JPS6239172A - Magnetic polishing machine - Google Patents

Magnetic polishing machine

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JPS6239172A
JPS6239172A JP60176749A JP17674985A JPS6239172A JP S6239172 A JPS6239172 A JP S6239172A JP 60176749 A JP60176749 A JP 60176749A JP 17674985 A JP17674985 A JP 17674985A JP S6239172 A JPS6239172 A JP S6239172A
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JP
Japan
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magnetic
polishing
polished
disk
brush
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JP60176749A
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Japanese (ja)
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Shuichi Sugawara
秀一 菅原
Hisatsugu Kaji
加治 久継
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Kureha Corp
Original Assignee
Kureha Corp
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable the concurrent polishing of both surfaces of even a non- magnetic workpiece and ensure efficient polishing work by forming a magnetic field between two opposite discs and a brush of magnetic abrasives. CONSTITUTION:Magnetic abrasives 40 are filled in between two discs 23a and 23b located opposite to each other about a rotary shaft 21. Then, an exciting coil 27 is made electrically live and a magnetic field is formed between said pair of discs 23a and 23b via a yoke 26. The magnetic field so formed causes said abrasives 40 to be positioned as opposed to each other, and a magnetic brush of said abrasives 40 is formed at a mid-distance between the two discs 23a and 23b. On the other hand, a disc D as a workpiece held on a retaining shaft 28 is inserted in said magnetic brush and then a rotary shaft 21 and the retaining shaft 28 are driven clockwise by a motor, thereby enabling the magnetic brush of said abrasives 40 to process both surfaces of the disc D concurrently.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、磁性を有する研磨剤を磁場内にて配向させて
磁気ブラシを形成し、このブラシによって被研磨物を研
磨する磁気研磨装置に係り、特に非磁性体の被研磨物の
研磨が可能であり、印つディスク状の被研磨物の両面研
磨などもできるようにした磁気研磨装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a magnetic polishing apparatus that orients magnetic abrasive in a magnetic field to form a magnetic brush and polishes an object to be polished with this brush. The present invention relates to a magnetic polishing apparatus capable of polishing non-magnetic objects to be polished, and also capable of polishing both sides of stamped disk-shaped objects.

〔技術的背景ならびに従来技術の問題点〕被研磨物を研
磨する作業は、被研磨物よりも硬度の高い研磨剤を被研
磨物に当接させ、被研磨物の材質や求められる研磨精度
などの条件に応じた速度ならびに圧力にて研磨剤を研磨
面に摺動させるようにしている。
[Technical background and problems with conventional technology] The work of polishing an object is to bring an abrasive that is harder than the object into contact with the object. The abrasive is slid onto the polishing surface at a speed and pressure depending on the conditions.

この研磨作業において、研磨面を精密に研磨するために
は研磨剤の均一で且つ適正な圧力が爪要となる。そのた
めには研磨剤を保持するラップの材質などの技術的工夫
が必要である。この材質として従来は、布、ゴムあるい
は合成樹脂などが使用されている。
In this polishing operation, uniform and appropriate pressure of the polishing agent is essential in order to precisely polish the polished surface. To achieve this, technical innovations such as the material of the wrap that holds the abrasive are required. Conventionally, cloth, rubber, synthetic resin, etc. have been used as this material.

また、最近では精密研磨しなくてはならなしゝ被研磨物
が多くなってきている。この種の被研磨物の例としては
、磁気ディスク、磁気テープ、アルミニウム製ディスク
、合成樹脂製ディスク、合成樹脂フィルムなどがある。
In addition, recently there have been an increasing number of objects to be polished that must be precisely polished. Examples of this type of object to be polished include magnetic disks, magnetic tapes, aluminum disks, synthetic resin disks, and synthetic resin films.

これらの被研磨物は研磨面が比較的広く、また研磨も高
精度にて行なわなければならない。
These objects to be polished have a relatively wide polishing surface, and must be polished with high precision.

この種の被研磨物のうちディスクを研磨する研磨装置の
一従来例を第3図とその側面図である第4図によって説
明する。この研磨装置では、ディスクDが所定の回転駆
動装置によって第5図における時計方向あるいは反時計
方向へ回転駆動される。またディスクDには研磨円盤l
が両面から対向している。各研磨円盤1は、研磨パッド
3とこれを支持する剛性プレート4とから構成されてお
り、この研磨内@1が回転軸2によって回転駆動される
ようになっている。研磨パッド3はポリウレタンフす−
ムに研磨剤を混ぜたものなどによって構成されている。
A conventional example of a polishing apparatus for polishing disks among objects to be polished will be explained with reference to FIG. 3 and FIG. 4, which is a side view thereof. In this polishing apparatus, the disk D is rotationally driven clockwise or counterclockwise in FIG. 5 by a predetermined rotational drive device. In addition, disk D has a polishing disk l.
is facing from both sides. Each polishing disk 1 is composed of a polishing pad 3 and a rigid plate 4 that supports the polishing pad 3, and the polishing pad 1 is rotatably driven by a rotating shaft 2. The polishing pad 3 is made of polyurethane.
It is made of a mixture of rubber and abrasives.

この種の研磨装置では、各研磨円盤lをディスクDの両
面に圧接して回転させて研磨を行なうようになっている
。研磨ノくラド3がウレタンフオームに研磨剤を混ぜた
ものなどlとよって形成されているので、その弾性的性
質によって研磨剤がディスクDの表面に均一な圧力にて
むらなく接触して研磨が行なわれるようになる。この種
の樹脂を混入した研磨パッド3を用いることによって、
適正な研磨剤の接触圧を実現できるように工夫されてい
る。この種の研磨装置としては、例えば特開昭57−1
831334号公報に開示されているものがある。
In this type of polishing apparatus, polishing is performed by pressing each polishing disk l against both surfaces of the disk D and rotating it. Since the polishing pad 3 is made of urethane foam mixed with an abrasive, its elastic properties allow the abrasive to contact the surface of the disk D evenly with uniform pressure, resulting in polishing. It will be done. By using the polishing pad 3 mixed with this kind of resin,
It has been devised to achieve appropriate abrasive contact pressure. As this type of polishing device, for example, JP-A-57-1
There is one disclosed in Japanese Patent No. 831334.

しかしながら、このような研磨パッド3の改良を行なっ
たとしても、研磨剤のディスクDに対する接触圧を高精
度に設定するのには限界があり、また研磨作業が進むう
ちに研磨パッド3が摩耗する問題もある。
However, even if such improvements are made to the polishing pad 3, there is a limit to the ability to accurately set the contact pressure of the polishing agent against the disk D, and the polishing pad 3 may wear out as the polishing work progresses. There are also problems.

また、最近では、磁気を利用した研磨装置が考えられて
いる。この種の磁気研磨装置は、磁性を有する研磨剤を
磁場にて配向せしめて磁気ブラシを構成し、この磁気ブ
ラシによって被研磨物を研磨するものである。この磁気
研磨装置では、磁場の強さによって研磨剤が配向して均
一な研磨剤面が形成され、適正な圧力にて高精度の研磨
作業が行ないやすくなる。
Furthermore, recently, polishing devices that utilize magnetism have been considered. In this type of magnetic polishing apparatus, a magnetic polishing agent is oriented in a magnetic field to form a magnetic brush, and the object to be polished is polished using this magnetic brush. In this magnetic polishing device, the strength of the magnetic field orients the abrasive to form a uniform abrasive surface, making it easier to perform high-precision polishing work with appropriate pressure.

この磁気研磨装置によってディスクDなどのように比較
的面積の大きい研磨面を研磨する例としては、被研磨物
を支持するワークテーブル上に磁極を有する回転盤を設
け、この回転盤から被研磨物を透過する回路となる磁場
を形成し、回転盤と被研磨物との間の磁場内に、磁性を
有する研磨剤を配向させて介在して研磨剤によるブラシ
を形成したものがある。しかしながら、この種の磁気研
磨装置では、磁力線が被研磨物の内部を通過する構造で
あるため、磁性体の被研磨物しか処理できず、アルミニ
ウムや樹脂製のディスクの研磨が行なえない欠点がある
As an example of polishing a relatively large polishing surface such as a disk D using this magnetic polishing device, a rotating disk having magnetic poles is provided on a work table that supports the object to be polished, and the object to be polished is There is a method in which a magnetic field is formed as a circuit that passes through the rotating disk and the object to be polished, and a magnetic abrasive is oriented and interposed in the magnetic field between the rotary disk and the object to be polished, thereby forming a brush made of the abrasive. However, this type of magnetic polishing device has a structure in which the lines of magnetic force pass through the inside of the object to be polished, so it can only process objects to be polished that are magnetic, and has the disadvantage that it cannot polish disks made of aluminum or resin. .

第5図はディスクなどを研磨できる磁気研磨装置の他の
従来例を示すものである。この磁気研磨装置は、ヨーク
5内に設けられた鉄芯6にコイル7が巻かれて電磁石が
構成されている。ヨーク5ならびに鉄芯6の下面には磁
極8aと8bが設けられており、両磁極8aと8bは非
磁性体9を介して接合されている。そして、この非磁性
体9が介在している部分がワークテーブル10上の被研
磨物であるディスクDに対向している。この研磨装置で
は、ディスクDが磁性体によって形成されている場合に
は、一方の磁極8aから出た磁力線がディスクD内を通
過して他方の磁極8b内へ戻るようになっている。磁極
8a、8bとディスクDとの間に、磁性を有する研磨剤
を介在させれLf、 この研磨剤が磁場にて配向されて
ブラシ状に構成される。磁極8a、8bとワークテーブ
ル10を相対的に移動させれば、研磨剤の磁気ブラシに
よってディスクDの表面が研磨されることになる。また
被研磨物であるディスクDが非磁性体によって形成され
ている場合に、は、ワークテーブル10上に磁性体によ
る板11を設置し、その上にディスクDを設置する。こ
のように構成すれば、磁極8aから磁性体の板11を通
過して磁極8bに至る磁気回路が構成され、この磁場に
研磨剤を介在させることによって研磨剤のブラシが構成
できるようになる。よって非磁性体の被研磨物の研磨が
可能になる。この種の磁気研磨装置は、例えば特開昭5
9−1160号公報に開示されている。
FIG. 5 shows another conventional example of a magnetic polishing device capable of polishing disks and the like. In this magnetic polishing device, a coil 7 is wound around an iron core 6 provided in a yoke 5 to constitute an electromagnet. Magnetic poles 8a and 8b are provided on the lower surfaces of the yoke 5 and the iron core 6, and both the magnetic poles 8a and 8b are joined via a nonmagnetic material 9. The portion where the non-magnetic material 9 is interposed faces the disk D, which is the object to be polished, on the work table 10. In this polishing apparatus, when the disk D is made of a magnetic material, lines of magnetic force emerging from one magnetic pole 8a pass through the disk D and return into the other magnetic pole 8b. A magnetic abrasive Lf is interposed between the magnetic poles 8a, 8b and the disk D, and this abrasive is oriented in a magnetic field to form a brush shape. By relatively moving the magnetic poles 8a, 8b and the work table 10, the surface of the disk D will be polished by the magnetic brush of the polishing agent. Further, when the disk D as the object to be polished is formed of a non-magnetic material, a plate 11 made of a magnetic material is placed on the work table 10, and the disk D is placed on it. With this configuration, a magnetic circuit is formed from the magnetic pole 8a through the magnetic plate 11 to the magnetic pole 8b, and by interposing the abrasive in this magnetic field, an abrasive brush can be formed. Therefore, it becomes possible to polish a non-magnetic object to be polished. This type of magnetic polishing device is known, for example, from Japanese Unexamined Patent Publication No. 5
It is disclosed in Japanese Patent No. 9-1160.

しかしながら、このような磁気研磨装置では、ディスク
状の被研磨物の片面のみし、か研磨できない欠点がある
。よって研磨作業は表裏2回行なわなければならず、そ
の度に磁場を破壊して研磨剤を回収したり、また研磨剤
を再度供給してブラシを形成しなくてはならなくなり、
段取りが煩雑になる欠点がある。また、第5図に示す磁
気研磨装置では、被研磨物がディスクのような平面形状
のものに限られてしまい1種々の形状の部品の研磨が不
可能になる。よって用途が限定されることになるや 〔発明の目的〕 本発明は上記従来の問題点に着目してなされたものであ
り、ディスク状の被研磨物の裏表面を同時に且つ均一な
圧力によってむらなく研磨でき、また円盤状以外の形状
の被研磨物の研磨も行なえ、I7かも非磁性体の被研磨
物の研磨も可能にし、しかも研磨作業を行なう磁気ブラ
シの配向密度を高くして硬質の被研磨物であっても高精
度に研磨できる磁気研磨装置を提供することを目的とし
ている。
However, such a magnetic polishing apparatus has the disadvantage that it cannot polish only one side of a disc-shaped object to be polished. Therefore, the polishing operation must be performed twice, on the front and back sides, and each time the magnetic field must be destroyed to recover the abrasive, and the abrasive must be supplied again to form a brush.
The disadvantage is that the setup is complicated. Further, in the magnetic polishing apparatus shown in FIG. 5, the object to be polished is limited to a flat object such as a disk, making it impossible to polish parts of various shapes. Therefore, the applications are limited. [Object of the Invention] The present invention has been made by focusing on the above-mentioned conventional problems. It also enables polishing of non-disc-shaped objects, and also enables polishing of non-magnetic objects.Moreover, the orientation density of the magnetic brush that performs the polishing work is increased to polish hard objects. It is an object of the present invention to provide a magnetic polishing device that can polish even objects to be polished with high precision.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明による磁気研磨装置は、磁性体によって形成され
た一対の円盤が、対向して回転駆動されているとともに
、励磁コイル内を直通している磁性体のヨークの両端が
L記各円盤に対向して、円盤の一方にS極の磁極が他方
にN極の磁極が形成されており、目一つこの両円盤の間
に磁性を有する研磨剤が介装されて、磁場にて配向した
研磨剤による磁気ブラシが形成されており、この磁気ブ
ラシの側方に、被研磨物の保持部材が設けられて成るも
のである。
In the magnetic polishing device according to the present invention, a pair of discs formed of a magnetic material are driven to rotate facing each other, and both ends of a yoke of the magnetic material passing directly through an excitation coil are opposed to each disc in the L. One of the disks has an S magnetic pole and the other has an N magnetic pole, and a magnetic abrasive is interposed between the two disks, and the polishing agent is oriented in a magnetic field. A magnetic brush is formed using a polishing agent, and a member for holding the object to be polished is provided on the side of the magnetic brush.

本発明では、対向して回転する円盤に磁極を杉威してこ
の磁極間に形成された磁気ブラシによって研磨作業を行
なっているので、ディスク状の被研磨物であっても、そ
の両面を同時に研磨できるようになる。また円盤の中間
に連結棒などを設けないようにしておけば、円盤の対向
面積全体に磁気ブラシを形成でき、棒状の被研磨物など
を磁気ブラシ内に通過させて研磨作業を行なうことも可
能である。また円盤の磁極は励磁コイルとヨークとによ
って形成しているので1円盤間の磁力を大きくでき、高
密度に配向された磁気ブラシを形成することが可能とな
るものである。
In the present invention, magnetic poles are attached to discs that rotate opposite each other, and polishing is performed using a magnetic brush formed between the magnetic poles. Therefore, even if the workpiece is disc-shaped, both sides of the workpiece can be polished at the same time. Be able to polish. Also, if you do not install a connecting rod or the like in the middle of the disk, a magnetic brush can be formed over the entire area facing the disk, and it is also possible to perform polishing work by passing a rod-shaped object to be polished through the magnetic brush. It is. Furthermore, since the magnetic poles of the disks are formed by an excitation coil and a yoke, the magnetic force between each disk can be increased, making it possible to form a magnetic brush oriented with high density.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明の実施例を第1図と第2図の図面によって
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2.

第1図は本発明による磁気研磨装置を示す正面図、第2
図はその左側面図である。
FIG. 1 is a front view showing a magnetic polishing apparatus according to the present invention, and FIG.
The figure is its left side view.

図中の符号21は回転軸である。この回転軸21は軸受
22aと22bに支持されており、且つモータなどの駆
動源によって回転駆動されるようになっている0回転軸
21には一対の円盤23 aと23bが対向して固設さ
れている。この円盤23aと23bの間はやや細い径の
連結軸24によって連結されている。この円盤23 a
と23bは軟鉄などの磁性材料によって形成されている
Reference numeral 21 in the figure is a rotating shaft. This rotary shaft 21 is supported by bearings 22a and 22b, and a pair of discs 23a and 23b are fixedly mounted opposite to each other on the 0-rotary shaft 21, which is rotatably driven by a drive source such as a motor. has been done. The disks 23a and 23b are connected by a connecting shaft 24 having a slightly smaller diameter. This disk 23 a
and 23b are made of a magnetic material such as soft iron.

また回転軸21は、円盤23aと23bに連結されてい
る部分が磁性体21aによって形成されており、軸受2
2aと22bにて支持されている部分が非磁性体21b
によって形成されている。そして磁性体21aの部分と
非磁性体21bの部分とが、非磁性体のジヨイント27
によって連結されている。さらに円盤23aの対向面に
はフィン25aが、他方の円盤23bの対向面にはフィ
ン25bが設けられている。このフィン25aと25b
は磁性体によって形成されており、第2図に示すように
、各円盤23 aと23bに対し、回転軸21を中心と
して放射状に4枚ずつ固設されている。このフィン25
aと25bは、各円盤23aと23bの中間に形成され
る磁界のai東密度を部分的に高めるために設けられて
いるものである。
Further, the rotating shaft 21 has a portion connected to the disks 23a and 23b formed of a magnetic material 21a, and a bearing 2.
The part supported by 2a and 22b is a non-magnetic material 21b
is formed by. Then, the magnetic material 21a part and the non-magnetic material 21b part form a non-magnetic joint 27.
connected by. Further, a fin 25a is provided on the opposing surface of the disk 23a, and a fin 25b is provided on the opposing surface of the other disk 23b. These fins 25a and 25b
are made of a magnetic material, and as shown in FIG. 2, four disks are fixed radially around the rotating shaft 21 to each of the disks 23a and 23b. This fin 25
a and 25b are provided to partially increase the ai east density of the magnetic field formed between each disk 23a and 23b.

また、符号26は磁極を形成するための磁性体ヨークで
ある。このヨーク26には励磁コイル27が取り付けら
れている。ヨーク26はコの字形状に形成されて前記励
磁コイル27内に挿入されており、その両端が円盤23
aと23bの外面に対向している。また、回転軸21の
磁性体21aの部分がヨーク26に穿設された軸穴26
a内に挿入されている。この励磁コイル27に通電され
ると、磁束がヨーク26内を流れ、一方の円盤23aが
N極に、他方の円盤23bがS極の磁極に構成される。
Further, reference numeral 26 is a magnetic yoke for forming a magnetic pole. An excitation coil 27 is attached to this yoke 26. The yoke 26 is formed into a U-shape and is inserted into the excitation coil 27, and both ends thereof are connected to the disk 23.
It faces the outer surfaces of a and 23b. Further, the magnetic body 21a portion of the rotating shaft 21 is inserted into a shaft hole 26 formed in the yoke 26.
It is inserted in a. When the excitation coil 27 is energized, magnetic flux flows through the yoke 26, and one disk 23a becomes a north pole, and the other disk 23b becomes a south pole.

符号28は保持軸である。この保持軸28は軸受29に
よって回転自在に支持されている。また保持軸28はモ
ータによって回転駆動されている。保持軸28の先端に
はナツトなどを用いた保持具28aが設けられており、
この保持具28aによってディスクDなどの被研磨物が
保持されるようになっている。
Reference numeral 28 is a holding shaft. This holding shaft 28 is rotatably supported by a bearing 29. Further, the holding shaft 28 is rotationally driven by a motor. A holder 28a using a nut or the like is provided at the tip of the holding shaft 28.
The object to be polished, such as the disk D, is held by this holder 28a.

第2図に示すように、架台31上には支柱32.33な
らびに34が固設されている。支柱32に前記軸受22
aと22bが保持されて、これにより回転軸21が支持
されている。支柱33には軸受29が保持されており、
これによって保持軸28が支持されている。また支柱3
4上には励磁コイル27が固設されている。
As shown in FIG. 2, struts 32, 33 and 34 are fixedly installed on the pedestal 31. As shown in FIG. The bearing 22 is attached to the support column 32.
a and 22b are held, thereby supporting the rotating shaft 21. A bearing 29 is held on the column 33,
This supports the holding shaft 28. Also, pillar 3
4, an excitation coil 27 is fixedly installed.

次に研磨動作について説明する。Next, the polishing operation will be explained.

磁性研磨剤40は、2つの円盤23aと23bの中間に
充填される。励磁コイル27に通電されると、ヨーク2
6を介して円盤23aと23bの間に磁場が形成される
。この磁場によって磁性研磨剤40は配向され、2つの
円盤23aと23bの中間に磁性研磨剤による磁気ブラ
シが形成される。一方、被研磨物であるディスクDは保
持軸28に保持された状態にて前記研磨剤40によって
形成された磁気ブラシ内に挿入される。モータによって
回転軸21と保持軸28は、第2図の時計方向へすなわ
ち両者が同方向へ回転駆動される。
The magnetic abrasive 40 is filled between the two disks 23a and 23b. When the excitation coil 27 is energized, the yoke 2
A magnetic field is formed between the disks 23a and 23b via the magnetic field 6. The magnetic abrasive 40 is oriented by this magnetic field, and a magnetic brush of the magnetic abrasive is formed between the two disks 23a and 23b. On the other hand, the disk D, which is the object to be polished, is inserted into the magnetic brush formed by the abrasive 40 while being held by the holding shaft 28 . The rotating shaft 21 and the holding shaft 28 are rotationally driven by the motor clockwise in FIG. 2, that is, in the same direction.

そして、研磨剤40の磁気ブラシによってディスクDの
両面が同時に研磨される。第2図に示すように、円盤2
3とディスクDは同方向へ回転するので、ディスクDと
研磨剤40の磁気ブラシとの間の相対速度を大きくでき
ることになる。また、第2図における(A)部ではディ
スクDの角速度が小さいが、その分研磨剤40のブラシ
の角速度が大きくなっている。また(B)部では逆にデ
ィスクDの角速度が大きくブラシの角速度が小さくなっ
ている。このように回転体の半径の速度差が互いに補な
われるので、各部分が均一な条件で研磨できるようにな
る。
Then, both sides of the disk D are simultaneously polished by the magnetic brush of the polishing agent 40. As shown in Figure 2, disk 2
3 and the disk D rotate in the same direction, the relative speed between the disk D and the magnetic brush of the abrasive 40 can be increased. Further, in part (A) in FIG. 2, the angular velocity of the disk D is small, but the angular velocity of the brush of the abrasive 40 is correspondingly large. In part (B), conversely, the angular velocity of the disk D is large and the angular velocity of the brush is small. In this way, the speed differences between the radii of the rotating bodies are compensated for each other, so that each part can be polished under uniform conditions.

また、磁界は励磁コイル27によって形成されているの
で、2つの円盤23aと23bの間に形成される磁場を
かなり強くすることができる。また、円盤23 aと2
3bの対向面にはフィン25aと25bが設けられてい
るので、このフィン25aと25bの対向部では磁束密
度が部分的に高くなっている。よって円盤23aと23
bの間に形成される磁気研磨剤40の磁気ブラシは高い
配向密度を有しており、且つフィン25aと25bの部
分にて配向密度がさらに高くなっている。したがって硬
質の被研磨物であっても、その表面を高精度に研磨でき
るようになる。また励磁コイル27に通電する電波の量
を変えることによって円盤23 aと23bの間の磁場
の大きさを変え、磁気研磨剤40の配向密度を変化させ
ることができるようになる。したがって樹脂製のディス
クDの研磨などを行なう場合には、磁気研磨剤40の配
向密度を低くして材質に応じたブラシを形成できるよう
になる。
Further, since the magnetic field is formed by the excitation coil 27, the magnetic field formed between the two disks 23a and 23b can be made considerably strong. Also, disks 23 a and 2
Since the fins 25a and 25b are provided on the opposing surfaces of the fins 3b, the magnetic flux density is partially high at the opposing portions of the fins 25a and 25b. Therefore, disks 23a and 23
The magnetic brush of the magnetic abrasive 40 formed between the fins 25a and 25b has a high orientation density, and the orientation density is even higher at the fins 25a and 25b. Therefore, even if the object is hard to be polished, its surface can be polished with high precision. Furthermore, by changing the amount of radio waves applied to the excitation coil 27, the magnitude of the magnetic field between the disks 23a and 23b can be changed, and the orientation density of the magnetic abrasive 40 can be changed. Therefore, when polishing a disk D made of resin, etc., the orientation density of the magnetic polishing agent 40 can be lowered to form a brush suitable for the material.

また、本発明による磁気研磨装置によって長尺形状の被
研磨物を研磨することも可能である。この場合は、長尺
の被研磨物を、研磨剤40のブラシを横切る方向へ供給
し、回転する磁気ブラシによって研磨することになる。
Further, it is also possible to polish a long object to be polished using the magnetic polishing apparatus according to the present invention. In this case, a long object to be polished is fed in a direction across the brush of the abrasive 40 and polished by the rotating magnetic brush.

また、円盤23aと23bの間の連結軸24を無くし、
別々のモータによって2つの円盤23aと23bを同期
させて回転駆動すれば、円盤23aと23bの間の全面
積に磁気ブラシを形成できるようになる。この構成にす
れば、特に長尺の被研磨物を通過させて研磨するのに最
適なものとなる。
Also, the connecting shaft 24 between the disks 23a and 23b is eliminated,
If the two discs 23a and 23b are rotated in synchronization with separate motors, a magnetic brush can be formed over the entire area between the discs 23a and 23b. This configuration is particularly suitable for polishing a long object to be polished.

本発明による磁気研磨装置に使用される磁気研磨剤40
は従来使用されていたものと同じものでよい。しかしな
がら、本発明では、対向する円盤の間に磁界を形成し、
その間に研磨剤40を充填してブラシを形成しているの
で、この構成に適する磁気研磨剤としては、均一で且つ
細かい粒径のものがよい。また比重の小さいものが実用
上扱いやすい。磁気研磨剤40の例としては、アルミナ
−鉄系、フェライト系、または二酸化クロム系などがあ
る。これらの磁気研磨剤の中では、フェライト系(バリ
ウムフェライト等)は、板状の粒子であるため、研磨速
度は低いが、高精度の仕上げに適している。また二酸化
クロムは針状であるため、磁場における配向性が良好で
ある。
Magnetic polishing agent 40 used in the magnetic polishing device according to the present invention
may be the same as that previously used. However, in the present invention, a magnetic field is formed between opposing disks,
Since the abrasive 40 is filled between them to form a brush, the magnetic abrasive suitable for this structure is preferably one with a uniform and fine particle size. Also, those with low specific gravity are easier to handle in practical terms. Examples of magnetic abrasives 40 include alumina-iron, ferrite, or chromium dioxide. Among these magnetic abrasives, ferrite-based abrasives (barium ferrite, etc.) have plate-like particles and therefore have a low polishing rate, but are suitable for high-precision finishing. Furthermore, since chromium dioxide is acicular, it has good orientation in a magnetic field.

実際には、焼付防止、研磨表面の酸化防止、研磨剤の風
散防止などのために、研磨剤に研磨油や添加剤を加える
ことになる。これらとしては、例えば、高級脂肪酸、高
級脂肪酸の金属石鹸、高級脂肪酸エステル、鉱油、シリ
コン油などのいずれか、またはこれらの組合わせ、また
はこれらを水に分散したものなどが使用される。
In practice, polishing oil and additives are added to the polishing agent to prevent seizure, prevent oxidation of the polishing surface, and prevent the polishing agent from scattering. As these, for example, higher fatty acids, metal soaps of higher fatty acids, higher fatty acid esters, mineral oils, silicone oils, etc., a combination thereof, or a dispersion of these in water can be used.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように本発明によれば以下に列記する効果を奏す
るようになる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be achieved.

(1)ディスク状の被研磨物の場合に、その表裏面を同
時に研磨できる。よって研磨作業が効率的にできるよう
になる。
(1) In the case of a disk-shaped object to be polished, its front and back surfaces can be polished simultaneously. Therefore, polishing work can be done efficiently.

(2)励磁コイルによって円盤の間に磁界を形成してい
るので、コイルへ通電する電流の晴を変えることによっ
て1円盤の間の磁気ブラシの配向密度を任意に設定でき
る。したがって、被研磨物の材質に応じた磁気ブラシを
構成できるようになる。
(2) Since a magnetic field is formed between the discs by the excitation coil, the orientation density of the magnetic brushes between each disc can be arbitrarily set by changing the distribution of the current applied to the coil. Therefore, it becomes possible to configure a magnetic brush according to the material of the object to be polished.

(3)対向する円盤の間に磁界を形成して研磨剤のブラ
シを形成しているので、非磁性体による被研磨物でも研
磨が可能である。
(3) Since a magnetic field is created between the opposing discs to form a polishing agent brush, even objects to be polished made of non-magnetic materials can be polished.

(4)ディスク状の被研磨物に限られず、長尺の被研心
物であっても研磨は可能である。特許請求の範囲第2項
に記載しているように2つの円盤の間を連結しなければ
、円盤の間の面積を磁気ブラシとして広く使用でき、長
尺の被研磨物を円盤の間の中心部に挿入して研磨するこ
とも可能である。
(4) It is possible to polish not only a disc-shaped object but also a long object. As stated in claim 2, if the two disks are not connected, the area between the disks can be widely used as a magnetic brush, and a long object to be polished can be placed at the center between the disks. It is also possible to insert it into the part and polish it.

(5)研磨剤は被研磨物に均一な圧力にて接触すること
になるので、広い研磨面であっても均一で適正な研磨作
業が行なえる。
(5) Since the abrasive comes into contact with the object to be polished with uniform pressure, uniform and proper polishing work can be performed even on a wide polishing surface.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による磁気研磨装置を示す正面図、第2
図はその左側面図、第3図は従来のディスク研磨装置の
正面図、第4図はその側面図、第5図は従来のディスク
用の磁気研磨装置を示す断面図である。 21・・・回転軸、23a、23b・・・円盤、24・
・・連結軸、25a、25b・・・フィン、26・・・
ヨーク、27・・・励磁コイル、28a・・・保持具、
40・・・研磨剤、D・・・ディスク。
FIG. 1 is a front view showing a magnetic polishing apparatus according to the present invention, and FIG.
3 is a front view of a conventional disk polishing device, FIG. 4 is a side view thereof, and FIG. 5 is a sectional view showing a conventional magnetic polishing device for disks. 21... Rotating shaft, 23a, 23b... Disk, 24.
...Connection shaft, 25a, 25b...Fin, 26...
Yoke, 27... Excitation coil, 28a... Holder,
40... Abrasive, D... Disc.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)磁性体によって形成された一対の円盤が、対向し
て回転駆動されているとともに、励磁コイル内を貫通し
ている磁性体のヨークの両端が上記各円盤に対向して、
円盤の一方にS極の磁極が他方にN極の磁極が形成され
ており、且つこの両円盤の間に磁性を有する研磨剤が介
装されて、磁場にて配向した研磨剤による磁気ブラシが
形成されており、この磁気ブラシの側方に、被研磨物の
保持部材が設けられて成る磁気研磨装置。
(1) A pair of disks formed of a magnetic material are rotated to face each other, and both ends of a yoke of the magnetic material passing through the excitation coil are opposed to each of the disks,
An S magnetic pole is formed on one side of the disk, and an N magnetic pole is formed on the other side, and a magnetic abrasive is interposed between the two disks, and a magnetic brush is created by the abrasive that is oriented in a magnetic field. A magnetic polishing device in which a holding member for holding an object to be polished is provided on the side of the magnetic brush.
(2)被研磨物はディスク状であり、この被研磨物が保
持部材によって回転させられながら磁気ブラシ内にて両
面研磨される特許請求の範囲第1項記載の磁気研磨装置
(2) The magnetic polishing apparatus according to claim 1, wherein the object to be polished is disk-shaped, and both surfaces of the object to be polished are polished within a magnetic brush while being rotated by a holding member.
(3)対向する円盤は、連結されておらずに互いに同期
して回転駆動されており、円盤の面積全域にわたって磁
気ブラシが形成されている特許請求の範囲第1項記載の
磁気研磨装置。
(3) The magnetic polishing device according to claim 1, wherein the opposing disks are not connected but are driven to rotate in synchronization with each other, and a magnetic brush is formed over the entire area of the disks.
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