JPS6257677A - 非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法 - Google Patents
非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法Info
- Publication number
- JPS6257677A JPS6257677A JP19609885A JP19609885A JPS6257677A JP S6257677 A JPS6257677 A JP S6257677A JP 19609885 A JP19609885 A JP 19609885A JP 19609885 A JP19609885 A JP 19609885A JP S6257677 A JPS6257677 A JP S6257677A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ribbon
- amorphous alloy
- insulating film
- coating
- alloy strip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、変圧器用の鉄心材料などの用途に用いて好
適な非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法に関し、該薄帯
表面に効果的に絶縁被膜を被成することによって鉄損特
性の向上を図ろうとするものである。
適な非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法に関し、該薄帯
表面に効果的に絶縁被膜を被成することによって鉄損特
性の向上を図ろうとするものである。
Fe−B−St系等の溶融合金を超急冷凝固させると、
板厚30μ涌前後の非晶質合金薄帯(以下単にリボンと
云う)を作ることができる。このようなリボンは軟磁性
に優れ、殊に超低鉄損を示すことから、鉄心材料として
現在多用されている方向性けい素鋼板の有力な競合材料
と云われている。
板厚30μ涌前後の非晶質合金薄帯(以下単にリボンと
云う)を作ることができる。このようなリボンは軟磁性
に優れ、殊に超低鉄損を示すことから、鉄心材料として
現在多用されている方向性けい素鋼板の有力な競合材料
と云われている。
(従来の技術)
従来かかるリボンは、絶縁被膜を施すことなく、変圧器
の鉄心に用いられていたが、近年のリボン製造技術の進
歩に伴い、その表面が平滑になって占積率が向上する一
方で、眉間抵抗の減少を招き、鉄心に加工した場合に渦
流損が増加する傾向にある。したがってかかるリボンの
占積率を低下させることなく、渦流損ひいては全鉄損を
減少させるために絶縁被膜を被成することが不可欠にな
ってきている。
の鉄心に用いられていたが、近年のリボン製造技術の進
歩に伴い、その表面が平滑になって占積率が向上する一
方で、眉間抵抗の減少を招き、鉄心に加工した場合に渦
流損が増加する傾向にある。したがってかかるリボンの
占積率を低下させることなく、渦流損ひいては全鉄損を
減少させるために絶縁被膜を被成することが不可欠にな
ってきている。
ところで従来のけい素鋼板用の絶縁被膜は、焼付けに4
00℃前後の加熱を要し、リボンの脆化や結晶化をもた
らす危険があるため、リボンの絶縁被膜としては使用す
ることができない。
00℃前後の加熱を要し、リボンの脆化や結晶化をもた
らす危険があるため、リボンの絶縁被膜としては使用す
ることができない。
この点特開昭59477377号公報では、リボンの絶
縁被膜形成法として、エチルシリケートのアルコール溶
液からシリカコロイドを析出させて薄膜を形成させる方
法を提案している。しかし有機溶媒を使用することは、
水溶媒に比較して単に高価につくだけでなく、作業環境
を悪化させる等の欠点があった。
縁被膜形成法として、エチルシリケートのアルコール溶
液からシリカコロイドを析出させて薄膜を形成させる方
法を提案している。しかし有機溶媒を使用することは、
水溶媒に比較して単に高価につくだけでなく、作業環境
を悪化させる等の欠点があった。
また特開昭59−20499号公報には、微量のふっ素
イオンを含有する水溶液から、電解法でクロム水和酸化
物被膜を生成させる方法が提案されている。この方法で
は、ふっ素イオンの存在により、超急冷時に形成された
酸化物薄膜を除去し、電解を均一に行なうとするもので
あるが、排水中のふっ素イオン処理など煩雑な後処理が
不可欠なところに問題を残していた。
イオンを含有する水溶液から、電解法でクロム水和酸化
物被膜を生成させる方法が提案されている。この方法で
は、ふっ素イオンの存在により、超急冷時に形成された
酸化物薄膜を除去し、電解を均一に行なうとするもので
あるが、排水中のふっ素イオン処理など煩雑な後処理が
不可欠なところに問題を残していた。
その他耐熱性有機樹脂を使う方法等も提案されているが
、一般的には400℃前後で行なわれる磁場焼鈍時に炭
化する他、有機溶媒を使用しなければならない等の点で
問題がある。
、一般的には400℃前後で行なわれる磁場焼鈍時に炭
化する他、有機溶媒を使用しなければならない等の点で
問題がある。
(発明が解決しようとする問題点)
上述したように従来の絶縁被膜形成方法にはそれぞれ、
(1)高価すぎて工業的でない、(2)塗布液の濡れ性
改善のため、リボン表面の酸化膜を除去する必要がある
、(3)有機溶媒を必要とするなど、何かしらの問題を
残していた。
(1)高価すぎて工業的でない、(2)塗布液の濡れ性
改善のため、リボン表面の酸化膜を除去する必要がある
、(3)有機溶媒を必要とするなど、何かしらの問題を
残していた。
(問題点を解決するための手段)
この発明は、水溶液系であること、リボン表面の酸化膜
をとくに除去しなくても濡れ性に優れていること、およ
び200℃程度の低温焼付けで充分な被膜特性が得られ
ること等の要件を満足する表面処理液について、広く模
索、検討した結果得られたものである。
をとくに除去しなくても濡れ性に優れていること、およ
び200℃程度の低温焼付けで充分な被膜特性が得られ
ること等の要件を満足する表面処理液について、広く模
索、検討した結果得られたものである。
すなわちこの発明は、非晶質合金薄帯の表面に、SiO
□/Li、0のモル比を5〜8の範囲に調整したけい酸
リチウムを主成分とする水溶液を塗布したのち、100
〜300℃の温度範囲で乾燥ついで焼付けることを特徴
とする非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法である。
□/Li、0のモル比を5〜8の範囲に調整したけい酸
リチウムを主成分とする水溶液を塗布したのち、100
〜300℃の温度範囲で乾燥ついで焼付けることを特徴
とする非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法である。
まずこの発明の解明経緯について説明する。
けい酸ナトリウムは造膜性には優れているものの、耐水
性に問題があることが知られている。そこで優れた造膜
性を有しながら、また耐水性にも優れたけい酸アルカリ
について検討したところ、けい酸リチウムが表面被膜処
理液として極めて好ましい特性をもつことが見出された
。
性に問題があることが知られている。そこで優れた造膜
性を有しながら、また耐水性にも優れたけい酸アルカリ
について検討したところ、けい酸リチウムが表面被膜処
理液として極めて好ましい特性をもつことが見出された
。
そこでさらにかかるけい酸リチウム水溶液をリボンに適
用することについて詳細に検討した。
用することについて詳細に検討した。
リボンへの絶縁被膜処理の目的は渦流損の低減であるか
ら、少なくとも被膜処理によって特性の劣化を生じるも
のであってはならない。
ら、少なくとも被膜処理によって特性の劣化を生じるも
のであってはならない。
さて板厚25μ■のFegySi+4Bq合金リボンに
けい酸リチウム水溶液を塗布し、低温焼付は後、380
℃で1時間の焼鈍を施したところ、第1図に示すような
鉄損の5ift/ LitO比依存性および表面被膜厚
依存性が見出された。この測定はSST (単板測定
)法で行なったため、眉間絶縁への寄与は萌らかではな
いが、SiO*/LizOのモル比が3.5のものでは
被膜厚が0.1μ鋼と極薄であっても鉄損の劣化が生じ
た。そこでSiO□/LigOモル比が鉄損特性に及ぼ
す影響について調べたところ、モル比が5に満たない場
合には鉄損特性の劣化が避けがたいことが判った。これ
はLi2O量が増大するほど、被膜の密着性、および造
膜性は向上するものの、硬質被膜となり、その結果リボ
ンに圧縮応力が付加されることになるためと考えられる
。一方5i02 。
けい酸リチウム水溶液を塗布し、低温焼付は後、380
℃で1時間の焼鈍を施したところ、第1図に示すような
鉄損の5ift/ LitO比依存性および表面被膜厚
依存性が見出された。この測定はSST (単板測定
)法で行なったため、眉間絶縁への寄与は萌らかではな
いが、SiO*/LizOのモル比が3.5のものでは
被膜厚が0.1μ鋼と極薄であっても鉄損の劣化が生じ
た。そこでSiO□/LigOモル比が鉄損特性に及ぼ
す影響について調べたところ、モル比が5に満たない場
合には鉄損特性の劣化が避けがたいことが判った。これ
はLi2O量が増大するほど、被膜の密着性、および造
膜性は向上するものの、硬質被膜となり、その結果リボ
ンに圧縮応力が付加されることになるためと考えられる
。一方5i02 。
/LizO比が8を超えた場合には、造膜性が著しく低
下して、表面被膜として処理することが困難になること
が判明した。
下して、表面被膜として処理することが困難になること
が判明した。
以上の理由から、この発明において用いるけい酸リチウ
ムのSiO□/Li!0モル比は5〜8の範囲に限定し
た。
ムのSiO□/Li!0モル比は5〜8の範囲に限定し
た。
また、けい酸リチウム水溶液の乾燥、焼付は温度が10
0℃に満たないと指触乾燥に長時間を要するばかりでな
く、耐湿性等の被膜特性についても不満足な被膜しかで
きず、一方300℃を超えた場合には、リボンの脆化が
起り易くなり、その後の鉄心組立て等が困難になるので
、乾燥焼付は処理は100〜300℃の温度範囲で行う
必要がある。
0℃に満たないと指触乾燥に長時間を要するばかりでな
く、耐湿性等の被膜特性についても不満足な被膜しかで
きず、一方300℃を超えた場合には、リボンの脆化が
起り易くなり、その後の鉄心組立て等が困難になるので
、乾燥焼付は処理は100〜300℃の温度範囲で行う
必要がある。
なお絶縁被膜を施したリボンをトロイダルコアに巻き回
して磁気特性の測定を行なったところ、被膜厚が0.0
5μm未満の場合には層間絶縁効果がほとんどなく、一
方被膜厚が1μmより大きくなると、5iOz/Ltz
Oモル比は適正ではあっても鉄損劣化が無視できなくな
るとともに、占積率へも悪影響を及ぼすため、リボン上
に被成するけい酸リチウム表面被膜の膜厚は、0.05
〜1μm程度とするのが好ましい。
して磁気特性の測定を行なったところ、被膜厚が0.0
5μm未満の場合には層間絶縁効果がほとんどなく、一
方被膜厚が1μmより大きくなると、5iOz/Ltz
Oモル比は適正ではあっても鉄損劣化が無視できなくな
るとともに、占積率へも悪影響を及ぼすため、リボン上
に被成するけい酸リチウム表面被膜の膜厚は、0.05
〜1μm程度とするのが好ましい。
(実施例)
実施例l
Fe7gSi、。Boo組成の合金を溶解して、単ロー
ル法で5 cm幅、30μm厚のリボンを製造した。次
いでSiO□/Li、0モル比を7.5に調整したけい
酸リチウム水溶液を乾燥膜厚が0.2μmになるように
塗布し、ついで200℃で3分間焼付けた。
ル法で5 cm幅、30μm厚のリボンを製造した。次
いでSiO□/Li、0モル比を7.5に調整したけい
酸リチウム水溶液を乾燥膜厚が0.2μmになるように
塗布し、ついで200℃で3分間焼付けた。
かくして得られた絶縁被膜付きリボンの占積率は81.
2%であり、無処理の上記リボンの占積率が81.3%
であるのと比較しても絶縁被膜を被成したことによる占
積率の低下はほとんど無かった。またこの焼付けによっ
てリボンが脆化することもなかった。
2%であり、無処理の上記リボンの占積率が81.3%
であるのと比較しても絶縁被膜を被成したことによる占
積率の低下はほとんど無かった。またこの焼付けによっ
てリボンが脆化することもなかった。
次にこの絶縁被膜を施したリボンを直径61のトロイダ
ルコアとして、200A/mの磁場下で、370℃、1
時間の焼鈍を行ない、そのまま冷却した後の鉄損につい
て調べたところ、このトロイダルコアの5011z、1
.3Tでの鉄損W13八。は 0.10W/ kgであ
り、無処理のままのリボンが0.15W/kgであった
のと比べ、格段に優れていた。
ルコアとして、200A/mの磁場下で、370℃、1
時間の焼鈍を行ない、そのまま冷却した後の鉄損につい
て調べたところ、このトロイダルコアの5011z、1
.3Tでの鉄損W13八。は 0.10W/ kgであ
り、無処理のままのリボンが0.15W/kgであった
のと比べ、格段に優れていた。
実施例2
幅2c1m、厚み28μ−のFeBLsSi+z組成の
リボンの表面に、5iO1/Li、0モル比7.5のけ
い酸リチウム水溶液を塗布し、250℃で2分間焼付け
、0゜2μm厚のけい酸リチウム絶縁被膜を形成させた
。
リボンの表面に、5iO1/Li、0モル比7.5のけ
い酸リチウム水溶液を塗布し、250℃で2分間焼付け
、0゜2μm厚のけい酸リチウム絶縁被膜を形成させた
。
得られた製品の占積率は80.7%であり、また磁場焼
鈍後の鉄損W13八。は0.10W/kgであった。
鈍後の鉄損W13八。は0.10W/kgであった。
実施例3
被膜膜厚を0.1μ鋤とする他は実施例2と同様の処理
を施してけい酸リチウム絶縁被膜付きリボンを作製した
。
を施してけい酸リチウム絶縁被膜付きリボンを作製した
。
得られた製品の占積率は80.8%、またWIff/S
。
。
は0.11W/kgであった。
比較例1
実施例2のリボンにSiO□/Li2Oモル比7.5の
けい酸リチウム水溶液を用いて2pm FJの表面被膜
の被成を試みたが、焼付は時に被膜かは(離してしまい
、表面被膜付きのリボンを得ることはできなかった。
けい酸リチウム水溶液を用いて2pm FJの表面被膜
の被成を試みたが、焼付は時に被膜かは(離してしまい
、表面被膜付きのリボンを得ることはできなかった。
比較例2
実施例2のリボンに、SiO□/Li、0モル比3.5
のけい酸リチウム水溶液を用いて膜厚2μmの絶縁被膜
を施したところ、得られた絶縁被膜付きリボンの磁場焼
鈍後におけるW、、、、。は0.21Wハgであった。
のけい酸リチウム水溶液を用いて膜厚2μmの絶縁被膜
を施したところ、得られた絶縁被膜付きリボンの磁場焼
鈍後におけるW、、、、。は0.21Wハgであった。
比較例3
実施例2のリボンに絶縁被膜を処理することなく、同様
の測定を行なったところ、占積率は80.8%+ W1
3/S。は0.16W/kgであった。
の測定を行なったところ、占積率は80.8%+ W1
3/S。は0.16W/kgであった。
(発明の効果)
かくしてこの発明によれば、非晶質合金薄帯の表面に効
果的に絶縁被膜を被成することができ、ひいては占積率
を低下させることなしに鉄損特性の著しい改善を達成す
ることができる。
果的に絶縁被膜を被成することができ、ひいては占積率
を低下させることなしに鉄損特性の著しい改善を達成す
ることができる。
第1図は、けい酸リチウム水溶液を用いて絶縁被膜を形
成した場合における、被膜厚と鉄損との関係を5i(h
/LitOモル比をパラメータとして示したグラフであ
る。
成した場合における、被膜厚と鉄損との関係を5i(h
/LitOモル比をパラメータとして示したグラフであ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非晶質合金薄帯の表面に、SiO_2/Li_2O
のモル比を5〜8の範囲に調整したけい酸リチウムを主
成分とする水溶液を塗布したのち、 100〜300℃の温度範囲で乾燥ついで焼付けること
を特徴とする非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法。 2、焼付け後の被膜厚が、0.05〜1μmである特許
請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19609885A JPS6257677A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19609885A JPS6257677A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6257677A true JPS6257677A (ja) | 1987-03-13 |
Family
ID=16352184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19609885A Pending JPS6257677A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 非晶質合金薄帯の絶縁被膜形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6257677A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5012453A (ja) * | 1972-06-30 | 1975-02-08 | ||
JPS5128650A (ja) * | 1974-09-05 | 1976-03-11 | Nippon Denki Keiki Kenteisho |
-
1985
- 1985-09-06 JP JP19609885A patent/JPS6257677A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5012453A (ja) * | 1972-06-30 | 1975-02-08 | ||
JPS5128650A (ja) * | 1974-09-05 | 1976-03-11 | Nippon Denki Keiki Kenteisho |
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