JPS6244260B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ハードコピーから反射された光像を
像形成ステーシヨンにおいてマイクロ像サイズに
縮小し、このマイクロ像サイズの光像によりマイ
クロフオームの像記録をマイクロフオーム・フイ
ルムに形成するハードコピーからマイクロフオー
ム記録を作成する装置に関する。像形成（作像）
ステーシヨンはハードコピーを受けるプラツトホ
ームすなわち受け台と、このプラツトホーム上の
ハードコピーからの反射光像を縮小してマイクロ
フオーム像記録をマイクロフオーム・フイルムに
行う投影手段とをそなえている。

本発明によれば、通常マイクロフオーム・フイ
ルム中の所望のマイクロフオーム像記録を像形成
ステーシヨンに移動させる手段と、上記投影手段
を含みマイクロフオーム・フイルムの所望のマイ
クロフオーム像記録の像を、拡大された通常サイ
ズでプラツトホーム上に拡大投影して該像の観察
を容易ならしめる手段が設けられている。また本
発明によれば、追記（annotation）を行なう目的
で、追加ハードコピーがプラツトホーム上に投影
された拡大された通常サイズの像に対して特定の
関係でプラツトホーム上に受け入れられ、また上
記投影手段を含み、プラツトホーム上の追加ハー
ドコピーから反射された光像をマイクロ像サイズ
に縮小し、追加ハードコピーのマイクロフオーム
像記録を、プラツトホーム上に以前に投影された
所望のマイクロフオーム像記録の中に行ない、既
存の記録に追加ハードコピー像を追記する手段が
設けられている。

さらに詳述すれば、本発明は、1976年６月29日
に付与された米国特許第3966317号（特開昭50−
142028号公報に対応）に記載されたようなハード
コピーの反射光から保存用マイクロフオーム記録
を乾式処理作成する装置に関し、上述した手段を
組合せて構成することにより多用性を大きく向上
し構造を簡単にしたことを特徴とする装置に関す
る。

米国特許第3966317号に記載されたような、ハ
ードコピーの反射光から保存用マイクロフオーム
記録を作成する乾式処理の装置は、ハードコピー
から反射された光像がマイクロ像サイズに縮小さ
れかつ乾式処理マスクフイルムのストリツプに投
射される像形成及び現像ステーシヨンを有する。
このストリツプはハードコピーの反射光により感
光して像を形成し、そして熱現像されてマイクロ
像の形成された透明画を作成する。また前記の装
置は、マスクフイルム・ストリツプ中のマイクロ
像の透明画がこのストリツプを通過する一定限界
値以上の放射エネルギによつて乾式処理マイクロ
フオーム・フイルムに転写される像転写ステーシ
ヨンも有する。この乾式処理マイクロフオーム・
フイルムは、乾式処理マイクロフイルム・ストリ
ツプの透明マイクロ像に一致しかつ記録保存特性
を有するマイクロフオーム・フイルムの像記録を
得るべく、記録保存特性を有しかつ乾式処理マス
クフイルム・ストリツプを通つて印加される前記
限界値以上の放射エネルギに感応して像を形成し
かつ現像される。またこのような装置は乾式処理
マスクフイルム・ストリツプを像形成および現像
ステーシヨンならびに像転写ステーシヨンに移動
させる手段と、乾式処理マイクロフオーム・フイ
ルムを位置決めし、像転写ステーシヨンにおいて
乾式処理マスクフイルム・ストリツプと乾式処理
マイクロフオーム・フイルムを重畳する手段を有
する。

乾式マイクロフオーム・フイルムは好ましくは
マイクロフオーム記録がフレームすなわちコマご
とに配列されるマイクロフイツシユ形式である。
ハードコピー情報あるいはデータは、はじめマイ
クロフオーム・フイルムの所望のフレームあるい
は部位に転写され、後で追加情報あるいはデータ
がフイルムの他の所望のフレームあるいは部品に
転写されるので、マイクロフオーム・フイルムは
追記（add−on）機能を有し情報を常に最新にし
ておくことができる。その結果記録管理者は書類
フアイルの管理と同じ方法でマイクロ像の記録を
フアイルできマイクロフイルムのフアイルに関す
るすべての利点を享受できる。

上述のハードコピーの反射光からマイクロ形式
記録を作成する方法及び装置においては、湿式現
像および処理工程がいらない完全な乾式処理操作
が行われてマイクロフオーム記録が行われ、該記
録は粗い粒状でなく、解像力が大で、コントラス
トが高くかつ保存特性がすぐれており、光、温
度、湿度、劣化等によつて多年支障をきたすこと
なく保存される。さらにこの方法及び装置は使用
が簡単でわかりやすく、特に整然と連続して繰り
返される使用に特に好適であり、卓上の乾式処理
の用途に適する。

本発明の目的は、マイクロフオーム・フイルム
の所望のマイクロフオーム記録を容易に観察でき
る手段をそなえたハードコピーの反射光からマイ
クロフオーム記録を作成する装置を提供すること
にある。

前記目的を達成すべく、本発明によれば、プラ
ツトホーム手段と、このプラツトホーム手段に配
置された保存すべき画像を、縮小光像にして第１
の位置に投影し、第１の位置に設定された観察を
れるべき画像を、拡大光像にしてプラツトホーム
手段に投影する像縮小拡大手段と、受容する光像
によつて透明画像を生成する乾式処理マスクフイ
ルム・ストリツプの所望個所を、前記第１の位置
とこの第１の位置と異なる第２の位置とに設定す
るために、前記ストリツプを移動させる第１の移
動手段と、第１の位置でストリツプの所望個所に
受容した縮小光像に相当する透明画像を当該スト
リツプの所望個所に生成させる手段と、受容する
放射エネルギ像によつて前記ストリツプの透明画
像に相当する画像を生成し保存する乾式処理マイ
クロフオーム・フイルムの所望個所を、前記第１
の位置と第２の位置とに夫々選択的に設定するた
めに、前記フイルムを支持するフイルム支持体を
移動させる第２の移動手段と、ストリツプの所望
個所とフイルムの所望個所とが、第１及び第２の
移動手段により第２の位置に設定されて重ね合わ
された際に、当該ストリツプの所望個所に生成さ
れた透明画像を当該フイルムの所望個所に転写さ
せるべく、ストリツプの所望個所を介してフイル
ムの所望個所に向つて放射エネルギを照射する手
段とからなるマイクロフオーム記録を生成する装
置が提供される。

本発明装置の一具体例においては、プラツトホ
ーム手段としてのハードコピーを受け止めるプラ
ツトホームと、像転写ステーシヨンの乾式処理マ
イクロフオーム・フイルムにマイクロフオーム像
記録を形成させるために、プラツトホーム上のハ
ードコピーから反射された光像をマイクロ像サイ
ズに縮小し、該光像を乾式処理マスクフイルム・
ストリツプに投射してマイクロ像の形成された透
明画すなわちマイクロ像透明画を作成する投影手
段とを含む像形成および現像ステーシヨンが設け
られる。プラツトホーム上に受け止められるハー
ドコピーとしてはプラツトホーム上に置かれる情
報あるいはデータがある。この情報あるいはデー
タはプラツトホーム上に置かれる実際の物体でも
よく、プラツトホーム上に置かれる基板上に含ま
れていてもよく、プラツトホーム上に書き込んで
もよく、あるいは透明画もしくは実際の物体等か
らプラツトホーム上に投影される像であつてもよ
い。

本発明の装置はまた乾式処理マイクロフオー
ム・フイルムの所望のマイクロフオーム像記録を
像形成および現像ステーシヨンに移動させる手段
と、前記投影手段を含む手段であつて、乾式処理
マイクロフオーム・フイルムの所望のマイクロフ
オーム像記録の像を、拡大された通常のサイズで
プラツトホーム上に拡大投影し該像を観察せしめ
る手段とを含む。マイクロフオームの像記録はな
るべく乾式処理マイクロフオーム・フイルムのマ
イクロフイツシユ形式のフレームの中に配置され
るのがよい。このようにして、マイクロフオー
ム・フイルムの所望のマイクロフオーム記録をフ
ルサイズあるいは通常のサイズで観察するための
簡単な機構が本発明の装置によつて提供される。

また本発明の装置では、乾式処理マイクロフオ
ーム・フイルムの隣接する所望のマイクロフオー
ム像記録又はコマ（フレーム）を順次像形成ステ
ーシヨンに移動させ、その記録を順次観察するこ
とができる。またプラツトホーム上に投影された
拡大された通常サイズの像をプラツトホーム上に
配置した感光媒体上にプリントするための手段も
設けられる。

本発明によれば、たとえばマイクロフオーム・
フイルムのマイクロフイツシユ形式のフレームの
中に現存するマイクロフオーム記録を消去したり
あるいはそれに追加情報を加入したりするように
マイクロフオーム・フイルムにすでに現存する所
望のマイクロフオーム記録に追記する簡単な手段
が提供される。

この場合、追記されるべき所望のマイクロフオ
ーム記録の像は上述したようにはつきり観察でき
るように通常の大きさに拡大されてまずプラツト
ホーム上に投影される。続いて追記の目的で、マ
イクロフオーム・フイルムの所望マイクロフオー
ム記録からプラツトホーム上に投影された拡大さ
れた通常サイズの像に対して適当な特定の関係を
有するように、追加ハードコピーがプラツトホー
ム上に受け止められる。このようにして追記のた
めの追加ハードコピーはプラツトホーム上に正確
に位置付けされる。追加ハードコピーには消去用
材料あるいは所望のマイクロフオーム記録に加入
されるべき追加資料が含まれる。プラツトホーム
上に受け止められる追加ハードコピーは、消去又
は加入いずれの目的のものであれ、プラツトホー
ム上に置かれる情報あるいはデータを含む。そし
てこの情報あるいはデータは、例えば、プラツト
ホーム上に置かれる基板上に含まれるか、あるい
はプラツトホーム上に書き込まれる。その後前記
投影手段を含む手段は、プラツトホーム上の追加
ハードコピーの反射光像を縮小し、該像を像形成
および現像ステーシヨンの乾式処理マスクフイル
ム・ストリツプに投射し、追加ハードコピーのマ
イクロ像透明画をフイルム・ストリツプに形成
し、かつ像転写ステーシヨンにおいて、追加ハー
ドコピーのマイクロフオーム像記録を、プラツト
ホーム上に以前に投影された所望のマイクロフオ
ーム像記録の中に行ない、既存の記録に追加ハー
ドコピーの像を追記する。このようにして本発明
の装置ではマイクロフオーム・フイルムの中の所
望のマイクロフオーム記録（フレーム）を追記し
たり最新にする簡単で正確な機構が提供される。
これはマイクロフオーム・フイルムの中に最新の
マイクロフオーム記録を維持するために極めて重
要な特徴である。

本発明の一具体例による、マイクロフオーム・
フイルムの所望のフレームを像転写ステーシヨン
に位置決めしてフレームの中にマイクロフオーム
記録を行なう手段およびマイクロフオーム・フイ
ルムの像形成された所望のフレームを像形成およ
び現像ステーシヨンに移動させてフレームの中の
マイクロフオーム・記録を観察及び追記の少なく
とも一方を行なう手段は、マイクロフオーム・フ
イルムを支持するマイクロフオーム・フイルム・
ホルダを位置決めするＸ軸およびＹ軸キヤリツジ
と、前記Ｘ軸キヤリツジおよびＹ軸キヤリツジ
を、したがつてマイクロフオーム・フイルム・ホ
ルダをＸ方向およびＹ方向に移動させる手段とを
有する。

本発明の一態様によれば、乾式処理マスクフイ
ルム・ストリツプを像形成および現像ステーシヨ
ンに移動させ、ストリツプの中にマイクロ像透明
画を作成し、更に、前記乾式処理マスクフイル
ム・ストリツプを像転写ステーシヨンに移動さ
せ、その中のマイクロ像透明画をマイクロフオー
ム・フイルムに転写し、マイクロフオーム・フイ
ルムの中に保存用マイクロフオーム記録を行な
う。これに関連して、乾式処理マスクフイルム・
ストリツプはカセツトに収納され、このカセツト
にはその中のマスクフイルム・ストリツプをイン
デツクスして連続したマイクロ像透明画を、マス
クフイルム・ストリツプの中に形成する手段が設
けられている。次にマスクフイルム・ストリツプ
を像形成および現像ステーシヨンならびに像転写
ステーシヨンに移動させる手段は、カセツトを像
形成および現像ステーシヨンならびに像転写ステ
ーシヨンに移動させる手段を有する。

本発明は本発明の装置の構成と、該装置の構成
部分間の協働関係とになる。

本発明の他の目的および特長は、明細書及び特
許請求の範囲の記載ならびに図面を参照すること
により当業者に明らかになろう。

次に本発明を、図面を参照して更に詳述する。

ハードコピーの反射光から保存用マイクロフオ
ーム記録を作成する本発明の乾式処理装置１０
は、ハウジング兼支持体１１を有する。ハウジン
グ兼支持体１１はマイクロ像を形成すべきハード
コピーが受け止められるように構成されたプラツ
トホーム１２を支持する。ランプ光源１３と反射
器１４とからなる光照射手段により光線がプラツ
トホーム１２に投射される。プラツトホーム手段
を構成するプラツトホーム１２のハードコピーか
ら反射された光像１５は、ミラー１６，１７およ
びレンズ・アセンブリ１９のレンズ１８からなる
レンズ装置により投影されてマイクロ像サイズに
縮小される。マイクロ像は、レンズ１８を通過後
反転されてマスクフイルム・ストリツプ４９に投
射される。マイクロ像のマスクフイルム・ストリ
ツプ４９への投射は開口２１を有するシヤツタ２
０により制御される。シヤツタ２０は通常ばね２
２により閉じた状態に保持されるが、第２図にさ
らに詳細に図示されているシヤツタソレノイド２
３を励磁することにより開放される。レンズ・ア
センブリ１９は像形成および現像ステーシヨン２
４に配置される。ハウジング兼支持体１１の前面
には、大きな開口部（図示せず）が設けられ、こ
の開口部を通してプラツトホーム１２に近づくこ
とができ、マイクロ像を形成すべきハードコピー
をプラツトホームに置き、またプラツトホーム１
２上に投影された像を観察することができる。

ハウジング兼支持体１１の部分２８及び２９は
装置の上部にまたがつた支持機構を支持する。す
なわち、部分２８は一対のブラケツト３０を支持
し、またブラケツト３０は、支持プレート３１
と、一対のロツド３３の端部が固定されたブロツ
ク３２とを支持する。ロツド３３の他の端部はプ
レート３５により支持されたブロツク３４に固定
され、さらにプレート３５はブラケツト３６によ
り他の部分２９に固定されている。プレート３５
に懸架された他のブラケツト３７はフラツシユ・
ランプ・ハウジング３８を支持し、ハウジング３
８内にはキセノン・フラツシユのような放射エネ
ルギを透明窓４０に投射する放射エネルギを照射
する手段を構成するフラツシユ・ランプ３９が配
置される。フラツシユ・ランプ・アセンブリは像
転写ステーシヨン４１を有する。

マスクフイルム・ストリツプ・キヤリツジ４５
には該キヤリツジ４５を固定ロツド３３に滑動自
在に取り付けるための軸受４６が設けられてい
る。マスクフイルム・キヤリツジ４５は乾式処理
のマスクフイルム・ストリツプ４９を支持するカ
セツト４８を取り外し自在にささえるカセツト支
持体としてのブラケツト４７を有する。マスクフ
イルム・ストリツプ４９はプラツトホーム１２の
ハードコピーの反射光に感光し像を形成し、また
熱によつて現像されてその中にマイクロ像透明画
を形成する。第３図と第５図とにさらに詳細に図
示されているように、像の形成されていないマス
クフイルム・ストリツプ４９は供給リール５０に
ロール状に巻かれている。マスクフイルム・スト
リツプ４９は、ローラ５１の外面上を通り、次に
ローラ５２の下を通り、カセツト４８の開口部５
３を通過し、次にローラ５４の下を通り、更にイ
ンデツクス・ローラ５５の外面を経て巻取りリー
ル５６に巻き取られる。マスクフイルム・ストリ
ツプ４９を露光するカセツト４８の開口部５３は
像形成および現像ステーシヨン２４のレンズ・ア
センブリ１９の上にある。マスクフイルム・スト
リツプ４９は供給リール５０から巻取りリール５
６に段階的に送られ、すなわちインデツクス換言
すれば歩進される。そのようにマスクフイルム・
ストリツプ４９をインデツクスすることにより、
像形成および現像ステーシヨン２４において、像
の形成されていない領域にハードコピーの反射光
による像が形成される。

巻取りリール５６はブラケツト４７により支持
されたインデツクスモータ５７により駆動され、
供給リール５０は同様にブラケツト４７により支
持されかつ供給リール５０に抵抗力を付与するた
めの適当なストリツプ・ブレーキ５８をそなえて
いる。マスクフイルム・ストリツプ４９と係合す
るローラ５５は、ローラ５５により回転され、か
つ周辺に反射セクタと非反射セクタとを配列した
小円板５と光源およびホトセルのアセンブリ６０
とを含むインデツクス・カウンタを作動させる。
光源及びホトセルのアセンブリ６０は光線を円板
５９に送り、円板５９がローラ５５によつて回転
されるにつれ、光線の遮断を計数する。インデツ
クス・モータ５７はインデツクス・カウンタによ
り制御され、マスクフイルム・ストリツプ４９が
送られるたびに確実に一定の直線距離だけ送られ
るようにする。マスクフイルム・ストリツプ４９
を含むカセツト４８が、ユニツトとして容易に本
発明装置に取り付けられかつ該装置から取り外さ
れるように、供給リール５０とスリツプ・ブレー
キ５８との間、巻取りリール５６とインデツク
ス・モータ５７との間、およびローラ５５とイン
デツクス・カウンタ６０の回転円板５９との間に
は、適当な離脱可能な結合が与えられている。マ
スクフイルム・スリツプ・カセツト４８の着脱操
作ができるように、ハウジング兼支持体１１の前
面には開口部（図示せず）が設けられている。こ
れら供給リール５０、巻取りリール５６、モータ
５７等からマスクフイルム・ストリツプ４９をカ
セツト４８内で進歩させる歩進手段が構成されて
いる。

プラツトホーム１２の上のハードコピーのマイ
クロ像がマスクフイルム・ストリツプ４９に投影
されている間マスクフイルム・ストリツプ４９を
レンズ・アセンブリ１９に向かつて保持するため
のマスクフイルム押し下げ保持装置が設けられて
いる。該保持装置によりマスクフイルム・ストリ
ツプ４９は像形成操作中レンズ１８に対し正しい
焦点位置に保持される。このために、該保持装置
はマスクフイルム・ストリツプ４９の上方でカセ
ツト４８の中に延びる一対の指状突起６３を含
む。この一対の指状突起６３はプレート６５に結
合された一対の腕６４により支持され、他方プレ
ート６５はソレノイド６６の接極子に取り付けら
れている。ソレノイド６６の接極子は通常バネに
より持ち上げられた位置に保持され、ソレノイド
６６が励磁されたとき下方位置に移動することに
より指状突起６３はマスクフイルム・ストリツプ
４９をレンズ・アセンブリ１９に押しつける。

このようにしてマスクフイルム・ストリツプ４
９に投影された後、プランジヤ６９により支持さ
れたヒータ６８によりそのストリツプの像が熱現
像される。ヒータ６８は内蔵された加熱素子によ
り適当に電気的に加熱される。プランジヤ６９は
回転ソレノイド７１により回転されるピニオン７
によりラツクおよびピニオンの歯を介して上下動
される。ソレノイド７１が消滅されているとき
は、プランジヤ６９は第１図に図示したように上
方位置にある。他方ソレノイド７１が励磁される
とプランジヤ６９は下がり、ヒータ６８はマスク
フイルム・ストリツプ４９と接触し、マスクフイ
ルム・ストリツプ４９の像を熱現像してマイクロ
フイルム・ストリツプ中に、マイクロ像透明画を
形成する。カセツト４８にはヒータ６８とプラン
ジヤ６９とを収容する適当な開口が設けられてい
る。

このようにして、像形成および現像ステーシヨ
ン２４においてマスクフイルム・ストリツプ４９
にはプラツトホーム１２の上のハードコピーの像
がつくられ、熱現像されて、プラツトホーム１２
のハードコピーに対応したマイクロ像透明画がマ
スクフイルム・ストリツプ４９に形成される。こ
のように、透明画像をマスクフイルム・ストリツ
プの所望個所に生成させる手段は、本具体例で
は、ヒータ６８、プランジヤ６９等から構成され
ている。マスクフイルム・ストリツプ４９の像形
成およびストリツプの現像は像形成および現像ス
テーシヨン２４の同じ位置で行われるように説明
されたが、マスクフイルム・ストリツプ４９の現
像は像形成が行われる位置とは異なる位置で行な
われるようにしてもよい。

マスクフイルム・ストリツプ・キヤリツジ４５
はまた第２の光照射手段を構成する読出し照明器
（リード・イルミネータ）７５を支持する。読出
し照明器７５は光源７６と、レンズ・システム７
８およびミラー７９を経て光をレンズ８０に投射
する反射器７７とを含む。レンズ８０には透明な
窓を有するフイツシユの焦点合せをするフイツシ
ユ押圧保持装置８１が設けられる。フイツシユの
フレームがレンズ・アセンブリ１９の上に位置し
かつ照明器７５がキヤリツジ４５により像形成お
よび現像ステーシヨン２４のレンズ・アセンブリ
１９上に移動されると、フイツシユ押圧保持器８
１が作動してフイツシユの所望のフレームをレン
ズ・アセンブリ１９に押圧し、フイツシユ１５１
のフレームの中の情報の適正な結像を確実ならし
め、光源７６からの光はレンズ・アセンブリを経
てプラツトホーム１２の上に鮮明に焦点合せされ
る。このようにしてフイツシユのフレームの情報
はプラツトホーム１２の上に通常のサイズに拡大
され正確に投影される。読出し照明器７５はフア
ン８２により冷却されてその内部における過剰な
熱を発生しないようにされている。このように、
本具体例では、前述のランプの光源１３、反射器
１４からなる第１の光照射手段と、レンズ１８か
らなるレンズ装置と、読出し照明器７５からなる
第２の光照射手段とからなる像縮小拡大手段が構
成されている。

第１図、第４図および第６図にさらに詳細に図
示されているように、本発明装置のハウジング兼
支持体１１は懸架フランジ８６が設けられたプレ
ート８５を堅固に支持する。プレート８５は転写
ソレノイド８７を支持し、ソレノイド８７の接極
子は弾性転写パツド８９を有するプランジヤ８８
を作動する。ソレノイド８７が消磁されると、プ
ランジヤ８８は下方位置をとる。ソレノイド８７
が励磁されると、プランジヤ８８は持ち上げら
れ、パツド８９はフイツシユとマスクフイルム・
ストリツプ４９とを密接させ、更にフイツシユ１
５１とマスクフイルム・ストリツプ４９とをフラ
ツシユ・ランプ・ハウジング３８の透明窓４０に
押圧し、キセノン・フラツシユ・エネルギのよう
なエネルギがフラツシユ・ランプ３９からマス
ク・フイルム・ストリツプ４９を通つてフイツシ
ユ上に投射されると、現像されたマスクフイル
ム・ストリツプ４９とフイツシユ１５１との間で
正確な密着焼きつけが確実に行なわれ、マスクフ
イルム・ストリツプのマイクロ像はフイツシユ１
５１の中に正確に再生される。

第１図と第５図にさらに詳細に図示されている
ように、スプリングモータ９０が装置の上部にま
たがつた支持機構により支持されかつケーブル９
１によりマスクフイルム・キヤリツジ４５の一端
に結合され、これらの図に図解されたようにマス
クフイルム・キヤリツジ４５を連続的に左側に引
つ張る。さらに前記の支持機構により支持された
マスクフイルム・キヤリツジ・モータ９２はケー
ブル９４によりマスクフイルム・キヤリツジ４５
の他端に結合されたホイール９３を回転する。マ
スクフイルム・モータ９２が付勢されると、ホイ
ール９３が回転して、マスクフイルム・キヤリツ
ジ４５を第１図と第５図とに図示したような左側
位置から右側位置に移動させる。この右側位置で
はカセツト４８のマスクフイルム・ストリツプ４
９は像転写ステーシヨン４１に移動し透明窓４０
の下で転写パツド８９の上方にくる。本具体例で
は、このようにマスクフイルムキヤリツジ４５、
マスクフイルムモータ９２等によりカセツト支持
体移動手段が構成されており、前述の歩進手段と
このカセツト支持体移動手段とによりマスクフイ
ルム・ストリツプを移動させる移動手段が構成さ
れている。

前記支持機構またはマスクフイルム・キヤリツ
ジ４５と係合してマスクフイルム・モータ９２へ
の電力を遮断するマスクフイルム・キヤリツジ・
リミツトスイツチ９５を支持する。前記支持機構
はまたラツチ９７を作動するソレノイド９６を有
するマスクフイルム・キヤリツジ・ラツチを支持
する。ソレノイド９６が消磁されると、ラツチ９
７はバネ等により持ち上げられた位置に保持され
る。マスクフイルム・キヤリツジ４５にはラツチ
面９９を有する延長部９８が設けられる。マスク
フイルム・キヤリツジ４５がマスクフイルム・キ
ヤリツジ・モータ９２により右に移動され、リミ
ツト・スイツチ９５と係合すると、ソレノイド９
６が励磁されて、ラツチ９７は下方に移動し、ラ
ツチ面９９と係合してマスクフイルム・キヤリツ
ジ４５を右側位置に掛止する。

第２図、第４図および第６図に図示されている
ように、固定枠プレート８５の両端部に隣接して
一対のブロツク１０２，１０３が設けられ、その
ブロツクの一対のロツド１０４が堅固に固定され
る。バー１０５が固定枠プレート８５に固定さ
れ、バー１０５はその上面に複数のラツチ歯１０
６（７個）を有する。またバー１０５にはラツチ
歯１０６にそれぞれ関連した複数のホトトランジ
スタ１０７（７個）がある。

Ｙ軸キヤリツジ１１０にはロツド１０４に係合
した二対の軸受キヤリツジ１１１，１１２が設け
られ、該ロツド１０４上にＹ軸キヤリツジ１１０
が滑動自在に取り付けられる。Ｙ軸キヤリツジ１
１０には光源１１４を支持する懸架プレート１１
３が設けられ、光源１１４はキヤリツジ１１０が
ロツド１０４の上を前後に移動するときホトトラ
ンジスタ１０７を横切るように構成される。Ｙ軸
キヤリツジラツチ１１５は、Ｙ軸キヤリツジ１１
０により支えられるラツチソレノイド１１６によ
り作動され、Ｙ軸キヤリツジ１１０の位置に応じ
てバー１０５の種々のラツチ歯１０６と係合する
ように構成される。ラツチ１１５は通常引つ込ん
でいるが、ソレノイド１１６が励磁されると、移
動してラツチ歯１０６と係合してＹ軸キヤリツジ
１１０を所望の移動位置に掛止する。

固定フランジ８６に載置されたスプリング・モ
ータ１１８はケーブル１１９を介してＹ軸キヤリ
ツジ１１０、例えばその懸架プレート１１３に結
合され、第４図および第６図に図示したようにＹ
軸キヤリツジ１１０をホームポジシヨンに戻すよ
うに付勢する。固定プレート８５はまたホイール
１２１を備えたＹ軸キヤリツジモータ１２０を支
持し、ホイール１２１はケーブル１２２によりＹ
軸キヤリツジ１１０、例えばそのプレート１１３
に結合される。Ｙ軸キヤリツジモータ１２０が付
勢されると、Ｙ軸キヤリツジ１１０はスプリング
モータ１１８の作用に抗して左側に移動し、ホト
トランジスタ１０７と協働する光源１１４により
定められる所望の選択位置に進められる。続いて
ラツチ・ソレノイド１１６が励磁されるラツチ１
１５は適当なラツチ歯１０６と係合しＹ軸キヤリ
ツジ１１０を所望の位置に掛止する。Ｙ軸キヤリ
ツジ１１０のプレートにはプランジヤ８８を収容
し、キヤリツジ１１０の上述したようなＹ方向の
移動を可能ならしめるスロツトが設けられてい
る。

Ｙ軸キヤリツジ１１０の側端部に沿つて一対の
ブラケツト１２５及び１２６が設けられている。
バー１２７は一端がブラケツト１２５に結合され
中間部でブラケツト１２６に結合されている。バ
ー１２７の他端はブロツク１２８に結合されてい
る。一対のロツド１２９は両端部でブラケツト１
２５とブロツク１２８に固定される。バー１２７
には下方に向いた複数のラツチ歯１３０（21個）
が設けられている。またバー１２７には複数のホ
トトランジスタ１３１が設けられている。ホトト
ランジスタ１３１は好ましくは14個のホトトラン
ジスタから成る組を２組用いて配置され、これら
のホトトランジスタ１３１は、第７図にさらに詳
細に図示したように、ずらして配列されており、
これらのホトトランジスタ１３１のうちのいくつ
かは重複して配列されバー１２７の長手方向に沿
つて21個のホトトランジスタが設けられている。
また、ホトトランジスタ１３１はラツチ歯１３０
に関連して配置される。

第１図、第２図および第４図にさらに詳細に図
示したように、Ｘ軸キヤリツジ１３４には２対の
軸受１３５及び１３６が受けられ、軸受１３５及
び１３６を介してＸ軸キヤリツジ１３４がロツド
１２９に摺動可能に取り付けられている。Ｘ軸キ
ヤリツジ１３４により支持されたラツチソレノイ
ド１３７はバー１２７のラツチ歯１３０に対して
ラツチ１３８を作動する。ラツチ１３８は通常ラ
ツチ歯１３０から離脱しているが、ラツチ・ソレ
ノイド１３７が励磁されると移動してラツチ歯１
３０と係合する。ラツチ１３８はバー１２７の所
望のラツチ歯１３０と係合するように構成されて
おり、Ｘ軸キヤリツジ１３４がロツド１２９に沿
つて移動するとき任意の所望の位置にＸ軸キヤリ
ツジ１３４を掛止する。Ｘ軸キヤリツジ１３４は
またＸ軸キヤリツジ１３４を所望の位置に位置決
めしかつ掛止することを制御するようにホトトラ
ンジスタ１３１と協働する１対の光源１３９を支
持している。

Ｙ軸キヤリツジ１１０のブラケツト１２５はケ
ーブル１４２によりＸ軸キヤリツジ１３４に結合
されたスプリング・モータ１４１を支持する。ス
プリング・モータ１４１が作動すると、第１図お
よび第２図に図示したホームポジシヨンにＸ軸キ
ヤリツジ１３４を移動させる。Ｙ軸キヤリツジ１
１０のブラケツト１２５はまたケーブル１４５に
より結合されたホイール１４４を設けたモータ１
４３を支持し、ケーブル１４５は他方ではブロツ
ク１２８に取り付けられたプーリ１４６に導かれ
ており、またケーブル１４５はＸ軸キヤリツジ１
３４に結合される。モータ１４３が付勢される
と、Ｘ軸キヤリツジ１３４は第１図および第２図
に図示されたホームポジシヨンから左方に移動し
Ｘ軸キヤリツジ１３４をＸ軸に沿つて所望の位置
に位置決めする。Ｘ軸キヤリツジ１３４が移動す
る位置はホトトランジスタ１３１と協働する光源
１３９により制御され、Ｘ軸キヤリツジ１３４が
所望の位置に移動した後は、ラツチ・ソレノイド
１３７が励磁されてラツチ１３８はバー１２７の
適当なラツチ歯１３０と係合しＸ軸キヤリツジ１
３４を所望の位置に掛止する。

Ｘ軸キヤリツジ１３４にはテーパエツジ１４８
を有する一対の保持部材１４７が設けられ、エツ
ジ１４８は下部が切り取られてフイツシユ・ホル
ダ１４９のテーパエツジを受け止めるように構成
される。保持部材１４７の下部が切り取られたテ
ーパエツジ１４８はマイクロフオーム・フイルム
を支持する支持体としてのフイツシユ・ホルダ１
４９をＸ軸キヤリツジ１３４に対し正確に位置決
めし固定するような働きをする。フイツシユ・ホ
ルダ１４９にはフイツシユ１５１を受け止める切
欠け部１５０が設けられている。ハウジング兼支
持体１１の前面にはＸ軸キヤリツジ１３４の中の
フイツシユ・ホルダ１４９を挿入したり取り出し
たりするための開口（図示せず）が設けられてい
る。

フイツシユ１５１は乾式処理のマイクロフオー
ム・フイルムであつてこのフイルムは保存特性を
有し且つ乾式処理マスクフイルム・ストリツプ４
９を通つて印加される一定の限界値以上の放射エ
ネルギに対し感応し、像を形成しかつ現像されマ
イクロフオームの像記録をフイツシユに行なうも
ので、その記録は乾式処理マスクフイルム・スト
リツプ４９の中の透明なマイクロ像に一致しかつ
保存特性を有するものである。マイクロフオー
ム・フイルム１５１の中のマイクロフオーム・像
記録はマイクロ透明画の形式のものが好ましい。
フイツシユ形式の乾式処理のフイツシユ１５１
は、第２図に図示されたように行１ないし14およ
び列ＢないしＨに配列された複数のフレームを有
する。フイツシユ１５１は、またフイツシユを特
定するための見出しを入れる部分を有する。フイ
ツシユ１５１は、フイツシユの見出しが下方にな
るように逆向きにしてホルダ１４９の開口１５０
に挿入される。Ｙ軸キヤリツジ１１０およびＸ軸
キヤリツジ１３４のホームポジシヨンによつて決
められるホルダ１４９のホームポジシヨンは、フ
ラツシユ・ランプ・ハウジング３８と転写パツ
ド・ソレノイド８７を含む像転写ステーシヨン４
１にフイツシユ１５１のフレームＨ−１４が配置
されるような位置である。ハードコピーの像が像
形成および現像ステーシヨン２４のマスクフイル
ム・ストリツプ４９に投射されると、このように
投射された像は像形成および現像ステーシヨン２
４のレンズ１８により反転される。マスクフイル
ム・ストリツプ４９の像が像形成および現像ステ
ーシヨン２４から像転写ステーシヨン４１に移さ
れ、かつフラツシユ・ランプ・ハウジング３８か
らの放射エネルギがマスクフイルム・ストリツプ
４９の像を通つてフイツシユ１５１に印加される
時は、フイツシユ１５１のフレームに投射される
像は、フイツシユ・ホルダ１４９の中でフイツシ
ユ１５１がさかさまの向きになつているため正し
く読める向きになる。フイツシユ・ホルダ１４
９、従つてフイツシユ１５１は、Ｙ軸キヤリツジ
１１０およびＸ軸キヤリツジ１３４の移動により
所望の位置に動かされ、例えばＢ−１、Ｅ−７等
のようなフイツシユ１５１の所望のフレームが像
転写ステーシヨン４１に移され、そこでマスクフ
イルム・ストリツプ４９の像は所望のフレームに
転写される。このように、本具体例では、Ｘ軸キ
ヤリツジ１３４、Ｙ軸キヤリツジ１３４、モータ
１４３，１２０等によりマイクロフオーム・フイ
ルムを支持するフイツシユ・ホルダ１４９を移動
させる移動手段が構成されている。

第７図は本発明による乾式処理装置の種々のコ
ンポーネントを示す概略図であり、本発明装置の
動作を制御する種々のコンポーネント間の回路を
示す。第７図において、本発明装置は第１図に図
示したように、ハウジングの前面に取りつけられ
た制御パネル１５５を有し、パネル１５５はラン
プ付A.C.電源キー１５６と、システムが動作準
備完了していることを示す準備完了ランプ１５７
と、本発明装置のフイツシユ１５１の位置をアド
レスするＹアドレス・キー１５８とＸアドレス・
キー１５９とを有する。表示器１６０は、フイツ
シユ１５１のＸすなわち行アドレス位置を表示す
るための１ないし14の番号で示した複数のランプ
と、フイツシユ１５１のＹすなわち列アドレス位
置を表示するための符号ＢないしＨで示した複数
のランプとを有する。制御パネルはまたランプ１
６１′付記録キー１６１と、ランプ１６２′付読出
しキー１６２と、ステツプおよび繰返しキー１６
３と、プリント・キー１６４とを有する。また制
御パネル１５５はシヤツタ２０の開放時間を調整
するための露光制御つまみ１６５を有する。

本発明装置は、D.C.電源１７１と高電圧電源
１７２とに接続された１１０ボルトA.C.電源１
７０を有する。A.C.電源１７０とD.C.電源１７
１とはA.C.電力およびD.C.電力を供給するため
に駆動回路１７３に接続される。高電圧電源１７
２はフラツシユ・トリガ１７７により制御される
転写フラツシユ・アセンブリ３９に接続される。
駆動開路１７３は、論理機能、タイミング機能お
よよびメモリ機能を有する通常のマイクロ・プロ
セツサのような制御論理装置１７４と、もし必要
なら他のメモリ・ユニツト１７５とによつて制御
される。

A.C.電源キー１５６は駆動回路に通電し、準
備完了ランプ１５７は回路が動作準備完了してい
ることを示す。Ｘアドレス・キー１５９およびＹ
アドレス・キー１５８を操作すると、本発明装置
のＸおよびＹ軸キヤリツジにより動かされるフイ
ツシユ１５１の所望の行および列アドレスすなわ
ち位置が制御論理装置１７４およびメモリ１７５
に記憶され、かつ所望のＸおよびＹアドレス位置
が表示器１６０に表示される。ランプ付記録キー
１６１は瞬間接触キーであつて、これが操作され
ると、本発明装置の「記録」サイクルを開始し完
了する。ランプ付読出しキー１６２は、押してス
イツチを入れ再び押してスイツチを切るキーであ
つて、これを操作すると本発明装置の「読出し」
サイクルを開始させかつ停止する。ステツプおよ
び繰返しキー１６３を操作すると、読み出しサイ
クルのための「ステツプおよび繰返しサイクル」
が起動する。プリント・キー１６４を操作すると
読出しサイクルのための「プリント」サイクルが
開始される。これら種々のキーおよび表示器１６
０は制御論理装置１７４とメモリ１７５に接続さ
れ、上述したような作動サイクルを行なう。マス
クフイルム・キヤリツジ・リミツト・スイツチ９
５およびマスクフイルム・ストリツプ・カウンタ
６０は露光制御装置１６５及びメモリ１７５と同
様に制御論理装置１７４に接続される。光源１１
４により制御されるＹ軸ホトトランジスタ１０７
と光源１３９により制御されるＸ軸ホトトランジ
スター１３１とはメモリ１７５と制御論理装置１
７４とに接続される。制御論理装置１７４とメモ
リ１７５とは駆動回路１７３に接続され、駆動回
路１７３を制御するように動作する。

駆動回路１７３は、ハードコピー照明器１３、
シヤツタ・ソレノイド２３、転写フラツシユ３９
用フラツシユ・トリガ１７７、転写パツド・ソレ
ノイド８７、マスクフイルム・キヤリツジ・モー
タ９２、マスクフイルム・キヤリツジ・ラツチ９
６、マスクフイルム・インデツクス・モータ５
７、マスクフイルム押圧保持ソレノイド６６、現
像ヒータ６８、現像ソレノイド７１、Ｙキヤリツ
ジ・モータ１２０、Ｙキヤリツジ・ラツチ１１
６、Ｘキヤリツジ・モータ１４３、Ｘキヤリツ
ジ・ラツチ１３７、フイツシユ押圧保持器８１、
および読み出し照明器７５と照明器フアン８２に
接続されこれらを制御する。

本発明による装置の記録サイクルの動作が第８
図にタイムチヤートで示されている。A.C.電源
キー１５６が押圧されると現像ヒータ６８に通電
され、ヒータ６８が所望の温度に上昇すると準備
完了ランプ１５７が点灯する。マスクフイルム・
キヤリツジ４５は、第１図と第５図とに図解した
ように、左側のホームポジシヨンにある。Ｙ軸キ
ヤリツジ１１０は第２図、第４図および第６図に
図示したようなホームポジシヨンにあり、Ｘ軸キ
ヤリツジ１３４は第１図および第２図に示したよ
うなホームポジシヨンにある。マスクフイルム・
ストリツプ４９を収納したカセツト４８は、像形
成および現像ステーシヨン２４においてレンズ・
アセンブリ１９の上にあり、またフイツシユ１５
１のフレームＨ−１４は像転写ステーシヨン４１
においてフラツシユ・アセンブリ窓４０の下でか
つ転写パツド・ソレノイド８７の上に位置する。
マイクロ像を形成すべきハードコピーはプラツト
ホーム１２におかれる。

記録キー１６１を押圧して瞬間的に接触が行わ
れると、その中のランプ１６１′が点灯し記録サ
イクルにあることを表示し、記録サイクルが開始
される（ST）。記録サイクルにおいては、ハード
コピー光源１３が点灯し、マスクフイルム・イン
デツクス・モータ５７はインデツクス・カウンタ
６０の制御によりインデツクスされ、マスクフイ
ルム・ストリツプ４９の未だ像が形成されてない
部分が像形成および現像ステーシヨン２４のレン
ズ・アセンブリ１９の上に置かれる。マスクフイ
ルム・ストリツプ４９がこのようにインデツクス
された後、マスクフイルム押圧保持ソレノイド６
６を励磁することにより、マスクフイルム・スト
リツプ４９はレンズ・アセンブリ１９に押圧され
る。マスクフイルム・ストリツプ４９がこのよう
に押圧されている間に、シヤツタ・ソレノイド２
３が励磁されシヤツタ２０を開放すると、プラツ
トホーム１２上のハードコピーから反射され、か
つ投影、縮小され、シヤツタの開口２１を通つて
マスクフイルム・ストリツプ４９に入射した像に
対しマスクフイルム・ストリツプ４９は露光され
る。露光制御つまみ１６５はシヤツタ２０の開放
時間の長さを制御するように動作する。記録サイ
クルの開始後約１1/2秒後に、ハードコピー光源
１３は消灯され、マスクフイルム押圧保持ソレノ
イド６６とシヤツタ・ソレノイド２３が消磁され
る。この時に現像ソレノイド７１が励磁されて現
像ヒータ６８をマスクフイルム・ストリツプ４９
に押圧し、マスクフイルム・ストリツプ４９のマ
イクロ像を熱現像してマイクロフルム透明画を形
成する。この現像期間は約３秒続き、その後現像
ソレノイド７１が消磁されて現像ヒータ６８は上
方に移動する。

現像期間終了時、マスクフイルム・キヤリツ
ジ・モータ９２が付勢されて、マスクフイルム・
キヤリツジ４５は第１図および第５図に図示した
位置より右側に移動し、カセツト４８は像転写ス
テーシヨン４１に移動し、像転写ステーシヨン４
１では、マスクフイルム・ストリツプ４９のマイ
クロ像が形成された透明画はフイツシユ１５１の
上でかつフラツシユ・アセンブリの窓４０の下に
挿入される。マスクフイルムキヤリツジ４５が右
手位置に達すると、マスクフイルム・リミツト・
スイツチ９５はマスクフイルム・キヤリツジ・モ
ータ９２を消勢し、かつマスクフイルム・キヤリ
ツジ・ラツチソレノイド９６を付勢してマスクフ
イルム・キヤリツジ４５を右手位置に掛止する。

記録サイクルの開始前に、Ｙアドレス・キー１
５８およびＸアドレス・キー１５９が操作され
て、表示器１６０により表示された、たとえばＧ
−１３の位置のようなフイツシユ１５１の所望の
Ｘ，Ｙ位置が制御論理装置１７４およびメモリ１
７５に記憶される。現像期間終了時に、Ｘ軸キヤ
リツジ・モータ１４３とＹ軸キヤリツジ・モータ
１２０とが付勢されて、Ｘ軸キヤリツジ１３４と
Ｙ軸キヤリツジ１１０とはホームポジシヨンＨ−
１４から移動する。Ｘ軸キヤリツジ１３４とＹ軸
キヤリツジ１１０とが所望の位置、たとえばＧ−
１３に達すると、ホト・トランジスタ１３１と協
働する光源１３９とホト・トランジスタ１０７と
協働する光源１１４とは、Ｘアドレス・キー１５
９とＹアドレス・キー１５８とから論理制御装置
１７４とメモリ１７５に入れた信号と一致してＸ
軸キヤリツジ・モータ１４３とＹ軸キヤリツジ・
モータ１２０とを適当な位置、たとえばＧ−１３
に位置決めし、１秒を少し越えるモータ作動期間
後、Ｘ軸キヤリツジ・モータ１４３と、Ｙ軸キヤ
リツジ・モータ１２０は消勢される。このときＸ
キヤリツジ・ラツチ・ソレノイド１３７とＹキヤ
リツジ・ラツチ・ソレノイド１１６が励磁されて
Ｘ軸キヤリツジ１３４とＹ軸キヤリツジ１１０は
所望の位置、たとえばＧ−１３に掛止される。こ
のようにして、フイツシユ・ホルダ１４９はフイ
ツシユ１５１を像転写ステーシヨン４１の所望の
位置に位置決めする。Ｘ軸キヤリツジ１３４とＹ
軸キヤリツジ１１０がこのように掛止されている
間に、転写パツド・ソレノイド８７が励磁されて
転写パツド８９を持ち上げ、像転写ステーシヨン
４１において重畳したマスクフイルム・ストリツ
プ４９とフイツシユ１５１とを転写パツド８９と
フラツシユ・アセンブリ３８の窓４０との間に押
しはさむ。マスクフイルム・ストリツプ４９とフ
イツシユ１５１とがこのように押しはさまれて密
着転写プリントの関係になると、転写フラツシ
ユ・トリガ１７７が作動してフラツシユランプ３
９はマスクフイルム・ストリツプ４９の透明画を
通して放射エネルギをフイツシユ１５１に送り、
乾式処理マスクフイルム・ストリツプ４９の透明
マイクロ像に一致したマイクロフオーム像の記録
を、フイツシユ１５１のフレームＧ−１３に形成
する。記録サイクルの終了時（ED）、マスクフイ
ルム・ストリツプ４９のマイクロ像がフイツシユ
１５１に転写されたあと、マスクフイルム・ラツ
チソレノイド９６、Ｘキヤリツジ・ラツチ・ソレ
ノイド１３７およびＹキヤリツジ・ラツチ・ソレ
ノイド１１６は解除され、転写パツド・ソレノイ
ド８７は消磁される。その結果、マスクフイル
ム・キヤリツジ４５は、Ｘ軸キヤリツジ１３４お
よびＹ軸キヤリツジ１１０はスプリング・モータ
９０，１４１，１１８により移動され、バネの張
力によりホームポジシヨンに戻り、フイツシユ１
５１を再びホームポジシヨンＨ−１４に位置決め
される。このときメモリもホームポジシヨンＨ−
１４にリセツトされる。この移動は、転写パツド
ソレノイド８７も消磁されるため、自由に行ない
うる。

これらのＸ軸とＹ軸キヤリツジのラツチが消磁
解除された後、キヤリツジは約６1/2秒の全記録
サイクル期間内にホームポジシヨンに戻り、上述
した記録サイクルとほぼ同じ次の記録サイクルに
対する準備を整える。記録サイクルが上述したよ
うに完了すると、記録キー１６１の記録キー・ラ
ンプも消灯するので、操作者は本発明装置が次の
記録サイクルに対して準備完了したことを知る。

上に述べた記録サイクルは第１０図と第１１図
に概略図解されている。第１０図においては、ハ
ードコピー、たとえば基板１８０の上のＡ，Ｂ，
Ｃで図示した情報あるいはデータをプラツトホー
ム１２により支えられ、像形成および現像ステー
シヨン２４においてマスクフイルム・ストリツプ
４９にハードコピーのマイクロ像が形成され現像
される。また、フイツシユ１５１はＹおよびＸ軸
キヤリツジにより位置決めされ、例えばフイツシ
ユ１５１のＧ−１３のフレームが像転写ステーシ
ヨン４１に置かれる。像形成および現像ステーシ
ヨン２４においてマスクフイルム・ストリツプ４
９に像が形成され現像された後、そのストリツプ
４９はマスクフイルム・キヤリツジ４５により像
転写ステーシヨン４１に移動され、そこで、スト
リツプ４９の中に形成されたばかりのマイクロ像
は、像転写ステーシヨン４１においてフイツシユ
１５１のフレームＧ−１３と重なり、マスクフイ
ルム・ストリツプ４９の中のマイクロ像透明画は
放射エネルギによりフイツシユ１５１のフレーム
Ｇ−１３に転写される。マスクフイルム・キヤリ
ツジ４５が移動してマスクフイルム・ストリツプ
４９が像転写ステーシヨン４１に置かれると、ラ
ンプ７６とミラー７９とを含む読出し照明器７５
は像形成および現像ステーシヨン２４に移される
が、記録サイクルの間は読出し照明器７５は何の
機能も行なわない。

本発明の装置にはまた読出しサイクルが設けら
れ、このサイクルにおいては、マイクロフイツシ
ユ１５１の任意のフレームのマイクロフオーム記
録がプラツトホーム１２の上に通常の大きさで投
影拡大され、マイクロフイツシユ１５１の任意の
所望のフレームに含まれたマイクロフオームの情
報が観察され読み出すことができる。そのような
読出しサイクルが第９図に図示されており、第９
図では読出しサイクルに関連した機構等の動作タ
イムチヤートが示されている。読出しサイクルが
始まる前に、Ｘアドレスキー１５９とＹアドレ
ス・キー１５８とが操作され、像形成および現像
ステーシヨン２４において読み出されるべきフイ
ツシユ１５１の特定のフレームが制御論理装置１
７４およびメモリ１７５に設定される。この情報
は表示器１６０のランプ１〜１４およびＢ〜Ｈに
より表示される。読出しキー１６２は、押すとス
イツチが入りもう一度押すとスイツチが切れるキ
ーであつて、押圧されてスイツチが入り（ON）、
読出しキー１６２の読出しキーランプ６２′が点
灯する。同時に読出し照明器７５の光源７６およ
び読出し照明器フアン８２が作動する。また同時
にＸキヤリツジ・モータ１４３、Ｙキヤリツジ・
モータ１２０およびマスクフイルム・キヤリツ
ジ・モータ９２のすべてが付勢される。Ｘキヤリ
ツジ・モータ１４３とＹキヤリツジ・モータ１２
０とが作動すると、Ｘ軸キヤリツジ１３４とＹ軸
キヤリツジ１１０は制御論理装置１７４とメモリ
１７５とに送られるＸアドレスおよびＹアドレス
信号により定める位置に位置決めされる。Ｘ軸キ
ヤリツジジ１３４の位置はホト・トランジスタ１
３１と光源１３９との相対位置により定められ、
他方Ｙ軸キヤリツジ１１０の位置はホト・トラン
ジスタ１０７と光源１１４との相対位置により定
められる。このようにして、フレームＢ−１ない
しＨ−１４の任意の選定されたフレームをレン
ズ・アセンブリ１９を含んだ像形成および現像ス
テーシヨン２４に移動させることができる。

それと同時にマスクフイルム・キヤリツジ４５
が右に移動するので、光源７６、ミラー７９およ
びレンズ８０を含む読出し照明器７５も像形成お
よび現像ステーシヨン２４に移動される。そのた
め読出し照明器７５は像形成および現像ステーシ
ヨン２４においてフイツシユ１５１の選択された
フレームの上に位置決めされる。１秒を少し越え
る時間が経過した後、Ｘキヤリツジモータ１４３
とＹキヤリツジ・モータ１２０とは消磁され、一
方Ｘキヤリツジ・ラツチ・ソレノイド１３７とＹ
キヤリツジ・ラツチ・ソレノイド１１６とが励磁
されてＸ軸キヤリツジ１３４とＹ軸キヤリツジ１
１０とは選択された位置に掛止される。マスクフ
イルム・キヤリツジ４５が右に移動した時リミツ
ト・スイツチ９５が作動してマスクフイルム・キ
ヤリツジ・モータ９２を消勢しかつマスクフイル
ム・キヤリツジラツチ９６が励磁されてマスクフ
イルム・キヤリツジ４５は右側位置に掛止され、
読出し照明器７５のレンズ８０はレンズ・アセン
ブリ１９の上にくる。そのように掛止動作が行な
われると、フイツシユ押圧保持器８１が下方に移
動してフイツシユ１５１をレンズ・アセンブリ１
９に抑えつけ、フイツシユ１５１のレンズ・アセ
ンブリ１９に対する正確な焦点合せを確実にす
る。また同時に、シヤツタ・ソレノイド２３が励
磁されてシヤツタ２０が開放し、読出し照明器７
５からの光はフイツシユ１５１の所望のフレーム
およびレンズ・アセンブリ１９を通過し、フイツ
シユ１５１の選択されたフレームの光像は通常の
大きさでプラツトホーム１２の上に投影拡大され
る。このようにしてフイツシユ１５１の任意のフ
レーム中のマイクロ像は通常サイズでプラツトホ
ーム１２の上に読み出される。

プラツトホーム１２の上に投影された通常サイ
ズの像を観察した後、読出しキー１６２を押して
スイツチを切ることにより（OFF）、読出しサイ
クルは終了する。すると読出しキーランプと読出
し照明光源７６とは消灯し、読出し照明器フアン
８２は停止し、Ｘキヤリツジ・ラツチ・ソレノイ
ド１３７、Ｙキヤリツジ・ラツチ・ソレノイド１
１６、マスクフイルム・キヤリツジ・ラツチ・ソ
レノイド９６、フイツシユ押圧保持器８２および
シヤツタソレノイド２３は消磁される。Ｘ軸キヤ
リツジ１３４、Ｙ軸キヤリツジ１１０およびマス
クフイルム・キヤリツジ４５を含むすべてのキヤ
リツジは、これらのキヤリツジに関連したスプリ
ング・モータによりそれぞれのホームポジシヨン
に戻される。制御論理装置１７４及びメモリ１７
５もまた、本発明装置が他の読出しサイクルある
いは記録サイクルに対して準備されるようにホー
ムポジシヨンＨ−１４にリセツトされる。

一例として、第１２図は読出しサイクルの状態
を示し、その状態においてはフイツシユ１５１
は、像形成および現像ステーシヨン２４におい
て、そのフレームＧ−１３がレンズ・アセンブリ
１９の上に重なるように位置決めされ、読出し照
明器７５のミラー７９及びレンズ８０は像形成お
よび現像ステーシヨン２４に移動し、フイツシユ
１５１の選択されたフレームＧ−１３の上に位置
する。読出し照明器７５よりフイツシユ１５１の
フレームを通して光線を投射することにより、プ
ラツトホーム１２の上に通常サイズの投影像が形
成されるが、その像はフイツシユ１５１の前記フ
レームに以前に記録されたマイクロ像に対応して
いる。プラツトホーム１２の上に投影される拡大
像は、以前にフイツシユ１５１に記録された基板
１８０の上のハードコピーの頭初のデータあるい
は情報のネガである。その理由を考えてみれば、
マスクフイルム４９はネガ作用を持ちその中にネ
ガの透明画を形成し、またフイツシユ１５１のマ
イクロフオーム・フイルムはポジ作用を持ち、マ
スクフイルム・ストリツプ４９のネガ透明画に対
してポジであり、従つて以前に記録されたハード
コピー１８０に対してネガの透明画をその中に形
成するからである。

本発明はまたマイクロフオーム・フイルム中に
既にある所望のマイクロフオーム記録を“追記
（annotating）”するための簡単な方法および手段
を提供する。例えば、以前にマイクロ像が形成さ
れているマイクロフイツシユのフレーム中に存在
するマイクロフオーム記録の消去又は上記マイク
ロフオーム記録への追加情報（データ）の追記の
ための簡単な方法及び手段を提供する。本発明の
この追記機能の特徴は第１２図に概略が図示され
ている。上述したようにマイクロフイツシユ１５
１のフレームＧ−１３の上のデータあるいは情報
はプラツトホーム１２の上に拡大投影される。そ
の後、たとえば基板１８１の上にＤ，Ｅ，Ｆで示
されたような追加データおよび情報を有する追加
のハードコピーがプラツトホーム１２の上に置か
れる。かくして追加のハードコピー１８１は、プ
ラツトホーム１２の上に投影された、以前に記録
されたデータあるいは情報に関し適切に位置決め
されうる。

このようにして、追加のハードコピー１８１と
フイツシユ１５１に以前に記録された像との間の
正確な関係が保証される。他方、すでに記録され
た任意のデータあるいは情報を消去したい場合
は、適当な消去用材料が、プラツトホーム１２の
上に投影された消去すべき像の部分の上に置かれ
る。たとえば投影された文字Ｃを消去用材料でお
おえばよい。

追記操作は上述した記録サイクルに対応した本
発明装置を操作することにより達成される。すな
わち、フイツシユ１５１のフレームＧ−１３を第
１０図に示したように像転写ステーシヨン４１に
位置決めし、かつマスクフイルム・ストリツプ４
９を像形成および現像ステーシヨン２４において
インデツクスし、任意の追加の資料あるいは消去
用材料を含む追加のハードコピーの像を受けるよ
うにむマスクフイルム・ストリツプ４９は像形成
および現像ステーシヨン２４から像転写ステーシ
ヨン４１に移されて第１１図に示したようにフレ
ームＧ−１３の上に置かれ、そのフレームに追加
の資料あるいは消去用材料の像を形成し、従つて
上記フレームの追記が行われる。追加のハードコ
ピー１８１は、基板等の上に置かれる代りに、直
接プラツトホームの上に書き込んでもよく、消去
材料はフイツシユ１５１のフレームＧ−１３の中
にある以前に記録されたマイクロフオーム記録か
ら投影された情報に書き込んでもよい。追記後は
プラツトホーム１２の上のそのような書き込みは
洗浄等により除去される。また、所望ならば、第
１０図に示したようなプラツトホーム１２の上の
最初のハードコピーは、上述したようにプラツト
ホーム１２の上に書き込んだり、あるいは前述の
通りプラツトホーム１２の上に像を投影すること
によつても得られる。

第９図に示したように、本発明装置はフイツシ
ユ１５１のフレームのマイクロフオーム記録を連
続して観察するための「ステツプおよび繰返し」
サイクルを含む。この場合、ステツプおよび繰返
しサイクルは読出しサイクルの最初の部分を含
む。読出しキー１６２を押し続けて読出しサイク
ルを実行する。フレームのデータおよび情報がプ
ラツトホーム１２の上で観察された後、ステツプ
および繰返しキー１６３が押される。それにより
Ｘキヤリツジ・ラツチ１３８およびフイツシユ押
圧保持器８１が解放され、Ｘ軸キヤリツジ１３４
はバネの力により１ステツプだけ動かされた後、
Ｘキヤリツジ・ラツチ１３８およびフイツシユ押
圧保持器８１は再び駆動される。それにより次の
隣りのフレームが観察できる。この操作は１つの
行のＸ＝14まで繰り返される。その後ステツプお
よび繰返しキー１６３が再び押圧されると、Ｙキ
ヤリツジ・ラツチ１１５とフイツシユ押圧保持器
８１とは解除され、Ｙ軸キヤリツジ１１０はバネ
の力により１ステツプ動かされ、次の隣りの行が
表示される。次にＸ軸キヤリツジ１３４がＸ軸モ
ータ１４３によりＸ＝１に動かされ、ステツプお
よび繰返しサイクルが繰り返される。ステツプお
よび繰返しサイクルは読出しキー１６２を押して
オフにすることにより終了する。

また第９図に示したように、本発明ではフイツ
シユ１５１の所望のフレームのマイクロフオーム
像を再生できる「プリント・サイクル」も設けら
れている。この場合、フイルムや紙等の感光媒体
がプラツトホーム１２の上に置かれ、上述したよ
うに読出しサイクルが動作し感光媒体に像が形成
される。プリント・サイクルは感光媒体に正しい
像を形成するためにシヤツタ２０の開放時間を制
御すること以外は読出しサイクルと同じである。
シヤツタ２０が閉じられプリント・サイクルが完
了した後、プラツトホーム１２の上の像が形成さ
れた感光媒体は取り外され、適当な方法で現像さ
れる。

上述したように、乾式処理マスクフイルム・ス
トリツプ４９はハードコピーからの反射光に感光
し像を形成し、熱によつて現像され、マイクロ像
の透明画をその中に形成する。乾式処理マスクフ
イルム・ストリツプ４９は前述した特許第
3966317号に記載されたようなフイルム・ストリ
ツプが用いられる。マスクフイルム・ストリツプ
４９は、マイラーあるいはその均等物のような柔
軟で実質的に透明な合成プラスチツク基板を含む
ことが好ましい。その基板上に光を感光して像を
形成し熱によつて乾式現像され像の形成された透
明画を形成する層がコーテイングされる。感光層
は、ネガの像を形成したい場合は、実質的に透明
であり、好ましくは酸化剤と、還元剤と、露光さ
れると遊離銀の核を形成する触媒形成剤との混和
物を含み、これらはすべて樹脂バインダの中に分
散される。さらに詳述すると、たとえば、上記混
和物は、酸化剤としてベヘン酸銀、還元剤として
ハイドロキノンを、触媒形成剤として塩化銀を、
また樹脂バインダとしてブタジエンとスチレンと
の共重合体を含む。この中で塩化銀だけが感光性
である。光像が実質的に透明なマスクフイルム・
ストリツプ４９に投射されると、光がマスクフイ
ルム・ストリツプに当つたところだけ、塩化銀中
に光分解銀が形成され、そこに潜像が形成され
る。ヒータ６８によりマスクフイルム・ストリツ
プ４９が加熱されると、潜像中の光分解銀は、ベ
ヘン酸銀の酸化剤とハイドロキノンの還元剤との
間の反応に触媒作用を及ぼし、ベヘン酸銀は還元
されて最初の潜像の領域内に比較的不透明な銀結
晶像を形成する。像が形成されかつ現像された乾
式処理マスクフイルム・ストリツプ４９は、ハー
ドコピーの黒の領域に対応した実質的に透明な領
域とハードコピーの白の領域に対応した実質的に
不透明な領域とを有する。このようにして、マス
クフイルム・ストリツプ４９はネガの働きをし、
その中の像の形成された透明画はハードコピーの
ネガとなる。

乾式処理マイクロフオーム・フイルム１５１は
実質的に米国特許第3966317号に記載されたよう
なものであり、前述のように好ましくはマイクロ
フイツシユ形式のフイルムである。そのマイクロ
フオーム・フイルムは実質的に不透明であり、光
に本質的に感光せず、記録保存特性を有するが、
乾式処理マスクフイルム・ストリツプ４９を通し
て加えられるある限界値以上の放射エネルギに感
応し、像を形成し、現像されて、その中にマイク
ロフオーム像記録を形成するが、この記録は乾式
処理マスクフイルム・ストリツプ４９の中の透明
なマイクロ像と一致し、かつ記録保存特性を有す
る。そのような乾式処理マイクロフオーム・フイ
ルムは、ロバート・ダブリユーホールマン
（Robert W.Hallman）、スタンホード・アール・
オブシンスキー（Stanford R.Ovshinsky）およ
びジヨン・ピー・ドニヌーフビル（John P.
DeNeufville）が1971年７月15日に出願し、現在
は放棄された米国特許出願第162842号（特開昭48
−19303号公報に対応）、同人らが1975年５月13日
に出願した一部継続米国特許出願第577003号、並
びに同人らが1973年10月19日に出願した米国特許
出願第407944号（特開昭52−51943号公報に対
応）に記載したようなフイルムである。一例とし
て、マイクロフオーム・フイルムあるいはフイツ
シユ１５１は柔軟で実質的に透明な合成プラスチ
ツク基板と、好ましくは蒸着等により該基板上に
被着されたビスマス等のような分散形成材料の実
質的に不透明な固体薄膜とを含みうる。分散像形
成フイルム上には保護被覆が適当に施され、その
保護被覆は、好ましくは、実質的に透明な合成プ
ラスチツクあるいは重合体の膜を含む。

実質的に不透明な分散像形成材料の層はマスク
フイルム・ストリツプ４９を通して充分な量の放
射エネルギが加えられて上記分散像形成材料層に
吸収されたエネルギがある限界値以上に増加する
と、実質的に流動状態に変化し、この状態におい
て、像形成材料の表面張力により上記実質的に不
透明な像形成材料層が上記エネルギを受けた部分
において分散せしめられ、ついで上記エネルギの
印加後そのまま凍結して光透過可能のオープニン
グ及び変形材料を含む不連続層へ変化することが
できる。このようにして像が形成されたマイクロ
フオーム・フイルムあるいはフイツシユ１５１
は、オープニング及び変形材料を含む不連続な層
によつて形成され、マスクフイルム・ストリツプ
４９の実質的に透明な領域に対応した、実質的に
透明な領域とマスクフイルム・ストリツプの実質
的に不透明な領域に対応した実質的に不透明な領
域とを有する。このようにして、マイクロフオー
ム・フイルムあるいはフイツシユ１５１はマスク
フイルム・ストリツプ４９に対してポジの作用を
し、マスクフイルム・ストリツプ４９がネガの作
用をするかぎり、マイクロフオーム、フイルムあ
るいはフイツシユの像の形成された透明画はハー
ドコピーのネガとなる。

マイクロフオーム・フイルムあるいはフイツシ
ユ１５１のガンマが、たとえば１０あるいはそれ
以上のように高い場合は、吸収されたエネルギの
前記の限界値は、不連続な層の領域中の像形成材
料の分散を実質的に完全ならしめ、かつ基板上の
自由空間の中には実質的に離間した小球が含まれ
ることにより、マイクロフオーム・フイルムの分
散領域を通つて最大の光透過率を与えるようなし
きい値である。

しかしマサツグ・イズ（Masatsugu Izu）およ
びスタンフオード・アール・オブシンスキー
（Stanford R.Ovshinsky）により1976年９月23日
に出願された米国特許出願第725926号に開示され
ているように、表面張力によつて起こされる不連
続層への変化を送らせ、かつマスクフイルム・ス
トリツプ４９を通つてマイクロフオーム・フイル
ムあるいはフイツシユに印加される前記ある限界
値以上のエネルギの強さに従つて前記の変化の量
を制御し、前記の変化の量とフイルムの中の開口
の領域を増加させかつ変形材料の領域を減少さ
せ、従つて前記の限界値以上の印加エネルギの強
度に応じてフイルムの光学濃度を制御し、マイク
ロフオーム・フイルムあるいはフイツシユに連続
階調性の像を形成するための手段をマイクロフオ
ーム・フイルムあるいはフイツシユ１５１の像形
成材料層に関連させてもよい。そのようなマイク
ロフオーム・フイルムあるいはフイツシユは比較
的低いガンマ、例えば約２程度であり、連続階調
性の乾式処理像が形成される。一例として、前記
の遅延および制御の手段として、前述の米国特許
出願第725926号に説明されているように、分散の
前に実質的に不透明な分散像形成材料層中に多成
分及び相境界を有するようにしてもよい。

さらに前述の米国特許出願第725926号に記載さ
れているように、マイクロフオーム・フイルムあ
るいはフイツシユ１５１の実質的に不透明な分散
像形成材料層は、そのシステム内において低い共
融点を有する実質的に相互に不溶解性の複数の固
体成分からなる合金を含むようにしてもよい。そ
のような分散像形成材料は、印加されるエネルギ
に対して一層高感度であり、マスクフイルム・ス
トリツプを通して印加されるより少ないエネルギ
量で実質的に流動状態に変化する。光には実質的
に感光しないが、乾式処理マスクフイルム・スト
リツプ４９を通して印加されるある限界値以上の
放射エネルギに感応し、像を形成しかつ現像され
る乾式処理マイクロフオーム・フイルムあるいは
フイツシユ１５１には、前述した米国特許第
3966317号、米国特許出願第162842号、第577003
号、第407944号および第725926号（特開昭53−
39736号公報に対応）に記載されているような、
前述の高ガンマ値の分散像形成材料、低ガンマ値
の分散像形成材料、および高感度の分散像形成材
料が使用される。ハードコピーの反射光に感光し
像を形成しかつ熱によつて現像されてマイクロ像
の形成された透明画をその中に形成する乾式処理
マスクフイルム・ストリツプ４９には、前述した
米国特許第3966317号に記載されたマスクフイル
ム・ストリツプおよびスリーエム・カンパニー
（3M Company）によつて開発されかつ前記特許
において参照されたドライシルバー・フイルムを
用いたマスクフイルム・ストリツプが使用され
る。

説明のために本発明の一つの好適な実施例につ
いて開示したが、本開示を参照すれば、本発明の
他の実施例も当業者には明らかであり、従つて、
本発明は上述の具体例に限定されない。

本発明の好適な実施態様を記せば次のとおりで
ある。

(1) ハードコピーから反射された光像を像形成ス
テーシヨンにおいてマイクロ像のサイズに縮小
し、このマイクロ像サイズの光像によりマイク
ロフオーム像記録をマイクロフオーム・フイル
ムの中に形成する。ハードコピーからマイクロ
フオーム記録を作成する方法において、像形成
ステーシヨンは、ハードコピーを受け止めるプ
ラツトホームとプラツトホーム上のハードコピ
ーから反射された光像をマイクロ像のサイズに
縮小しマイクロフオーム・フイルムの中にマイ
クロフオーム像記録を形成する投影手段とを含
み、マイクロフオーム・フイルムの中の所望の
マイクロフオーム像記録を像形成ステーシヨン
に移動させる段階と、投影手段により、マイク
ロフオーム・フイルムの中の所望のマイクロフ
オーム像記録の像を観察するために当該像を拡
大された通常のサイズでプラツトホーム上に拡
大投影する段階とを含むハードコピーからマイ
クロフオーム記録を作成する方法。

(2) 前記(1)に記載の方法において、マイクロフオ
ーム・フイルムの中の隣接した所望のマイクロ
フオーム像記録を次々に観察するために、マイ
クロフオーム像記録を像形成ステーシヨンに
次々に移動する段階を含む方法。

(3) 前記(1)に記載の方法において、プラツトホー
ム上に投影された拡大された通常のサイズの像
をプリントするために、プラツトホーム上に感
光媒体を置く段階を含む方法。

(4) 前記(1)に記載の方法において、追記を行なう
目的で、プラツトホームは、当該プラツトホー
ム上に投影された拡大された通常のサイズの像
に対し特定の関係で、追加のハードコピーを受
け止め更に投影手段により、プラツトホーム上
の追加のハードコピーの反射光像をマイクロ像
サイズに縮小し、プラツトホーム上に以前に投
影された所望のマイクロフオーム像記録の中に
追加のハードコピーのマイクロフオーム像記録
を形成し、所望のマイクロフオーム像記録を追
加のハードコピーにより追記する段階を含む方
法。

(5) ハードコピーから反射された光像がマイクロ
像のサイズに縮小されかつ像形成ステーシヨン
において、ハードコピーの反射光に感光して像
を形成し更に熱によつて現像されたマイクロ像
の形成された透明画を形成する乾式処理マスク
フイルム・ストリツプに投射され、更にマスク
フイルム・ストリツプの中のマイクロ像の形成
された透明画がストリツプを通過する一定限界
値以上の放射エネルギによつて、記録保存性能
を有しかつ乾式処理マスクフイルム・ストリツ
プを通過して印加される前記限界値以上の放射
エネルギに感応し像を形成しかつ現像されて乾
式処理マスクフイルム・ストリツプの中の透明
マイクロ像に一致しかつ記録保存性能を有する
マイクロフオーム像記録を形成する乾式処理マ
イクロフオーム・フイルムに転写されるハード
コピーの反射光から保存用マイクロフオーム記
録を作成する乾式処理方法において、像形成ス
テーシヨンは、ハードコピーを受け止めるプラ
ツトホームと、プラツトホーム上のハードコピ
ーから反射される光像をマイクロ像のサイズに
縮小し当該光像を乾式処理マスクフイルム・ス
トリツプに投射してマイクロ像の形成された透
明画をストリツプ中に形成し、乾式処理マイク
ロフオーム・フイルムの中にマイクロフオーム
像記録を形成する投影手段とを含み、乾式処理
マイクロフオーム・フイルムの中の所望のマイ
クロフオーム像記録を像形成ステーシヨンに移
動させる段階と、投影手段により、マイクロフ
オーム・フイルムの中の所望のマイクロフオー
ム像記録の像を観察するために当該像を拡大さ
れた通常のサイズでプラツトホーム上に拡大投
影する段階とを含むハードコピーの反射光から
保存用マイクロフオーム記録を作成する乾式処
理方法。

(6) 前記(5)に記載の方法において、追記を行なう
目的で、プラツトホームは、当該プラツトホー
ム上に投影された拡大された通常のサイズの像
に対し特定の関係で追加のハードコピーを受け
止め更に、投影手段により、プラツトホーム上
の追加のハードコピーの反射光像をマイクロ像
サイズに縮小し、当該光像を乾式処理マスクフ
イルム・ストリツプに投射し追加のハードコピ
ーのマイクロ像の形成された透明画をストリツ
プ中に形成し、かつプラツトホーム上に以前に
投影された所望のマイクロフオーム像記録の中
に追加のハードコピーのマイクロフオーム像記
録を形成し、所望のマイクロフオーム像記録を
追加のハードコピーにより追記する段階を含む
ハードコピーの反射光から保存用マイクロフオ
ーム記録を作成する乾式処理方法。

(7) ハードコピーから反射された光像がマイクロ
像サイズに縮小されかつハードコピーの反射光
に感光して像に形成し更に熱によつて現像され
マイクロ像の形成された透明画を形成する乾式
処理マスクフイルム・ストリツプに投射される
像形成および現像ステーシヨンと、マスクフイ
ルム・ストリツプのマイクロ像の形成された透
明画が該ストリツプを通過する一定限界値以上
の放射エネルギによつて記録保存性能を有し、
かつ乾式処理マスクフイルム・ストリツプを通
過して印加された前記限界値以上の放射エネル
ギに感応し像を形成しかつ現像されて乾式処理
マスクフイルム・ストリツプの中の透明マイク
ロ像に一致しかつ記録保存性能を有するマイク
ロフオーム像記録を形成する乾式処理マイクロ
フオーム・フイルムに転写される像転写ステー
シヨンとからなり、乾式処理マスクフイルム・
ストリツプを像形成および現像ステーシヨンな
らびに像転写ステーシヨンに移動させ、乾式処
理マイクロフオーム・フイルムを位置決めしか
つ像転写ステーシヨンにおいて乾式処理マスク
フイルム・ストリツプと乾式処理マイクロフオ
ーム・フイルムとを重畳するようにしたハード
コピーの反射光から保存用マイクロフオーム記
録を作成する乾式処理方法において、像形成お
よび現像ステーシヨンは、ハードコピーを受け
止めるプラツトホームと、プラツトホーム上の
ハードコピーから反射された光像をマイクロ像
のサイズに縮小し当該光像を乾式処理マスクフ
イルム・ストリツプに投射してマイクロ像の形
成された透明画をストリツプ中に形成し、次に
像転写ステーシヨンにおいて乾式処理マイクロ
フオーム・フイルムの中にマイクロフオーム像
記録を形成する投影手段とを含んでおり、乾式
処理マイクロフオーム・フイルムの中の所望の
マイクロフオーム像記録を像形成および現像ス
テーシヨンに移動させる段階と、投影手段によ
り、乾式処理マイクロフオーム・フイルムの中
の所望のマイクロフオーム像記録の像を観察す
るために当該像を拡大された通常のサイズでプ
ラツトホーム上に拡大投影する段階とを含む方
法。

(8) 前記(7)に記載の方法において、乾式処理マイ
クロフオーム・フイルムは、当該フイルム中の
マイクロフオーム像記録がフレームの中に配列
されたマイクロフイツシユ形式を有する方法。

(9) 前記(7)に記載の方法において、追記を行なう
目的で、プラツトホームは、当該プラツトホー
ム上に投影された拡大された通常のサイズの像
に関連して追加のハードコピーを受け止め、更
に投影手段により、プラツトホーム上の追加の
ハードコピーの反射光像をマイクロ像サイズに
縮小し、当該光像を、像形成および現像ステー
シヨンにおいて、乾式処理マスクフイルム・ス
トリツプに投射し追加のハードコピーのマイク
ロ像の形成された透明画を該ストリツプ中に形
成し、かつ像転写ステーシヨンにおいて、プラ
ツトホーム上に以前に投影された所望のマイク
ロフオーム像記録の中に追加のハードコピーの
マイクロフオーム像記録を形成し、所望のマイ
クロフオーム像記録を追加ハードコピーにより
追記する段階を含む方法。

(10) 前記(9)に記載の方法においては、乾式処理マ
イクロフオーム・フイルムは、当該フイルム中
のマイクロフオーム像記録がフレームの中に配
列されたマイクロフイツシユ形式を有する方
法。

(11) ハードコピーから反射された光像がマイクロ
像のサイズに縮小されかつハードコピーの反射
光に感光して像を形成し更に熱によつて現像さ
れマイクロ像の形成された透明画を形成する乾
式処理マスクフイルム・ストリツプに投射され
る像形成および現像ステーシヨンと、マスクフ
イルム・ストリツプのマイクロ像の形成された
透明画が該ストリツプを通過する一定限界値以
上の放射エネルギによつて記録保存特性を有し
かつ乾式処理マスクフイルム・ストリツプを通
過して印加された前記限界値以上の放射エネル
ギに感応し像を形成しかつ現像されて前記マイ
クロフオーム・フイルムの中にストリツプの中
の透明マイクロ像に一致しかつ記録保存性能を
有するマイクロフオーム像記録を形成し、かつ
マイクロフオーム像記録がフレームごとに配列
されたマイクロフイツシユの形式を有する乾式
処理マイクロフオーム・フイルムに転写される
像転写ステーシヨンとからなり、乾式処理マス
クフイルム・ストリツプを前記形成および現像
ステーシヨンならびに像転写ステーシヨンに移
動させ、乾式処理マイクロフオーム・フイルム
の所望のフレームを位置決めし、かつ像転写ス
テーシヨンにおいて乾式処理マスクフイルム・
ストリツプと前記乾式処理マイクロフオーム・
フイルムとを重畳するようにしたハードコピー
の反射光から保存用マイクロフオーム記録を作
成する乾式処理方法において、像形成および現
像ステーシヨンは、ハードコピーを受け止める
プラツトホームと、プラツトホーム上のハード
コピーから反射された光像をマイクロ像のサイ
ズに縮小し当該光像を乾式処理マスクフイル
ム・ストリツプに投射してマイクロ像の形成さ
れた透明画を当該ストリツプ中に形成し、次に
像転写ステーシヨンにおいて乾式処理マイクロ
フオーム・フイルムのフレームにマイクロフオ
ーム像記録を形成する投影手段とを含んでお
り、マイクロフオーム・フイルムの所望の像形
成フレームを像形成および現像ステーシヨンに
移動させる段階と、投影手段により、マイクロ
フオーム・フイルムの所望のフレームの中のマ
イクロフオーム像記録の像を観察するために当
該像を拡大された通常のサイズでプラツトホー
ム上に拡大投影する段階とを含み、更に像転写
ステーシヨンにおけるマイクロフオーム・フイ
ルムの所望のフレームの位置決めと、マイクロ
フオーム・フイルムの所望の像形成フレームの
像形成および現像ステーシヨンへの移動とは、
その所望フレームをＸ方向およびＹ方向に移動
させることにより行なうハードコピーの反射光
から保存用マイクロフオーム記録を作成する乾
式処理方法。

(12) 前記(11)に記載の方法において、追記を行なう
目的で、プラツトホームは、当該プラツトホー
ム上に投影されたマイクロフオーム・フイルム
の所望のフレームの投影され拡大された通常の
サイズの像に関連して追加のハードコピーを受
け止め、更に投影手段により、プラツトホーム
上の追加のハードコピーの反射光像をマイクロ
像サイズに縮小し、当該光像を、像形成および
現像ステーシヨンにおいて、マスクフイルム・
ストリツプに投射し追加のハードコピーのマイ
クロ像の形成された透明画をストリツプ中に形
成し、かつ像転写ステーシヨンにおいて、プラ
ツトホーム上に以前に投影されたマイクロフオ
ーム・フイルムの所望の像形成フレームの中に
追加のハードコピーのマイクロフオーム像記録
を形成し、所望の像形成フレームを追加ハード
コピーにより追記する段階を含む方法。

(13) ハードコピーから反射された光像を像形成
ステーシヨンにおいてマイクロ像サイズに縮小
し、当該マイクロ像サイズの光像によりマイク
ロフオーム記録をマイクロフオーム・フイルム
の中に形成しハードコピーからマイクロフオー
ム記録を作成する装置において、ハードコピー
を受け止めるプラツトホーム及びプラツトホー
ム上のハードコピーから反射された光像をマイ
クロ像のサイズに縮小して前記マイクロフオー
ム・フイルムの中にマイクロフオーム像記録を
形成する投影手段を有する像形成ステーシヨン
と、マイクロフオーム・フイルムの中の所望の
マイクロフオーム像記録を像形成ステーシヨン
に移動させる手段と、投影手段を含み、マイク
ロフオーム・フイルムの中の所望のマイクロフ
オーム像記録の像を観察するために当該を拡大
された通常のサイズでプラツトホーム上に拡大
投影する手段とをそなえたハードコピーからマ
イクロフオーム記録を作成する装置。

(14) 前記(13)に記載の装置において、プラツト
ホームに受け止められるハードコピーは当該プ
ラツトホーム上に置かれた情報あるいはデータ
を含む装置。

(15) 前記(14)に記載の装置において、情報ある
いはデータはプラツトホーム上に置かれた現実
の物体を含む記録を作成する装置。

(16) 前記(14)に記載の装置において、情報ある
いはデータはプラツトホーム上に置かれた基板
に含まれている装置。

(17) 前記(14)に記載の装置において、情報ある
いはデータはプラツトホーム上に書き込まれて
いる装置。

(18) 前記(13)に記載の装置において、プラツト
ホームに受け止められるハードコピーはプラツ
トホームにに投影された情報あるいはデータの
像を含む装置。

(19) 前記(18)に記載の装置において、プラツト
ホームに投影された情報あるいはデータの像は
透明画より得られる装置。

(20) 前記(18)に記載の装置において、プラツト
ホームに投影された情報あるいはデータの像は
現実の物体から得られる装置。

(21) 前記(13)に記載の装置において、マイクロ
フオーム・フイルムは、当該フイルム中のマイ
クロフオーム像記録がフレームの中に配列され
たマイクロフイツシユ形式を有する装置。

(22) 前記(13)に記載の装置において、乾式処理
マイクロフオーム・フイルムの中の隣接した所
望のマイクロフオーム像記録を次々に観察する
ために当該記録を像形成ステーシヨンに次々に
移動する手段を備えた装置。

(23) 前記(13)に記載の装置において、プラツト
ホーム上に投影された拡大された通常のサイズ
の像を、プラツトホームに置かれた感光性媒体
上にプリントする手段を備えた装置。

(24) 前記(13)に記載の装置において、追記の目
的で、プラツトホームは、当該プラツトホーム
上に投影された拡大された通常のサイズの像に
対し特定の関係で、追加のハードコピーを受け
ることができ、更に投影手段を含み、プラツト
ホーム上の追加のハードコピーの反射光像をマ
イクロ像サイズに縮小し、プラツトホーム上に
以前に投影された所望のマイクロフオーム像記
録の中に追加のハードコピーのマイクロフオー
ム像記録を形成し、所望のマイクロフオーム像
記録を追加のハードコピーにより追記する手段
を備えた装置。

(25) 前記(24)に記載の装置において、プラツト
ホームに受けとめられる追加のハードコピーは
プラツトホーム上に置かれた情報あるいはデー
タを含む装置。

(26) 前記(25)に記載の装置において、情報ある
いはデータはプラツトホームに置かれた基板に
含まれる装置。

(27) 前記(25)に記載の装置において、情報ある
いはデータはプラツトホーム上に書き込まれて
いる装置。

(28) 前記(25)に記載の装置において、情報ある
いはデータは、プラツトホーム上に以前に投影
された所望のマイクロフオーム像記録を消去
し、あるいは当該記録に追加される装置。

(29) 前記(24)に記載の装置において、マイクロ
フオーム・フイルムは、当該フイルム中のマイ
クロフオーム像記録がフレームの中に配列され
たマイクロフイツシユ形式でなる装置。

(30) ハードコピーから反射された光像がマイク
ロ像サイズに縮小されかつ像形成ステーシヨン
においてハードコピーからの反射光に感光して
像を形成し、熱により現像されてマイクロ像の
形成された透明画を形成する乾式処理マスクフ
イルム・ストリツプに投射され、マスクフイル
ム・ストリツプの中のマイクロ像の形成された
透明画がストリツプを通過する一定限界値以上
の放射エネルギによつて記録保存特性を有する
乾式処理マスクフイルム・ストリツプを通して
印加される限界値以上の放射エネルギに感応し
像を形成し現像されて乾式処理マスクフイル
ム・ストリツプ中の透明マイクロ像に一致しか
つ記録保存性能を有するマイクロフオーム像記
録を形成する乾式処理マイクロフオーム・フイ
ルムに転写されるハードコピーの反射光から保
存用マイクロフオーム記録を作成する乾式処理
装置において、ハードコピーを受け止めるプラ
ツトホームとプラツトホーム上のハードコピー
から反射された光像をマイクロ像のサイズに縮
小し当該光像を乾式処理マスクフイルム・スト
リツプに投射してマイクロ像の形成された透明
画をストリツプ中に形成し、乾式処理マイクロ
フオーム・フイルムの中にマイクロフオーム像
記録を形成する投影手段とを含む像形成ステー
シヨンと、乾式処理マイクロフオーム・フイル
ムの中の所望のマイクロフオーム像記録を像形
成ステーシヨンに移動させる手段と、投影手段
を含み、乾式処理マイクロフオーム・フイルム
の中にある所望のマイクロフオーム像記録の像
を観察するために当該像を拡大された通常のサ
イズでプラツトホーム上に拡大投影する手段と
を備えたハードコピーの反射光から保存用マイ
クロフオーム記録を作成する乾式処理装置。

(31) 前記(30)項に記載の装置において、追記を
行なう目的で、プラツトホームは、当該プラツ
トホーム上に投影された拡大された通常のサイ
ズの像に対し特定の関係で、追加のハードコピ
ーを受け止めることができ、更に投影手段を含
む手段であつて、プラツトホーム上の追加のハ
ードコピーの反射光像をマイクロ像サイズに縮
小し、当該光像を乾式処理マスクフイルム・ス
トリツプに投射し追加のハードコピーのマイク
ロ像の形成された透明画をストリツプ中に形成
し、かつプラツトホーム上に以前に投影された
所望のマイクロフオーム像記録の中に追加のハ
ードコピーのマイクロフオーム像記録を形成
し、所望のマイクロフオーム像記録を追加のハ
ードコピーにより追記する手段を備えた装置。

(32) ハードコピーから反射された光像がマイク
ロ像のサズに縮小されかつハードコピーの反射
光に感光して像を形成し、熱によつて現像さ
れ、マイクロ像の形成された透明画を形成する
乾式処理マスクフイルム・ストリツプに投射さ
れる像形成および現像ステーシヨンと、マスク
フイルム・ストリツプの中のマイクロ像の形成
された透明画がストリツプを通過する一定限界
値以上の放射エネルギによつて記録保存特性を
有し、かつ乾式処理マスクフイルム・ストリツ
プを通過して印加された限界値以上の放射エネ
ルギに感応し像を形成しかつ現像されて前記マ
イクロフオーム・フイルムの中に乾式処理マス
クフイルム・ストリツプの中の透明マイクロ像
に一致しかつ記録保存性能を有するマイクロフ
オーム像記録を形成する乾式処理マイクロフオ
ーム・フイルムに転写される像転写ステーシヨ
ンと乾式処理マスクフイルム・ストリツプを像
形成および現像ステーシヨンならびに像転写ス
テーシヨンに移動させる手段と、像転写ステー
シヨンにおいて乾式処理マイクロフオーム・フ
イルムを位置決めしかつ乾式処理マスクフイル
ム・ストリツプと乾式処理マイクロフオーム・
フイルムとを重畳するための手段とを有するハ
ードコピーの反射光から保存用マイクロフオー
ム記録を作成する乾式処理装置において、像形
成および現像ステーシヨンは、ハードコピーを
受け止めるプラツトホームと、プラツトホーム
上のハードコピーから反射された光像をマイク
ロ像のサズに縮小し当該光像を乾式処理マスク
フイルム・ストリツプに投射してマイクロ像の
形成された透明画をストリツプ中に形成し、続
いて像転写ステーシヨンにおいて乾式処理マイ
クロフオーム・フイルムにマイクロフオーム像
記録を形成する投影手段とを含み、乾式処理マ
イクロフオーム・フイルムの中の所望のマイク
ロフオーム像記録を像形成および現像ステーシ
ヨンに移動させる手段と、投影手段を含む手段
あつて、乾式処理マイクロフオームの中の所望
のマイクロフオーム像記録の像を観察するため
に当該像を拡大された通常のサイズでプラツト
ホーム上に拡大投影する手段とを備えたハード
コピーの反射光から保存用マイクロフオーム記
録を作成する乾式処理装置。

(33) 前記(31)に記載の装置におい、乾式処理マ
イクロフオーム・フイルムは、フイルム中のマ
イクロフオーム像記録がフレームの中に配列さ
れたマイクロフイツシユ形式を有する装置。

(34) 前記(20)に記載の装置において、追記を行
なう目的で、プラツトホームは、当該プラツト
ホーム上に投影され拡大された通常のサイズの
像に関連して追加のハードコピーを受け止める
ことができ、更に投影手段を含む手段であつ
て、プラツトホーム上の追加のハードコピーの
反射光像をマイクロ像サイズに縮小し、当該光
像を像形成および現像ステーシヨンにおいて乾
式処理マスクフイルム・ストリツプに投射し追
加のハードコピーのマイクロ像の形成された透
明画をストリツプ中に形成に形成し、かつ像転
写ステーシヨンにおいて、プラツトホーム上に
以前に投影された所望のマイクロフオーム像記
録の中に追加のハードコピーのマイクロフオー
ム像記録を形成し、所望のマイクロフオーム像
記録を追加のハードコピーにより追記する手段
を備えた装置。

(35) 前記(34)に記載の装置において、乾式処理
マイクロフオーム・フイルムは、当該フイルム
中のマイクロフオーム像記録がフレームの中に
配列されたマイクロフイツシユ形式を有する装
置。

(36) ハードコピーから反射された光像がマイク
ロ像のサイズに縮小されかつハードコピーの反
射光に感光して像を形成し、更に熱によつて現
像されマイクロ像の形成された透明画を形成す
る乾式処理マスクフイルム・ストリツプに投射
される像形成及び現像ステーシヨンと、マスク
フイルム・ストリツプ４の中のマイクロ像の形
成された透明画がストリツプを通過する一定限
界値以上の放射エネルギによつて記録保存特性
を有し、かつ乾式処理マスクフイルム・ストリ
ツプ４を通過して印加された限界値以上の放射
エネルギに感応し像を形成しかつ現像されて乾
式処理マスクフイルム・ストリツプの中の透明
マイクロ像に一致しかつ記録保存特性を有する
マイクロフオーム像記録を形成し、更にマイク
ロフオーム像記録がフレームごとに配列された
マイクロフイツシユの形式を有する乾式処理マ
イクロフオーム・フイルムに転写される像転写
ステーシヨンと、乾式処理マスクフイルム・ス
トリツプを像形成および現像ステーシヨンなら
びに像転写ステーシヨンに移動させる手段と、
像転写ステーシヨンにおいて乾式処理マイクロ
フオーム・フイルムの所望のフレームを位置決
めしかつ乾式処理マスクフイルム・ストリツプ
と乾式処理マイクロフオーム・フイルムとを重
畳するための手段とを有するハードコピーの反
射光から保存用マイクロフオーム記録を作成す
る乾式処理装置において、像形成および現像ス
テーシヨンは、ハードコピーを受け止めるプラ
ツトホームと、プラツトホーム上のハードコピ
ーから反射される光像をマイクロ像のサイズに
縮小し当該光像を乾式処理マスクフイルム・ス
トリツプに投射してマイクロ像の形成された透
明画をストリツプ中に形成し、続いて像転写ス
テーシヨンにおいて乾式処理マイクロフオー
ム・フイルムのフレームにマイクロフオーム像
記録を形成する投影手段とを含み、マイクロフ
オーム・フイルムの像の形成された所望のフレ
ームを像形成および現像ステーシヨンに移動さ
せる手段と、投影手段を含む手段であつて、マ
イクロフオーム・フイルムの所望のフレームの
中のマイクロフオーム像記録の像を観察するた
めに当該像を拡大された通常のサイズでプラツ
トホーム上に拡大投影する手段とを備え、像転
写ステーシヨンにおいてマイクロフオーム・フ
イルムの所望のフレームを位置決めする手段
と、マイクロフオーム・フイルムの像の形成さ
れた所望のフレームを像形成および現像ステー
シヨンに移動させる手段とは、マイクロフオー
ム・フイルムを載せたマイクロフオーム・フイ
ルム・ホルダを位置決めするＸ軸キヤリツジお
よびＹ軸キヤリツジと、Ｘ軸キヤリツジおよび
Ｙ軸キヤリツジを、従つてマイクロフオーム・
フイルム・ホルダをＸ軸方向およびＹ軸方向に
移動させる手段とを備えたハードコピーの反射
光から保存用マイクロフオーム記録を作成する
乾式処理装置。

(37) 前記(36)に記載の装置において、マイクロ
フオーム・フイルムの位置決め手段は、Ｘ軸お
よびＹ軸キヤリツジを所望のＸ軸およびＹ軸位
置に移動させるモータ手段と、Ｘ軸およびＹ軸
キヤリツジを所望の位置に掛止するラツチ手段
とを備えた装置。

(38) 前記(37)に記載の装置において、相対的に
可動のホトトランジスタと光源がＸ軸キヤリツ
ジおよびＹ軸キヤリツジに結合され、モーター
手段及びラツチ手段を制御してマイクロフオー
ム・フイルムを所望の位置に位置決めする装
置。

(39) 前記(36)に記載の装置において、追記を行
なう目的で、プラツトホームは、当該プラツト
ホーム上に投影されたマイクロフオーム・フイ
ルムの所望のフレームの投影され拡大された通
常のサイズの像に関連して追加のハードコピー
を受け止め、更に投影手段を含む手段であつ
て、プラツトホーム上の追加ハードコピーの反
射光像をマイクロ像サイズに縮小し、当該光像
を、像形成および現像ステーシヨンにおいて、
マスクフイルム・ストリツプに投射し追加ハー
ドコピーのマイクロ像の形成された透明画をス
トリツプ中に形成し、かつ像転写ステーシヨン
において、プラツトホーム上に以前に投影され
たマイクロフオーム・フイルムの所望の像形成
フレーメの中に追加のハードコピーのマイクロ
フオーム像記録を形成し、所望の像形成フレー
ムを追加ハードコピーにより追記する手段を備
えた装置。

(40) ハードコピーから反射された光像がマイク
ロ像のサイズに縮小されかつハードコピーの反
射光に感応して像を形成し、更に熱によつて現
像されマイクロ像の形成された透明画を形成す
る乾式処理マスクフイルム・ストリツプに投射
される像形成および現像ステーシヨンと、マス
クフイルム・ストリツプの中のマイクロ像の形
成された透明画がストリツプを通過する一定限
界値以上の放射エネルギによつて記録保存性能
を有し、かつ乾式処理マスクフイルム・ストリ
ツプを通過して印加された限界値以上の放射エ
ネルギに感応し像を形成しかつ現像されて乾式
処理マスクフイルム・ストリツプの中の透明マ
イクロ像に一致しかつ記録保存性能を有するマ
イクロフオーム像記録を形成する乾式処理マイ
クロフオーム・フイルムに転写される像転写ス
テーシヨンと、乾式処理マスクフイルム・スト
リツプを像形成および現像ステーシヨンならび
に像転写ステーシヨンに移動させる手段と、像
転写ステーシヨンにおいて乾式処理マイクロフ
オーム・フイルムを位置決めしかつ乾式処理マ
スクフイルム・ストリツプと乾式処理マイクロ
フオーム・フイルムとを重畳するための手段と
を有するハードコピーの反射光から保存用マイ
クロフオーム記録を作成する乾式処理装置にお
いて、乾式処理マスクフイルム・ストリツプを
含みかつ連続してマイクロ像の形成された透明
画をストリツプ中に形成するようにストリツプ
をインデツクスする手段を有するカセツトを備
え、更に乾式処理マスクフイルム・ストリツプ
を像形成および現像ステーシヨンならびに像転
写ステーシヨンに移動させる手段は、カセツト
を像形成および現像ステーシヨンならびに像転
写ステーシヨンに移動させる手段を備えたハー
ドコピーの反射光から保存用マイクロフオーム
記録を作成する乾式処理装置。

(41) 前記(40)に記載の装置において、カセツト
およびマスクフイルム・ストリツプは、像形成
および現像ステーシヨンならびに像転写ステー
シヨンに向かつて横方向に移動される装置。

(42) ハードコピーから反射された光像がマイク
ロ像のサイズに縮小されかつハードコピーの反
射光に感光して像を形成し、更に熱によつて現
像されたマイクロ像の形成された透明画を形成
する乾式処理マスクフイルム・ストリツプに投
射される像形成および現像ステーシヨンと、マ
スクフイルム・ストリツプの中のマイクロ像の
形成された透明画がストリツプを通過する一定
限界値以上の放射エネルギによつて、記録保存
性能を有し、かつ乾式処理マスクフイルム・ス
トリツプを通過して印加された限界値以上の放
射エネルギに感応し像を形成しかつ現像されて
乾式処理マスクフイルム・ストリツプの中の透
明マイクロ像に一致しかつ記録保存性能を有す
るマイクロフオーム像記録を形成し、更に、マ
イクロフオーム像記録がフレームごとに配列さ
れたマイクロフイツシユの形式を有する乾式処
理マイクロフオーム・フイルムに転写される像
転写ステーシヨンと、乾式処理マスクフイル
ム・ストリツプを像形成および現像ステーシヨ
ンならびに像転写ステーシヨンに移動させる手
段と、像転写ステーシヨンにおいて乾式処理マ
イクロフオーム・フイルムの所望のフレームを
位置決めしかつ乾式処理マスクフイルム・スト
リツプと乾式処理マイクロフオーム・フイルム
とを重畳するための手段とを有するハードコピ
ーの反射光から保存用マイクロフオーム記録を
作成する乾式処理装置において、像転写ステー
シヨンにおいてマイクロフオーム・フイルムの
所望のフレームを位置決めする手段は、マイク
ロフオーム・フイルムを載せたマイクロフオー
ム・フイルム・ホルダを位置決めするＸ軸キヤ
リツジおよびＹ軸キヤリツジと、該Ｘ軸キヤリ
ツジおよびＹ軸キヤリツジを、したがつてマイ
クロフオーム・フイルム・ホルダとホルダに載
せられたマイクロフオーム・フイルムとをＸ軸
方向およびＹ軸方向に沿つて所望のＸ軸および
Ｙ軸位置に移動させるモータ手段と、Ｘ軸キヤ
リツジおよびＹ軸キヤリツジを所望に位置に掛
止するラツチ手段とを備えたハードコピーの反
射光から保存用マイクロフオーム記録を作成す
る乾式処理装置。

(43) 前記(42)に記載の装置において、相対的に
可動のホツトトランジスタと光源とがＸ軸キヤ
リツジおよびＹ軸キヤリツジに結合されてお
り、モータ手段とラツチ手段とを制御してマイ
クロフオーム・フイルムを所望の位置に位置決
めするようにされた装置。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の好適実施例を示す概略正面立
面図、第２図は第１図の線２−２にほぼ沿つて下
方を見た本発明装置の一部の概略平面図、第３図
は第１図の線３−３にほほ沿つて左側を見た本発
明装置の一部の概略縦断面図、第４図は第１図の
線４−４にほぼ沿つて右側を見た本発明装置の他
の部分の概略縦断面図、第５図は第１図の線４−
４線にほぼ沿つて上方を見た本発明装置の一部の
概略底面図、第６図は第１図図示の装置の右側か
らみた本発明装置の一部の概略端部立面図、第７
図は本発明装置の各種部品間の関係を示す概略ブ
ロツク配線図、第８図は本発明装置の記録サイク
ルの説明図、第９図は本発明装置の読出しサイク
ルステツプおよび繰返しサイクルならびにプリン
ト・サイクルの説明図、第１０図および第１１図
は記録サイクルにおけるプラツトホーム、像形成
および現像ステーシヨン、像転写ステーシヨン、
マスクフイルム・ストリツプおよびマイクロフオ
ーム・フイルムあるいはマイクロフオーム・フイ
ツシユの関係を示した本発明装置の簡略概略図、
第１２図は読み出しサイクルおよび追記サイクル
におけるプラツトホーム、像形成および現像ステ
ーシヨン、像転写ステーシヨン、マスクフイル
ム・ストリツプおよびマイクロフオーム・フイル
ムあるいはマイクロフオーム・フイツシユの関係
を示した本発明装置の概略図である。 １０……乾式処理装置、１２……プラツトホー
ム、１３……ハードコピー・光源、１５……光
像、１８……レンズ、１９……レンズ・アセンブ
リ、２０……シヤツタ、２３……シヤツタ・ソレ
ノイド、２４……像形成および現像ステーシヨ
ン、３８……フラツシユ・アセンブリ、３９……
フラツシユ・ランプ、４１……像転写ステーシヨ
ン、４５……マスクフイルム・キヤリツジ、４８
……カセツト、４９……マスクフイルム・ストリ
ツプ、５０……供給リール、５６……巻取りリー
ル、５７……マイクロフイツシユインデツクス・
モータ、６０……光源およびホトセルのアセンブ
リ、６６……マイクロフイツシユ押圧保持器、１
６……ソレノイド、６８……現像ヒータ、６９…
…プランジヤ、７１……現像ソレノイド、７５…
…読出し照明器、８０……レンズ、８１……フイ
ツシユ押圧保持装置、８２……読出し照明器フア
ン、８７……転写パツドソレノイド、８９……転
写パツド、９２……マスクフイルム・キヤリツ
ジ・モータ、９５……マイクロフイツシユ・リミ
ツト・スイツチ、９６……マイクロフイツシユ・
キヤリツジ・ラツチ、１０７……ホト・トランジ
スタ、１１０……Ｙ軸キヤリツジ、１１４……ラ
イト、１１５……Ｙキヤリツジ・ラツチ、１１６
……Ｙ−キヤリツジ・ラツチ、１２０……Ｙ軸キ
ヤリツジ・モータ、１３１……ホト・トランジス
タ、１３４……Ｘ軸キヤリツジ、１３７……Ｘキ
ヤリツジ・ラツチ・ソレノイド、１３８……Ｘキ
ヤリツジ・ラツチ、１４３……Ｘ−キヤリツジ・
モータ、１４９……フイツシユ・ホルダ、１５１
……フイツシユ、１５５……制御パネル、１６１
……記録キー、１６１……記録キーランプ、１６
２……読出しキー、１６２′……読出しキーラン
プ、１７４……制御論理装置、１７５……メモ
リ、１７７……転写フラツシユ・トリガ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ プラツトホーム手段と、 このプラツトホーム手段に配置された保存すべ
   き画像を、縮少光像にして第１の位置に投影し、
   第１の位置に設定された観察されるべき画像を、
   拡大光像にしてプラツトホーム手段に投影する像
   縮小拡大手段と、 受容する光像によつて透明画像を生成する乾式
   処理マスクフイルム・ストリツプの所望個所を、
   前記第１の位置とこの第１の位置と異なる第２の
   位置とに設定するために、前記ストリツプを移動
   させる第１の移動手段と、 第１の位置でストリツプの所望個所に受容した
   縮小光像に相当する透明画像を当該ストリツプの
   所望個所に生成させる手段と、 受容する放射エネルギ像によつて前記ストリツ
   プの透明画像に相当する画像を生成し保存する乾
   式処理マイクロフオーム・フイルムの所望個所
   を、前記第１の位置と第２の位置とに夫々選択的
   に設定するために、前記フイルムを支持するフイ
   ルム支持体を移動させる第２の移動手段と、 ストリツプの所望個所とフイルムの所望個所と
   が、第１及び第２の移動手段により第２の位置に
   設定されて重ね合わされた際に、当該ストリツプ
   の所望個所に生成された透明画像を当該フイルム
   の所望個所に転写させるべく、ストリツプの所望
   個所を介してフイルムの所望個所に向つて放射エ
   ネルギを照射する手段とからなるマイクロフオー
   ム記録を生成する装置。 ２ プラツトホーム手段は、投影された拡大光像
   に対して追加の保存すべき画像を配置できるよう
   に構成されている特許請求の範囲第１項に記載の
   装置。 ３ プラツトホーム手段は、投影された拡大光像
   を、感光性媒体上にプリントする手段を有してい
   る特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の装
   置。 ４ 像縮小拡大手段は、プラツトホーム手段に配
   置された保存すべき画像に光を照射する第１の光
   照射手段と、第１の位置に設定された観察される
   べき画像に光を照射する第２の光照射手段と、第
   １の光照射手段によつて照射された画像を縮小光
   像にする一方、第２の照射手段によつて照射され
   た画像を拡大光像にするレンズ装置とを有してい
   る特許請求の範囲第１項から第３項までのいずれ
   かに記載の装置。 ５ 前記生成させる手段は、受容する光像に感応
   してストリツプの所望個所に形成された光感応像
   を熱現像する熱現像手段からなる特許請求の範囲
   第１項から第４項までのいずれかに記載の装置。 ６ 熱現像手段は、第１の位置でストリツプの所
   望個所に熱現像するように、配置されている特許
   請求の範囲第５項に記載の装置。 ７ 第１の移動手段は、ストリツプを収容したカ
   セツトを移動させるカセツト移動手段と、ストリ
   ツプをカセツト内で歩進させる歩進手段とからな
   る特許請求の範囲第１項から第６項までのいずれ
   かに記載の装置。 ８ カセツト移動手段は、カセツトを着脱自在に
   支持するカセツト支持体からなる特許請求の範囲
   第７項に記載の装置。 ９ 歩進手段は、カセツト支持体に設けられてい
   る特許請求の範囲第８項に記載の装置。 １０ 第１の移動手段は、ストリツプを収容した
   カセツトを着脱自在に支持するカセツト支持体
   と、このカセツト支持体を移動させるカセツト支
   持体移動手段と、このカセツト支持体移動手段に
   より第２の位置にストリツプの所望個所が設定さ
   れた際に、カセツト支持体を第２の位置に掛止す
   る手段と、ストリツプをカセツト内で歩進させる
   歩進手段とからなる特許請求の範囲第１項から第
   ６項までのいずれかに記載の装置。 １１ 第２の移動手段は、フイルムの所望個所の
   夫々に保存された画像を逐次的に観察すべく、フ
   イルム支持体を逐次的に移動させる手段を有して
   いる特許請求の範囲第１項から第１０項までのい
   ずれかに記載の装置。 １２ 第２の移動手段は、フイルム支持体を第１
   の方向に移動させる第１方向移動手段と、フイル
   ム支持体を第１の方向と交差する第２の方向に移
   動させる第２方向移動手段と、フイルム支持体の
   第１及び第２の方向に関する位置を検出する検出
   手段と、この第１及び第２方向移動手段によりフ
   イルムの所望個所が第１及び第２の位置に設定さ
   れた際、検出手段から検出信号に応答してフイル
   ム支持体を第１及び第２の位置に固定する固定手
   段とからなる特許請求の範囲第１項から第１１項
   までのいずれかに記載の装置。 １３ 第１方向移動手段は、第１の方向に移動自
   在なＸ軸キヤリツジからなり、第２方向移動手段
   は、Ｘ軸キヤリツジが載置されており、第２方向
   に移動自在なＹ軸キヤリツジからなる特許請求の
   範囲第１２項に記載の装置。 １４ 固定手段は、Ｘ軸キヤリツジと、Ｙ軸キヤ
   リツジとを夫々、フイルムの所望個所が第１及び
   第２の位置に設定された際、第１の方向及び第２
   の方向に関して固定する固定装置からなる特許請
   求の範囲第１３項に記載の装置。 １５ 第１及び第２方向移動手段は、夫々モータ
   手段からなり、固定装置はＸ軸キヤリツジ及びＹ
   軸キヤリツジを掛止するラツチ手段からなり、検
   出手段は、相対的に可動のホトトランジスタと光
   源とからなる特許請求の範囲第１４項記載の装
   置。