JPS6251668A - 光分解により開裂可能なn−アシル化立体障害性アミン - Google Patents

光分解により開裂可能なn−アシル化立体障害性アミン

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JPS6251668A
JPS6251668A JP61201222A JP20122286A JPS6251668A JP S6251668 A JPS6251668 A JP S6251668A JP 61201222 A JP61201222 A JP 61201222A JP 20122286 A JP20122286 A JP 20122286A JP S6251668 A JPS6251668 A JP S6251668A
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JP
Japan
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group
carbon atoms
formula
tables
phenyl
Prior art date
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Application number
JP61201222A
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English (en)
Inventor
ゴツトヴイン ベルナー
マリオ スロンゴ
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • C07D235/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
    • C07D235/02Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
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    • C07D211/36Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/40Oxygen atoms
    • C07D211/44Oxygen atoms attached in position 4
    • C07D211/46Oxygen atoms attached in position 4 having a hydrogen atom as the second substituent in position 4
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07D471/02Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D471/10Spiro-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光分解により開裂可能なN−アシル化立体#害
性アミン、および光誘起損傷に対しポリマーを安定化す
るための、時に醒硬化性樹脂金安だ化するためのその使
用方法に関する・立体障害性アミンは有効なポリマー用
光安定剤であめ。特Vc直要なことは、艮朗実用寿命が
必要とされる工業用仕上材、し1jえば自動車仕上材ま
たは機械仕上材を製造するだめのフェスの光保護にある
。酸触媒化焼付フェスはこのような仕上材を得るのによ
く使用される。酸硬化触媒並びにアミン光安定剤の、か
かるフェスへの硬化前添加は、これら両成分の望ましく
ない相互作用の債果となる。この問題は欧州特許出願第
E:P−A−52073号の救えに従ってN−アシル化
ピペリジンを“アミン光安定剤1として使用することに
より克服することができる。これら化合物はもはや塩基
性でなく、よって酸触媒との、f[互作用を起さない。
しかし、N−アシル化ピペリジンの光保護作用は通常類
似のN−未置換またはN−アルキル化ピペリジンのそれ
よシ劣る。従ってH題は、酸触媒との相互作用を受けず
かつ部付ワニス中でN−未置換ま九はN−アルキル化ア
ミン光安定剤と同等に良好な光安定化効果を誘導する光
安定剤を提供することにある。°また同様の考慮が酸硬
化性樹脂に、フェスとしての有用性は別として、適用さ
れる。
本発明者は、このuJj題は、照射により樹噌を硬化し
た後光分解によって開裂したN−未a換アミ/光安定剤
に転換することができるN−アシル化立体障害性アミン
を光安定剤として使用することにより解決できることを
見い出した。
この光分解的硬化性アミン光安定剤は、これまで当業者
に知られておらず、従ってこの目的のためにt待に開発
せねばならないものでちった。
したがって、本発明は式I 〔式中、 rnは1,2−ま之は3を表わし、 A n B−” −CO−t タlri B: −CH
z  ’M l 式中、R1はフェニル基ま之は・・ロ
タン賦子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素
原子数1ないし4のアルコキシ基もしくはヒドロキシル
によって置換されたフェニル基を表わすか、あるいはナ
フチル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、シ
クロへキシルオキ7基、フェノキ7基またはベンジルオ
キ7基を表わし、そしてまたm = 1の場合、基Bで
あってよく、tは・・ロタン原子、フェニル基、ナフチ
ル基、−CN、 −P(0)(0几”)、 、−CH,
COまたは一0ル4(式中、几は炭素原子数1ないし4
のアルキル基またはフェニル基金表わし、そして Rriフェニル基またはハロゲン原子もしくは炭素原子
数1ないし4のアルキル基によって置換されたフェニル
4を表わす)を表わす)を表わし、そしてBは立体障薯
性窒素原子を弁してA−CO−基に結合する原子11j
fi nlの立体#沓性環状アミン基を表わす〕で表わ
される化合物に関する。
環状アミン基Bは4tIs注厘素原子に加えて他のヘテ
e1原子も含む5,6.または7員環であってよい。し
かし、基Bは芳香族a素環基金表わさない。時に、m=
1の場汀、Bは式II、弐■ 〔式中、 a’h 水素原子、−ott’ 、 −o−c−a’ 
l −0−C−N)i410、−N(LL101%”)i−
4わl、、R’バーtJH−! fcu −OR’ f
zAワI、、ソLテa’u−〇ルー2.−CN、−CO
OIL13もしくは一〇〇NH,を表わし、または Ws?よびKは一緒になってオキソ−’& (= 0 
)を表わし、あるいはEL6およびルアは、これらに結
合する炭素原子と一緒になって、2−スピロ−1,5−
ンオキノラ/、2−スピロ−1,6−ジオキサ/、5−
スピロ−1,5−オキサゾリジン、2−スピロ−1,5
−オキサゾリジンまたは5−スビo−1.5−イミダゾ
リジン環でありかつアルキル基、置換アルキル基、アル
キレン基2よび/またはオキソ基より選ばtた1個また
はそれ以上の同一または異なる基にLつて置換されてよ
い複素環式スピロ環を形成し。
R8は炭素原子数1ないし12のアルキル基。
ベンジル基、アリル基または2−シアノエチル基を表わ
し、 ぼけ炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数
2ないし12のアルケニル基、炭素原子a5ないし8の
7クロアルキル基、フェニル基またはハロゲン原子、炭
素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルコ争シ!fsおよび/またはヒドロキシル基
によって置換されたフェニル基を表わし、あるいは炭素
原子数7ないし12のフェニルアルキル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基−またはフェノキシ基を表わ
し、 几10は炭素原子数1ないし10のアルキル基、シクロ
ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、または炭素原子
数1ないし4のアルキル基によって置換されたフェニル
基を表わし、 几11は炭素原子数2ないし12のアルカノイル基、炭
素原子a5ないし8のアルケノイル基、ベンゾイル基ま
たは式 (式中、几14および几1″  は各々曲と独立して炭
!原子fi1ないし8のアルコキシ基、フェノキシ捕−
または基−N(凡)(FL)(基中、几10は上記の意
味を表わしB16は水素原子または炭素原子a1ないし
12のアルキル基金表わす)を表わす1で表わされる基
を表わし、 几82は炭素原子数1ないし12のアルキル基を表わし
そして R13(は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし
、そしてYは水素原子、炭素19:手数1ないし12の
アルキル基、アリル基またはベンジル基を表わす〕で表
わされる基であってよい。
mが2を表わす場合、Bけ特に式■ CH1σ穐 (式中、 Zは一〇−、−NH−または−N Rtloを表f)L
BITは炭素原子数1ないし20の二価の脂肪族、脂環
式、もしくは芳香族基、または基−Nf(−几 −NH
−を表わし、 几1′は炭素原子数2ないし12の二価の脂肪族%指環
式または芳香族基を表わし、 几1”は炭素原子数2ないし16の二価の11d肪族、
脂環式、または芳#族基を表わし、R”および几14は
上記に定義した意米を表わすンで表わされる基より選択
され九二価の基でありてよい。
m = 5の場合、Bは特に式 (式中、Rは炭素原子数3ないし8の三価脂肪族基また
は炭素原子数6ないし10の三価芳7、 香族基を表わ
し、 R” dl、 5+ s−トリ7シ7−2. is、 
6−)ジイル基を表わしそしてZは上記に定義した意味
を表わす)で表わされる三価の基であってよい。
アルキル基として上記に定義した置換基は非枝分れまた
は枝分れアルキル基であってよい。
炭素原子数1ないし4のアルキル基としてのびおよびR
1”はメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソデシ
ル基、n−ブチル基、第ニブチル基、イソブチル基また
は第三ブチル基を表わす。炭素原子数1ないし12のア
ルキル基としてのBm 、 B10.几12 、 B 
111およびYはペンチル基、n−ヘキシル基、2−エ
チルブチル基、n−オクチル基、2−エチル−n−ヘキ
シルasn−ノニル基、イソデシル基またはn−ドデシ
ル基を表わす。炭素原子a1ないし18のアルキル基と
してのR9はテトラデシル基、ヘキサデシル基またはオ
クタデシル基であってよい。
炭素原子数2ないし12のアルキル基としての几8はビ
ニル基、アリル−基、2−プロペニル基、メタアリル基
、2−ブテン−1−イル基、2−ブテン−2−イル基、
2−ヘキセン−1−イル基、2−オクテン−1−イル4
ま九は10−ウンデセン−1−イル基であってよい。
炭素原子数5ないし6のシクロアルキル基としてのRP
ハシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロ
ヘキシル基またri7クロオクテル基であってよい。炭
素原子数7ないし12のフェニルアルキル基としての凡
はべ/ジル基、1−もしくは2−フェニルエチル基また
は3−7エニルプロビル基であってよい。
置換フェニル基としてのR’+l(’J?よびR9は4
−クロロノエニル、5.3−7’ロモフェニル基、2−
フルオロフェニルtss4−メチルフェニル基%214
−ジメチルフェニル基、4−第三ブチルフェニル基、5
−メトキシフェニル基、または4−エトキシフェール基
であってよい。マフ121.Wおよびル9は4−オクチ
ルフェニル基、4−ドデシルフェニルts、a−ヒドロ
キシフェニル基、2−メチル−4−ヒドロキシフェニル
基−または3,5−ジー(第三ブチル)−4−ヒドロキ
シフェニル基であってよい。
アルコキシ基としてのR,ル および几 はメトキシ基
、エトキシ基まfc、はブトギン基であってよい。また
凡 およびRはへキシルオキ/基、オクチルオキ7基、
デ/ルオ午7基またはドデシルオキ7基であってよい。
アルカノイル基またはアルケノイル羞としての几11は
アセチル基、プロピオニル店、ブチロイル基、ヘキサノ
・イル基、オクタノイル基、ラウロイル基、アクリロイ
ル居、メタアクリロイル基′またはクロトノイル基であ
ってよい。
二価の脂肪族、脂環式また;ま芳香族基としての几17
はメチレン基、1.2−エチレン基または炭素原子数3
ないし20のポリメチレン基:または枝分れ炭素原子数
5ないし20のアルキレフ基例えば1,2−プロピレン
基もしくはトリメチルテトラメチレン基;゛または炭素
原子数2ないル10のアルケニレン基例えばビニレン基
もしくは2−ブテン−1,4−イレン基:またはシクロ
アルキレン基例えば1.4−シクロヘキシレン基もしく
は1.3−シクロヘキシレン基:またはシクロアルカン
−ジアルキレン基例えばシクロヘキサン−1,4−ジメ
チレン4;またはアリーレン基例えば1,3−もしくは
1゜4−7エニレ7基、1.4−もしくは1,5−ナ7
チレン基、4el−ジフェニレン基、ジフェニルメタン
−4,4′−ジイル基もしくはジフェニルオ中りドー4
,4′−ジイル基二またはアルアルキレン基例えばm−
もしくはp−キシレン基であってよい。
二価の脂肪族、指環式または芳香族基としての几I11
は好ましくは炭素原子数2ないし8の基である。かかる
基の例として1.2−エチレン基、1,2−プロピレン
基、1,5−グロビレン基、1,2−ブチレン&、1.
4−7’チレン基、ヘキサメチレン基、1,4−シクロ
ヘキシレン基またはシクロヘキサ/−1,4−ジメチレ
7基がある。
二価の脂肪族、積場式または芳香族基としての几!”は
非枝分れもしくは枝分れアルキレン基例えば1,2−エ
チレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサ
メチレフ基、オクタメチレフ基、ドデカメチレン基、2
,2−ジメチルトリメチレン基もしくはトリメチルオク
タメチレン1二またはシクロアルキレン4例えば1−4
−シクロヘキシレン基;l’cUシクロアルカ/−アル
キレン基例えばシクロヘキサン−1,4−ジメチレン基
:”またはアリーレン基例えば1,3−フェニレン基、
4,4−ジ7工二し7基、ジフェニルメタン−4,4−
ジイル基もしくはジフェニルオキシド−4,4′−ジイ
ル基:またはアレーン−ジアルキレン縞例えばm−もし
くはp−中シリレン基であってよい。
三価の脂肪族または芳香族基としての几 はプロパ/−
1,2,3−1−リイル基、ブタン−1゜2.4−)ジ
イル基、ベンゼ:y−1.3.5−トリイル基、ベンゼ
ン−1,2,4−トリイル基またはす7タレンー1.4
.5−トリイル基でありてよい@ 式■で表わされる好ましい化合物は、式■中、Aが几”
−co−基 (基中、几1はフェニル基またはハロゲン
原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくは炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基で#を換されたフェ
ニル基または未置換ナフチル基を表わす)または几−C
H2基(基中、tはフェニル基、ナフチル基、−〇N 
tたは−C)(3COを表わす)を表わすものである。
式■で表わされる特に好ましい化合物は、式I中、人が
ベンゾイル基または−−す7チルメチル基を表わすもの
である。式!で表わされるさらに好ましい化合物は、式
I中、mが1または2を表わしかつBが式II、式1ま
たは式■で表わされる基を表わすものである。
m=1でありAがB−COを表わす場合、当該化合物は
弐B−CO−CO−8(式中5両基Bはその立体障害性
窒素原子を介して一〇〇基 と結合する)に一致するも
のとなる。
式Iで表わされる化合物は原則としてN−未置換アミン
(H)−B より相当するカルボン酸塩化物A−COC
/または無水物(A−CO)意Oとの反応により製造す
ることができる。化合物B−CO−Co−Bは2モルの
1(−Bと1モルの塩化オキサリルとの反応によシ製造
することができる。N−未置換立体障害性環状アミンは
いくつかの特許明細書、例えば米国特許明細i第564
0928号、第3790525号および第363940
?号に記載された公用化合物である。
いくつかの酸塩化物A−COC/は公知の化合物である
かまたは相当するカルボン酸より公知の方法によって、
例えば塩化チオニルとの反応によって製造することがで
きる。いくつかの無水物もまた公知であシそして列えば
ジェー。
Φヤプレーー?ヤステルグ4 (J、 Cabre −
Caste−1vi )等、合成(5ynthesis
 ) 1981 年t 616頁に記載された方法によ
り製造することができる。
式Iで表わされる各化合物の代表例を以下に掲げる。こ
れら化合物において、 ペリジ/基を示し。
ph−はフェニル基を表わしそして Naphth−はα−ナフチル基を表わj−8−ノ  
           1ノ            
  −一            −ノ       
      −−z       z       ’
z:       ’;’:式Iで表わされる化合物は
本質的に有機ポリマー用光安定剤でありそしてそれらを
照射を要さずに安定化するのに使用することができる。
このためにそれらは通常成形製品に加工する前にポリマ
ーに混入される。しかし、それら#″iまたポリマーの
製造の間に添加することもできる。
次のクラスのポリマーは、光の作用に対して鋭敏であり
かつ本発明の化合物の添加によって安定化され得るポリ
マーの例である。
1、 モノオレフィン及びンオレフィンのポリマー、例
えばポリエチレン(未架橋または架橋)、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリブテン−1、ポリメチルペ
ンテン−1、ポリインプレンもしくはポリブタジェン、
並びにシクロオレフィン例工ばシクロペンテンもしくは
ノルボルネンのポリマー。
2.1)で示したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンおよびポリエチレンもしくはポリイソブチレンの混
合物。
五 モノオレフィンおよびジ−オレフィン同士または他
のビニルモノマーとのコポリマー、たとえば、エチレン
/プロピレンコポリマー、7’ Oヒレン/フテンー1
コポリマー、フロピレン/インブチレンコポリマー、エ
チレン/ブテン−1コポリマー、プロピレン/ブタジェ
ンコポリマー、インブチレン/イソプレンコポリマー、
エチレン/アルキルアクリレートツボIJ q−、エチ
レン/アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン/
ビニルアセテートコポリマーまたはエチレン/アクリル
酸コポリマーおよびそれらの塩(イオノマー)ならびに
エチレンとプロピレンおよびジエンたとえばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジェンまたはエチリデンノルボルネ
ンとのターポリマー。
本 ポリスチレン及びポリ−(p−メチルスチレン)。
S スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、たとえばスチレン/ブ
タジェン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/ア
ルキルメタクリレート、スチレン/アクリロニトリル/
メチルアクリレート;スチレンコボリマート他のポリマ
ー、たとえば、ポリアクリレート、ジエンポリマーまた
はエチレン/プロピレン/ジェンターポリマーから得ら
れる耐衝撃性樹脂混合物;さらVcまたスチレンのブロ
ックコポリマー、たとえば、スチレン/ブタジェン/ス
チレン、スチレン/インプレン/スチレン、スチレン/
エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチレ
ン/プロピレン/スチレン。
& スチレンのグラフトコポリマー、たとえば、スチレ
ンの結合したポリブタジェン、スチレンおよびアクリロ
ニトリルの結合したポリブタジェン、スチレン及びマレ
インe無水物の結合したポリブタジェン、スチレンおよ
びアルキルアクリレートもしくはアルキルメタクリレー
トの結合したポリブタジェン、スチレンおよびアクリロ
ニトリルの結合したエチレン/プロピレン/ジェンター
ポリマー、スチレンおよびアクリロニトリルの結合した
ポリアルキルアクリレートもしくはポリアルキルメタク
リレートまたはスチレンおよびアクリロニトリルの結合
したアクリレート/ブタジェンコポリマー、およびこれ
らと5)に挙げたコポリマー、たとえば、ABS、MB
8.ASAもしく FiAESポリマーとして知られる
コポリマーとの混合物。
z ハロゲン含有ポリマー、たとえばポリクロロプレン
、塩素化ゴムまたは塩素化もしくはりcIロスルホン化
ポリエチレン、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマ
ー、たとえば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリフッ化ビニルまたはポリフッ化ビニリデン;ならび
にこれらのコポリマー、たとえば塩化ビニル/塩化ビニ
リデン、塩化ビニに/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン
/Et[ビニルポリマー。
a α、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導される
ポリマー、たとえばポリアクリレートおよびポリメタク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。
9.8)に挙げたモノマー同士のコポリマーまたFi8
)に挙げたモノマーと他の不飽和モノマーとのコポリマ
ー、たとえば、アクリロニトリル/ブタジェンコポリマ
ー、アクリロニトリル/アルキルアクリレートコポリマ
ー、アクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマーま
たはアクリロニトリル/アルキルメタクリレート/フ゛
タジエンターボリマー。
1Q  不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらの
アシル誘導体またはアセタールから誘導されるポリマー
、たとえばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リステアリン酸ビニル、ポリビニルベンゾエート、ポリ
ビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリル
フタレートまたはポリアリルメラミン。
It  J状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー
、たとえばポリエチレングリコール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グ
リシジルエーテルとのコポリマー。
12、  ポリアセタール、たとえばポリオキシメチレ
ン、ならびにコモノマーとしてたとえばエチレンオキシ
ドラ含有するポリオキシメチレン。
1五 ポリフェニレンオキシドおよびポリフェニレンス
ルフィド、並びにボリスナレンとのその混合物。
1瓜 末端水酸基を有するポリエーテル、ポリエステル
及びポリブタジェンと、脂肪族または芳香族ポリイソシ
アネートとから誘導されるポリウレタン、並びにそれら
の前駆物質(ポリイソシアネート、ポリオール、プレポ
リマー)。
1& ジアミンおよびジカルボン酸から、および/また
はアミノカルボン酸もしくは相当するラクタムから誘導
されるポリアミドおよ(J==ポリアミド、たとえばポ
リアミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリア
ミド6/10、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリ
−2,4,4−)リメチルへキサメチレンテレフタルア
ミドおよびポリ−n1−フェニレンインフタルアミド、
並びにこれらとポリエーテル、たとえば、ポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテト
ラ)fレンクリコールとのコポリマー。
1&  yl(す尿素、ポリイミド、およびポリアミド
ーイミ ド。
1z  ジカルボン酸およびジアルコールから、および
/またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトン
から誘導されるポリエステル、タトえば、ポリエチレン
テレフタレート、゛ポリフチレンチレフタレー)、ボ1
J−1.4−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエート、ならびに末端
水散基をもつポリエーテルから誘導されるブロックポリ
エーテル−エステル。
1a  ボ、リカーボネート。
19、  ホIJスルホン、ポリエーテル−スルホン並
びにポリエーテルケトン。
2α アルデヒドと、フェノール、尿素またはメラミン
とから誘導される架橋ポリマー、たとえば、フェノール
/ホルムアルデヒド樹月旨、尿素/ホルムアルデヒド樹
脂およびメラミン/ホルムアルデヒド樹脂。
21、  乾性および不乾性アルキド樹脂。
22、  飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコ
ールとの、ビニル化合物を架橋剤とする、コポリエステ
ルから誘導される、不飽和ポリエステル樹脂ならびにそ
のハロゲン原子を含む難燃性の変性樹脂。
2五 置換アクリル酸エステル、たとえば、エボ中ジア
クリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステ
ル−アクリレートから誘導される架橋性アクリル樹脂。
24メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートマた
はエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステ
ル樹脂およびアクリレート す自1脂。
25.  ポリエポキシド、たとえば、ビス−グリシジ
ルエーテルまたは脂環式ジェボキシドから誘導される架
橋エポキシ樹脂。
2& 天然のポリマー、たとえば、セルロース、天然ゴ
ノ・、ゼラチンおよびそれらの化学変性同族誘導体、た
とえば、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、セ
ルロースブチレート並びにセルロースエーテル、たトエ
ハメチルセルロース 添加される安定剤のIk#−t、安定化すべきポリマー
に基づいて、一般にα01ないし5重量%、好ましくは
α03ないし1.5重量%そして、最も好ましくはα2
ないし06重量%である。
またポリマーは他の公知安定剤、例えば酸化防止剤、光
安定剤、金属不活性化剤、亜燐酸塩、チオジカルボン酸
塩、高級脂肪酸塩または他の共安定剤を含有してよい。
またプラスチック技術にて慣用される他の改質剤、例え
ば帯電防止剤、可塑剤、潤滑剤、難燃剤、顔料、強化剤
または充填剤を添加してもよい。
安定化されたポリマーが、シート、フィラメント、フェ
ノおよび塗膜の場合であるように、薄層の形態であると
き、式Iで表わされる安定剤は短波光での照射によって
光化学的にυ;1裂し立体障害性窒素原子が未置換であ
る化合物を形成することができる。照射は好ましく I
/′1250ないし400 nmの波長のUV光を用い
て実施する。
適する照射用光源は例えば中圧、高圧および低圧水銀ラ
ング並びに超化学線ネオン管である、現在にて適する全
ての装置が、特に照射すべき材料を光源の下で運搬する
連続照射の為の装置が利用することができる。安定化ポ
リマーを戸外で使用するときも同じ効果が得られる。
最初に述べたように、N−アシル化安定剤よりN−未置
換安定剤へお光化学変換は焼付後照射を行なうことによ
って酸触媒焼付フェノを安定化するのに特に重要なこと
である。
酸硬化性フェノはとシわけアミン樹脂例えばエーテル化
、エステル化または他の変性メラミン樹脂、尿素樹脂ま
たはグアニジン樹脂を含有する結合剤に基づくものであ
る。これらフェノは通常、アミン樹脂のメチロール基と
の反応によって架橋する官能基(例えば−011または
−COOH基)を含むアルキド樹脂、ポリエステル樹脂
またはアクリル樹脂と混合して使用される。この架橋は
酸によって触媒作用を受ける。
アミン樹脂の代シに、またフェノはポリカルボキシドの
メチロール誘導体またはそのエーテルもしくはエステル
を含むことができる。スルホン酸は通常酸硬化触媒とし
て用いるが、カルボン酸またはホスホン酸またはマスキ
ングされたスルホン酸もまた適当である。
酸触媒化焼付フェノはアルキド4]i Ill、ポリエ
ステル樹脂およびアクリル樹脂同士の混合物あるいはこ
れらと他のフィルム形成樹脂との混合物をしばしば含有
する。かかるフィルム形成樹脂もまた自己架橋性であっ
てよく、例えばメチロールアミド基によって変性されて
いるとき、その場合それらはアミン樹脂オだは他の架橋
剤の添加を必要としない。
本発明の安定剤は、適用前に、好ましくはそれらを有機
溶媒中の安定剤溶液に添加することによって、フェス中
に混入される。フェノの焼付は通常100°ないし20
0℃の温度範囲にて行なう。焼付の間、安定剤は揮発お
よび分解してはならない。硬化フェノ被膜のその後の照
射までは安定剤の光化学開裂が生じない。
多くの仕上材、特に自動車仕上材のために、2コート法
は現在用いられている。この方法は始めに着色フェノそ
して次いで透明フェノをアンダーコートに塗布すること
よシなる。光安定剤は透明フェノ並びに着色フェノまた
は両塗料に添加することができる。
最大の耐光性を得るために、他の通常の光安定剤、例え
ばUV吸収剤”またtま有機ニッケル化合物の同時使用
tま有利である。2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−
(2−ヒドロキシフェニル)ベンズトリアゾールまたは
オキサニリド系のUV吸収剤(これらは相乗効果を有す
る)の同時使用はとりわけ有用である。かかる化合物の
例として2−(2−ヒドロキシ−5,5−ジー第三アミ
ルフェニル)ベンズトリアゾール、2−(2−ヒドロキ
シ−5−I三オクチルフヱニル)ベンズトリアゾール、
2−(2−ヒドロ* シー s 、 s −y −jJ
三オクチルフヱ3ル)ゝンズトリアゾール、2.4−ジ
−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オ
クチルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ド
デシルオキシベンゾフェノン、2−エチル−2−エトキ
シ−47−第三ブチルオキサルアニリドまた#−12−
エチルー2′−エトキシオキサルアニリドがある。
とのよtな組合せを使用するとき、全党安定剤の総量は
フィルム形成樹脂に基づいて、α2ないし5重量%、好
ましくはα5ないし2重量%である。
フェス中に存在してよい別の改質剤は酸化防止剤、例え
ば立体障害性フェノール誘導体系のもの、燐化合物例え
ばホスフィツトまたはホスホニット、可塑剤、均染剤、
増粘剤、分散剤オたは結合剤である。
次の実施例は本発明の化合物の製造および安定剤として
の使用を示す。
実施例1 a)1g/のピベリンンを30P([12モx)のフェ
ニルグリオキシルffVc加、ttシて1a9m(α2
6モル)の塩化チオニルを、攪拌しながら、窒素下反応
混合物の温度が25ないし50℃となるように滴下する
。その後反応混合物を24時間55°ないし40℃で攪
拌しそして最高温度40℃で真空下での蒸発により濃縮
スル。粗製残留物のフェニルグリオキシリルクロリドは
問題とならない量の粉状析出物を含有する黄色油である
。この粗生成物は更に精製せずに次の反応に使用される
b)24.1y(01モル)の4−ヘキシルオキシ−2
,2,6,6−テトラメチルビベリジンヲto。
−の無水塩化メチレン中に溶解する。この溶液に15.
2f(α15モル)の無水トリエチルアミンを添加しそ
して溶液全体を一10℃に冷却する。この温度で、10
0x/の塩化メチレン中jlbB?(α1モル)のフェ
ニルグリオキシリルクロリドの溶液を緩やかVこ滴下す
る。この添加が完了したとき、反応混合物を室温になる
まで加熱しそして約4時間攪拌する。沈殿した塩酸塩を
濾過によって除去しそして溶液を少量のシリカゲルに通
しての濾過によシ透明にしそして蒸発VCよりm縮し、
2a4tの1−(4−へキシルオキシ−2,2,6,6
−チトラメチルピベリジノ)−2−フェニルエタン−1
,2−ジオンを黄色油としてイnる(安定剤1)。
分析:理論値C=7五96tf6測定値C=7五7iH
=9.44俤     H=9.20%N= ム75チ
     N=i25%フェニルグリオキシリルクロリ
ドト相当する環状アミンとの類似の反応は次の化合物を
与える: 3−ドデシル−8−(2−フェニルエタン−1,2−ジ
オン−1−イル) −7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−)リアザスビロ〔4゜5〕デカン−2,4
−ジオン(安定剤2);分析:理論値C=7α82%測
定値C=7α46チH= 9.02%    l−1=
 a82%N= 799%    N= 7.96ql
i3−ドデシル−1,8−ビス(2−フェニルエタン−
1,2−ジオン−1−イル)−7゜7.9.9−テトラ
メチル−1,3,8−)リアザスビロ(4,5)デカン
−2,4−ジオン(安定剤3); 分析:理論値C=71.20チ測定値C=69,82%
H= 7.81%    H: 7.72%N=6.3
8チ   l’J=419チビスー(1−(2−フェニ
ルエタン−1゜2−ジオン−1−イル)−2,2,6,
6−チトラメチルピベリジンー4−イル〕了ジペート。
融点135°−167℃(安定剤4);1−(4−ベン
ゾイルオキシ−2,2,6,6−チトラメチルピペリジ
ノ)−2−7ェニルエタン−1,2−ジオン、M点12
2°−124℃(安定剤5); 1−(4−ドデシルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チル(ピペリジノ)−2−フ1ニルエタンー1.2−ジ
オン黄色油の形態にて(安定剤6); 分析:理論値C=y b、 1o条測定値(’7= 7
5.78チI−T=1α35俤   11=1[118
襲N=&(16%   N=2.95チ 実施例2 エチルオキサリルクロリド(C,H,0COCOC1)
と相当する環状アミンとの類似反応は次の化合物を与え
る: エテル2−〔4−へキシルオキシ−2、2、6,6−チ
トラメチルビペリジ/)−2−オキソアセテート(安定
剤7); 分析:理論値C=66.82φ測定値C=66.80%
H=1(L33チ   II=1α32%N:4.10
チ   N=4.07% 次式で表わ芒れる3−ドデシル−8−(エトキシオキサ
リル)−7,7,?、?−テトラメチルー1.3.8−
)リアザスピロ(4,5)デカン−2゜4−ジオン(安
定剤8) 融点81°−82℃ エチル−2−(4−ベンゾイルオキシ−2,2゜6.6
−チトラメチルビベリジノ)−2−オキソアセテート(
安定剤9); 分析:理論値C=6 &46 %測定値C3=6&35
 %H= 7.55%    )l= 7.56%N=
五88チ   N=五90% 次式で表わされるシクロヘキサンスピLl −2’−[
1−(エトキシオキサリル)−1,3−ジアゾリジン−
4−オン)−S/−スヒロシクロヘキサン(安定剤10
)、 COCOOC,Hll 融点211°−213℃; ビス〔1−(エトキシオキサリル)−2,2゜6.6−
チトラメチルビペリンンー4−イル〕アノベート(安定
剤11)、融点74°−76℃オキ丈リルクロリドとの
類似反応は次の化合物を与える。
オキサリル ジ(4−ベンゾイル−2,2,6゜6−テ
トラメチル)ピペリジド (安定剤12)、融点211°−214℃;1.1′−
オキサリル−ビス(2,2−ペンタメチレン−5,5−
ペンタメチレン−1,3−ジアゾリジン−4−オン) (安定剤13)、融点192°−195℃。
実施例3 7501dスhytt ン化75スコK、49.7p(
(L19モル)の4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,
6−チトラメチルピベリジンおよび2S4f((L 1
モル)の無水ツユニル酢酸を溝たす。混合物を窒素下1
50℃に加熱しそして結果生じた橙色溶融液を6時間こ
の温度で攪拌する。その時間の後、出発物質はもはや薄
層りμマドグラフィー(溶離剤として酢酸エチル)によ
り検出されなくなる。溶融液を冷却しその後酢酸エチル
中に溶解する。溶液をシリカゲルのカラムに通して精製
しそして蒸発によnaiaし、次式で表わされる黄色樹
脂状生成物(安定剤14)を得る。
1(、CCU。
分析:理論値C=75.96チ測定値(:=7L75チ
H=7.70チ      11=  7.56チN=
  16q%      N=  h17g。
実施例4 二層金属ワニスをアルミニウムシートに塗布スル。アン
ダーコー)(20μm)はポリエステル/セルロースア
セトブチラード/メラミン樹脂混合物に基づくアルミニ
ウム着色ワニスよりなる。ヒドロキシル化アクリル樹脂
(Macry−nal■SM 51 ON、Hoech
st AG販売)およびポリインシアネート(De 5
nlod u r■N75 、Bayer AG販売)
に基づく透明ワニス(40,ccm)をトップコートと
して塗布する。エチレングリコール/キシレン1:1混
合物中の表1に掲げた安定剤の溶液を透明ワニスに添加
する。硬化の為に、サンプルを80℃に45分間加熱す
る。サンプルをフロリダにて(南に5°傾けて)日射に
当てそして表面光沢を6ケ月の間隔毎にASTM試験法
D523に従って測定する。同一ワニスの非安定化サン
プルを地紋として用いる。
実施例5 アンダーコー) (20μm)のアルミニウム着色ポリ
エステル/七ル口−ス アセトフ゛チラート/メラミン
樹脂ワニス、および熱硬(1アクリル樹脂(Viacr
yl■VC373、Vianova販売)および架橋剤
としてメラミン樹脂(Maprenal■MF 590
 、Hoechst AG販売)に基づくトップコート
の透明ワニス(40μm)よりなる二層金属焼付ワニス
を使用してサンプルを製造する。表2に掲げた安定剤を
アクリル樹脂に添加する。サンプルを30分間130℃
で焼付ける。
サンプルをキセノン灯1200耐候試験装置中に暴露し
そして20°光沢を800時間の間隔毎にDIN675
50に従って測定する。結果を表2に示す。
顕著な亀裂が安定剤無しのサンプルにおいて2800時
間の暴露後に生じ、一方安定化サンプルにおいてFi5
200時間暴露後まで亀裂が生じなかつた。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 mは1、2または3を表わし、 AはR^1−CO−またはR^2−CH_2−基{式中
    、R_1はフェニル基またはハロゲン原子、炭素原子数
    1ないし12のアルキル基、炭素原子数、ないし4のア
    ルコキシ基もしくはヒドロキシ基によって置換されたフ
    ェニル基を表わすか、あるいはナフチル基、炭素原子数
    な いし12のアルコキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フ
    ェノキシ基またはベンジルオキシ基を表わし、そしてま
    たm=1の場合、基Bであってもよく、 R^2はハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、−C
    N、−P(O)(OR^3)_2、−CH_3COまた
    は−OR^4(式中、R^3は炭素原子数1ないし4の
    アルキル基またはフェニル基を表わし、そして R^4はフェニル基またはハロゲン原子もしくは炭素原
    子数1ないし4のアルキル基によつて置換されたフェニ
    ル基を表わす)を表わす}を表わしそしてBは立体障害
    性窒素原子を介してA−CO−基に結合する原子価mの
    立体障害性環状アミン基を表わす〕で表わされる化合物
  2. (2)上記式 I 中、mは1を表わしそして Bは式II、式III ▲数式、化学式、表等があります▼(II)▲数式、化学
    式、表等があります▼(III) ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
    等があります▼ 〔式中、 R^5は水素原子、−OR^■、▲数式、化学式、表等
    があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、−N(R^1^0
    R^1^1)を表わし、R^6は−OHまたは−OR^
    1^2を表わしそしてR^7は−OR^1^2、−CN
    、−COOR^1^3もしくは−CONH_2を表わし
    、または R^6およびR^7は一緒になってオキソ基(=O)を
    表わし、あるいはR^6およびR^7は、これらに結合
    する炭素原子と一緒になって、2−スピロ−1,3−ジ
    オキソラン、2−スピロ−1,3−ジオキサン、5−ス
    ピロ−1,3−オキサゾリジン、2−スピロ−1,3−
    オキサゾリジンまたは5−スピロ−1,3−イミダゾリ
    ジン環でありかつアルキル基、置換アルキル基、アルキ
    レン基および/またはオキソ基より選ばれた1個または
    それ以上の同一または異なる基によって置換されてよい
    複素環式スピロ環を形成し、R^5は炭素原子数1ない
    し12のアルキル基、ベンジル基、アリル基または2−
    シアノエチル基を表わし、 R^■は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原
    子数2ないし12のアルケニル基、炭素原子数5ないし
    8のシクロアルキル基、フェニル基またはハロゲン原子
    、炭素原子数、ないし12のアルキル基、炭素原子数1
    ないし4のアルコキシ基および/またはヒドロキシル基
    によって置換されたフェニル基を表わし、あるいは炭素
    原子数7ないし12のフェニルアルキル基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシ基またはフェノキシ基を表わし
    、 R^1^0は炭素原子数1ないし12のアルキル基、シ
    クロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、または炭素
    原子数1ないし4のアルキル基によって置換されたフェ
    ニル基を表わし、R^1^1は炭素原子数2ないし12
    のアルカノイル基、炭素原子数3ないし8のアルケノイ
    ル基、ベンゾイル基または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、R^1^4およびR^1^5は各々他と独立し
    て炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、フェノキシ基
    または基−N(R^1^■)(R^1^6)(基中、R
    ^1^0は上記の意味を表わしR^1^6は水素原子ま
    たは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表わす)を
    表わす}で表わされる基を表わし、 R^1^2は炭素原子数1ないし12のアルキル基を表
    わし、そして R^1^3は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
    し、そしてYは水素原子、炭素原子数1ないし12のア
    ルキル基、アリル基またはベンジル基を表わす〕で表わ
    される基より選択された基を表わす特許請求の範囲第1
    項記載の化合物。
  3. (3)上記式 I 中、mは2を表わしそして Bは式IV ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、 Zは−O−、−NH−または−NR^1^0を表わし、
    R^1^7は炭素原子数1ないし20の二価の脂肪族、
    脂環式、もしくは芳香族基、または基−NH−R^1^
    9−NH−を表わし、 R^1^8は炭素原子数2ないし12の二価の脂肪族、
    脂環式または芳香族基を表わし、 R^1^9は炭素原子数2ないし16の二価の脂肪族、
    脂環式、または芳香族基を表わし、 R^1^0およびR^1^4は特許請求の範囲第2項に
    定義した意味を表わす)で表わされる基より選択された
    二価の基を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  4. (4)上記式 I 中、mは3を表わしそして Bは、式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ (式中、R^2^0は炭素原子数3ないし8の三価脂肪
    族基または炭素原子数6ないし10の三価芳香族基を表
    わし、 R^2^1は1,3,5−トリアジン−2,4,6−ト
    リイル基を表わしそしてZは特許請求の範囲第3項に定
    義した意味を表わす)で表わされる三価の基を表わす特
    許請求の範囲第1項記載の化合物。
  5. (5)上記式 I 中、AはR^1−CO−基(基中、R
    ^1はフェニル基またはハロゲン原子、炭素原子数1な
    いし12のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4の
    アルコキシ基で置換されたフェニル基または未置換ナフ
    チル基を表わす)またはR^2−CH_2基(基中、R
    ^はフェニル基、ナフチル基、−CNまたは−CH_3
    COを表わす)を表わす特許請求の範囲第1項記載の化
    合物。
  6. (6)上記式 I 中、Aはベンゾイル基またはα−ナフ
    チルメチル基を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合
    物。
  7. (7)上記式 I 中、mは1または2を表わし、そして
    Bは式II、式IIIまたは式IVで表わされる基を表わす特
    許請求の範囲第1項記載の化合物。
  8. (8)安定化すべきポリマーに基づいて、0.01ない
    し5重量%の式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 mは1、2または3を表わし、 AはR^1−CO−またはR^2−CH_2基{式中、
    R_1はフェニル基またはハロゲン原子、炭素原子数1
    ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアル
    コキシ基もしくはヒドロキシ基によって置換されたフェ
    ニル基を表わすか、あるいはナフチル基、炭素原子数1
    ないし12のアルコキシ基、シクロヘキシルオキシ基、
    フェノキシ基またはベンジルオキシ基を表わし、そして
    またm=1の場合、基Bであってよく、 R^2はハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、−C
    N、−P(O)(OR^3)_2、−CH_3COまた
    は−OR^4(式中、R^3は炭素原子数1ないし4の
    アルキル基またはフェニル基を表わし、そして R^4はフェニル基またはハロゲン原子もしくは炭素原
    子数1ないし4のアルキル基によって置換されたフェニ
    ル基を表わす)を表わす}を表わし、そしてBは立体障
    害性窒素原子を介してA−CO−基に結合する原子価m
    の立体障害性環状アミン基を表わす〕で表わされる化合
    物を含有する光の作用に対して安定化された有機ポリマ
    ー。
  9. (9)硬化酸触媒および式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 mは1、2または3を表わし、 AはR^1−CO−またはR^2−CH_2(式中、R
    はフェニル基またはハロゲン原子、炭素 原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし
    4のアルコキシ基もしくはヒドロキシ基によって置換さ
    れたフェニル基を表わすか、あるいはナフチル基、炭素
    原子数1ないし12のアルコキシ基、シクロヘキシルオ
    キシ基、フェノキシ基またはベンジルオキシ基を表わし
    、そしてまたm=1の場合、基Bであってよく、 R^2はハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、−C
    N、−P(O)(OR^3)_2、−CH_3COまた
    は−OR^4(式中、R^3は炭素原子数1ないし4の
    アルキル基またはフェニル基を表わし、そして Rはフェニル基またはハロゲン原子もしく は炭素原子数1ないし4のアルキル基によって置換され
    たフェニル基を表わす)を表わす}を表わし、そしてB
    は立体障害性窒素原子を介してA−CO−基に結合する
    原子価mの立体障害性環状アミン基を表わす〕で表わさ
    れる化合物を含有する焼付ワニス。
  10. (10)式 I で表わされる化合物に加えて、2−ヒド
    ロキシベンゾフェノン、2−(2−ヒドロキシフェニル
    )ベンズトリアゾールまたはオキサアニリド系のUV吸
    収剤を含有する特許請求の範囲第9項記載の酸触媒化さ
    れた焼付ワニス。
JP61201222A 1985-08-27 1986-08-27 光分解により開裂可能なn−アシル化立体障害性アミン Pending JPS6251668A (ja)

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