JPS6251941B2 - - Google Patents

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JPS6251941B2
JPS6251941B2 JP9507581A JP9507581A JPS6251941B2 JP S6251941 B2 JPS6251941 B2 JP S6251941B2 JP 9507581 A JP9507581 A JP 9507581A JP 9507581 A JP9507581 A JP 9507581A JP S6251941 B2 JPS6251941 B2 JP S6251941B2
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JP
Japan
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tetrahydronaphthalene
optically active
racemic
derivative represented
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Expired
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JP9507581A
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English (en)
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JPS57209235A (en
Inventor
Takeo Suzukamo
Yoji Sakito
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Priority to EP82105071A priority patent/EP0071006B1/en
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は式()で示される新規な光学活性ま
たはラセミのテトラヒドロナフタレン誘導体及び
その製造方法に関するものである。
(式中、Rは水素またはアルキル基を示し、X
はハロゲン原子を示す。) 式()で示される新規化合物は医薬、農薬、
香料等の中間原料として有用な化合物である。例
えば、式()で示される化合物のハロメチル基
を水素化分解した後、アセチル化した化合物は香
料として重要である。それらの中で、7―アセチ
ル―1,1,3,4,4,6―ヘキサメチル―
1,2,3,4―テトヒドロナフタレン(商品名
トナリツド)は香料の領域において価値あるじや
香様の香りを有し、香粧品香料として重要な位置
を占めている。式()で示される化合物のう
ち、Rがメチル基のものを用いればこの化合物へ
誘導できる。
本発明はまた式()で示される光学活性また
はラセミのテトラヒドロナフタレン誘導体の製造
法をも提供するものである。すなわち、式()
で示される光学活性またはラセミのテトラヒドロ
ナフチル酢酸誘導体をハロゲン化脱炭酸すること
を特徴とする式()で示される光学活性または
ラセミのテトラヒドロナフタレン誘導体の製造方
法である。
(式中、Rは水素又はアルキル基を示す。) 式()で示される光学活性またはラセミのテ
トラヒドロナフチル酢酸誘導体の製造方法に関し
て本発明者らは4―(2―メチルプロペニル)―
5,5―ジメチル―テトラヒドロ―2―フラノン
通称パイロシンをフリーデルクラフツ触媒の存在
下芳香族炭化水素と反応させることによつてある
いはパイロジンと芳香族炭化水素を酸触媒で反応
させてラクトン誘導体とし、次いでフリーデルク
ラフツ触媒下処理することによつて製造できるこ
とを新たに見い出した。この場合、光学活性パイ
ロシンを用いれば光学活性な式()で示される
化合物が得られる極めて特徴的な製造法である。
反応式で示せば以下の如くである。
式()で示される光学活性またはラセミのテ
トラヒドロナフチル酢酸誘導体(以下カルボン酸
と略称する)から式()で示される新規な光学
活性またはラセミのテトラヒドロナフタレン誘導
体の製造法としては種々の方法がとられるが、例
えば以下に述べるハロゲン化脱炭酸法があげられ
る。すなわち、カルボン酸を四酢酸鉛とアルカリ
金属ハライドの存在下に加熱すれば容易にハロゲ
ン化脱炭酸反応が進行し、目的とする化合物が得
られる。さらに詳しく説明すれば、本反応を実施
するに際して本反応を本質的に阻害しない溶媒で
稀釈することが好ましい。このような溶媒として
はベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素、ク
ロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、アセトニ
トリル等が挙げられる。またアルカリ金属ハライ
ドとしては塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化
リチウム、臭化リチウム、沃化リチウムなどが用
いられるが塩化リチウムが好ましいものである。
反応温度は通常常温から140℃、好ましくは30℃
から100℃である。本反応に用いる四酢酸鉛、ア
ルカリ金属ハライド(例えば塩化リチウム)の量
は、理論的には被処理カルボン酸1モルに対して
各々当モルを必要とする。反応率を高めるために
四酢酸鉛を過量用いることも可能であり、例えば
2倍モル以下である。これ以上用いることは副反
応を促すところとなり得策ではない。しかし、副
生物の生成を極力抑え、目的物の選択率を上げよ
うとすれば、当モル以下用いることも可能であ
る。精製した四酢酸鉛を用いると一層良い結果を
与える。アルカリ金属ハライドの量も前述のよう
に被処理カルボン酸1モルに対し、理論的には当
モルを必要とするが、反応率を高めるために過剰
用いることもできるし、選択率を上げようとすれ
ば、当モル以下用いてもよい。通常は用いる四酢
酸鉛当り0.5乃至3倍モルである。反応時間は反
応条件によつて変りうるが通常30分から10時間で
目的を達することができる。反応の進行度はガス
クロマトグラフイー、薄層クロマトグラフイー、
IRスペクトル、NMRスペクトルなどの分析手段
によつて知ることができる。反応を終了した液よ
り二酢酸鉛等の無機化合物を除いた後、濃縮すれ
ば本発明の化合物が得られる。必要によつては抽
出、蒸留、クロマトグラフイー等の通常の手段で
精製することも可能である。
以下実施例によつて本発明の化合物及び製造法
を説明する。
実施例 1 (R)―3―(カルボキシメチル)―1,1,
4,4,6―ペンタメチル―1,2,3,4―テ
トラヒドロナフタレン(〔α〕546−23.8゜(C1、
ベンゼン))2.00g(7.69mmol)を30mlのベンゼ
ンに溶解し四酔酸鉛4.00g(9.02mmol)無水塩
化リチウム0.80g(18.9mmol)を加え、6時間
加熱還流した。反応液を水、次いで希塩酸で洗浄
後、6%アンモニア水で未反応カルボン酸を除去
した。ベンゼン層を乾燥、濃縮後カラムクロマト
グラフイーで精製し1.22g(4.87mmol)の
(s)―3―(クロロメチル)―1,1,4,
4,6―ペンタメチル―1,2,3,4―テトラ
ヒドロナフタレンを得た。アンモニア水層から
0.35g(1.34mmol)の未反応カルボン酸を回収
した。収率は消費カルボン酸あたり77%であつ
た。
〔α〕546+26.1゜(C1、n―ヘキサン)NMR
(CCl4)δ(ppm)=1.08(3H,S)、1.24(3H,
S)、1.32(3H,S)、1.39(3H,S)、1.48〜
1.95(3H,m)、3.23(1H,t)、3.87(1H,
dd)、6.77〜7.20(3H,m) 実施例 2 (s)―3―(カルボキシメチル)―1,1,
4,4,6―ペンタメチル―1,2,3,4―テ
トラヒドロナフタレン(〔α〕546+23.8゜(C1、
ベンゼン))を用いて実施例1と同様に行ない
(R)―3―(クロロメチル)―1,1,4,
4,6―ペンタメチル―1,2,3,4―テトラ
ヒドロナフタレンを得た。
〔α〕546−26.2°(C1,n―ヘキサン)、NMR
スペクトルは実施例1のものと同じであつた。
実施例 3 2―(カルボキシメチル)―1,1,4,4,
6―ペンタメチル―1,2,3,4―テトラヒド
ロナフタレン30g(0.115mol)を570gのベンゼ
ンに溶解し、四酢酸鉛66g(0.149mol)、無水塩
化リチウム11.5g(0.271mol)を加え、80℃まで
昇温した。6.5時間撹拌後、反応液を水、次いで
希塩酸で洗浄後、6%アンモニア水で未反応カル
ボン酸を分別した。ベンゼン層を芒硝で乾燥後、
濃縮し、18.9g(0.075mol)の2―(クロロメチ
ル)―1,1,4,4,6―ペンタメチル―1,
2,3,4―テトラヒドロナフタレンを得た、ア
ンモニア水層から9.8gの未反応カルボン酸を回
収した。
NMR(CCl4)δ(ppm)=1.08(3H,s)、1.24
(3H,s)、1.32(3H,s)、1.39(3H,
s)、1.48〜1.95(3H,m)、3.23(1H,
t)、3.87(1H,dd)、6.77〜7.20(3H,
m) 参考例 1 (s)―4―(2―メチルプロペニル)―5,
5―ジメチルテトラヒドロ―2―フラノン
(〔α〕D−62.5゜(C0.5、エタノール))2.50g
(14.9mmol)を30mlのトルエンに溶解し、無水塩
化アルミニウム2.10g(15.8mmol)を加え、10
℃で5時間撹拌した。18%塩酸10mlを加え分液
後、希塩酸で洗浄した。トルエン層を5%アンモ
ニア水で抽出し、50%硫酸で酸析し、トルエンで
抽出した。飽和食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥し、
減圧下トルエンを留去し3.79gの生成物を得た。
(〔α〕546−23.8゜(C1、ベンゼン))生成物を加
熱n―ヘキサンに溶解後、冷却し析出した結晶を
別し、液を濃縮して3.42g(13.2mmol、88
%)の(R)―3―(カルボキシメチル)―1,
1,4,4,6―ペンタメチル―1,2,3,4
―テトラヒドロナフタレンを得た。
〔α〕546−26.2゜(C1、ベンゼン) NMRスペクトル(CDCl3)δ(ppm)=1.10
(3H,s)、1.28(6H,s)、1.34(3H,s)、
2.30(3H,s)、1.54〜2.83(5H,m)、6.86〜
7.31(3H,m)、12.17(1H,s) IRスペクトル(cm-1):1705(C=0) 参考例 2 (R)―4―(2―メチルプロペニル)―5,
5―ジメチルテトラヒドロ―2―フラノン
(〔α〕D+62.5゜(C0.5、エタノール))2.50g
(14.9mmol)を用いて参考例1と同様の操作を行
ない(s)―3―(カルボキシメチル)―1,
1,4,4,6―ペンタメチル―1,2,3,4
―テトラヒドロナフタレン3.35g(12.9mmol,
86%)を得た。
〔α〕546+26.3゜(C1、ベンゼン) NMR,IRスペクトルは参考例1のものと同じ
であつた。
参考例 3 (s)―4―(2―メチルプロペニル)―5,
5―ジメチルテトラヒドロ―2―フラノン
(〔α〕D−62.5゜(C0.5、エタノール))16.6g
(98.8mmol)を200mlのトルエンに溶解し、無水
塩化アルミニウム15.8g(118.5mmol)を加え、
70℃で2時間撹拌した。18%塩酸70mlを加え分液
後、希塩酸で洗浄した。トルエン層を5%アンモ
ニアで抽出後、水層を希硫酸で酸析しトルエンで
抽出した。飽和食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥し、
減圧下トルエンを留去し、25.17gの生成物を得
た。これをn―ヘキサンから再結晶し4.37g
(16.8mmol、17%)の2―(カルボキシメチル)
―1,1,4,4,6―ペンタメチル―1,2,
3,4―テトラヒドロナフタレンを得た。
NMR(CDCl3)δ(ppm)=1.08(3H,s)、1.31
(6H,s)、1.35(3H,s)、2.30(3H,
s)、1.53〜2.83(5H,m)、6.87〜7.30
(3H,m)、12.17(1H,s) IR(cm-1):1705 なお再結晶液を濃縮し20.8gの位置異性体の
混合物を得た。
参考例 4 窒素中水素化リチウムアルミニウム9.56g
(0.252mol)をTHF70mlに懸濁させ(s)―3―
クロロメチル―1,1,4,4,6―ペンタメチ
ル―1,2,3,4―テトラヒドロナフタレン
(〔α〕D+26.2゜(C1、n―ヘキサン))62.9g
(0.251mol)のTHF溶解を滴下した。15時間加熱
還流後、窒素中含水THFで反応液を処理後5%
塩酸600mlを加え、n―ヘキサンで抽出した。抽
出液を飽和食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮、蒸留し
46.0g(0.213mol、85%)の(s)―1,1,
3,4,4,6―ヘキサメチル―1,2,3,4
―テトラヒドロナフタレンを得た。
〔α〕546−49.1゜(C1、クロロホルム) bp0,5=91℃ NMR(CCl4)δ(ppm)=0.96(3H,d)、1.03
(3H,s)、1.21(3H,s)、1.24(3H,
s)、1.28(3H,s)、1.34〜1.86(3H,
m)、2.25(3H,s)、6.71〜7.14(3H,
m) 参考例 5 (s)―1,1,3,4,4,6―ヘキサメチ
ル―1,2,3,4―テトラヒドロナフタレン
(〔α〕546−49.1゜(C1、n−ヘキサン))100.0g
(0.463mol)を300gの1,2―ジクロロエタンに
溶解し38.0g(0.484mol)の塩化アセチルと71.0
g(0.533mol)の無水塩化アルミニウムを加え、
20℃で1時間撹拌した。反応液を300mlの10%塩
酸で処理した後、分液した。有機層を希塩酸次い
で飽和炭酸ソーダ水溶液で洗浄後、乾燥、濃縮蒸
留し、107.5g(0.417mol、90%)の(s)―7
―アセチル―1,1,2,4,4,6―ヘキサメ
チル―1,2,3,4―テトラヒドロナフタレン
を得た。
bp0.2=109℃ 〔α〕546+36.9゜(C1、エタノール)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式()で示される光学活性またはラセミの
    テトラヒドロナフタレン誘導体。 (式中、Rは水素またはアルキル基を示し、X
    はハロゲン原子を示す。) 2 式()で示される光学活性またはラセミの
    テトラヒドロナフチル酢酸誘導体をハロゲン化脱
    炭酸することを特徴とする式()で示される光
    学活性またはラセミのテトラヒドロナフタレン誘
    導体の製造方法。 (式中、Rは水素またはアルキル基を示し、X
    はハロゲン原子を示す。) 3 特許請求の範囲第2項に記載の方法において
    ハロゲン化脱炭酸法として四酢酸鉛とハロゲン化
    アルカリ金属を用いることを特徴とする式()
    で示される光学活性またはラセミのテトラヒドロ
    ナフタレン誘導体の製造方法。 (式中、Rは水素またはアルキル基を示し、X
    はハロゲン原子を示す。)
JP9507581A 1981-06-11 1981-06-18 Tetrahydronaphthalene derivative and its preparation Granted JPS57209235A (en)

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EP82105071A EP0071006B1 (en) 1981-06-11 1982-06-09 Tetrahydronaphthalene derivatives and their production
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US06/902,063 US4767882A (en) 1981-06-11 1986-08-26 Tetrahydronaphthalene derivatives and their production

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