JPS6261670A - スピナのはねかえり防止装置 - Google Patents
スピナのはねかえり防止装置Info
- Publication number
- JPS6261670A JPS6261670A JP19978685A JP19978685A JPS6261670A JP S6261670 A JPS6261670 A JP S6261670A JP 19978685 A JP19978685 A JP 19978685A JP 19978685 A JP19978685 A JP 19978685A JP S6261670 A JPS6261670 A JP S6261670A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotated
- spinner
- matter
- coating agent
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、情報機器分野の大容量情報記録媒体として使
用される光ディスクの製造プロセスにおけるレジスト塗
布装置、接着装置等におけるスピナのはねかえり防止装
置に関するものである。
用される光ディスクの製造プロセスにおけるレジスト塗
布装置、接着装置等におけるスピナのはねかえり防止装
置に関するものである。
従来の技術
従来のスピナのはねかえり防止装置は第２図に示す如く
、被回転物体１４を囲む外周部に全網製の仕切板１３を
配設したものであった。第２図中、１２は外枠、１６は
回転台、１６は回転軸である。
、被回転物体１４を囲む外周部に全網製の仕切板１３を
配設したものであった。第２図中、１２は外枠、１６は
回転台、１６は回転軸である。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記装置においては、被回転物体表面に塗
られたレジスト、接着剤等の塗布剤はスピナが高速で回
転することにより発生する遠心力のために外周方向へと
広がってゆき、被回転物体外周端面から粒状になって周
囲に飛散する。このとき飛散した塗布剤の粒子がスピナ
内壁に衝突することによりはねかえシが発生し、被回転
物体表面を汚す原因となるのである。
られたレジスト、接着剤等の塗布剤はスピナが高速で回
転することにより発生する遠心力のために外周方向へと
広がってゆき、被回転物体外周端面から粒状になって周
囲に飛散する。このとき飛散した塗布剤の粒子がスピナ
内壁に衝突することによりはねかえシが発生し、被回転
物体表面を汚す原因となるのである。
そして、繰り返し使用することにより、または粘度の高
い塗布剤を用いることにより全網製の仕切板１３の網目
が簡単に詰ってしまいはねかえりを防止するという本来
の性能が低下してしまうばかりか、詰った塗布剤に飛散
してきた塗布剤粒子が衝突し二次的な新たなはねかえり
を発生するといった問題点を有していた。このため、仕
切り板１３を頻繁に洗浄することが必要とされた。
い塗布剤を用いることにより全網製の仕切板１３の網目
が簡単に詰ってしまいはねかえりを防止するという本来
の性能が低下してしまうばかりか、詰った塗布剤に飛散
してきた塗布剤粒子が衝突し二次的な新たなはねかえり
を発生するといった問題点を有していた。このため、仕
切り板１３を頻繁に洗浄することが必要とされた。
そこで、本発明は簡単な構造ではねかえりを防止でき、
かつ、保守管理の容易なスピナのはねかえり防止装置を
提供するものである。
かつ、保守管理の容易なスピナのはねかえり防止装置を
提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決する本発明のスピナのはねかえり防止
装置は、スピナに取り付けられた円盤状の被回転物体と
対向させた位置に一定の間隙を持たせ、中心部に穴のあ
いた平板状の回転円盤を設け、前記回転円盤を前記被回
転物体と同一軸心にて同一方向に回転させるようにした
ものである。
装置は、スピナに取り付けられた円盤状の被回転物体と
対向させた位置に一定の間隙を持たせ、中心部に穴のあ
いた平板状の回転円盤を設け、前記回転円盤を前記被回
転物体と同一軸心にて同一方向に回転させるようにした
ものである。
作用
本発明は、前記被回転物体と対向する位置に一定の間隙
をもたせて、中心部に穴のあいた平板状の回転円盤を設
け、これを前記被回転物体と同一軸心、同一方向に回転
させることにより、前記回転円板と前記被回転物体との
間隙に中心部から外周部へ流れる高速空気流を得ること
ができる。そして、この空気流の流れによって、飛散し
た塗布剤粒子を外周方向へと流し出し、装置内に設けら
れた塗布剤の溜溝へ送り込むことによりはねかえりが防
止されるのである。また、仮りに流出途中の塗布剤粒子
が装置の内壁に衝突し、内周方向に向ってはねかえった
としても、常に被回転物体の中心部から外周方向に向け
て高速の空気流が流れているため、この空気流に押し戻
されてしまう。
をもたせて、中心部に穴のあいた平板状の回転円盤を設
け、これを前記被回転物体と同一軸心、同一方向に回転
させることにより、前記回転円板と前記被回転物体との
間隙に中心部から外周部へ流れる高速空気流を得ること
ができる。そして、この空気流の流れによって、飛散し
た塗布剤粒子を外周方向へと流し出し、装置内に設けら
れた塗布剤の溜溝へ送り込むことによりはねかえりが防
止されるのである。また、仮りに流出途中の塗布剤粒子
が装置の内壁に衝突し、内周方向に向ってはねかえった
としても、常に被回転物体の中心部から外周方向に向け
て高速の空気流が流れているため、この空気流に押し戻
されてしまう。
よってはねかえりが被回転物体の表面に付着し、その表
面を汚すようなことはない。この結果、上記した構造の
はねかえり防止装置によれば、非常に簡単な構造ではね
かえりを防止することができる。また、飛散した塗布剤
が装置内に溜ることにより装置のはねかえり防止性能が
低下するおそれはないので、保守管理が非常に容易であ
る。
面を汚すようなことはない。この結果、上記した構造の
はねかえり防止装置によれば、非常に簡単な構造ではね
かえりを防止することができる。また、飛散した塗布剤
が装置内に溜ることにより装置のはねかえり防止性能が
低下するおそれはないので、保守管理が非常に容易であ
る。
実施例
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳述するＯ
第１図は本発明の一実施例におけるスピナのはねかえり
防止装置の縦断面図である。第１図において、１は塗布
剤を間に塗って重ね合わせた被回転物体であり、回転台
２の上部に取り付けられ、モータ３により回転駆動され
る。４は中心部に空気穴６があけられた平板状の回転円
盤であり、回転アーム６に取り付けられ、モータ６によ
り回転駆動される。７ａは外防散枠、７ｂは内防散枠で
ある。８は塗布剤の溜溝であり、溜った塗布剤は排出口
９より排出される。１ｏは空気の排気口であり、１１は
下枠である。次に、本実施例の構成による作用を説明す
る。回転台２に取り付けられた被回転物体１中の塗布剤
は、高速回転による遠心力によって、重ね合せた被回転
物体１の間を外周方向へと広がってゆき、被回転物体外
周端面より粒状となって周囲に飛散する。しかしながら
、本実施例においては、前記被回転物体１の上部に厚さ
３ｎの一定の間隙をあけ中心部に空気穴６のあいた平板
状の回転円盤４を取り付け、これを前記被回転物体１と
同一軸心にて同期回転させているので、前記回転円盤４
と前記被回転物体１との間隙には、中心部から外周方向
へと放射線状に流れる空気の層流が発生している。さら
に、外周部には前記空気流を乱すことのないように、外
防散枠７ａおよび内防散枠７ｂにより滑らかな流路が形
成されており、排気口１ｏよりスムーズに排気されてい
る。このため、被回転物体１の外周端面より飛散した塗
布剤粒子はこの空気流に乗って外周方向へと流されてゆ
き、前記流路を通って下枠１１の床部に設けられた溜溝
８に、塗布剤粒子自身の自重によって落下し集められ、
排出口９より排出される。また、塗布剤粒子が前記流路
を流れている間に、仮りに外防散枠７ａに衝突し内周方
向に向ってはねかえりを生じさせたとしても、常に被回
転物体１の中心部から外周方向に向って高速空気流が流
れているので、この流れに押し戻され被回転物体１の表
面に付着することはない。
防止装置の縦断面図である。第１図において、１は塗布
剤を間に塗って重ね合わせた被回転物体であり、回転台
２の上部に取り付けられ、モータ３により回転駆動され
る。４は中心部に空気穴６があけられた平板状の回転円
盤であり、回転アーム６に取り付けられ、モータ６によ
り回転駆動される。７ａは外防散枠、７ｂは内防散枠で
ある。８は塗布剤の溜溝であり、溜った塗布剤は排出口
９より排出される。１ｏは空気の排気口であり、１１は
下枠である。次に、本実施例の構成による作用を説明す
る。回転台２に取り付けられた被回転物体１中の塗布剤
は、高速回転による遠心力によって、重ね合せた被回転
物体１の間を外周方向へと広がってゆき、被回転物体外
周端面より粒状となって周囲に飛散する。しかしながら
、本実施例においては、前記被回転物体１の上部に厚さ
３ｎの一定の間隙をあけ中心部に空気穴６のあいた平板
状の回転円盤４を取り付け、これを前記被回転物体１と
同一軸心にて同期回転させているので、前記回転円盤４
と前記被回転物体１との間隙には、中心部から外周方向
へと放射線状に流れる空気の層流が発生している。さら
に、外周部には前記空気流を乱すことのないように、外
防散枠７ａおよび内防散枠７ｂにより滑らかな流路が形
成されており、排気口１ｏよりスムーズに排気されてい
る。このため、被回転物体１の外周端面より飛散した塗
布剤粒子はこの空気流に乗って外周方向へと流されてゆ
き、前記流路を通って下枠１１の床部に設けられた溜溝
８に、塗布剤粒子自身の自重によって落下し集められ、
排出口９より排出される。また、塗布剤粒子が前記流路
を流れている間に、仮りに外防散枠７ａに衝突し内周方
向に向ってはねかえりを生じさせたとしても、常に被回
転物体１の中心部から外周方向に向って高速空気流が流
れているので、この流れに押し戻され被回転物体１の表
面に付着することはない。
この結果、上記した構造のスピナのはねかえり防止装置
によれば、簡単な構造で発生する高速空気流により、飛
散した塗布剤粒子のはねかえりを防止できかつ、保守管
理が非常に容易であるといえる。
によれば、簡単な構造で発生する高速空気流により、飛
散した塗布剤粒子のはねかえりを防止できかつ、保守管
理が非常に容易であるといえる。
なお、実施例において、回転円盤４は被回転物体１表面
の上部のみに取り付けられているとしたが回転円盤４は
被回転物体１の上部および下部に取り付けても同様の効
果が得られる０また、被回転物体と回転円板との間隙の
空気の流れは層流であるとしたが、はねかえりを生じさ
せない空気の流れであればよい。
の上部のみに取り付けられているとしたが回転円盤４は
被回転物体１の上部および下部に取り付けても同様の効
果が得られる０また、被回転物体と回転円板との間隙の
空気の流れは層流であるとしたが、はねかえりを生じさ
せない空気の流れであればよい。
発明の効果
本発明は、塗布剤が塗られた被回転物体の表面上に、あ
る間隙をもたせ、中心部に穴のあいた平板状の円盤を設
け、これを前記被回転物体と同一軸心にて同期して回転
させることにより前記間隙中に発生する高速空気流を用
いて、飛散した塗布斉］粒子を流し出しはねかえりを防
止する他にも次のような効果がある。すなわち、常に連
続した空気の流れが被回転物体と回転円盤との間隙を流
れているので、前記回転円盤の中心部よりクリーンな空
気を流し込むことにより、前記被回転物体をクリーンな
雰囲気で包み込むことができる。ゆえに回転中にゴミ等
の異物が前記被回転物体の表面に付着することを防止す
ることができるのである。
る間隙をもたせ、中心部に穴のあいた平板状の円盤を設
け、これを前記被回転物体と同一軸心にて同期して回転
させることにより前記間隙中に発生する高速空気流を用
いて、飛散した塗布斉］粒子を流し出しはねかえりを防
止する他にも次のような効果がある。すなわち、常に連
続した空気の流れが被回転物体と回転円盤との間隙を流
れているので、前記回転円盤の中心部よりクリーンな空
気を流し込むことにより、前記被回転物体をクリーンな
雰囲気で包み込むことができる。ゆえに回転中にゴミ等
の異物が前記被回転物体の表面に付着することを防止す
ることができるのである。
第１図は本発明による一実施例のはねかえり防止装置の
縦断面図、第２図は従来のはねかえり防止装置の斜視図
である。 １・・・・・・被回転物体、２・・・・・・回転台、４
・・・・・・回転円盤、６・・・・・・空気穴、７！Ｌ
・・・・・・外防散枠、７ｂ・・・・・・内防散枠、８
・・・・・・溜溝。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名１認 ０〔〕 〜Ｃ＞ 脈
縦断面図、第２図は従来のはねかえり防止装置の斜視図
である。 １・・・・・・被回転物体、２・・・・・・回転台、４
・・・・・・回転円盤、６・・・・・・空気穴、７！Ｌ
・・・・・・外防散枠、７ｂ・・・・・・内防散枠、８
・・・・・・溜溝。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名１認 ０〔〕 〜Ｃ＞ 脈
Claims (4)
- （１）スピナに取り付けられた円盤状の被回転物体と対
向する位置に一定の間隙をあけて中心部に穴のあいた回
転自在な円盤を設け、前記円盤を前記被回転物体と同一
軸心にて同一方向に回転させるようにしたことを特徴と
するスピナのはねかえり防止装置。 - （２）被回転物体と円盤との間に空気の層流が流れるよ
うな大きさの間隙を設けたことを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のスピナのはねかえり防止装置。 - （３）被回転物体と円盤との間に空気の層流が流れるよ
うに前記円盤を回転させることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のスピナのはねかえり防止装置。 - （４）被回転物体と円盤とを同期させて回転させるよう
にしたことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載のス
ピナのはねかえり防止装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19978685A JPS6261670A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | スピナのはねかえり防止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19978685A JPS6261670A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | スピナのはねかえり防止装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6261670A true JPS6261670A (ja) | 1987-03-18 |
Family
ID=16413584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19978685A Pending JPS6261670A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | スピナのはねかえり防止装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6261670A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01254277A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スピナー回転処理装置 |
| FR2636546A1 (fr) * | 1988-09-15 | 1990-03-23 | Sulzer Electro Tech | Procede et dispositif pour l'application uniformement reguliere d'une couche de resine sur un substrat |
| JPH02189949A (ja) * | 1989-01-18 | 1990-07-25 | Tokyo Electron Ltd | 搬送装置 |
| JPH08255745A (ja) * | 1995-03-15 | 1996-10-01 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成方法及びその装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS498499A (ja) * | 1972-03-27 | 1974-01-25 |
-
1985
- 1985-09-10 JP JP19978685A patent/JPS6261670A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS498499A (ja) * | 1972-03-27 | 1974-01-25 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01254277A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スピナー回転処理装置 |
| FR2636546A1 (fr) * | 1988-09-15 | 1990-03-23 | Sulzer Electro Tech | Procede et dispositif pour l'application uniformement reguliere d'une couche de resine sur un substrat |
| JPH02119974A (ja) * | 1988-09-15 | 1990-05-08 | Sulzer Electro Technic Set | 基板に均一な樹脂コーティングを施す方法と装置 |
| JPH02189949A (ja) * | 1989-01-18 | 1990-07-25 | Tokyo Electron Ltd | 搬送装置 |
| JPH08255745A (ja) * | 1995-03-15 | 1996-10-01 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成方法及びその装置 |
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