JPS6257718B2 - - Google Patents
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- JPS6257718B2 JPS6257718B2 JP55116052A JP11605280A JPS6257718B2 JP S6257718 B2 JPS6257718 B2 JP S6257718B2 JP 55116052 A JP55116052 A JP 55116052A JP 11605280 A JP11605280 A JP 11605280A JP S6257718 B2 JPS6257718 B2 JP S6257718B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/34—Anodisation of metals or alloys not provided for in groups C25D11/04 - C25D11/32
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D9/00—Electrolytic coating other than with metals
- C25D9/04—Electrolytic coating other than with metals with inorganic materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面が錫から成る物体の処理方法であ
る。 錫のはんだ付け能力を良好にするため、錫めつ
き金属成分の電気工業に多くの関心が寄せられて
いる。しかし、錫は大気腐食に対し抵抗が小さ
い。また、下の金属が侵食される結果、局部腐食
（点食腐食）が起こる欠点がある。 例えば、アール・エー・ネイシユおよびジエ
ー・ジー・ドネルソンがフード・テクノロジイ14
37〜42（1960）に発表した論文によれば、錫表面
を重クロム酸塩溶液で処理して不動態にすること
が知られている。これは単に溶液に浸すかあるい
はまた陰極または陽極の電位を印加して行なうこ
とができる。前記論文には、物品を重クロク酸塩
溶液に浸漬する際に陽極電位を印加する場合、好
結果が得られることを記載している。 エル・ビツエバおよびクール・ペトロフが
Khim.Ind.（Sofia）45（1973），158〜159
（Chem.Abstracts80，21978S（1974）に発表し
た論文から引用すると、錫表面に重クロム酸塩溶
液中で50Hzの交流電圧を印加して処理することが
知られている。 しかし、陽極性の不動態では錫表面に点食腐食
がやはり発生し、この場合錫表面のはんだ付け能
力を弱めるようである。 本発明の目的は腐食に対する抵抗性が優れ、錫
のはんだ付け能力を保持することができる錫表面
の処理方法を提供することにある。 本発明によれば、少なくともその表面が錫から
成る物体に電解液中で交互に陰極電位および陽極
電位を印加する処理方法において、物体を少なく
とも0.02Mの濃度の可溶性タングステン酸塩の弱
酸ないし弱アルカリ性（４＜PH＜11）水溶液中で
電解処理し、この場合、周波数が少なくとも0.2
Hzでしかも２Hz以下の定期的に逆転する電流を加
え、最大電流密度の絶対値が少なくとも0.2A／
ｄm2でしかも1A／ｄm2以下であり、陽極電流密
度対陰極電流密度の比が少なくとも0.5でしかも
１以下であり、陽極パルス持続対陰極パルス持続
の比は２以下で少なくとも0.02である。 本発明の研究を通じて、上述の各数量の範囲は
臨界である。すなわち、これらの範囲外では、は
んだ付け能力および／または腐食に対する抵抗性
が不十分であつた。 本発明の方法は錫を電解または浸漬により被着
した錫めつき鋼を使用することができ、あるいは
錫めつき銅、黄銅または燐銅を使用することがで
きる。 タングステン酸塩溶液から析出した層は0.03〜
0.2μｍ、通常は0.05μｍの厚さである。0.2μｍ
以上の厚さの層は下の錫層に固着するには不適当
である。 交流の陰極および陽極の電流は好ましくは矩形
波形を有する。 次に実施例につき本発明を説明する。 普通の透明な錫めつき溶液から、鋼板上に５μ
ｍの錫層を析出させる。その後、１リツトルにつ
き次の組成を有する電解液中で、錫めつき板に定
期逆転電流を与える。 10ｇNa2WO4・2H2O 10ｇNa2B4O7・10H2O 10gNa2SO4（PH＝９） この場合、温度は20℃で、錫めつき板を処理す
るのとほぼ同一の表面を有するステンレス鋼逆電
極を使用する。電流密度は0.5A／ｄm2（絶対
値）であり、極性反転は0.5Hzの周波数、すなわ
ち陽極１秒および陰極１秒で行なわれ、印加電圧
は陽極電流および陰極電流に対し同一の値で矩形
波形を有する。 この方法では、タングステン酸塩および酸化錫
の混合物から成る厚さ0.03〜0.2μｍの着色層を
得る。着色は層の厚さに依存する。処理した錫表
面のはんだ付け能力は新しく析出した錫層のそれ
と同様である。 腐食に対する抵抗性は塩水噴霧試験（IEC68―
２―４テストＤ）により室温にて７日間表面に５
重量％のNaClを含有するNaCl水溶液の霧を噴霧
して試験し、さらにまた給湿試験（IEC68―２―
11）、Ka試験により試験した。均一または局部い
ずれの腐食も起こらず、これは、極めて広範囲に
点食腐食を示す未処理の錫、または重クロム酸塩
溶液では、局部腐食によつて点食の程度が未処理
の錫よりも大きくなる重クロム酸塩溶液で陽極性
の不動態になる錫とは著しく違つている。 １リツトルにつき次の組成を有する電解液の１
種にSnめつき鋼試料（５μｍの錫）を浸漬して
同じような結果が得られる。 ａ KHCO3 40gms Na2WO4・2H2O 20gms（PH＝9.5） ｂ Na3PO4 40gms H3PO4 PH＝9.5迄 Na2WO4・2H2O 20gms 上述のように、20℃にてステンレス鋼逆電極を
使用して、0.5c／ｓの周波数および0.5A／ｄm2の
電流密度を有する定期逆転電流をめつき板に印加
する。
る。 錫のはんだ付け能力を良好にするため、錫めつ
き金属成分の電気工業に多くの関心が寄せられて
いる。しかし、錫は大気腐食に対し抵抗が小さ
い。また、下の金属が侵食される結果、局部腐食
（点食腐食）が起こる欠点がある。 例えば、アール・エー・ネイシユおよびジエ
ー・ジー・ドネルソンがフード・テクノロジイ14
37〜42（1960）に発表した論文によれば、錫表面
を重クロム酸塩溶液で処理して不動態にすること
が知られている。これは単に溶液に浸すかあるい
はまた陰極または陽極の電位を印加して行なうこ
とができる。前記論文には、物品を重クロク酸塩
溶液に浸漬する際に陽極電位を印加する場合、好
結果が得られることを記載している。 エル・ビツエバおよびクール・ペトロフが
Khim.Ind.（Sofia）45（1973），158〜159
（Chem.Abstracts80，21978S（1974）に発表し
た論文から引用すると、錫表面に重クロム酸塩溶
液中で50Hzの交流電圧を印加して処理することが
知られている。 しかし、陽極性の不動態では錫表面に点食腐食
がやはり発生し、この場合錫表面のはんだ付け能
力を弱めるようである。 本発明の目的は腐食に対する抵抗性が優れ、錫
のはんだ付け能力を保持することができる錫表面
の処理方法を提供することにある。 本発明によれば、少なくともその表面が錫から
成る物体に電解液中で交互に陰極電位および陽極
電位を印加する処理方法において、物体を少なく
とも0.02Mの濃度の可溶性タングステン酸塩の弱
酸ないし弱アルカリ性（４＜PH＜11）水溶液中で
電解処理し、この場合、周波数が少なくとも0.2
Hzでしかも２Hz以下の定期的に逆転する電流を加
え、最大電流密度の絶対値が少なくとも0.2A／
ｄm2でしかも1A／ｄm2以下であり、陽極電流密
度対陰極電流密度の比が少なくとも0.5でしかも
１以下であり、陽極パルス持続対陰極パルス持続
の比は２以下で少なくとも0.02である。 本発明の研究を通じて、上述の各数量の範囲は
臨界である。すなわち、これらの範囲外では、は
んだ付け能力および／または腐食に対する抵抗性
が不十分であつた。 本発明の方法は錫を電解または浸漬により被着
した錫めつき鋼を使用することができ、あるいは
錫めつき銅、黄銅または燐銅を使用することがで
きる。 タングステン酸塩溶液から析出した層は0.03〜
0.2μｍ、通常は0.05μｍの厚さである。0.2μｍ
以上の厚さの層は下の錫層に固着するには不適当
である。 交流の陰極および陽極の電流は好ましくは矩形
波形を有する。 次に実施例につき本発明を説明する。 普通の透明な錫めつき溶液から、鋼板上に５μ
ｍの錫層を析出させる。その後、１リツトルにつ
き次の組成を有する電解液中で、錫めつき板に定
期逆転電流を与える。 10ｇNa2WO4・2H2O 10ｇNa2B4O7・10H2O 10gNa2SO4（PH＝９） この場合、温度は20℃で、錫めつき板を処理す
るのとほぼ同一の表面を有するステンレス鋼逆電
極を使用する。電流密度は0.5A／ｄm2（絶対
値）であり、極性反転は0.5Hzの周波数、すなわ
ち陽極１秒および陰極１秒で行なわれ、印加電圧
は陽極電流および陰極電流に対し同一の値で矩形
波形を有する。 この方法では、タングステン酸塩および酸化錫
の混合物から成る厚さ0.03〜0.2μｍの着色層を
得る。着色は層の厚さに依存する。処理した錫表
面のはんだ付け能力は新しく析出した錫層のそれ
と同様である。 腐食に対する抵抗性は塩水噴霧試験（IEC68―
２―４テストＤ）により室温にて７日間表面に５
重量％のNaClを含有するNaCl水溶液の霧を噴霧
して試験し、さらにまた給湿試験（IEC68―２―
11）、Ka試験により試験した。均一または局部い
ずれの腐食も起こらず、これは、極めて広範囲に
点食腐食を示す未処理の錫、または重クロム酸塩
溶液では、局部腐食によつて点食の程度が未処理
の錫よりも大きくなる重クロム酸塩溶液で陽極性
の不動態になる錫とは著しく違つている。 １リツトルにつき次の組成を有する電解液の１
種にSnめつき鋼試料（５μｍの錫）を浸漬して
同じような結果が得られる。 ａ KHCO3 40gms Na2WO4・2H2O 20gms（PH＝9.5） ｂ Na3PO4 40gms H3PO4 PH＝9.5迄 Na2WO4・2H2O 20gms 上述のように、20℃にてステンレス鋼逆電極を
使用して、0.5c／ｓの周波数および0.5A／ｄm2の
電流密度を有する定期逆転電流をめつき板に印加
する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 物体に電解液中で陰極電位および陽極電位を
交互に印加する少なくともその表面が錫から成る
物体の処理方法において、物体を少なくとも
0.02Mの濃度で且つPH４〜11を有するタングステ
ン酸塩の水溶液中で電解処理し、この場合、周波
数が少なくとも0.2Hzでしかも２Hz以下の定期的
に逆転する電流を加え、最大電流密度の絶対値に
おいて電流密度が少なくとも0.2A／ｄm2でしか
も1A／ｄm2以下であり、陽極電流密度対陰極電
流密度の比が少なくとも0.5でしかも１以下であ
り且つ陽極パルス持続時間対陰極パルス持続時間
の比が、厚さ0.03〜0.2μｍを有する層を生成す
るに充分の時間２以下で0.02以上であることを特
徴とする少なくともその表面が錫から成る物体の
処理方法。 ２ 交流の陰極電流および陽極電流が矩形波形を
有する特許請求の範囲第１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL7906441A NL7906441A (nl) | 1979-08-28 | 1979-08-28 | Werkwijze voor de behandeling van voorwerpen waarvan het oppervlak uit tin bestaat. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5633495A JPS5633495A (en) | 1981-04-03 |
| JPS6257718B2 true JPS6257718B2 (ja) | 1987-12-02 |
Family
ID=19833739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11605280A Granted JPS5633495A (en) | 1979-08-28 | 1980-08-25 | Treatment of substrate having tin surface |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4273625A (ja) |
| EP (1) | EP0024760B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5633495A (ja) |
| CA (1) | CA1152938A (ja) |
| DE (1) | DE3062348D1 (ja) |
| HK (1) | HK14386A (ja) |
| NL (1) | NL7906441A (ja) |
| SG (1) | SG97485G (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IL63243A (en) * | 1981-07-07 | 1984-11-30 | Reznick David | Method for anodically treating metal surfaces and treated metal surface |
| DE3217552A1 (de) * | 1982-05-10 | 1983-11-10 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger |
| US6168101B1 (en) | 1999-09-28 | 2001-01-02 | Premark Feg L.L.C. | Stainless steel chopper/mixer-grinder worm having improved resistance to fatting |
| GB2372041B (en) * | 2000-09-23 | 2004-12-01 | Univ Cambridge Tech | Electrochemical surface treatment of metals and metallic alloys |
| US20030075455A1 (en) * | 2001-10-19 | 2003-04-24 | Cambridge University Technical Services Ltd. | Electrochemical treatment of metals |
| WO2024071142A1 (ja) * | 2022-09-27 | 2024-04-04 | 学校法人東京理科大学 | 耐食性ステンレス鋼及び耐食性ステンレス鋼の製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE421943A (ja) * | 1936-06-06 | |||
| BE487191A (ja) * | 1948-10-27 | |||
| US2687994A (en) * | 1950-03-17 | 1954-08-31 | Ekco Products Company | Method of forming an oxide coating on tin |
| US2794775A (en) * | 1954-05-21 | 1957-06-04 | Western Union Telegraph Co | Electroplating with tungsten |
| US2906677A (en) * | 1955-03-17 | 1959-09-29 | Nat Steel Corp | Electrolytic treatment of tinplate |
| US3281341A (en) * | 1963-04-18 | 1966-10-25 | United States Steel Corp | Method of improving solderability of tin plate |
-
1979
- 1979-08-28 NL NL7906441A patent/NL7906441A/nl not_active Application Discontinuation
-
1980
- 1980-08-14 US US06/178,045 patent/US4273625A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-08-18 EP EP80200773A patent/EP0024760B1/en not_active Expired
- 1980-08-18 DE DE8080200773T patent/DE3062348D1/de not_active Expired
- 1980-08-25 CA CA000358937A patent/CA1152938A/en not_active Expired
- 1980-08-25 JP JP11605280A patent/JPS5633495A/ja active Granted
-
1985
- 1985-12-20 SG SG974/85A patent/SG97485G/en unknown
-
1986
- 1986-02-27 HK HK143/86A patent/HK14386A/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL7906441A (nl) | 1981-03-03 |
| US4273625A (en) | 1981-06-16 |
| JPS5633495A (en) | 1981-04-03 |
| SG97485G (en) | 1986-07-25 |
| EP0024760B1 (en) | 1983-03-16 |
| DE3062348D1 (en) | 1983-04-21 |
| EP0024760A1 (en) | 1981-03-11 |
| CA1152938A (en) | 1983-08-30 |
| HK14386A (en) | 1986-03-07 |
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