JPH0227113B2 - - Google Patents

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JPH0227113B2
JPH0227113B2 JP60145067A JP14506785A JPH0227113B2 JP H0227113 B2 JPH0227113 B2 JP H0227113B2 JP 60145067 A JP60145067 A JP 60145067A JP 14506785 A JP14506785 A JP 14506785A JP H0227113 B2 JPH0227113 B2 JP H0227113B2
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JP
Japan
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polishing
magnetic
disk
polished
disks
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JP60145067A
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Japanese (ja)
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JPS624562A (en
Inventor
Shuichi Sugawara
Hisatsugu Kaji
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Kureha Corp
Original Assignee
Kureha Corp
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Publication of JPS624562A publication Critical patent/JPS624562A/en
Publication of JPH0227113B2 publication Critical patent/JPH0227113B2/ja
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、磁性を有する研磨剤を磁場内にて配
向させて研磨剤ブラシを形成し、このブラシによ
つて被研磨物を研磨する磁気研磨装置に係り、特
に非磁性体の被研磨物の研磨が可能であり、且つ
デイスク状の被研磨物を両面研磨などもできるよ
うにした磁気研磨装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to a magnetic polishing apparatus that orients magnetic abrasive in a magnetic field to form an abrasive brush, and uses this brush to polish an object to be polished. In particular, the present invention relates to a magnetic polishing apparatus which is capable of polishing a non-magnetic object to be polished, and can also perform double-sided polishing of a disc-shaped object to be polished.

〔技術的背景ならびに従来の問題点〕[Technical background and conventional problems]

被研磨物を研磨する作業は、被研磨物よりも硬
度の高い研磨剤を被研磨物に当接させ、被研磨物
の材質や求められる研磨精度などの条件に応じた
速度ならびに圧力にて研磨剤を研磨面に摺動させ
るようにしている。
The work of polishing an object to be polished involves contacting the object with an abrasive that is harder than the object, and polishing at a speed and pressure depending on the conditions such as the material of the object to be polished and the required polishing accuracy. The agent is made to slide onto the polishing surface.

この研磨作業において、研磨面を精密に研磨す
るためには研磨剤の均一で且つ適正な圧力が重要
となる。そのためには研磨剤を保持するラツプの
材質などの技術的工夫が必要である。この材質と
して従来は、布、ゴムあるいは合成樹脂などが使
用されている。また、最近では、磁気を利用した
研磨装置が考えられている。この種の磁気研磨装
置の一例としては、磁性を有する研磨剤を磁場に
て配向せしめて研磨剤ブラシを構成し、この研磨
剤ブラシによつて被研磨物を研磨するものがあ
る。従来のこの種の磁気研磨装置は、旋盤などに
よつて加工された回転体形状の被研磨物、例えば
金型やミシン用部品などを研磨するのに最適であ
る。
In this polishing operation, uniform and appropriate pressure of the polishing agent is important in order to precisely polish the polished surface. To achieve this, it is necessary to consider technical innovations such as the material of the lap that holds the abrasive. Conventionally, cloth, rubber, synthetic resin, etc. have been used as this material. Furthermore, recently, polishing devices that utilize magnetism have been considered. An example of this type of magnetic polishing apparatus is one in which a magnetic polishing agent is oriented in a magnetic field to form an abrasive brush, and an object to be polished is polished using this abrasive brush. This type of conventional magnetic polishing apparatus is most suitable for polishing objects in the shape of a rotating body processed by a lathe or the like, such as molds or parts for sewing machines.

一方、最近では精密研磨しなくてはならない被
研磨物が多くなつてきている。この種の被研磨物
の例としては、磁気デイスク、磁気テープ、アル
ミニウム製デイスク、合成樹脂製デイスク、合成
樹脂フイルムなどがある。これらの被研磨物は研
磨面が比較的広く、また研磨も高精度にて行なわ
なければならない。
On the other hand, in recent years, there have been an increasing number of objects to be polished that require precision polishing. Examples of this type of object to be polished include magnetic disks, magnetic tapes, aluminum disks, synthetic resin disks, and synthetic resin films. These objects to be polished have a relatively wide polishing surface, and must be polished with high precision.

この種の被研磨物のうちデイスクを研磨する研
磨装置の一従来例と第5図とその側面図である第
6図によつて説明する。この研磨装置では、デイ
スクDが所定の回転駆動装置によつて第5図にお
ける時計方向あるいは反時計方向へ回転駆動され
る。またデイスクDには研磨円盤1が両面から対
向している。各研磨円盤1は、研磨パツド3とこ
れを支持する剛性プレート4から構成されてお
り、この研磨円盤1が回転軸2によつて回転駆動
されるようになつている。研磨パツド3はポリウ
レタンフオームに研磨剤を混ぜたものなどによつ
て構成されている。この種の研磨装置では、各研
磨円盤1をデイスクDの両面に圧接して回転させ
て研磨を行なうようになつている。研磨パツド3
がウレタンフオームに研磨剤を混ぜたものなどに
よつて形成されているので、その弾性的性質によ
つて研磨剤がデイスクDの表面に均一な圧力にて
むらなく接触して研磨が行なわれるようになつて
いる。この種の樹脂を混入した研磨パツド3を用
いることによつて、適正な研磨剤の接触圧を実現
できるような工夫がなされている。この種の研磨
装置としては、例えば特開昭57−183634号公報に
開示されているものがある。しかしながら、この
ような研磨パツド3の改良を行なつたとしても、
研磨剤のデイスクDに対する接触圧を高精度に設
定するのには限界があり、また研磨作業が進むう
ちに研磨パツド3が摩耗する問題点もある。さら
に研磨作業が進行した後に研磨屑を洗浄する必要
があるが、このためのノズルなどの設備が必要と
なり、装置が複雑になる欠点もある。
A conventional example of a polishing apparatus for polishing a disk among objects to be polished will be explained with reference to FIG. 5 and FIG. 6, which is a side view thereof. In this polishing apparatus, the disk D is rotationally driven clockwise or counterclockwise in FIG. 5 by a predetermined rotational drive device. Further, a polishing disk 1 faces the disk D from both sides. Each polishing disk 1 is composed of a polishing pad 3 and a rigid plate 4 that supports the polishing pad 3, and the polishing disk 1 is rotatably driven by a rotating shaft 2. The polishing pad 3 is made of polyurethane foam mixed with an abrasive. In this type of polishing apparatus, each polishing disk 1 is pressed against both surfaces of the disk D and rotated to perform polishing. Polishing pad 3
is made of a mixture of urethane foam and abrasive, and its elastic properties allow the abrasive to come in even contact with the surface of the disk D with uniform pressure for polishing. It's getting old. By using a polishing pad 3 mixed with this type of resin, a device has been devised to realize an appropriate contact pressure of the polishing agent. This type of polishing apparatus is disclosed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 183634/1983. However, even if such improvements are made to the polishing pad 3,
There is a limit to setting the contact pressure of the polishing agent against the disk D with high precision, and there is also the problem that the polishing pad 3 wears out as the polishing work progresses. Furthermore, it is necessary to clean the polishing debris after the polishing operation has progressed, but this requires equipment such as a nozzle, which also has the drawback of complicating the apparatus.

そこで、この種のデイスクDの研磨を磁気研磨
装置によつて行なうことが考えられる。磁気研磨
装置では、磁場の強さによつて研磨剤が配向して
均一な研磨剤面が形成され、適正な圧力にて高精
度の研磨作業が行ないやすくなる。
Therefore, it is conceivable to polish this type of disk D using a magnetic polishing device. In a magnetic polishing device, the strength of the magnetic field orients the abrasive to form a uniform abrasive surface, making it easier to perform high-precision polishing work with appropriate pressure.

この磁気研磨装置によつてデイスクDなどのよ
うに比較的面積の大きい研磨面を研磨する例とし
ては、被研磨物を支持するワークテーブル上に磁
極を有する回転盤を設け、この回転盤から被研磨
物を透過する回路となる磁場を形成し、回転盤と
被研磨物との間の磁場内に、磁性を有する研磨剤
を配向させて介在して研磨剤によるブラシを形成
したものがある。しかしながら、この種の磁気研
磨装置では、磁力線が被研磨物の内部を通過する
構造であるため、磁性体の被研磨物しか処理でき
ず、アルミニウムや樹脂製のデイスクの研磨が行
ないにくい欠点がある。
As an example of polishing a relatively large polishing surface such as a disk D using this magnetic polishing device, a rotating disk having magnetic poles is provided on a work table that supports the object to be polished, and the object is There is one in which a magnetic field is formed as a circuit that passes through the object to be polished, and a magnetic abrasive is oriented and interposed in the magnetic field between the rotary disk and the object to be polished, thereby forming a brush made of the abrasive. However, this type of magnetic polishing device has a structure in which the lines of magnetic force pass through the inside of the object to be polished, so it can only process objects to be polished that are magnetic, and has the drawback that it is difficult to polish disks made of aluminum or resin. .

第7図はデイスクなどを研磨できる磁気研磨装
置の他の従来例を示すものである。この磁気研磨
装置は、ヨーク5内に設けられた鉄芯6にコイル
7が巻かれ、電磁石が構成されている。ヨーク5
ならびに鉄芯6の下面には磁極8aと8bが設け
られており、両磁極8aと8bは非磁性体9を介
して接合されている。そして、この非磁性体9が
介在している部分がワークテーブル10上の被研
磨物であるデイスクDに対向している。この研磨
装置では、デイスクDが磁性体によつて形成され
ている場合には、一方の磁極8aから出た磁力線
がデイスクD内を通過して他方の磁極8b内へ戻
るようになつている。磁極8a,8bとデイスク
Dとの間に、磁性を有する研磨剤を介在させれ
ば、この研磨剤が磁場にて配向されてブラシ状に
構成される。磁極8a,8bとワークテーブル1
0を相対的に移動させれば、研磨剤のブラシによ
つてデイスクDの表面が研磨されることになる。
また被研磨物であるデイスクDが非磁性体によつ
て形成されている場合には、ワークテーブル10
上に磁性体による板11を設置し、その上にデイ
スクDを設置する。このように構成すれば、磁極
8aから磁性体の板11を通過して磁極8bに至
る磁気回路が構成され、この磁場に研磨剤を介在
させることによつて研磨剤のブラシが構成できる
ようになる。よつて非磁性体の被研磨物の研磨が
可能になる。この種の磁気研磨装置は、例えば特
開昭59−1160号公報に開示されている。
FIG. 7 shows another conventional example of a magnetic polishing apparatus capable of polishing disks and the like. In this magnetic polishing device, a coil 7 is wound around an iron core 6 provided in a yoke 5, and an electromagnet is configured. York 5
Further, magnetic poles 8a and 8b are provided on the lower surface of the iron core 6, and both magnetic poles 8a and 8b are joined via a non-magnetic material 9. The portion where the non-magnetic material 9 is interposed faces the disk D, which is the object to be polished, on the work table 10. In this polishing apparatus, when the disk D is made of a magnetic material, lines of magnetic force coming out from one magnetic pole 8a pass through the disk D and return into the other magnetic pole 8b. If a magnetic abrasive is interposed between the magnetic poles 8a, 8b and the disk D, this abrasive is oriented by a magnetic field and formed into a brush shape. Magnetic poles 8a, 8b and work table 1
If 0 is moved relatively, the surface of the disk D will be polished by the abrasive brush.
Further, when the disk D, which is the object to be polished, is made of a non-magnetic material, the work table 10
A plate 11 made of a magnetic material is placed on top, and a disk D is placed on top of it. With this configuration, a magnetic circuit from the magnetic pole 8a passing through the magnetic plate 11 to the magnetic pole 8b is constructed, and by interposing the abrasive in this magnetic field, an abrasive brush can be constructed. Become. Therefore, it becomes possible to polish a non-magnetic object to be polished. This type of magnetic polishing apparatus is disclosed, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 1160/1983.

しかしながら、このような磁気研磨装置では、
デイスク状の被研磨物の片面のみしか研磨できな
い欠点がある。よつて研磨作業は表裏2回行なわ
なければならず、その度に磁場を破壊して研磨剤
を回収したり、また研磨剤を再度供給してブラシ
を形成しなくてはならなくなり、段取りが煩雑に
なる欠点がある。
However, in such a magnetic polishing device,
There is a drawback that only one side of the disc-shaped object to be polished can be polished. Therefore, the polishing operation must be performed twice, on the front and back sides, and each time the magnetic field must be destroyed to recover the abrasive, and the abrasive must be supplied again to form the brush, making the setup complicated. There are drawbacks to it.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上記従来の問題点に着目してなされた
ものであり、デイスク状の被研磨物の裏表面を同
時に且つ均一な圧力によつてむらなく研磨でき、
また円盤状以外の形状の被研磨物の研磨も行な
え、しかも非磁性体の被研磨物の研磨も可能にし
た磁気研磨装置を提供することを目的としてい
る。
The present invention has been made by focusing on the above-mentioned conventional problems, and it is possible to polish the back surface of a disc-shaped object to be polished simultaneously and evenly by applying uniform pressure.
Another object of the present invention is to provide a magnetic polishing apparatus which can polish objects having shapes other than discs, and which can also polish non-magnetic objects.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明による磁気研磨装置は、平行に対向して
同方向へ回転する一対の円盤の一方にS極の磁極
が他方にN極の磁極が形成されて、この両円盤の
間に磁性を有する研磨剤が介在されて、磁場にて
配向した研磨剤による研磨ブラシが形成されてお
り、前記一対の円盤の回転軸と平行に配置された
保持軸にデイスク状の被研磨物が保持されて、こ
のデイスク状の被研磨物が前記円盤と平行な姿勢
にて前記研磨ブラシ内に挿入されており且つ、前
記保持軸によつて非研磨物が円盤と同じ方向へ回
転駆動されて成るものである。
The magnetic polishing apparatus according to the present invention comprises a pair of disks that face each other in parallel and rotate in the same direction, one of which has an S magnetic pole and the other a N magnetic pole, and the two disks have magnetic polishing between them. A polishing brush is formed by an abrasive agent oriented in a magnetic field, and a disk-shaped object to be polished is held by a holding shaft arranged parallel to the rotation axis of the pair of disks. A disk-shaped object to be polished is inserted into the polishing brush in a position parallel to the disk, and the non-polishing object is rotationally driven in the same direction as the disk by the holding shaft.

以下、第1図〜第3図の図面によつて具体的に
説明する。
Hereinafter, a detailed explanation will be given with reference to the drawings of FIGS. 1 to 3.

第1図は、本発明による磁気研磨装置を示す正
面図は、第2図はその左側面図である。
FIG. 1 is a front view showing a magnetic polishing apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a left side view thereof.

図中の符号21は回転軸である。この回転軸2
1は軸受22aと22bに支持されており、且つ
モータなどの駆動源によつて回転駆動されるよう
になつている。回転軸21には一対の円盤23が
対向して固設されている。この円盤23は、フエ
ライト磁石などの永久磁石24と、その対向面に
固設された軟鉄製の円板25と、さらにその対向
面に固設されたフイン26とから構成されてい
る。2つの円盤23の対向面は、一方がN極で、
他方がS極となるように磁極が構成されている。
フイン26は磁性体によつて形成されており、第
2図に示すように、回転軸21を中心として放射
状に4枚固設されている。このフイン26は部分
的に磁束密度を高めるために設けられているもの
である。
Reference numeral 21 in the figure is a rotating shaft. This rotating shaft 2
1 is supported by bearings 22a and 22b, and is rotationally driven by a drive source such as a motor. A pair of discs 23 are fixed to the rotating shaft 21 so as to face each other. This disk 23 is composed of a permanent magnet 24 such as a ferrite magnet, a soft iron disk 25 fixed to the opposing surface thereof, and further fins 26 fixed to the opposing surface. One of the opposing surfaces of the two disks 23 is the N pole,
The magnetic poles are configured such that the other is the south pole.
The fins 26 are made of a magnetic material, and as shown in FIG. 2, four fins 26 are fixedly arranged radially around the rotating shaft 21. The fins 26 are provided to partially increase the magnetic flux density.

符号27は注液管である。この注液管27は回
転軸の中心穴21a内に挿入されている。注液管
27の先端は2つの円盤23の対向部分の中央ま
で延びている。そして回転軸21の半径方向に穿
設された注液口21bに連通されている。
Reference numeral 27 is a liquid injection pipe. This liquid injection pipe 27 is inserted into the center hole 21a of the rotating shaft. The tip of the liquid injection pipe 27 extends to the center of the opposing portions of the two discs 23. And it communicates with a liquid injection port 21b bored in the radial direction of the rotating shaft 21.

符号28は保持軸である。この保持軸28は軸
受29によつて回転自在に支持されている。また
保持軸28はモータによつて回転駆動されてい
る。保持軸28の先端にはナツトなどを用いた保
持具28aが設けられており、この保持具28a
によつてデイスクDなどの被研磨物が保持される
ようになつている。
Reference numeral 28 is a holding shaft. This holding shaft 28 is rotatably supported by a bearing 29. Further, the holding shaft 28 is rotationally driven by a motor. A holder 28a using a nut or the like is provided at the tip of the holding shaft 28.
The object to be polished, such as the disk D, is held by the .

第2図に示すように、架台31上には支柱32
と33が固設されている。一方の支柱32に前記
軸受22aと22bが保持されて、これにより回
転軸21が支持されている。また他方の支柱33
には軸受29が保持されており、これによつて保
持軸28が支持されている。また架台31の縁部
にはカバー支柱34が固設されており、この支柱
34の上にはカバー35が、下にはカバー36が
各々固設されている。
As shown in FIG.
and 33 are fixedly installed. The bearings 22a and 22b are held by one of the pillars 32, thereby supporting the rotating shaft 21. Also, the other support 33
A bearing 29 is held by the holding shaft 28, and the holding shaft 28 is supported by the bearing 29. Further, a cover support post 34 is fixed to the edge of the frame 31, and a cover 35 is fixed to the top of this support post 34, and a cover 36 is fixed to the bottom thereof.

磁性研磨剤40は、2つの円盤23の中間に充
填される。2つの永久磁石24の間の磁場によつ
て磁性研磨剤40は配向され、2つの円盤23の
中間に磁性研磨剤による研磨剤ブラシが形成され
る。一方、被研磨物であるデイスクDは保持軸2
8に保持された状態にて前記研磨剤40によつて
形成されたブラシ内に挿入される。モータによつ
て回転軸21と保持軸28は、第2図の時計方向
へすなわち両者が同方向へ回転駆動される。そし
て、研磨剤40のブラシによつてデイスクDの両
面が同時に研磨される。第2図に示すように、円
盤23とデイスクDは同方向へ回転するので、デ
イスクDと研磨剤40のブラシとの間の相対速度
を大きくできることになる。また、第2図におけ
るA部ではデイスクDの角速度が小さいが、その
分研磨剤40のブラシの角速度が大きくなつてい
る。またB部では逆にデイスクDの角速度が大き
くブラシの角速度が小さくなつている。このよう
に回転体の半径の速度差が互いに補なわれるの
で、各部分が均一な条件で研磨できるようにな
る。
The magnetic abrasive 40 is filled between the two disks 23 . The magnetic abrasive 40 is oriented by the magnetic field between the two permanent magnets 24, and an abrasive brush of the magnetic abrasive is formed between the two discs 23. On the other hand, the disk D, which is the object to be polished, is held by the holding shaft 2.
8 and inserted into the brush formed by the abrasive 40. The rotating shaft 21 and the holding shaft 28 are driven by the motor to rotate clockwise in FIG. 2, that is, in the same direction. Then, both sides of the disk D are simultaneously polished by the brush of the polishing agent 40. As shown in FIG. 2, since the disc 23 and the disc D rotate in the same direction, the relative speed between the disc D and the brush of the abrasive 40 can be increased. Further, in part A in FIG. 2, the angular velocity of the disk D is small, but the angular velocity of the brush of the abrasive 40 is correspondingly large. In the B section, on the other hand, the angular velocity of the disk D is large and the angular velocity of the brush is small. In this way, the speed differences between the radii of the rotating bodies are compensated for each other, so that each part can be polished under uniform conditions.

また、研磨動作中に、注液管27へ液体を注入
すれば、液体が注液口21bから回転遠心力によ
つて研磨剤40の内部を外周方向へ流れる。この
流れによつてデイスクDの研磨屑などを連続的に
排出することが可能になる。デイスクDが非磁性
体のものである場合には、その研磨屑を液体にて
排出することによつて、研磨剤40の配向性の妨
げになるのを防止できることになる。
Further, when a liquid is injected into the liquid injection pipe 27 during the polishing operation, the liquid flows from the liquid injection port 21b toward the outer circumference inside the polishing slurry 40 due to rotational centrifugal force. This flow makes it possible to continuously discharge polishing debris from the disk D. When the disk D is made of a non-magnetic material, by discharging the polishing debris as a liquid, it is possible to prevent the polishing debris from interfering with the orientation of the polishing agent 40.

第3図は本発明による磁気研磨装置を単一の磁
石を用いた構成にしたものを示す正面図であり、
第4図はその左側面図である。
FIG. 3 is a front view showing a magnetic polishing device according to the present invention configured using a single magnet;
FIG. 4 is its left side view.

この磁気研磨装置は、回転軸21の中央にセン
タリング用のスリーブ42が固設されており、こ
のスリーブ42の外周に対向する2つの円盤41
が固設されている。この円盤41は軟鉄などの磁
性材料よつて形成されている。両円盤41の中間
にはフエライト磁石などの永久磁石43が固設さ
れている。また永久磁石43の表面には非磁性体
のカバー44が設けられている。また、両円盤4
1の対向面にはフイン45が固設されている。こ
のフイン45は第4図に示すように、回転軸21
を中心として放射状に配置されている。
This magnetic polishing device has a centering sleeve 42 fixed at the center of a rotating shaft 21, and two discs 41 facing each other around the outer periphery of this sleeve 42.
is permanently installed. This disk 41 is made of a magnetic material such as soft iron. A permanent magnet 43 such as a ferrite magnet is fixed between both disks 41. Further, a non-magnetic cover 44 is provided on the surface of the permanent magnet 43. Also, both disks 4
A fin 45 is fixedly provided on the opposing surface of 1. This fin 45 is connected to the rotating shaft 21 as shown in FIG.
are arranged radially around the center.

永久磁石43から発せられる磁力線は円盤41
ならびにフイン45を通過して閉ループの磁界が
構成され、両円盤41にN極とS極の磁極が構成
される。磁性を有する磁性研磨剤40は両円盤4
1の中間に充填され、磁場によつて配向されて研
磨剤40によるブラシが形成される。保持軸28
に保持されたデイスクDは上記ブラシ内に挿入さ
れる。そして、ブラシの回転とデイスクDの回転
によつて研磨が行なわれる。
The magnetic field lines emitted from the permanent magnet 43 are the disk 41
A closed-loop magnetic field is formed by passing through the fins 45, and both disks 41 have N and S magnetic poles. A magnetic abrasive 40 having magnetism is attached to both disks 4.
1, and is oriented by a magnetic field to form a brush of abrasive 40. Holding shaft 28
The disk D held in is inserted into the brush. Polishing is performed by the rotation of the brush and the rotation of the disk D.

第3図に示す磁気研磨装置は、永久磁石43を
1個のみ使用して閉ループの磁界を形成している
ので、構造が簡単で効率の良い装置を構成できる
ことになる。
Since the magnetic polishing apparatus shown in FIG. 3 uses only one permanent magnet 43 to form a closed loop magnetic field, it is possible to construct a simple and efficient apparatus.

なお、第1図と第3図の両実施例では、被研磨
物としてデイスクDを示しているが、長尺物など
の被研磨物を研磨することも可能である。この場
合は、長尺の被研磨物を、研磨剤40のブラシを
横切る方向へ供給し、回転する研磨剤ブラシによ
つて研磨することになる。特に第3図に示す構成
の場合には、永久磁石43が回転軸21に近い部
分にある分だけ研磨剤40のブラシの面積が小さ
くなるので、長尺物の被研磨物を研磨する場合
に、第1図のものよりも適している。
In both the embodiments shown in FIGS. 1 and 3, a disk D is shown as the object to be polished, but it is also possible to polish a long object or the like. In this case, a long object to be polished is fed in a direction across the brush of the abrasive 40 and polished by the rotating abrasive brush. In particular, in the case of the configuration shown in FIG. 3, the area of the brush of the abrasive 40 becomes smaller as the permanent magnet 43 is closer to the rotating shaft 21, so that it can be used when polishing a long object to be polished. , is more suitable than the one in FIG.

また、各図では、永久磁石24,43によつて
磁気回路を構成しているが、コイルによる電磁石
を使用することも可能である。この場合、電磁石
が回転するので、回転式の電気接点を用いてコイ
ルに通電することになる。電磁石を使用した方が
大きな磁力を得られるが、永久磁石を使用した場
合には、軽量化、コイルの発熱の防止の心配がな
いなどの利点がある。また永久磁石を使用してい
る場合には、研磨剤40を配向させる磁力がやや
弱くなるが、アルミニウム製のデイスクやプラス
チツク製のデイスクなどの軟らかい被研磨物を研
磨する場合には、その研磨作用は十分に発揮でき
る。
Further, in each figure, the magnetic circuit is constituted by the permanent magnets 24 and 43, but it is also possible to use an electromagnet made of a coil. In this case, since the electromagnet rotates, a rotating electrical contact is used to energize the coil. Although it is better to use an electromagnet to obtain a larger magnetic force, the use of a permanent magnet has advantages such as being lighter and not having to worry about preventing the coil from generating heat. In addition, when a permanent magnet is used, the magnetic force that orients the abrasive 40 becomes slightly weaker, but when polishing a soft object such as an aluminum disk or a plastic disk, its polishing effect is can be fully demonstrated.

本発明による磁気研磨装置に使用される磁気研
磨剤40は従来使用されていたものと同じもので
よい。しかしながら、本発明では、対向する円盤
の間に磁界を形成し、その間に研磨剤40を充填
してブラシを形成しているので、この構成に適す
る磁気研磨剤としては、均一で且つ細かい粒径の
ものがよい。また比重の小さいものが実用上扱い
やすい。磁気研磨剤40の例としては、アルミナ
一鉄系、フエライト系、または二酸化クロム系な
どがある。これらの磁気研磨剤の中では、フエラ
イト系(バリウムフエライト等)は、板状の粒子
であるため、研磨速度は低いが、高精度の仕上げ
に適している。また二酸化クロムは針状であるた
め、磁場における配向性が良好である。
The magnetic polishing agent 40 used in the magnetic polishing apparatus according to the present invention may be the same as that used conventionally. However, in the present invention, a magnetic field is formed between opposing discs, and the abrasive 40 is filled between them to form a brush. Therefore, a magnetic abrasive suitable for this configuration has a uniform and fine particle size. The one is good. Also, those with low specific gravity are easier to handle in practical terms. Examples of the magnetic abrasive 40 include monoiron alumina, ferrite, or chromium dioxide. Among these magnetic abrasives, ferrite-based abrasives (such as barium ferrite) have plate-like particles and therefore have a low polishing rate, but are suitable for high-precision finishing. Furthermore, since chromium dioxide is acicular, it has good orientation in a magnetic field.

実際には、焼付防止、研磨表面の酸化防止、研
磨剤の風散防止などのために、研磨剤に研磨油や
添加剤を加えることになる。これらとしては、例
えば、高級脂肪酸、高級脂肪酸の金属石鹸、高級
脂肪酸エステル、鉱油、シリコン油などのいずれ
か、またはこれらの組合わせ、またはこれらを水
に分散したものなどが使用される。なお、これら
の液体を、第1図の注液管27から供給してもよ
い。
In practice, polishing oil and additives are added to the polishing agent to prevent seizure, prevent oxidation of the polishing surface, and prevent the polishing agent from scattering. As these, for example, higher fatty acids, metal soaps of higher fatty acids, higher fatty acid esters, mineral oils, silicone oils, etc., a combination thereof, or a dispersion of these in water can be used. Note that these liquids may be supplied from the liquid injection pipe 27 shown in FIG.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

次に本考案の具体的な実施例について説明す
る。
Next, specific embodiments of the present invention will be described.

実施例 1 第1図の磁気研磨装置において、直径120mmの
フエライト磁石24に直径130mmの軟鉄製円板2
5を固定し、円盤23の間隔を10mmとした。研磨
剤40はアルミナ一鉄系(鉄65%、平均粒径
50μ、ステアリン約3%添加)のものを使用し
た。
Example 1 In the magnetic polishing apparatus shown in FIG. 1, a soft iron disk 2 with a diameter of 130 mm is attached to a ferrite magnet 24 with a diameter of 120 mm.
5 was fixed, and the interval between the disks 23 was set to 10 mm. Abrasive 40 is alumina-iron type (65% iron, average particle size
50μ, with approximately 3% stearin added) was used.

被研磨物は、5インチのアルミニウム製の磁気
デイスク基板であり、回転数100rpm(デイスクの
外周での線速度68cm/sec)で2分間の研磨作業
を行なつた。
The object to be polished was a 5-inch aluminum magnetic disk substrate, and polishing was performed for 2 minutes at a rotational speed of 100 rpm (linear velocity at the outer periphery of the disk of 68 cm/sec).

研磨面の研磨前の表面粗さはRmax=10μmで
あつたが、研磨後の表面粗さは、デイスク外周部
にてRmax=0.3μm、内周部でRmax=0.4μmと
なつた。
The surface roughness of the polished surface before polishing was Rmax = 10 μm, but the surface roughness after polishing was Rmax = 0.3 μm at the outer circumference of the disk, and Rmax = 0.4 μm at the inner circumference.

実施例 2 実施例1で示したものと同じデイスクを被研磨
物とし、実施例1と同じ装置条件にし、研磨剤と
して二酸化クロム(ステアリン酸1%添加)を使
用して研磨作業を行なつた。
Example 2 The same disk as that shown in Example 1 was used as the object to be polished, and the polishing work was performed using the same equipment conditions as in Example 1 and using chromium dioxide (added with 1% stearic acid) as the polishing agent. .

デイスクの回転数120rpmで4分間の研磨を行
なつた。その結果、研磨後の表面粗さが、デイス
クの外周部にてRmax=0.01μm、内周部でRmax
=0.01μmであつた。
Polishing was performed for 4 minutes at a disk rotation speed of 120 rpm. As a result, the surface roughness after polishing is Rmax = 0.01μm at the outer periphery of the disk, and Rmax at the inner periphery.
= 0.01 μm.

実施例 3 装置条件は実施例1と同じとし、研磨剤40と
してバリウムフエライトを使用した。第1図に示
す注液管27からラウリル酸ソーダ0.03%、カル
ボキシメチルセルロース0.1%を含む純水を、100
c.c./minにて供給しながら、被研磨物として直径
12cmで厚さ2mmのポリカーボネート円盤を6分間
研磨した。
Example 3 The apparatus conditions were the same as in Example 1, and barium ferrite was used as the polishing agent 40. Pure water containing 0.03% sodium laurate and 0.1% carboxymethylcellulose was poured into the liquid injection tube 27 shown in Figure 1 at 100%
While supplying at cc/min, the diameter of the polished object is
A 12 cm, 2 mm thick polycarbonate disk was polished for 6 minutes.

研磨後の表面粗さが、デイスクの外周部にて
Rmax=0.04μm、内周部でRmax=0.04μmであ
つた。
The surface roughness after polishing is
Rmax=0.04 μm, and Rmax=0.04 μm at the inner circumference.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように本発明によれば以下に列記する効
果を奏するようになる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be achieved.

(1) デイスク状の被研磨物の場合に、その表裏面
を同時に研磨できる。よつて研磨作業が効率的
にできるようになる。
(1) In the case of a disk-shaped object to be polished, the front and back surfaces can be polished simultaneously. As a result, polishing work can be done more efficiently.

(2) 対向する円盤の間に磁界を形成して研磨剤の
ブラシを形成しているので、非磁性体による被
研磨物でも研磨が可能である。
(2) Since a magnetic field is created between opposing disks to form a polishing agent brush, it is possible to polish even objects made of non-magnetic materials.

(3) デイスク状の被研磨物に限られず、長尺の被
研磨物であつても研磨は可能である。
(3) It is possible to polish not only disk-shaped objects but also long objects.

(4) 研磨剤は被研磨物に均一な圧力にて接触する
ことになるので、広い研磨面であつても適正な
研磨作業が行なえる。
(4) Since the abrasive comes into contact with the object to be polished with uniform pressure, proper polishing work can be performed even on a wide polishing surface.

(5) 中間に研磨ブラシが構成されている一対の円
盤とデイスク状の被研磨物とが互いに平行な軸
に支持されており、両者が同じ方向へ駆動され
ている。このように研磨ブラシと被研磨物とが
両者共に回転駆動されていることにより研磨ブ
ラシと被研磨物との相対速度を大きくでき、高
速研磨が可能になる。さらに研磨ブラシが形成
されている円盤と被研磨物とが同じ方向へ駆動
されているため、被研磨物の半径方向のそれぞ
れの位置にて研磨ブラシとの相対速度がほぼ一
定になる。よつて研磨精度のばらつきを無くす
ことができるようになる。
(5) A pair of disks with a polishing brush in the middle and a disk-shaped object to be polished are supported by mutually parallel shafts, and both are driven in the same direction. Since the polishing brush and the object to be polished are both rotationally driven in this manner, the relative speed between the polishing brush and the object to be polished can be increased, and high-speed polishing becomes possible. Furthermore, since the disc on which the polishing brush is formed and the object to be polished are driven in the same direction, the relative speed with respect to the polishing brush is approximately constant at each position in the radial direction of the object to be polished. This makes it possible to eliminate variations in polishing accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による磁気研磨装置を示す正面
図、第2図はその左側面図、第3図は第1図のも
のと異なる構造の磁気研磨装置の正面図、第4図
はその左側面図、第5図は従来のデイスク研磨装
置の正面図、第6図はその側面図、第7図は従来
のデイスク用の磁気研磨装置を示す断面図であ
る。 21…回転軸、23…円盤、24…永久磁石、
25…軟鉄製円板、28…保持軸、28a…保持
具、40…研磨剤、41…円盤、43…永久磁
石、D…デイスク。
Fig. 1 is a front view showing a magnetic polishing device according to the present invention, Fig. 2 is a left side view thereof, Fig. 3 is a front view of a magnetic polishing device having a structure different from that in Fig. 1, and Fig. 4 is its left side. 5 is a front view of a conventional disk polishing device, FIG. 6 is a side view thereof, and FIG. 7 is a sectional view showing a conventional magnetic polishing device for disks. 21...Rotating shaft, 23...Disc, 24...Permanent magnet,
25... Soft iron disc, 28... Holding shaft, 28a... Holder, 40... Abrasive, 41... Disc, 43... Permanent magnet, D... Disc.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 平行に対向して同方向へ回転する一対の円盤
の一方にS極の磁極が他方にN極の磁極が形成さ
れて、この両円盤の間に磁性を有する研磨剤が介
装され、この研磨剤が両円盤間の磁場により両円
盤間にて配向されて研磨ブラシが形成されてお
り、 前記一対の円盤の回転軸と平行に配置された保
持軸にデイスク状の被研磨物が保持されて、この
デイスク状の被研磨物が前記円盤と平行な姿勢に
て両円盤間に配向された前記研磨ブラシ内に挿入
されており且つ、前記保持軸によつて被研磨物が
前記両円盤の回転方向と同じ方向へ回転駆動され
て成る磁気研磨装置。 2 対向する円盤は、永久磁石と、その対向面に
設けられた軟鉄製円板によつて形成されている特
許請求の範囲第1項記載の磁気研磨装置。 3 対向する円盤は軟鉄製円板によつて形成され
ており、両円盤の間の回転軸に近い部分に永久磁
石が介装されている特許請求の範囲第1項記載の
磁気研磨装置。
[Claims] 1. An abrasive having magnetism between a pair of disks facing in parallel and rotating in the same direction, with an S magnetic pole formed on one side and an N magnetic pole formed on the other side. is interposed, and this abrasive is oriented between both disks by a magnetic field between the two disks to form a polishing brush, and a disc-shaped An object to be polished is held, and this disk-shaped object to be polished is inserted into the polishing brush oriented between both disks in a posture parallel to the disk, and the object to be polished is held by the holding shaft. A magnetic polishing device in which an object is rotationally driven in the same direction as the rotation direction of both disks. 2. The magnetic polishing device according to claim 1, wherein the opposing disks are formed by a permanent magnet and a soft iron disk provided on the opposing surface thereof. 3. The magnetic polishing device according to claim 1, wherein the opposing disks are formed of soft iron disks, and a permanent magnet is interposed between the two disks at a portion near the rotation axis.
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