス増幅器に比べてより小
さなメモリセルからの読出L7信号でも正型に増幅する
ことが可能になる。
Furthermore, as in the conventional example, if the size of the reference capacitance CF& in the dummy circuit is set to 17'2 of the cell capacitance C8, 1.2CR=C8, and 1 da(-total capacitance in the circuit (2CR) Since the capacitance becomes equal to the cell capacitance C8 in the memory cell, there is no unbalance in the capacitance between the bit lines Bo and BL.Therefore, the operating margin of the sense amplifier SA is increased and the memory cell is smaller than that of a conventional sense amplifier. It becomes possible to amplify the read L7 signal to the positive form.

なお、以上の説明は便宜上、すべてNチャノ・ル型のM
OSFETを使用した例により行ったが、本発BAはP
チャネル型のMOSFETでも、また他のどのような絶
縁ゲート型ト2ンジスタでも本質的に同様に適用し得る
ものである。
Please note that the above explanation is for convenience, and all of the explanations are for M of N channel type.
This was done using an example using OSFET, but the BA of this invention is P
A channel type MOSFET or any other insulated gate type transistor can be applied in essentially the same way.

(発明の効果) 以上説明したように本発明の半導体メモリは。(Effect of the invention) As explained above, the semiconductor memory of the present invention is.

被選択メモリと同一のピッ:・線に属するダミー回路を
そのビット線から分離し、かつリファレンス容量の大き
さをセル容量の大きさと等しくすることに↓す、ワード
線からビット線へのカップリングノイズの影響によるセ
ンス増幅器動作マージンの劣化をなくシ、シかも対をな
すビット線の容量アンバラスがまっ/ζくなくなり、セ
ンス増幅器の動作マージンが大きくなるという効果かあ
る。
Coupling from the word line to the bit line by separating the dummy circuit belonging to the same pin line as the selected memory from the bit line and making the reference capacitance equal to the cell capacitance. In addition to eliminating deterioration of the sense amplifier operating margin due to the influence of noise, the unbalanced capacitance of the paired bit lines is completely eliminated, and the operating margin of the sense amplifier is increased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例の回路図、第2図は第1図に
示す半導体メモリの動作波形−1第3図は従来の半導体
メモリの一例の回路図、第4Ivllは第3図に示す半
導体メモリの動作波形図である。 EO、Bi・・−・・ビット線、CB・・・・・・リフ
ァレンス容量、C8・・・・・・セル8k、DWO,L
’WI・・・・・・ダ化−クード線、PO・・・・・・
リセット信号、POに。 POI・・・・・・クロック信号、SA・・・・・・セ
ンス増幅器、vo・・・・・・プリチャージレベル、w
□ 、Wl・・・・・・ワード線。 代理人 弁理士  内 原   晋 1−、ユ°−2゜ 阜 1 回 Q BO,Bt:  ビ・、Y欄に DWOJLWj:グン
ー子F濃くCB:ピッ隈於)1CR:リフ7−シシス官
1ン C5;でル喝づ2  poo、pot:クロラフ
告号WO,Wf:ワードφギ、 条2 図 ゛)D犀! 秦3 図 EO 栴4 Σ
FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an operating waveform of the semiconductor memory shown in FIG. 1, FIG. 3 is a circuit diagram of an example of a conventional semiconductor memory, and FIG. FIG. 3 is an operation waveform diagram of the semiconductor memory shown in FIG. EO, Bi...Bit line, CB...Reference capacitance, C8...Cell 8k, DWO, L
'WI...Daification-Kude line, PO...
Reset signal to PO. POI...Clock signal, SA...Sense amplifier, vo...Precharge level, w
□, Wl...Word line. Agent Patent Attorney Susumu Uchihara 1-, Yu°-2° 1st Q BO, Bt: Bi, Y column DWOJLWj: Gunko F Dark CB: Pi Kumao) 1CR: Riff 7-Sisis Kan 1n C5; Deru 2 poo, pot: Kuroraf kōgo WO, Wf: Word φgi, Article 2 Figure ゛) D Sai! Qin 3 Figure EO Sen 4 Σ

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 行をなすビット線と、列をなすワード線と、該ワード線
により選択されて前記ビット線との間で情報の出し入れ
を行う行および列状に配置されたメモリセルと、前記ビ
ット線のうち一対が入出力信号線となるセンス増幅器と
、前記ビット線に一回路ずつ設けられチップアクセスの
待機中は前記ビット線のプリチャージレベルと同電位を
保ちチップアクセス時に第1及び第2の制御信号に応じ
てそれぞれ接地電位及び供給電源電位にそれぞれ変化す
る第1及び第2の信号線と、該第1及び第2の信号線の
間に直列接続された第1及び第2の容量と、該第1及び
第2の容量の共通接続点にソース電極が前記ビット線に
ドレイン電極が接続されチップアクセスの待機中はオン
状態を保つMISFETと、該MISFETのゲート電
極に接続され前記MISFETのオン・オフ制御を行う
ためのダミーワード線とからなるダミー回路とを含むこ
とを特徴とする半導体メモリ。
bit lines forming rows, word lines forming columns, memory cells arranged in rows and columns that are selected by the word lines and transfer information to/from the bit lines; A pair of sense amplifiers are provided as input/output signal lines, and one circuit is provided for each bit line, which maintains the same potential as the precharge level of the bit line while waiting for chip access and outputs first and second control signals during chip access. first and second signal lines that change to a ground potential and a supply power supply potential, respectively, according to the first and second signal lines; first and second capacitors connected in series between the first and second signal lines; A MISFET whose source electrode is connected to the common connection point of the first and second capacitors and whose drain electrode is connected to the bit line and remains on while waiting for chip access; A semiconductor memory comprising: a dummy circuit consisting of a dummy word line for performing off control.
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