JPS625184B2

JPS625184B2 -

Info

Publication number: JPS625184B2
Application number: JP52157081A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Inoe; Tsumoru Kuwabara; Kyotaka Yoshe
Original assignee: Asahi Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 1977-12-26
Filing date: 1977-12-26
Publication date: 1987-02-03
Also published as: JPS5487744A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、新規な架橋ポリエチレン系フイルム
の製造方法に関し、さらに詳しくは、透明性の優
れた架橋ポリエチレン系フイルムの製造方法に関
するものである。従来、架橋ポリエチレン系フイルムを製造する
方法は、例えば特公昭37−18893号公報により公
知である。この方法で得られる架橋ポリエチレン
系フイルムは、無架橋ポリエチレン系フイルムに
比べて、透明性、引張強度、熱収縮応力等の諸特
性が著しく改善されたフイルムである。しかし、
この方法で得られる架橋ポリエチレン系フイルム
においても、使用するポリエチレン系樹脂の密度
が大きくなると、無架橋ポリエチレン系フイルム
に比べれば、透明性は、改善されているものの、
２軸延伸ポリプロピレンフイルム、ポリ塩化ビニ
ルフイルムやセロハンフイルムに比べると一段と
透明性の悪いフイルムしか得られない。また、密
度の小さい低密度ポリエチレン系樹脂を使用する
場合においても、架橋割合を示すゲル分率が低く
なるにつれ、透明性が悪くなり、フイルムの溶断
性やヒートシール性を改善するためにゲル分率を
低くすると、透明性が悪化し、目的のフイルムが
得られなくなるという欠点があつた。本発明者ら
は、上記の欠点を改善するために、鋭意検討を行
つた結果、本発明のフイルムとその製造方法を完
成するに至つた。本発明の目的は、架橋ポリエチレン系フイルム
の特性、例えば優れた引張強度、熱収縮特性を保
持し、特公昭37−18893号公報に記載の方法より
得られる架橋ポリエチレン系フイルムよりも、さ
らに透明性の改良されたフイルムを提供すること
と、そのようなフイルムの製造方法を提供するこ
とであり、これは本発明に従つてポリエチレン系
樹脂100重量部に対して、リン系酸化防止剤0.05
〜１重量部添加した組成物をシート又はチユーブ
状に溶融押出成形し得られた成形物を、ゲル分率
が、３〜80％になる様にイオン化放射線照射し、
熱間で少くとも、一方向に延伸して得られた架橋
ポリエチレン系フイルムによつて達成される。本発明について詳細に説明すると、本発明はポ
リエチレン系樹脂にリン系酸化防止剤を添加した
組成物からなるフイルムに、イオン化放射線を照
射して架橋せしめ、熱間に少くとも１方向以上延
伸することを特徴とする透明性の極めて優れた架
橋ポリエチレン系フイルム及びその製造方法にあ
る。本発明において、ポリエチレン系樹脂とは、
各種密度のポリエチレン又は、ポリエチレン含量
が、50重量％以上のエチレンとプロピレン、１−
ブテン、１−ペンテン等のα−オレフイン、酢酸
ビニル、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化
ビニル等のビニル系単量体との共重合体であつ
て、かかるポリエチレン系樹脂の１種もしくは２
種以上の混合物が使用される。そして、本発明で
使用されるリン系酸化防止剤として、

【式】（R₁、R₂、R₃は、Ｈ、アルキル、アリル、アルカリル、アルケニル、シクロアリフア
テイツク、ベンジルで同一または異種）の構造を
有する亜リン酸エステルが使用され、具体的に、
トリフエニルホスフアイト、トリデシルホスフア
イト、トリスノニルフエニルホスフアイト、トリ
オクチルホスフアイト、トリドデシルホスフアイ
ト、トリオクタデシルホスフアイト、トリドデシ
ルトリチオホスフアイト、トリ−β−ナフチルホ
スフアイト、トリオクチルフエニルホスフアイ
ト、トリ２−エチルヘキシルホスフアイト、トリ
オレイルホスフアイト、トリアリルホスフアイ
ト、トリシクロヘキシルホスフアイト、トリテト
ラヒドロフルフリルホスフアイト、トリベンジル
ホスフアイト、ジフエニルデシルホスフアイト、
ジデシルフエニルホスフアイト、ジフエニルイソ
オクチルホスフアイト、ノニルフエニルジ−ｎ−
プロピルホスフアイト等およびその他誘導体が使
用される。そして、本発明において、ポリエチレン系樹脂
100重量部に対して、リン系酸化防止剤は、0.01
〜３重量部、好ましくは、0.05〜１重量部の割合
で混合される。0.01重量部未満では、照射架橋と
の併用による相乗効果がみられず、また３重量部
以上添加しても、効果はそれ以上向上せず、照射
により着色することがあり、上記した0.05〜１重
量部が適当である。ポリエチレン系樹脂とリン系
化合物の混合方法としては、通常使用されるバン
バリーミキサー、混合ロール等を用いて常温又は
加熱混合すれば良く特に方法について限定するも
のではない。樹脂の押出は、通常の押出機を用い
て、必要な厚さのシート又はチユーブを成形する
ものであるが、密度の大きなポリエチレン系樹脂
をチユーブ状に押出する際には、本発明者らによ
つて、最近発明された、内マンドレルを使用し
て、チユーブの内外から急冷することにより、本
発明の効果をさらに発現できる成形物が得られ
る。この場合、シート又はチユーブの厚さは、イ
オン化放射線を均一に照射できる厚さであれば良
く、延伸倍率と延伸後のフイルム厚さにより決ま
るものであるが、通常50μ〜1000μの範囲が、取
り扱い上も、照射架橋を均一に行う上からも適当
である。イオン化放射線の照射による架橋割合
は、ゲル分率で表わすが、本発明の効果を発現さ
せるためには、３〜80％の範囲が適当である。な
お、ゲル分率は、沸とうＰ−キシレンで試料を抽
出し、不溶解部分の割合を次式により表示したも
のである。ゲル分率（％）＝（Ｐ−キシレン抽出前の試料重量）−（Ｐ−キシレンに抽出された試料重量）／（Ｐ−キシレン抽出前の試料重
量）×100（％）ゲル分率が、３％末満になると均一な延伸がで
きない。またゲル分率が80％を超えると架橋によ
り伸びが小さくなり延伸倍率が制限される。この
ため上記した３〜80％の範囲が延伸倍率として適
当である。延伸加熱温度は、樹脂の融点付近から
融点以上50℃以下の温度が、均一延伸性及び冷却
効果の点から適当であり、この範囲内で延伸され
たフイルムは、架橋ポリエチレン系フイルムの特
徴である熱収縮特性が良好である。延伸は、機械
方向（以下MDという）と横方向（以下CDとい
う）に行うが、少くとも一方向に面積延伸倍率で
４倍以上行うことにより、本発明の効果を発現で
きる。延伸倍率は、一方向に15倍程度までとるこ
とができるが、シート又はチユーブの厚さと製品
フイルムの厚さの関係及びMD又はCDの延伸倍
率のとり方によつて選べば良いが、面積延伸倍率
で上記した４倍以上で目的を達することができ
る。得られるフイルムの機械的物性及び熱収縮特
性は、架橋ポリエチレン系フイルムと同様の効果
が表われており、未架橋延伸フイルムに比べて格
段に良くなる。そして本発明によつて得られる架
橋ポリエチレン系フイルムは、低密度ポリエチレ
ン系フイルムでヘイズ≦0.4％、高密度ポリエチ
レン系フイルムでヘイズ≦0.5％であり、いずれ
の場合でも本発明によつて極めて透明性の優れた
フイルムを得ることができる。また、ゲル分率の
低いフイルムにおいても本発明によれば良好な透
明性を付与できるため、溶断性、ヒートシール性
が良好でかつ透明性の良好なフイルムを得ること
ができ、得られたフイルムは巾広い用途に使用で
きる。プラスチツク加工で通常用いられるその他
少量の添加剤や改質剤、すなわち防曇剤、ブロツ
キング防止剤、スリツプ剤、顔料着色剤、帯電防
止剤等が本発明の架橋ポリエチレン系フイルムの
製造に際して用いられることができる。次に本発明を、実施例によりさらに詳細に説明
するが、これは発明を限定するものではない。実施例１高密度ポリエチレン（メルトインデツクス＝
1.0密度＝0.950、融点＝126℃）100重量部に対し
て、トリス（ノニル・フエニル）ホスフアイト
0.5重量部をニーダーを用いて、150℃で20分間混
練した後、45mmφ押出機で、ダイ温度240℃で200
μ厚みのチユーブ状フイルムを成形した。このチ
ユーブ状フイルムをフラツトにし、電子線照射装
置（日新ハイボルテージ社製）で500KV−25ｍＡ
の条件で、ゲル分率58％になるように照射した。この照射架橋したチユーブを、赤外線加熱炉を
通して加熱し、フイルム温度130℃で、MD方向
に5.2倍、CD方向に5.4倍延伸して架橋ポリエチ
レンフイルムを得た。このフイルムは、引張強
度、熱収縮応力の優れた透明性の極めて良好なフ
イルムであつた。諸物性は、第１表のとおりであ
つた。

【表】比較例１トリス（ノニル・フエニル）ホスフアイトを添
加しない以外は、実施例１と同様の条件で架橋ポ
リエチレンフイルムを成膜したが、得られたフイ
ルムはヘイズ＝2.8％、クロス＝100と実施例１に
比べて透明性の悪いものであつた。実施例２低密度ポリエチレン（メルトインデツクス＝
0.4密度＝0.920、融点＝107℃）と高密度ポリエ
チレン（メルトインデツクス＝1.0、密度＝
0.950、融点＝126℃）を３対１の割合で混合した
樹脂100重量部に、ジフエニルイソデシルホスフ
アイト0.3重量部添加した組成物からつくられた
500μ厚みのチユーブ状フイルムに電子線照射し
て、ゲル分率24％になるように架橋し、延伸温度
130℃で、MD方向に６倍CD方向に４倍延伸し
て、架橋ポリエチレンフイルムを得た。このフイ
ルムはゲル分率が低いにもかかわらず、極めて透
明性の優れたフイルムであつた。諸物性は第２表
のとおりであつた。比較例２ジフエニルイソデシルホスフアイトを添加しな
い以外は、実施例２と同様の条件で架橋ポリエチ
レンフイルムを得た。諸物性は第２表に示すとお
りであつた。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】

１ポリエチレン系樹脂100重量部に対してリン
系酸化防止剤0.05〜１重量部添加した組成物を、
シート又はチユーブ状に溶融押出成形し、得られ
た成形物をゲル分率が３〜80％になるようにイオ
ン化放射線照射し、熱間で少なくとも一方向に面
積延伸倍率で４倍以上延伸しフイルムの透明性を
改善することを特徴とする架橋ポリエチレン系樹
脂フイルムの製造方法。