JPS624562A - Magnetic polishing device - Google Patents

Magnetic polishing device

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JPS624562A
JPS624562A JP14506785A JP14506785A JPS624562A JP S624562 A JPS624562 A JP S624562A JP 14506785 A JP14506785 A JP 14506785A JP 14506785 A JP14506785 A JP 14506785A JP S624562 A JPS624562 A JP S624562A
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magnetic
polishing
disks
polished
disk
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Shuichi Sugawara
秀一 菅原
Hisatsugu Kaji
加治 久継
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Kureha Corp
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable the front and back surfaces of a work to be simultaneously polished in a formed polishing brush irrespective of the presence of magnetism by forming the magnetic pole S in one of opposed disks rotated in the same direction and the magnetic pole N in the other and interposing magnetic abrasives between both disks. CONSTITUTION:Two opposed magnetic disks 41 are fixedly secured to the outer periphery of a centering sleeve 42 secured fixedly to a rotary shaft 21. A permanent magnet 43 is secured fixedly between said disks and provided on the surface with a non-magnetic cover body 44. Also, on the opposed surfaces of the disks 41 are radially disposed fins 45 and magnetic lines of force generated from the permanent magnet 43 pass through the disks 41 and fins 45 to constitute a closed loop magnetic field and NS poles in the disks 41. Thus, when magnetic abrasives 40 are filled between the disks 41, they are oriented by the magnetic field to form a brush of abrasives 40. As a result, a disk D held and rotated by a shaft 28 has both surfaces polished uniformly by the brush in the same time.

Description

【発明の詳細な説明】 2特許請求の範囲 〔技術分野〕 本発明は、磁性を有する研磨剤を磁場内にて配向させて
研磨剤ブラシを形成し、このブラシによって被研磨物を
研磨する磁気研磨装置に係り、特に非磁性体の被研磨物
の研磨が可能であり、且つディスク状の被研磨物を両面
研磨などもできるようにした磁気研磨装置に関する。
Detailed Description of the Invention [Claim 2] [Technical Field] The present invention provides a magnetic polishing method in which a magnetic abrasive is oriented in a magnetic field to form an abrasive brush, and the brush polishes an object to be polished. The present invention relates to a polishing apparatus, and particularly to a magnetic polishing apparatus capable of polishing a non-magnetic object to be polished, and also capable of polishing both sides of a disc-shaped object to be polished.

〔技術的背景ならびに従来の問題点〕[Technical background and conventional problems]

被研磨物を研磨する作業は、被研磨物よりも高度の高い
研磨剤を被研磨物に当接させ、被研磨物の材質や求めら
れる研磨精度などの条件に応じた速度ならびに圧力にて
研磨剤を研磨面に摺動させるようにしている。
The work of polishing an object to be polished involves contacting the object with an abrasive that is higher in quality than the object being polished, and polishing at a speed and pressure depending on the conditions such as the material of the object to be polished and the required polishing accuracy. The agent is made to slide onto the polishing surface.

この研磨作業において、研磨面を精密に研磨するために
は研磨剤の均Tで且つ適正な圧力−が重要となる。その
ためには研磨剤を保持するう、プの材質などの技術的工
夫が必要である。この材質として従来は、布、ゴムある
いは合成樹脂などが使用されている。また、最近では、
磁気を利用した研磨装置が考えられている。この種の磁
気研磨装置の一例としては、磁性を有する研磨剤を磁場
にて配向せしめて研磨剤ブラシを構成し、この研磨剤ブ
ラシによって被研磨物を研磨するものがある。従来のこ
の種の磁気研磨装置は、旋盤などによって加工された回
転体形状の被研磨物、例えば金型やミシン用部品などを
研磨するのに最適である。
In this polishing work, in order to precisely polish the polishing surface, it is important to have an even T of the polishing agent and an appropriate pressure. To achieve this, it is necessary to consider technical innovations such as the material of the plate that holds the abrasive. Conventionally, cloth, rubber, synthetic resin, etc. have been used as this material. Also, recently,
Polishing devices using magnetism are being considered. An example of this type of magnetic polishing apparatus is one in which a magnetic polishing agent is oriented in a magnetic field to form an abrasive brush, and an object to be polished is polished by this abrasive brush. This type of conventional magnetic polishing device is most suitable for polishing objects in the shape of a rotary body processed by a lathe, such as molds and parts for sewing machines.

一方、最近では精密研磨しなくてはならない被研磨物が
多くなってきている。この種の被研磨物の例としては、
磁気ディスク、磁気テープ、アルミニウム製ディスク、
合成樹脂製ディスク、合成樹脂フィルムなどがある。こ
れらの被研磨物は研磨面が比較的広く、また研磨も高精
度にて行なわなければならない。
On the other hand, recently, there have been an increasing number of objects to be polished that require precision polishing. Examples of this type of object to be polished include:
magnetic disks, magnetic tapes, aluminum disks,
There are synthetic resin discs, synthetic resin films, etc. These objects to be polished have a relatively wide polishing surface, and must be polished with high precision.

この種の被研磨物のうちディスクを研磨する研磨装置の
一従来例な第5図とその側面図である第6図によって説
明する。この研磨@置では、ディスクDが所定の回転駆
動装置によって第5図における時計方向あるいは反時計
方向へ回転駆動される。またディスクDには研磨円盤1
が両面から対向している。各研磨円盤lは、研磨パッド
3とこれを支持する剛性プレート4とから構成されてお
り、この研磨円盤lが回転軸2によって回転駆動される
ようになっている。研磨パッド3はポリウレタンフ、オ
ームに研磨剤を混ぜたものなどによって構成されている
。この種の研磨装置では、各研磨円盤1をディスクDの
両面に圧接して回転させて研磨を行なうようになってい
る。研磨パッド3がウレタンフオームに研磨剤を混ぜた
ものなどによって形成されているので、その弾性的性質
によって研磨剤がディスクDの表面に均一な圧力にてむ
らなく接触して研磨が行なわれるようになっている。こ
の種の樹脂を混入した研磨パッド3を用いることによっ
て、適正な研磨剤の接触圧を実現できるような工夫がな
されている。この種の研磨装置としては1例えば特開昭
57−183834号公報に開示されているものがある
。しかしながら、このような研磨パッド3の改良を行な
ったとしても、研磨剤のディスクDに対する接触圧を高
精度に設定するのには限界があり、また研磨作業が進む
うちに研磨パッド3が摩耗する問題点もある。
This will be explained with reference to FIG. 5, which is a conventional example of a polishing apparatus for polishing a disk among objects to be polished, and FIG. 6, which is a side view thereof. In this polishing step, the disk D is rotated clockwise or counterclockwise in FIG. 5 by a predetermined rotational drive device. Also, disk D has a polishing disk 1.
is facing from both sides. Each polishing disk l is composed of a polishing pad 3 and a rigid plate 4 that supports the polishing pad 3, and is rotatably driven by a rotating shaft 2. The polishing pad 3 is made of polyurethane, ohm mixed with abrasive, or the like. In this type of polishing apparatus, each polishing disk 1 is pressed against both surfaces of the disk D and rotated to perform polishing. Since the polishing pad 3 is made of a mixture of urethane foam and abrasive, its elastic properties allow the abrasive to contact the surface of the disk D evenly with uniform pressure to perform polishing. It has become. By using a polishing pad 3 mixed with this type of resin, a device has been devised to realize an appropriate contact pressure of the polishing agent. An example of this type of polishing apparatus is one disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 183834/1983. However, even if such improvements are made to the polishing pad 3, there is a limit to the ability to accurately set the contact pressure of the polishing agent against the disk D, and the polishing pad 3 may wear out as the polishing work progresses. There are also problems.

さらに研磨作業が進行した後に研磨層を洗浄する必要が
あるが、このためのノズルなどの設備が必要となり、装
置が複雑になる欠点もある。
Furthermore, it is necessary to clean the polishing layer after the polishing operation has progressed, but this requires equipment such as a nozzle, which also has the drawback of complicating the apparatus.

そこで、この種のディスクDの研磨を磁気研磨装置によ
って行なうことが考えられる。磁気研磨装置では、磁場
の強さによって研磨剤が配向して均一な研磨剤面が形成
され、適正な圧力にて高精度の研磨作業が行ないやすく
なる。
Therefore, it is conceivable to polish this type of disk D using a magnetic polishing device. In a magnetic polishing device, the strength of the magnetic field orients the abrasive to form a uniform abrasive surface, making it easier to perform high-precision polishing work with appropriate pressure.

この磁気研磨装置によってディスクDなどのように比較
的面積の大きい研磨面を研磨する例としては、被研磨物
を支持するワークテーブル上に磁極を有する回転盤を設
け、この回転盤から被研磨物を透過する回路となる磁場
を形成し、回転盤と被研磨物との間の磁場内に、磁性を
有する研磨剤を配向させて介在して研磨剤によるブラシ
を形成したものがある。しかしながら、この種の磁気研
磨装置では、磁力線が被研磨物の内部を通過する構造で
あるため、磁性体の被研磨物しか処理できず、アルミニ
ウムや樹脂製のディスクの研磨が行ないにくい欠点があ
る。
As an example of polishing a relatively large polishing surface such as a disk D using this magnetic polishing device, a rotating disk having magnetic poles is provided on a work table that supports the object to be polished, and the object to be polished is There is a method in which a magnetic field is formed as a circuit that passes through the rotating disk and the object to be polished, and a magnetic abrasive is oriented and interposed in the magnetic field between the rotary disk and the object to be polished, thereby forming a brush made of the abrasive. However, this type of magnetic polishing device has a structure in which the lines of magnetic force pass through the inside of the object to be polished, so it can only process objects to be polished that are magnetic, and has the disadvantage that it is difficult to polish disks made of aluminum or resin. .

第7図はディスクなどを研磨できる磁気研磨装置の他の
従来例を示すものである。この磁気研磨装置は、ヨーク
5内に設けられた鉄芯6にコイル7が巻かれて電磁石が
構成されている。ヨーク5ならびに鉄芯6の下面には磁
極8aと8bが設けられており、両磁極8aと8bは非
磁性体9を介して接合されている。そして、この非磁性
体9が介在している部分がワークテーブル10上の被研
磨物であるディスクDに対向している。この研磨装置で
は、ディスクDが磁性体によって形成されている場合に
は、一方の磁極8aから出た磁力線がディスクD内を通
過して他方の磁極8b内へ戻るようになっている。磁極
8a、8bとディスクDとの間に、磁性を有する研磨剤
を介在させれば、この研磨剤が磁場にて配向されてブラ
シ状に構成される。磁極8a、8bとワークテーブル1
0を相対的に移動させれば、研磨剤のブラシによってデ
ィスクDの表面が研磨されることになる。また被研磨物
であるディスクDが非磁性体によって形成されている場
合には、ワークテーブル10kに磁性体による板11を
設置し、その上にディスクDを設置する。このように構
成すれば、磁極8aから磁性体の板11を通過して磁極
8bに至る磁気回路が構成され、この磁場に研磨剤を介
在させることによって研磨剤のブラシが構成できるよう
になる。よって非磁性体の被研磨物の研磨が可能になる
。この種の磁気研磨装置は1例えば特開昭59−118
0号公報に開示されている。
FIG. 7 shows another conventional example of a magnetic polishing device capable of polishing disks and the like. In this magnetic polishing device, a coil 7 is wound around an iron core 6 provided in a yoke 5 to constitute an electromagnet. Magnetic poles 8a and 8b are provided on the lower surfaces of the yoke 5 and the iron core 6, and both the magnetic poles 8a and 8b are joined via a nonmagnetic material 9. The portion where the non-magnetic material 9 is interposed faces the disk D, which is the object to be polished, on the work table 10. In this polishing apparatus, when the disk D is made of a magnetic material, lines of magnetic force emerging from one magnetic pole 8a pass through the disk D and return into the other magnetic pole 8b. If a magnetic abrasive is interposed between the magnetic poles 8a, 8b and the disk D, this abrasive is oriented by a magnetic field and formed into a brush shape. Magnetic poles 8a, 8b and work table 1
If 0 is moved relatively, the surface of the disk D will be polished by the abrasive brush. If the disk D, which is the object to be polished, is made of a non-magnetic material, a plate 11 made of a magnetic material is placed on the work table 10k, and the disk D is placed on it. With this configuration, a magnetic circuit is formed from the magnetic pole 8a through the magnetic plate 11 to the magnetic pole 8b, and by interposing the abrasive in this magnetic field, an abrasive brush can be formed. Therefore, it becomes possible to polish a non-magnetic object to be polished. This kind of magnetic polishing device is known as
It is disclosed in Publication No. 0.

しかしながら、このような磁気研磨装置では。However, in such a magnetic polishing device.

ディスク状の被研磨物の片面のみしか研磨できない欠点
がある。よって研磨作業は表裏2回行なわなければなら
ず、その度に磁場を破壊して研磨剤を回収したり、また
研磨剤を再度供給してブラシを形成しなくてはならなく
なり、段取りが煩雑になる欠点がある。
There is a drawback that only one side of the disc-shaped object to be polished can be polished. Therefore, polishing work has to be done twice, on the front and back sides, and each time the magnetic field must be destroyed to recover the abrasive, and the abrasive must be supplied again to form the brush, making the setup complicated. There is a drawback.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上記従来の問題点に着目してなされたものであ
り、ディスク状の被研磨物の裏表面を同時に且つ均一な
圧力によってむらなく研磨でき、また円盤状以外の形状
の被研磨物の研磨も行なえ、しかも非磁性体の被研磨物
の研磨も可能にした磁気研磨装置を提供することを目的
としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and is capable of uniformly polishing the back surface of a disc-shaped object to be polished at the same time and with uniform pressure. It is an object of the present invention to provide a magnetic polishing apparatus that can perform polishing and also polish non-magnetic objects.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明による磁気研磨装置は、対向して同方向へ回転す
る一対の円盤の一方にS極の磁極が他方にN極の磁極が
形成されて、この両日盤の間に磁性を有する研磨剤が介
装されて、磁場にて配向した研磨剤による研磨ブラシが
形成されており、且つこの研磨ブラシの側方に、被研磨
物の保持部材が設けられて成るものである。
The magnetic polishing device according to the present invention includes a pair of discs that face each other and rotate in the same direction, one of which has an S magnetic pole and the other a N pole, and a magnetic abrasive is placed between the two discs. A polishing brush made of abrasives oriented by a magnetic field is interposed therebetween, and a holding member for holding the object to be polished is provided on the side of the polishing brush.

以下、第1図〜第3図の図面によって具体的に説明する
Hereinafter, a detailed explanation will be given with reference to the drawings of FIGS. 1 to 3.

第1図は本発明による磁気研磨装置を示す正面図は、第
2図はその左側面図である。
FIG. 1 is a front view showing a magnetic polishing apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a left side view thereof.

図中の符号21は回転軸である。この回転軸21は軸受
22aと22bに支持されており、且つモータなどの駆
動源によって回転駆動されるようになっている0回転軸
21には一対の円盤23が対向して固設されている。こ
の円盤23は、フェライト磁石などの永久磁石24と、
その対向面に固設された軟鉄製の円板25と、さらにそ
の対向面に固設されたフィン26とから構成されている
。2つの円盤23の対向面は、一方がN極で、他方がS
極となるように磁極が構成されている。
Reference numeral 21 in the figure is a rotating shaft. This rotary shaft 21 is supported by bearings 22a and 22b, and a pair of discs 23 are fixedly mounted opposite to each other on the 0-rotary shaft 21, which is rotatably driven by a drive source such as a motor. . This disk 23 includes a permanent magnet 24 such as a ferrite magnet,
It is composed of a soft iron disc 25 fixed to the opposing surface, and a fin 26 fixed to the opposing surface. One of the opposing surfaces of the two discs 23 is a north pole and the other is a south pole.
A magnetic pole is configured to serve as a pole.

フィン26は磁性体によって形成されており、第2図に
示すように、回転軸21を中心として放射状に4枚固設
されている。このフィン26は部分的に磁束密度を高め
るために設けられているものである。
The fins 26 are made of a magnetic material, and as shown in FIG. 2, four fins 26 are fixedly arranged radially around the rotating shaft 21. The fins 26 are provided to partially increase the magnetic flux density.

符号27は注液管である。この注液管27は回転軸の中
心穴21a内に挿入されている。注液管・27の先端は
2つの円盤23の対向部分の中央まで延びている。そし
て回転軸21の半径方向に穿設された注液口21bに連
通されている。
Reference numeral 27 is a liquid injection pipe. This liquid injection pipe 27 is inserted into the center hole 21a of the rotating shaft. The tip of the liquid injection tube 27 extends to the center of the opposing portions of the two discs 23. And it communicates with a liquid injection port 21b bored in the radial direction of the rotating shaft 21.

符号28は保持軸である。この保持軸28は軸受29に
よって回転自在に支持されている。また保持軸28はモ
ータによって回転駆動されている。保持軸28の先端に
はナツトなどを用いた保持具28aが設けられており、
この保持具28aによってディスクDなどの被研磨物が
保持されるようになっている。
Reference numeral 28 is a holding shaft. This holding shaft 28 is rotatably supported by a bearing 29. Further, the holding shaft 28 is rotationally driven by a motor. A holder 28a using a nut or the like is provided at the tip of the holding shaft 28.
The object to be polished, such as the disk D, is held by this holder 28a.

第2図に示すように、架台31上には支柱32と33が
固設されている。一方の支柱32に前記軸受22aと2
2bが保持されて、これにより回転軸21が支持されて
いる。また他方の支柱33には軸受29が保持されてお
り、これによって保持軸28が支持されている。また架
台31の縁部にはカバー支柱34が固設されており、こ
の支柱34の上にはカバー35が、下にはカバー36が
各々固設されている。
As shown in FIG. 2, struts 32 and 33 are fixedly mounted on the pedestal 31. As shown in FIG. The bearings 22a and 2 are attached to one of the pillars 32.
2b is held, thereby supporting the rotating shaft 21. A bearing 29 is held on the other support 33, and the holding shaft 28 is supported by this. Further, a cover support post 34 is fixed to the edge of the frame 31, and a cover 35 is fixed to the top of this support post 34, and a cover 36 is fixed to the bottom thereof.

磁性研磨剤40は、2つの円盤23の中間に充填される
。2つの永久磁石24の間の磁場によって磁性研磨剤4
0は配向され、2つの円@23の中間に磁性研磨剤によ
る研磨剤ブラシが形成される。一方、被研磨物であるデ
ィスクDは保持軸28に保持された状態にて前記研磨剤
40によって形成されたブラシ内に挿入される。モータ
によって回転軸21と保持軸28は、第2図の時計方向
へすなわち両者が同方向へ回転駆動される。そして、研
磨剤40のブラシによってディスクDの両面が同時に研
磨される。第2図に示すように、円盤23とディスクD
は同方向へ回転するので。
The magnetic abrasive 40 is filled between the two disks 23 . The magnetic abrasive 4 is created by the magnetic field between the two permanent magnets 24.
0 is oriented, and an abrasive brush made of magnetic abrasive is formed between the two circles @23. On the other hand, the disk D, which is the object to be polished, is inserted into the brush formed by the abrasive 40 while being held by the holding shaft 28 . The rotating shaft 21 and the holding shaft 28 are rotationally driven by the motor clockwise in FIG. 2, that is, in the same direction. Then, both sides of the disk D are simultaneously polished by the brush of the polishing agent 40. As shown in FIG. 2, the disk 23 and the disk D
Because they rotate in the same direction.

ディスクDと研磨剤40のブラシとの間の相対速度を大
きくできることになる。また、第2図における (^)
部ではディスクDの角速度が小さいが、その分研磨剤4
0のブラシの角速度が大きくなっている。また(B)部
では逆にディスクDの角速度が大きくブラシの角速度が
小さくなっている。このように回転体の半径の速度差が
互いに補なわれるので、各部分が均一な条件で研磨でき
るようになる。
This means that the relative speed between the disk D and the brush of the abrasive 40 can be increased. Also, in Figure 2 (^)
The angular velocity of the disk D is small in the section, but the abrasive 4
The angular velocity of the 0 brush is increasing. In part (B), conversely, the angular velocity of the disk D is large and the angular velocity of the brush is small. In this way, the speed differences between the radii of the rotating bodies are compensated for each other, so that each part can be polished under uniform conditions.

また、研磨動作中に、注液管27へ液体を注入すれば、
液体が注液口21bから回転遠心力によって研磨剤40
の内部を外周方向へ流れる。この流れによってディスク
Dの研磨屑などを連続的に排出することが可能になる。
Also, if liquid is injected into the liquid injection pipe 27 during the polishing operation,
The liquid flows from the liquid inlet 21b into the abrasive 40 by rotating centrifugal force.
Flows inside toward the outer circumference. This flow makes it possible to continuously discharge polishing debris from the disk D.

ディスクDが非磁性体のものである場合には、その研磨
屑を液体にて排出することによって、研磨剤40の配向
性の妨げになるのを防止できることになる。
When the disk D is made of a non-magnetic material, by discharging the polishing debris as a liquid, it is possible to prevent the polishing debris from interfering with the orientation of the polishing agent 40.

第3図は本発明による磁気研磨装置を単一の磁石を用い
た構成にしたものを示す正面図であり。
FIG. 3 is a front view showing a magnetic polishing apparatus according to the present invention configured using a single magnet.

第4図はその左側面図である。FIG. 4 is its left side view.

この磁気研磨装置は1回転軸21の中央にセンタリング
用のスリーブ42が固設されており、このスリーブ42
の外周に対向する2つの円盤41が固設されている。こ
の円盤41は軟鉄などの磁性材料よって形成されている
0両日盤41の中間にはフェライト磁石などの永久磁石
43が固設されている。また永久磁石43の表面には非
磁性体のカバー44が設けられている。また、内円盤4
1の対向面にはフィン45が固設されている。このフィ
ン45は第4図に示すように、回転軸21を中心として
放射状に配置されている 永久磁石43から発せられる磁力線は円盤41ならびに
フィン45を通過して閉ループの磁界が構成され、内円
盤41にN極とS極の磁極が構成される。磁性を有する
研磨剤40は内円盤41の中間に充填され、磁場によっ
て配向されて研磨剤40によるブラシが形成される。保
持軸2Bに保持されたディスクDは上記ブラシ内に挿入
される。そして、ブラシの回転とディスクDの回転によ
って研磨が行なわれる。
This magnetic polishing device has a centering sleeve 42 fixed at the center of the one-rotation shaft 21, and this sleeve 42
Two disks 41 facing each other are fixedly installed on the outer periphery of the disk. This disc 41 is made of a magnetic material such as soft iron, and a permanent magnet 43 such as a ferrite magnet is fixed in the middle of the disc 41 . Further, a non-magnetic cover 44 is provided on the surface of the permanent magnet 43. Also, inner disk 4
A fin 45 is fixedly provided on the opposing surface of 1. As shown in FIG. 4, the lines of magnetic force emitted from the permanent magnets 43 that are arranged radially around the rotating shaft 21 pass through the disk 41 and the fins 45 to form a closed loop magnetic field, and the inner disk At 41, magnetic poles of an N pole and an S pole are configured. A magnetic abrasive 40 is filled in the middle of the inner disk 41 and oriented by a magnetic field to form a brush of the abrasive 40. The disk D held by the holding shaft 2B is inserted into the brush. Polishing is then performed by the rotation of the brush and the rotation of the disk D.

第3図に示す磁気研磨装置は、永久磁石43を1個のみ
使用して閉ループの磁界を形成しているので、構造が簡
単で効率の良い装置を構成できることになる。
Since the magnetic polishing apparatus shown in FIG. 3 uses only one permanent magnet 43 to form a closed loop magnetic field, it is possible to construct a simple and efficient apparatus.

なお、第1図と第3図の両実施例では、被研磨物として
ディスクDを示しているが、長尺物などの被研磨物を研
磨することも可能である。この場合は、長尺の被研磨物
を、研磨剤40のブラシを横切る方向へ供給し、回転す
る研磨剤ブラシによって研磨することになる。#に第3
図に示す構成の場合には、永久磁石43が回転軸21に
近い部分にある分だけ研磨剤40のブラシの面積が小さ
くなるので、長尺物の被研磨物を研磨する場合に、第1
図のものよりも適している。
In both the embodiments shown in FIGS. 1 and 3, the disk D is shown as the object to be polished, but it is also possible to polish a long object or the like. In this case, a long object to be polished is fed in a direction across the brush of the abrasive 40 and polished by the rotating abrasive brush. 3rd to #
In the case of the configuration shown in the figure, the area of the brush of the abrasive 40 becomes smaller as the permanent magnet 43 is closer to the rotating shaft 21, so when polishing a long object to be polished, the first
It is more suitable than the one shown.

また、各図では、永久磁石24.43によって磁気回路
を構成しているが、コイルによる電磁石を使用すること
も可能である。この場合、電磁石が回転するので1回転
式の電気接点を用いてコイルに通電することになる。電
磁石を使用した方が大きな磁力を得られるが、永久磁石
を使用した場合には、軽量化、コイルの発熱の防止の心
配がないなどの利点がある。また永久磁石を使用してい
る場合には、研磨剤40を配向させる磁力がやや弱くな
るが、アルミニウム製のディスクやプラスチック製のデ
ィスクなどの軟らかい被研磨物を研磨する場合には、そ
の研磨作用は十分に発揮できる。
Further, in each figure, the magnetic circuit is constituted by permanent magnets 24, 43, but it is also possible to use an electromagnet made of a coil. In this case, since the electromagnet rotates, the coil is energized using a single-rotation type electrical contact. Although it is better to use an electromagnet to obtain a larger magnetic force, the use of a permanent magnet has advantages such as being lighter and not having to worry about preventing the coil from generating heat. In addition, when a permanent magnet is used, the magnetic force that orients the abrasive 40 becomes slightly weaker, but when polishing a soft object such as an aluminum disk or a plastic disk, its abrasive action is can be fully demonstrated.

本発明による磁気研磨装置に使用される磁気研磨剤40
は従来使用されていたものと同じものでよい、しかしな
がら1本発明では、対向する円盤の間に磁界を形成し、
その間に研磨剤40を充填してブラシを形成しているの
で、この構成に適する磁気研磨剤としては、均一で且つ
細かい粒径のものがよい、また比重の小さいものが実用
上扱いやすい、磁気研磨剤40の例としては、アルミナ
−鉄系、フェライト系、または二酸化クロム系などがあ
る。これらの磁気研磨剤の中では、フェライト系(バリ
ウムフェライト等)は、板状の粒子であるため、研磨速
度は低いが、高精度の仕上げに適している。また二酸化
クロムは針状であるため、磁場における配向性が良好で
ある。
Magnetic polishing agent 40 used in the magnetic polishing device according to the present invention
may be the same as those conventionally used; however, in the present invention, a magnetic field is formed between the opposing disks,
Since the brush is formed by filling the abrasive 40 between them, the magnetic abrasive suitable for this structure should be one with a uniform and fine particle size, and one with a small specific gravity that is easy to handle for practical purposes. Examples of the abrasive 40 include alumina-iron, ferrite, and chromium dioxide. Among these magnetic abrasives, ferrite-based abrasives (barium ferrite, etc.) have plate-like particles and therefore have a low polishing rate, but are suitable for high-precision finishing. Furthermore, since chromium dioxide is acicular, it has good orientation in a magnetic field.

実際には、焼付防止、研磨表面の酸化防止、研磨剤の風
散防止などのために、研磨剤に研磨油や添加剤を加える
ことになる。これらとしては1例えば、高級脂肪酸、高
級脂肪酸の金属石鹸、高級脂肪酸エステル、鉱油、シリ
コン油などのいずれか、またはこれらの組合わせ、また
はこれらを水に分散したものなどが使用される。なお、
これらの液体を、第1図の注液管27から供給してもよ
い。
In practice, polishing oil and additives are added to the polishing agent to prevent seizure, prevent oxidation of the polishing surface, and prevent the polishing agent from scattering. Examples of these include higher fatty acids, metal soaps of higher fatty acids, higher fatty acid esters, mineral oils, silicone oils, or combinations thereof, or dispersions thereof in water. In addition,
These liquids may be supplied from the liquid injection pipe 27 shown in FIG.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

次に本考案の具体的な実施例について説明する。 Next, specific embodiments of the present invention will be described.

(実施例 1) 第1図の磁気研磨装置において、直径12o■のフェラ
イト磁石24に直径130■腸の軟鉄製円板25を固定
し、円盤23の間隔を10履■とした。研磨剤40はア
ルミナ−鉄系(鉄85% 、平均粒径5゜ト、ステアリ
ン約3z添加)のものを使用した。
(Example 1) In the magnetic polishing apparatus shown in FIG. 1, a soft iron disk 25 with a diameter of 130 mm was fixed to a ferrite magnet 24 with a diameter of 12 mm, and the spacing between the disks 23 was set to 10 mm. The abrasive 40 used was an alumina-iron based material (85% iron, average particle size 5°, addition of about 3% stearin).

被研磨物は5インチのアルミニウム製の磁気ディスク基
板であり、回転数100rp■(ディスクの外周での線
速度88cm/5ea)で2分間の研磨作業を行なった
The object to be polished was a 5-inch aluminum magnetic disk substrate, and polishing was performed for 2 minutes at a rotational speed of 100 rpm (linear velocity at the outer periphery of the disk: 88 cm/5 ea).

研磨面の研磨前の表面粗さはRsax=104mであっ
たが、研磨後の表面粗さは、ディスク外周部にてRma
x m O,3pm、内周部でRmax +Ill G
、4ILmとなった。
The surface roughness of the polished surface before polishing was Rsax = 104m, but the surface roughness after polishing was Rmax at the outer periphery of the disk.
x m O, 3pm, Rmax +Ill G at inner circumference
, 4ILm.

(実施例 2) 実施例1で示したものと同じディスクを被研磨物とし、
実施例1と同じ装置条件にし、研磨剤として二酸化クロ
ム(ステアリン酸!2添加)を使用して研磨作業を行な
った。
(Example 2) The same disk as shown in Example 1 was used as the object to be polished,
Polishing work was carried out under the same equipment conditions as in Example 1, using chromium dioxide (stearic acid!2 added) as the polishing agent.

ディスクの回転数120rp■で4分間の研磨を行なっ
た。その結果、研磨後の表面粗さが、ディスクの外周部
にてR腸ax = 0.01ルm、内周部でR腸d!=
0.01鉢mであった。
Polishing was performed for 4 minutes at a disk rotation speed of 120 rpm. As a result, the surface roughness after polishing is Rax = 0.01 m at the outer circumference of the disk, and Rd! at the inner circumference. =
It was 0.01 pot m.

(実施例 3) 装置条件は実施例1と同じとし、研磨剤40としてバリ
ウムフェライトを使用した。第1図に示す注液管27か
らラウリル酸ソーダ0.03駕、カルボキシメチルセル
ロース0.1zを含む純水を、 1oocc/minに
て供給しながら、被研磨物として直径12C■で厚さ2
■■のポリカーボネート円盤を6分間研磨した。
(Example 3) The apparatus conditions were the same as in Example 1, and barium ferrite was used as the polishing agent 40. While supplying pure water containing 0.03 g of sodium laurate and 0.1 g of carboxymethyl cellulose from the liquid injection pipe 27 shown in Fig. 1 at a rate of 1 oocc/min, the object to be polished was polished with a diameter of 12 cm and a thickness of 2 cm.
The polycarbonate disc of ■■ was polished for 6 minutes.

研磨後の表面粗さが、ディスクの外周部にてRwax 
=Q、Q44m、内周部でRmax =Q、Q4Bmで
あった。
The surface roughness after polishing is Rwax at the outer periphery of the disk.
= Q, Q44m, Rmax = Q, Q4Bm at the inner circumference.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように本発明によれば以下に列記する効果を奏す
るようになる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be achieved.

(1)ディスク状の被研磨物の場合に、その表裏面を同
時に研磨できる。よって研磨作業が効率的にできるよう
になる。
(1) In the case of a disk-shaped object to be polished, its front and back surfaces can be polished simultaneously. Therefore, polishing work can be done efficiently.

(2)対向する円盤の間に磁界を形成して研磨剤のブラ
シを形成しているので、非磁性体による被研磨物でも研
磨が可能である。
(2) Since a magnetic field is created between the opposing discs to form a polishing agent brush, even objects to be polished made of non-magnetic materials can be polished.

(3)ディスク状の被研磨物に限られず、長尺の被研磨
物であっても研磨は可能である。
(3) It is possible to polish not only a disk-shaped object but also a long object.

(0研磨剤は被研磨物に均一な圧力にて接触することに
なるので、広い研磨面であっても適正な研磨作業が行な
える。
(Since the abrasive comes into contact with the object to be polished with uniform pressure, proper polishing work can be performed even on a wide polishing surface.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による磁気研磨装置を示す正面図、第2
図はその左側面図、第3図は第1図のものと異なる構造
の磁気研磨装置の正面図、第4図はその左側面図、第5
図は従来のディスク研磨装置の正面図、第6図はその側
面図、第7図は従来のディスク用の磁気研磨装置を示す
断面図である。 21・・・回転軸、23・・・円盤、24・・・永久磁
石、25・・・軟鉄製円板、28・・・保持軸、28a
・・・保持具、40・・・研磨剤、41・・・円盤、4
3・・・永久磁石、D・・・ディスク。 第2図 1I        ・ 手続補正書印発) l 事件の表示 昭和60年特許願第145067号 2 発明の名称 磁気研磨装置 3 補正をする者 代表者 高  橋    博 4代理人 〒160 氏 名  弁理士(8545)  野 崎 照 夫8 
補正の内容 (1)明細書第2頁3行の「2特許請求の範囲」を「3
発明の詳細な説明」に訂正します。 (2)明細書第2頁12行〜13行′の「高度」を「硬
度」に訂正します。
FIG. 1 is a front view showing a magnetic polishing apparatus according to the present invention, and FIG.
The figure is a left side view, FIG. 3 is a front view of a magnetic polishing device having a structure different from that in FIG. 1, FIG. 4 is a left side view, and FIG.
6 is a front view of a conventional disk polishing device, FIG. 6 is a side view thereof, and FIG. 7 is a sectional view showing a conventional magnetic polishing device for disks. 21... Rotating shaft, 23... Disc, 24... Permanent magnet, 25... Soft iron disc, 28... Holding shaft, 28a
...Holder, 40...Abrasive, 41...Disc, 4
3...Permanent magnet, D...Disc. Figure 2 1I ・ Procedural amendments stamped) l Indication of the case 1985 Patent Application No. 145067 2 Name of the invention Magnetic polishing device 3 Representative of the person making the amendment Hiroshi Takahashi 4 Agent address 〒160 Name Patent attorney ( 8545) Teruo Nozaki8
Contents of amendment (1) Changed “2 claims” in line 3 of page 2 of the specification to “3
"Detailed Description of the Invention". (2) "Altitude" on page 2, lines 12-13' of the specification will be corrected to "hardness."

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)対向して同方向へ回転する一対の円盤の一方にS
極の磁極が他方にN極の磁極が形成されて、この両円盤
の間に磁性を有する研磨剤が介装されて、磁場にて配向
した研磨剤による研磨ブラシが形成されており、且つこ
の研磨ブラシの側方に、被研磨物の保持部材が設けられ
て成る磁気研磨装置。
(1) S on one side of a pair of disks that face each other and rotate in the same direction.
One magnetic pole is formed on the other side, and a magnetic abrasive is interposed between the two disks to form a polishing brush made of the abrasive that is oriented in a magnetic field. A magnetic polishing device comprising a polishing brush and a polishing object holding member provided on the side of the polishing brush.
(2)被研磨物はディスク状であり、この被研磨物が保
持部材によって回転させられながら磁気ブラシ内にて両
面研磨される特許請求の範囲第1項記載の磁気研磨装置
(2) The magnetic polishing apparatus according to claim 1, wherein the object to be polished is disk-shaped, and both surfaces of the object to be polished are polished within a magnetic brush while being rotated by a holding member.
(3)対向する円盤は、永久磁石と、その対向面に設け
られた軟鉄製円板によって形成されている特許請求の範
囲第1項記載の磁気研磨装置。
(3) The magnetic polishing device according to claim 1, wherein the opposing disks are formed by a permanent magnet and a soft iron disk provided on the opposing surface thereof.
(4)対向する円盤は軟鉄製円板によって形成されてお
り、両円盤の間の回転軸に近い部分に永久磁石が介装さ
れている特許請求の範囲第1項記載の磁気研磨装置。
(4) The magnetic polishing device according to claim 1, wherein the opposing disks are formed of soft iron disks, and a permanent magnet is interposed between the two disks at a portion near the rotation axis.
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