JPS6266Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6266Y2
JPS6266Y2 JP6742179U JP6742179U JPS6266Y2 JP S6266 Y2 JPS6266 Y2 JP S6266Y2 JP 6742179 U JP6742179 U JP 6742179U JP 6742179 U JP6742179 U JP 6742179U JP S6266 Y2 JPS6266 Y2 JP S6266Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
levitation
amount
magnetic head
slider
capacitance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP6742179U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS55169634U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP6742179U priority Critical patent/JPS6266Y2/ja
Publication of JPS55169634U publication Critical patent/JPS55169634U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6266Y2 publication Critical patent/JPS6266Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は磁気デイスク装置等に使用される微小
浮揚量の浮揚型磁気ヘツドにおいて、その微小浮
揚量の動的な変動を電気的信号として取り出すた
めの構造を付加した磁気ヘツドに関するものであ
り、さらに詳しく述べると、静電容量法による浮
揚量の測定が可能な構造を有する浮揚量測定用磁
気ヘツドの改良に関するものである。
磁気デイスク装置においては、記録媒体と磁気
ヘツドとの微小な間隙を安定に保つため、記録媒
体である磁気デイスクの回転に伴なつてその表面
に発生する気体膜境界層の動圧を利用して磁気デ
イスク面上に微小な浮揚量で対向させた浮揚型磁
気ヘツドが使用されている。
浮揚型磁気ヘツドにおいては、この浮揚量がそ
の電磁特性に支配的な影響力をもち、磁気デイス
ク装置の性能向上のためには浮揚量の微小化と浮
揚量の動的変動の低減化、浮揚姿勢の安定化が必
要とされる。これらの要請を満たすためには浮揚
量の動的な微小変動を直接電気信号として取り出
す測定手段が必要となり、これには磁気ヘツドに
形成した電極面と磁気デイスク面との静電容量を
測定して浮揚量を求める静電容量法が適してい
る。
次に従来の浮揚量測定用の磁気ヘツドについて
図を参照して説明する。
第1図は従来の浮揚量測定用磁気ヘツドの斜視
図であり、第2図は磁気デイスクとともに第1図
の磁気ヘツドの浮揚状態を示す断面図である。図
において101は非導電性材料からなるスライダ
で、102a,b,cがスライダ浮揚面であり1
03は4個の金属膜で、この表面が電極面104
を形成している。
更にこの電極面104及びスライダ浮揚面10
2a,b,cの上にはガラスあるいは石英などの
硬質の非導電性材料の保護膜105が被せてあ
る。保護膜の厚さはミクロンオーダで、保護膜表
面106は鏡面研摩されている。また各電極面1
04は導電性薄膜107を介してスライダ背面の
4本のリード線(図示せず)にそれぞれ独立に導
通結合されている。
この磁気ヘツドを用いて浮揚量の測定を行なう
場合は、第2図に示すようにスライダ101を磁
気デイスク表面111に浮揚させ、スライダの電
極面104と磁気デイスク内の導電体112の表
面113との間の静電容量を測定すればよい。
すなわち4個の電極面104の静電容量をそれ
ぞれ独立に測定すれば、各電極面104と磁気デ
イスク導電体表面113との間隙δが独立に求ま
り、従つて各電極部分における浮揚量h(保護膜
表面106と磁気デイスク表面111の間隙)が
独立に求まり、磁気ヘツドの浮揚量分布が求ま
る。
ところでこの場合、各電極面103における浮
揚量hと静電容量cとの関係は保護膜105の厚
さ、磁気デイスク表面111と導電体表面113
の距離、あるいはまたリード線の浮遊容量などの
影響を強く受けるため、各磁気ヘツドの各電極及
び各磁気デイスク毎に、hとcの関係を較正する
必要がある。
較正に際してはhの測定が必要となるが、現在
の磁気ヘツドの浮揚量は1μm以下であるので、
その正確な測定は干渉色によらなければならな
い。次にその較正方法を図に従つて説明する。
第3図は浮揚量測定用磁気ヘツドの較正方法を
示す断面図で、磁気デイスクの替わりにガラス円
板121を周速度Uで回転させて、浮揚量測定用
磁気ヘツドを浮揚させている。この状態でガラス
円板を介して磁気ヘツド浮揚量を観察すれば、ガ
ラス円板表面122と保護膜表面106との間の
光の干渉により、動的な変動成分が平均化された
浮揚量に相当する干渉縞が生じる。このとき保護
膜表面106とスライダ浮揚面102a,102
bとの間でも光の干渉が起り干渉縞が生じるた
め、2種の干渉縞が混じり合つて観察されること
になり、干渉色による浮揚量の測定ができないこ
とになる。
従つて従来の浮揚量測定用の磁気ヘツドの静電
容量cと浮揚量hの較正は浮揚量が磁気デイスク
の周速Uに依存することを利用して、次のように
行なつていた。すなわちまず初めに電極も保護膜
もない通常の磁気ヘツドを浮揚量測定用磁気ヘツ
ドと同一寸法に製作し、この磁気ヘツドの浮揚量
をガラス円板との干渉色を利用して測定し、浮揚
量hと周速Uの関係を求める。次に浮揚量測定用
の磁気ヘツドと磁気デイスクを用いて磁気デイス
ク周速Uと静電容量cの関係を求める。この後浮
揚量測定用磁気ヘツドが通常の磁気ヘツドと同じ
浮揚特性をもつと仮定して、周速Uをパラメータ
として浮揚量hと静電容量cの関係を求めてい
た。
このように従来の浮揚量測定用の磁気ヘツドで
は、浮揚量hと静電容量cの関係を別の磁気ヘツ
ドを用いて間接的に測定しなければならなかつ
た。このため浮揚量hと静電容量cの較正が不正
確となる欠点を有していた。
本考案はこのような欠点を除去するため、保護
膜の材質をスライダの材質と同じ屈折率の硬質の
非導電性材質にしたもので、以下図面に従つて詳
細に説明する。
第4図は本考案の実施例を示す斜視図であり、
第5図はガラス円板とともに示す第4図の実施例
の断面図である。図において201は非導電性材
料からなるスライダで、202a,b,cがスラ
イダ浮揚面である。203は4個の薄い金属膜
で、この表面が電極面204を形成している。更
に電極面204及びスライダ浮揚面202a,
b,cの上にはスライダの材質と同材質あるいは
同じ屈折率を有するガラスなどの硬質の非導電性
材料からなる保護膜205がスパツタなどの手法
により被せてあり、保護膜表面206は鏡面研摩
されている。
更にこの実施例においては、導電性材料の薄膜
207をスライダ側面208からスライダ背面2
09にかけて引き回し、この薄膜の一端が電極を
形成している金属膜203に他の一端がスライダ
背面でリード線(図示せず)に導通結合される構
造を有している。
このように本施例では、スライダの材質の屈折
率と保護膜の屈折率が同じであるため、スライダ
浮揚面における光の反射がなく、従つて保護膜表
面206とスライダ浮揚面202a,b,cの間
で従来のような光の干渉は生じない。このため本
実施例をガラス円板221にて浮揚させた場合、
ガラス円板を通して観察すればガラス円板表面2
22との光の干渉により、保護膜表面206上に
浮揚量hに相当する干渉色のみが観察され、動的
な変動成分が平均化された静的な浮揚量を測定す
ることができる。
本実施例に用いて浮揚特性の測定を行なうに
は、従来の場合と同様にスライダ201を磁気デ
イスク表面(図示せず)上に浮揚させ、スライダ
の電極面203と磁気デイスク中の導電体の表面
(図示せず)との間の静電容量を測定すればよ
い。この場合4個の電極の静電容量をそれぞれ測
定すればあらかじめ較正してある静電容量と浮揚
量の関係を用いて各電極面の部分の保護膜表面と
磁気デイスク表面との間隙すなわち浮揚量がその
動的な変動成分も含めそれぞれ独立に求まる。
次に浮揚量と静電容量の較正を行なう場合には
まず最初に第5図に示すように、本実施例をガラ
ス円板にて浮揚させ、ガラス円板表面222と保
護膜表面206との光の干渉により生じる干渉色
から静的な浮揚量を測定し、ガラス円板のヘツド
装着トラツクでの周速Uと本実施例の浮揚量hの
関係を求める。次に磁気デイスクを用いて周速U
と本実施例の静電容量cの時間平均の関係を求め
れば、周速Uをパラメータにして各磁気ヘツドの
各電極における静電容量cと浮揚量hの較正を行
なうことができる。
以上説明したように、本考案によれば同一磁気
ヘツドで浮揚量hと静電容量cの較正を行なうこ
とができ、従来なされていた2種の磁気ヘツドを
用いて較正を行なう場合に比べ、はるかに正確な
較正ができる。従つて従来に比べ、より正確な浮
揚量の動的変動の測定ができる。このため本考案
を実施した磁気ヘツドは単に浮揚動特性の実験に
使われるだけでなく、磁気デイスクあるいは磁気
デイスク装置の検査に使用することができる。
なお、本考案は実施例に示した以外の形状のス
ライダにおいても適用でき、電極面の数も任意で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の浮揚量測定用磁気ヘツドを示す
斜視図、第2図は磁気デイスクとともに示す第1
図の磁気ヘツドの断面図、第3図はガラス円板と
ともに示す第1図の磁気ヘツドの断面図、第4図
は本考案の一実施例を示す斜視図、第5図はガラ
ス円板とともに示す第4図の実施例の断面図であ
る。 図において、201はスライダ、202a,
b,cはスライダ浮揚面、203は金属膜、20
4は電極面、205は保護膜、207は導電性薄
膜、221はガラス円板である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電気的不良導体材料で形成されたスライダの浮
    揚面の一部に電極面が設けられており、該電極面
    を含むすべての浮揚面がスライダの材質と同じ屈
    折率の硬質の非導電性材料からなる保護膜で被覆
    された構造を特徴とする浮揚型磁気ヘツド。
JP6742179U 1979-05-18 1979-05-18 Expired JPS6266Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6742179U JPS6266Y2 (ja) 1979-05-18 1979-05-18

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6742179U JPS6266Y2 (ja) 1979-05-18 1979-05-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS55169634U JPS55169634U (ja) 1980-12-05
JPS6266Y2 true JPS6266Y2 (ja) 1987-01-06

Family

ID=29301337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6742179U Expired JPS6266Y2 (ja) 1979-05-18 1979-05-18

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6266Y2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS55169634U (ja) 1980-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0619814B2 (ja) 磁気トランスデユーサのラツピング制御装置
KR100478630B1 (ko) 기록 헤드용 래핑 센서
US6046596A (en) Capacitance probe for magnetic recording head transducer to disc surface spacing measurement
EP0196384A2 (en) Calibration standard for flying height testers and method of manufacturing same
JPS6114572B2 (ja)
JPS6266Y2 (ja)
JPS6267Y2 (ja)
JPS5816580A (ja) 磁気抵抗効果素子のバイアス磁界印加方法
US5808736A (en) Thin film flying height calibration disk for calibrating flying height testers
JPS6161193B2 (ja)
JPH10269530A (ja) 磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法
JPH067408B2 (ja) ディスク駆動サーボフライヤ
JPS6292219A (ja) 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘツド
JP3089886B2 (ja) 磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法
Sonnenfeld Fly-height, pitch, and crown measurements of hard-disk sliders by capacitance stripe
JPH04161874A (ja) 磁気抵抗効果ヘッド
JPH0240573Y2 (ja)
JPS6161192B2 (ja)
JP3296442B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの放電防止方法及び薄膜磁気ヘッド
KR100285916B1 (ko) 하드디스크 드라이브용 슬라이더 및 이를 이용한 부상높이 결정방법
JPH01267813A (ja) 磁気ヘッド
JPH0546945A (ja) 薄膜磁気ヘツドの研磨方法
JPS60254404A (ja) 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JPH0444323B2 (ja)
JPS6260118A (ja) 磁気デイスク装置