JPS6259507A - Ti窒化物超微粉の製造方法及びその装置 - Google Patents

Ti窒化物超微粉の製造方法及びその装置

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JPS6259507A
JPS6259507A JP19863785A JP19863785A JPS6259507A JP S6259507 A JPS6259507 A JP S6259507A JP 19863785 A JP19863785 A JP 19863785A JP 19863785 A JP19863785 A JP 19863785A JP S6259507 A JPS6259507 A JP S6259507A
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JP
Japan
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gas
powder
quartz tube
tih2
container
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Application number
JP19863785A
Other languages
English (en)
Inventor
Yusuke Iyori
裕介 井寄
Norio Takahashi
紀雄 高橋
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Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は1μm以下の粒径を有するTi窒化物超微粉の
製造方法およびその製造装置に関するものである。
従来の技術 セラミック基板またはセラミック部品用原料としては、
粒径1μm以下の下を窒化物が使用されており、前記部
品の性能向上若しくは加工精度向上のために、近年盤々
超微粉のT<窒化物の要請が増大してきている。すなわ
ち上記部品を構成する材料の粒子が粗大であると、加工
中にチッピング現象を起こすため、組織を微細化する必
要がある。そしてアルミナ等、他の構成材料については
すでに所定の超微粉材料が市販されているが、Ti窒化
物超微粉材料は未だに入手が困難な状況である。
Ti窒化物超微粉の製造方法には、従来法の3つの方法
が使用されている。
(1)固体金属とガスの反応 Tt金金属N2ガス又はアンモニアガスを直接反応させ
てTiHを得る方法で基本的には次式により生成される
Tt +N2→TiH Tt +NH3→Tt N+H2↑ 処理時間が長くかつ生成されるTiHt子が粗大なこと
が欠点とされる。かつ微粒子を1仔るには生成されたT
t Ne粉砕する必要があり、粉砕メディア、容器等か
らの不純物のa人が避けられない。
(2)酸化物の還元窒化 本方法は酸化T、に直接Cを混入させると同時にN2ガ
スまたはメタンガスにより窒化させTiHを1!′する
方法で、基本的には次式により生成される。
T i O2+ C+ N 2 →T t N 」−C
OTI!02 +C+ N H3→Tt N + Go
 + 1−12本り法はTtO2を出発原料とするため
生成TiHの格子内に酸素が残存する芋態を惹起し、例
えば超硬工具、サーメット等に使用した場合は、強度劣
化を来たす結果となる。
(3)気相合成法 本方法は所謂CVD法と称される超微粉の生成方法であ
り、 Tt  C1a  +N2  +N 2 → T  t
  N  +  l−I  CfLTt  C1,s 
 →−N +−+ 3  →Tt N+HCJ2の反応
によりTiHを生成するものである。
すなわち、気相状態の塩化チタンとN2ガスまたはアン
モニアガスとを反応させてTiHを得る方法である。
本方法は、ガス同士の反応であるため毎時数十g程度し
か得ることができず生成速度が極めて遅い欠点がある。
また、同時にl−101が生成されるため、これがTi
Nと共に残存し、特性劣化の一因となっている。
発明が解決しようとする問題点 本発明は上記のような従来技術に存する欠点を解消し、
高純度であり、かつ粒子径の均一なTt窒窒化超超微粉
の製造方法及び製造装置を提、供することを目的とする
ものである。
問題点を解決するための手段 本発明は上記目的達成のために、下記のような技術的手
段を採用したのである。
第1の発明においては、Ttl−12を出発物71とし
てTtt化物超微粉を¥J造する方法において、T<1
−12を1μm以下に微t5)砕したv:2N 2ガス
若しくはアン七ニアガス雰囲気中において850〜14
00℃で逐次位別熱処理を行なうものである。
第2の発明は製造装置の発明であり、中空管状に形成し
た炉体の軸方向に移動自在に炉の局部加熱源を介装し、
炉体内部とN2ガス若しくはアンモニアガス源とを連通
かつガス制御自在に接続してなるものである。
作  用 上記のような技術的手段を採用したことにより、出発原
料であるTl!l−+2は例えばボールミル中にて数百
へに粉砕することができるため、生成されるTtt化物
もまた数面Aのものが19られる。また、出発原料で・
ある微粒状の’T−tl−12は、通常は850°C付
近で急激にト12を発生するため、原石同士の反発、離
散状態を爆発的に誘起する結果、未反応のTtt12が
残存するものであるが、本発明においては、所謂ゾーン
メルトに類似した逐次苦別熱処理を行なうことにより、
前記爆発的反応を抑制づる作用がある。従って当然のこ
とながら格子内に酸素を内在することなく、また他の物
質による汚染も防止できるのである。更に温度制御によ
り、所望の粒径に制御することもできるものである。
なお、Ttt化物を得るlこめには850〜1400℃
が適当で、850℃未満では窒化反応が十分に進行せず
、1400℃を越えると生成されるTtt化物の平均粒
子径が1μmを越え、本発明の目的に反する。
実施例1 図は本発明の実施例を示Jシステム系統図で・ある。
図において、1は局所加熱を目的とした局部加熱源とな
る高周波加熱用ワークコイル、2はワークコイルを可動
ならしめるガイドロッドおよび駆動装置、3は高周波電
源および制御装置であり、これらにより処理粉末の局所
加熱が可能となる。
4は原料となる微粉砕された丁tH2粉末、5はカーボ
ン製の容器でワークコイルからの電気エネルギーを受は
局所加熱される。6は、Tt H2粉の金属化合物超微
粉を19にとができる。
(2)水素雰囲気中で金属微粒子を発生させるため粒子
表面が清浄であり、反応元素との反応を促進する。
(3〉金属と反応元素とを直接に反応させ、しかも微粒
状態で捕集できるから、他の物質との汚染がない。
(4)管状炉の温度および炉内滞留室「、1間を適宜選
定することにより、超微粉の粒径を制御することができ
る。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の実施例を承りシステム系統図である。 1・・・高周波加熱用ワークコイル、3・・・高周波電
源および制御装置、4・・・丁<H2粉末、8・・・ガ
ス源。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)TiH_2を出発物質としてTi窒化物超微粉を
    製造する方法において、TiH_2をN_2雰囲気中又
    はアンモニアガス雰囲気中において850〜1400℃
    で逐次層別熱処理を行なうことを特徴とするTi窒化物
    超微粉の製造方法。
  2. (2)中空管状に形成した炉体の軸方向に移動自在に炉
    の局部加熱源を介装し、炉体内部と N_2ガス若しくは、アンモニアガス源とを連通かつガ
    ス制御自在に接続したことを特徴とするTi窒化物超微
    粉の製造装置。
JP19863785A 1985-09-10 1985-09-10 Ti窒化物超微粉の製造方法及びその装置 Pending JPS6259507A (ja)

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