JPS6242848B2 - - Google Patents
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Description
本発明は新規なシリカゲル及びそれらをたとえ
ば歯磨きにおける清浄剤、摩耗剤及び磨き剤とし
て使用するのに特に好適ならしめる特性を有する
該シリカゲルの新規な製造方法に関する。 歯磨きにおける清浄剤及び磨き剤としての微粒
子シリカの使用に関しては多くの特許文献が既に
存在する。しかしながら、この従来技術はシリカ
が磨き剤として好適であるためにはどの特性を持
たなければならないかは未だ明確には示していな
い。熱分解法シリカ、沈降シリカ及びシリカゲル
は各々の場合に異なつた平均粒径を有し、そして
高い及び低い表面の両方を持つことができるもの
が推奨された。 故に、西ドイツ公告公報第1617927号は２〜20
μｍの粒径及び少なくとも600m2／ｇの比表面積
を有するシリカキセロゲルを推奨している。しか
しながら、西ドイツ公開公報第2028866号に従え
ば、表面は臨界的ではなくそして300〜500m2／ｇ
であることができる。 西ドイツ公開公報第1667875号に従えば、約
0.01〜0.03μｍにすぎない一次粒径を有する熱分
解法疎水性シリカが好適である。しかしながら、
西ドイツ公開公報第2250078号は粒径が20μｍを
越えてもよいことを述べており、そして後者の明
細書は粒径が22μｍ乃至50μｍ、特に25μｍ乃至
30μｍ間であり、250m2／ｇ乃至800m2／ｇ間の比
表面積を有するシリカキセロゲルを推奨してい
る。 西ドイツ公告公報第2446038号は嵩密度が非常
に重要であることを付言しており、摩耗力（ワイ
ヤ摩耗（wire attrition）として決定された）も
又嵩密度の上昇と共に増加することを示す。しか
しながら、いかにして異なつた嵩密度が得られる
かは明らかにされていない。実施例においては、
比表面積は摩耗作用又は嵩密度との相関関係を持
たない。 上記の説明は、一方におけるシリカの摩耗特性
と他方におけるそれらの他の特性との間には直接
の関係はないことを示す。シリカのタイプですら
重要ではないように見える。何故ならばゲルタイ
プのシリカの他に、湿式沈降法シリカ及び熱分解
法により製造したシリカも提唱されているからで
ある。 従来技術に従えば、シリカゲルの部類内の好適
性は、たとえば２〜30μｍ範囲の粒径を有し、15
〜35％の含水率を有するゲルを推奨する西ドイツ
公開公報第2704504号により示されている如く、
完全に脱水されたシリカゲル、いわゆるキセロゲ
ルに制限されてすらいない。これらの水含有ゲル
は非常に良好な摩耗特性を有する。 西ドイツ公開公報第2522486号は、低い油吸収
性及び高い嵩密度を意味すると理解されている
“低次構造”（″low structure）を有するシリカを
目的とする。従つて、これらのシリカの細孔容積
は比較的低くそしてこの特性は所望の摩耗特性に
とつて重要であると考えられる。 歯磨きに対する最適な清浄剤及び磨き剤は、所
定の比較的高度の摩耗性又は清浄化能力を保証し
なければならず、それにより歯に最大の輝き
（brightness）を与えなければならない。更に、
この剤は貯蔵期間中ですら好ましい安定なコンシ
ステンシーを歯磨きに与えなければならず、又他
の歯磨き構成成分と相溶性でなければならず、又
パツキン材料の腐食を生じてはいけない。従来技
術の上記説明により示される通り、実質的にこれ
らの要件を満足するシリカのタイプが実際に見出
されている。西ドイツ公告公報第1617927号及び
西ドイツ公開公報第2028866号に示されているシ
リカゲルは一般に歯磨きにおける良好な磨き作用
を奏するように見える。他の利点は、透明な歯磨
きを製造することができること（米国特許第
3538230号、西ドイツ公開公報第2250078号及び西
ドイツ公開公報第2502111号参照）及びカリエス
を防止するべく歯磨きに加えられたフツ化物との
相容性が良好である（西ドイツ公開公報第
2153821号参照）ことである。 清浄化作用又はより正確には摩耗作用は特定の
シリカの粒径及び他の構造的データと関連してい
るけれども、シリカの摩耗作用がいかに制御され
得るかに関する明瞭な教示はこれまでにはなかつ
た。結果として、歯磨きの所定の摩耗性を設定す
るためには特定のシリカが常に特定の濃度で使用
されなければならなかつた。しかしながら、特に
高い摩耗値は達成され得ない。何故ならば多孔性
の無定形シリカの配合物の吸収性は制限されるか
らである。その理由は若しそうしなければペース
トが余りにも硬質すぎるか又は余りにも乾燥しす
ぎるためである。そしシリカ濃度を異なつた摩耗
性を設定するのに変えるならば、同時に全配合を
完全に再配合することが必要となる。コンシステ
ンシーのみならず、貯蔵安定性、味、相容性等も
又検査し、調節しなければならず、これは時間が
かかりかつ複雑である。 更に、約10μｍの平均値を有する清浄剤及び磨
き剤の粒径は、使用者が特殊感覚により
（organoleptically）感じることができる程に既に
大きい。従つて、粒径又は濃度の明確な変化は使
用者がそれは完全に異なつた歯磨きであると考え
る程度口腔感覚の明確な変化をもたらす。従つ
て、他の客観的又は主観的に感知される性質を修
正することなく現存の歯磨きの摩耗性を変えるこ
とは実際には可能ではない。たとえば、異なつた
使用者群、たとえば若い人及び年をとつた人に対
して等級づけられた摩耗値を有する所定の歯磨き
配合物を提供することは可能ではない。かかる処
置は、歯がしばしば歯ぐきにより保護されていな
いで露出している年とつた人は低い摩耗性を有す
る歯磨きを必要とするという理由で実際には特に
有利であろう。 故に前記した困難は特に大きいのである。何故
ならば、高い又は非常に高い摩耗値を与え且つ特
に歯磨きに使用するのに好適である合成シリカを
ベースとする磨き剤及び清浄剤を製造することは
これまで可能ではなかつたからである。 本発明の主要な目的は、その歯摩耗作用を実質
的に粒径にかかわりなく且つ正常な範囲内で歯磨
きに使用する濃度にかかわりなく所定の値に調節
することができるシリカゲル及び該シリカゲルの
製造方法を提供することである。本発明の更に１
つの目的はこれまでに達成されなかつた高い摩耗
値を有するシリカゲルを提供することである。 故に本発明は、 ａ １〜600m2／ｇの比表面積（表面積とも呼
ぶ）、 ｂ 0.05〜0.5cm3／ｇの細孔容積、 ｃ 表面積（m2／ｇ）×細孔容積（cm3／ｇ）の積
が≦240、特に≦200であること、 ｄ 1.5〜2.5nmの数学的細孔径（計算された細
孔径とも呼ばれる）、 ｅ 25重量％より少ない水含有率 の組合わせを特徴とする１〜30μｍの平均粒径を
有するシリカゲルに関する。 更に本発明は、水性ケイ酸塩溶液をゲル化し、
次いで洗浄し、乾燥しそして所望の平均粒径に粉
砕することによつて１〜30μｍの平均粒径を有す
るシリカゲルの製造方法であつて、形成したシリ
カヒドロゲルを６より低いPH値で且つ約０℃〜70
℃の温度で約90〜99重量％（か焼による損失のな
い物質に基づき）SiO2の純度に洗浄し、次いで
ただちに乾燥し、それによりエージング
（ageing）を防止し、該洗浄及び乾燥条件を該シ
リカゲルが１〜600m2／ｇの比表面積及び0.05〜
0.5cm3／ｇの細孔容積及び1.5〜2.5nmの数学的細
孔径を有するように設定することを特徴とする方
法に関する。 更に本発明は、特に歯磨きにおける清浄剤、摩
耗剤及び磨き剤としての本発明のシリカゲルの使
用に関する。本発明の他の目的及び利点は以下の
説明から当業者には明らかであろう。 Ullmann′s Encyklopadie der Technischen
Chemie、第３版、1964、第15巻、179頁に従え
ば、ヒドロゲルを異なつたPH値で洗浄することに
よつて異なつたシリカゲルを得ることができる。
600〜800m2／ｇの比表面積及び約0.3cm3／ｇの細
孔容積を有するミクロ細孔ゲル（mieroporous
gel）と250m2／ｇの比表面積及び約0.8cm3／ｇの
細孔容積を有するマクロ細孔シリカゲル
（macroporous silicagel）との間では区別され
る。中位細孔シリカゲル（medium pored silica
gel）は上記の値の間の値を有する。従来技術に
従えば洗浄期間中異なつたPH値及び異なつた洗浄
温度を使用することによつて細孔容積が低下する
と共に比表面積が上昇する連続した範囲のシリカ
ゲルを製造することができる。 これに対して、本発明に従つて製造され且つほ
ぼ一定の数学的細孔径Ｄ＝４ＰＶ／ＯＦ・103＝1.5〜 2.5nm、特に1.8〜2.2nm（PV＝cm3／ｇの細孔容
積、OF＝m2／ｇの表面積）及び≦300、特に≦
240のOF×PVの積により特徴づけられているシ
リカゲルは公知のシリカゲルの関連した群
（Correlation group）に属さず、その代わりに別
の部類を形成する。明らかに細孔容積はBET表
面積と相関関係があるが、反対に、即ち細孔容積
はBET表面積が減少すると共に減少する。これ
らの結果も又、比表面積のみではシリカゲルを特
徴づけるのに十分ではなく、その代わりに本発明
に従つて得られたシリカゲルを明確に説明するた
めに細孔容積を更に考慮しなければならないとい
うことも示している。 形成されたシリカゲルは６より低いPHで洗浄さ
れる。故に、出発洗浄液及び流出洗浄液は６より
低いPHの酸である。好ましくは、シリカゲルは
99.9重量％SiO2の純度、特に96〜99.7重量％SiO2
の純度が得られるまで低いPH値、特に３より低い
PH値で且つ約０〜70℃、特に０〜60℃の低い温度
で洗浄される。除去される主要な不純物は硫酸ナ
トリウムより成る。シリカゲルが十分に分散した
シリカゲルから成長するとき、ゲル化期間中のそ
のコロイド粒子は約6000という非常に低い分子量
を未だ有しており、更に一層の成長の制御のため
の重要な役割は温度及び洗浄速度によつて演じら
れる。所定のPH値の場合に、これらのパラメータ
は、乾燥後に一般に減少する比表面積により認め
られるところの重合度の意味における更に進んだ
段階にSiO2ゲル構造が到達するように低分子量
シリカが重縮合して高分子量となるための時間を
決定する。本発明に従う方法においては、特に早
期の成長段階がこの意味において探索される。何
故ならば、非常に“未熟な”（young）シリカゲ
ルが製造されるべきであるからである。故に低い
PH値及び全く完全ではない純度の他に、低い処理
温度が必要とされ、処理期間全体は余りに長過ぎ
てはいけない。たとえば20℃での非常に長い処理
期間はシリカゲルの成長段階に関してたとえば75
℃におけるはるかに短い処理に相当し得る。 かくして、常に低いPH値及び非常に低い処理温
度では最大処理期間は約48時間であろう。もちろ
んより高いPH値及び／又はより高い処理温度では
はるかに短い処理期間が必要である。 従つて300より低い比表面積及び細孔容積の必
要な低い積を得るためには、本発明に従えばシリ
カヒドロゲルの洗浄期間中エージングを防止する
ことが重要であり、これは処理温度の対応する減
少又は処理の短縮により達成することができる。
好ましくは、４より低い、特に３より低いPH値が
使用される。 本発明に従うシリカゲルに対しては、m2／ｇで
表わされた比表面積とcm3／ｇで表わされた比細孔
容積の積は300より小さく、好ましくは200より小
さい。典型的な値は108（450m2／ｇの比表面積及
び0.24cm3／ｇの細孔容積）又は52（326m2／ｇの
比表面積、0.16cm3／ｇの細孔容積）である。上記
積の値が低ければ低い程シリカゲルの摩耗性は大
きい。更に、摩耗性は粒径と共に上昇する。 本発明に従えば、好ましくは、シリカヒドロゲ
ルは、対応する放置時間の後洗浄水が置換される
ような方法で半連続的に洗浄される。流体エネル
ギーミル、特にスチームジエツトミルはシリカゲ
ルを粉砕するのに顕著に適している。たとえば西
ドイツ特許第1036220号に記載されている如き部
分的又は実質的に完全な乾燥と粉砕を組合わせる
ことが可能である。本発明に従つて製造されるシ
リカゲルの水含有率は好ましくは25重量％より低
い。通常は、それは少なくとも0.1重量％であ
り、好ましい範囲は0.1〜15重量％である。 25重量％より低い水含有率に乾燥することはで
きる限り速く行なうべきであり、最大乾燥期間は
約２時間であるがガスジエツトミル特にスチーム
ジエツトミルにおける好ましい乾燥は数秒続くに
すぎない。たとえば循環空気による緩慢な乾燥又
は緩慢な乾燥と定義することもできる24時間より
多くの時間の室温での貯蔵による緩慢な乾燥では
本発明のシリカゲルは得られない。実施例に示さ
れた通り、好適な乾燥温度は、たとえば140〜180
℃（熱風の入口温度）であるが、たとえば100℃
より低い他の温度を使用することもできる。 本発明の成功に対する完全な説明を明白に与え
ることは未だできない。しかしながら、シリカゲ
ルの成長段階が未熟であれば未熟である程より低
い表面積値が得られる。何故ならばその構造は、
僅かにしか架橋していない容易に変形可能なシリ
カ単位より成るからである。従つて乾燥期間中に
生じる張力は、完全な構造を圧潰しそしてもとも
と存在している比表面積の相当な部分が失なわれ
るように特に顕著な効果を有する。この解釈は細
孔容積も又成長段階が未熟であれば減少するとい
う事実により支持される。所定の成長段階（重縮
合及び架橋水準）からゲルは、極端な収縮が更に
は起こらず且つかかる詰まつた構造を得ることが
できないような安定性に明らかに到達する。 本発明の方法により製造されたシリカゲルは多
数の重要な利点を有する。 １ 歯磨きに対する清浄剤及び磨き剤の歯摩耗作
用は、シリカゲルの実際の製造期間中実際に有
利である範囲で自由に調節することができる。
従つて本発明に従う剤を使用すれば、現存の保
証された配合において摩耗剤濃度及び粒径は変
える必要はない。歯磨きの歯摩耗作用は、対応
するプロセスパラメータによつて得られる好適
なRDA値を選ぶことによつて調節される。 ２ 清浄剤及び磨き剤として、本発明に従うシリ
カゲルは200〜300及びそれ以上の範囲のRDA
値により示される如く格段に高い清浄作用を有
する。所望ならば、歯磨きにおける濃度は減少
させることができる。 更に、これまでに可能なよりもはるかに高い
歯摩耗作用を有する半透明の歯磨きを製造する
ことができる。 ３ 本発明に従えば、摩耗作用を損失することな
く約25重量％までの残留水含有率を有するシリ
カゲルを製造することができる。これはより低
い固体含有率を有する配合を可能とし、このこ
とは経験の示す通り香味の良好な充満及び香味
のより速い発生をもたらす。 ４ 場合により水を含有していてもよい本発明に
従うシリカゲルは非常に良好な貯蔵安定性及び
フツ化物との相溶性により特徴づけられた歯磨
きの製造を可能とする。 下記実施例により更に示される通り、本発明の
方法は、実際には、予め決められた摩耗値を有す
るシリカゲルの製造を可能とする。結果として歯
磨き製造者がたとえば他の同時に伴なう特徴と共
に高い摩耗性及び低い摩耗性を有するシリカゲル
を供給することができるということは歯磨きにお
ける使用のために特に有利であり、その結果該製
造業者は２種のみのシリカゲルの対応する組合わ
せによつて、歯磨き配合に何ら他の変化を必要と
することなく所望の摩耗値を設定することができ
る。 所望の歯磨きコンシステンシーを得るために、
低い粒径を有する他のシリカゲルを本発明に従う
シリカゲルと混合することができ、その場合該追
加のシリカゲルは良好な増粘作用（thickening
action）を有するが実質的に摩耗作用は有さな
い。 更に本発明を実施例により説明する。 歯の摩耗は、ピロリン酸カルシウムに対する
100という参照標準（J.J.Hefferen in J.Dental
Research 55、563〜573、1976及び“Procedure
for dentifrice analysis”of the Missouri
Analytical Laboratories，St.Louis，U.S.A）に
対して西ドイツ公告公報第2028866号に記載の方
法により決定されたRDA値（放射線歯摩耗）と
して常に定義される。本出願人においては“比表
面積”はm2／ｇで与えられるブルナウワー
（Brunauer）、エメツト（Emmet）及びテラー
（Teller）の方法（BET法）に従つて決定された
表面を意味するものと常に理解される。“比細孔
容積”は窒素法に従つて決定されるcm3／ｇで与え
られる。これは、N2飽和圧96.7％で窒素により測
定したケルビン（Kelvin）の式に従う≦600Åの
細孔径範囲の細孔容積を意味する（E.P.Barrett
他、J.Am.Chem.Soc，73，373，1951参照）。 実施例 １ 18重量％のSiO2含有率を有するゲル化したば
かりのシリカゲルの微粉砕した試料及び0.425の
規定度に対応する過剰の硫酸を種々の高いPH値に
到達するまで又は得られる純度に対する目安とし
て所定の伝導度に到達するまで50〜65℃の温度に
おける水交換によつてただちに洗浄した。次いで
シリカゲルを140℃〜180℃の熱風で処理すること
によつて開口スクリーン（perforated screen）
上３重量％より低い水含有率になるようにただち
に乾燥し、続いてインパクトプレートミル中で極
微細に粉砕してクルターカウンター（Coulter
counter）で測定して約14μｍ（メデイアン容
積）の平均粒径とした。PH値、細孔容積、比表面
積等の如き得られたゲルの特性は微粉砕前に決定
された。 シリカゲルに対して得られたデータは表１に与
えられる。
ば歯磨きにおける清浄剤、摩耗剤及び磨き剤とし
て使用するのに特に好適ならしめる特性を有する
該シリカゲルの新規な製造方法に関する。 歯磨きにおける清浄剤及び磨き剤としての微粒
子シリカの使用に関しては多くの特許文献が既に
存在する。しかしながら、この従来技術はシリカ
が磨き剤として好適であるためにはどの特性を持
たなければならないかは未だ明確には示していな
い。熱分解法シリカ、沈降シリカ及びシリカゲル
は各々の場合に異なつた平均粒径を有し、そして
高い及び低い表面の両方を持つことができるもの
が推奨された。 故に、西ドイツ公告公報第1617927号は２〜20
μｍの粒径及び少なくとも600m2／ｇの比表面積
を有するシリカキセロゲルを推奨している。しか
しながら、西ドイツ公開公報第2028866号に従え
ば、表面は臨界的ではなくそして300〜500m2／ｇ
であることができる。 西ドイツ公開公報第1667875号に従えば、約
0.01〜0.03μｍにすぎない一次粒径を有する熱分
解法疎水性シリカが好適である。しかしながら、
西ドイツ公開公報第2250078号は粒径が20μｍを
越えてもよいことを述べており、そして後者の明
細書は粒径が22μｍ乃至50μｍ、特に25μｍ乃至
30μｍ間であり、250m2／ｇ乃至800m2／ｇ間の比
表面積を有するシリカキセロゲルを推奨してい
る。 西ドイツ公告公報第2446038号は嵩密度が非常
に重要であることを付言しており、摩耗力（ワイ
ヤ摩耗（wire attrition）として決定された）も
又嵩密度の上昇と共に増加することを示す。しか
しながら、いかにして異なつた嵩密度が得られる
かは明らかにされていない。実施例においては、
比表面積は摩耗作用又は嵩密度との相関関係を持
たない。 上記の説明は、一方におけるシリカの摩耗特性
と他方におけるそれらの他の特性との間には直接
の関係はないことを示す。シリカのタイプですら
重要ではないように見える。何故ならばゲルタイ
プのシリカの他に、湿式沈降法シリカ及び熱分解
法により製造したシリカも提唱されているからで
ある。 従来技術に従えば、シリカゲルの部類内の好適
性は、たとえば２〜30μｍ範囲の粒径を有し、15
〜35％の含水率を有するゲルを推奨する西ドイツ
公開公報第2704504号により示されている如く、
完全に脱水されたシリカゲル、いわゆるキセロゲ
ルに制限されてすらいない。これらの水含有ゲル
は非常に良好な摩耗特性を有する。 西ドイツ公開公報第2522486号は、低い油吸収
性及び高い嵩密度を意味すると理解されている
“低次構造”（″low structure）を有するシリカを
目的とする。従つて、これらのシリカの細孔容積
は比較的低くそしてこの特性は所望の摩耗特性に
とつて重要であると考えられる。 歯磨きに対する最適な清浄剤及び磨き剤は、所
定の比較的高度の摩耗性又は清浄化能力を保証し
なければならず、それにより歯に最大の輝き
（brightness）を与えなければならない。更に、
この剤は貯蔵期間中ですら好ましい安定なコンシ
ステンシーを歯磨きに与えなければならず、又他
の歯磨き構成成分と相溶性でなければならず、又
パツキン材料の腐食を生じてはいけない。従来技
術の上記説明により示される通り、実質的にこれ
らの要件を満足するシリカのタイプが実際に見出
されている。西ドイツ公告公報第1617927号及び
西ドイツ公開公報第2028866号に示されているシ
リカゲルは一般に歯磨きにおける良好な磨き作用
を奏するように見える。他の利点は、透明な歯磨
きを製造することができること（米国特許第
3538230号、西ドイツ公開公報第2250078号及び西
ドイツ公開公報第2502111号参照）及びカリエス
を防止するべく歯磨きに加えられたフツ化物との
相容性が良好である（西ドイツ公開公報第
2153821号参照）ことである。 清浄化作用又はより正確には摩耗作用は特定の
シリカの粒径及び他の構造的データと関連してい
るけれども、シリカの摩耗作用がいかに制御され
得るかに関する明瞭な教示はこれまでにはなかつ
た。結果として、歯磨きの所定の摩耗性を設定す
るためには特定のシリカが常に特定の濃度で使用
されなければならなかつた。しかしながら、特に
高い摩耗値は達成され得ない。何故ならば多孔性
の無定形シリカの配合物の吸収性は制限されるか
らである。その理由は若しそうしなければペース
トが余りにも硬質すぎるか又は余りにも乾燥しす
ぎるためである。そしシリカ濃度を異なつた摩耗
性を設定するのに変えるならば、同時に全配合を
完全に再配合することが必要となる。コンシステ
ンシーのみならず、貯蔵安定性、味、相容性等も
又検査し、調節しなければならず、これは時間が
かかりかつ複雑である。 更に、約10μｍの平均値を有する清浄剤及び磨
き剤の粒径は、使用者が特殊感覚により
（organoleptically）感じることができる程に既に
大きい。従つて、粒径又は濃度の明確な変化は使
用者がそれは完全に異なつた歯磨きであると考え
る程度口腔感覚の明確な変化をもたらす。従つ
て、他の客観的又は主観的に感知される性質を修
正することなく現存の歯磨きの摩耗性を変えるこ
とは実際には可能ではない。たとえば、異なつた
使用者群、たとえば若い人及び年をとつた人に対
して等級づけられた摩耗値を有する所定の歯磨き
配合物を提供することは可能ではない。かかる処
置は、歯がしばしば歯ぐきにより保護されていな
いで露出している年とつた人は低い摩耗性を有す
る歯磨きを必要とするという理由で実際には特に
有利であろう。 故に前記した困難は特に大きいのである。何故
ならば、高い又は非常に高い摩耗値を与え且つ特
に歯磨きに使用するのに好適である合成シリカを
ベースとする磨き剤及び清浄剤を製造することは
これまで可能ではなかつたからである。 本発明の主要な目的は、その歯摩耗作用を実質
的に粒径にかかわりなく且つ正常な範囲内で歯磨
きに使用する濃度にかかわりなく所定の値に調節
することができるシリカゲル及び該シリカゲルの
製造方法を提供することである。本発明の更に１
つの目的はこれまでに達成されなかつた高い摩耗
値を有するシリカゲルを提供することである。 故に本発明は、 ａ １〜600m2／ｇの比表面積（表面積とも呼
ぶ）、 ｂ 0.05〜0.5cm3／ｇの細孔容積、 ｃ 表面積（m2／ｇ）×細孔容積（cm3／ｇ）の積
が≦240、特に≦200であること、 ｄ 1.5〜2.5nmの数学的細孔径（計算された細
孔径とも呼ばれる）、 ｅ 25重量％より少ない水含有率 の組合わせを特徴とする１〜30μｍの平均粒径を
有するシリカゲルに関する。 更に本発明は、水性ケイ酸塩溶液をゲル化し、
次いで洗浄し、乾燥しそして所望の平均粒径に粉
砕することによつて１〜30μｍの平均粒径を有す
るシリカゲルの製造方法であつて、形成したシリ
カヒドロゲルを６より低いPH値で且つ約０℃〜70
℃の温度で約90〜99重量％（か焼による損失のな
い物質に基づき）SiO2の純度に洗浄し、次いで
ただちに乾燥し、それによりエージング
（ageing）を防止し、該洗浄及び乾燥条件を該シ
リカゲルが１〜600m2／ｇの比表面積及び0.05〜
0.5cm3／ｇの細孔容積及び1.5〜2.5nmの数学的細
孔径を有するように設定することを特徴とする方
法に関する。 更に本発明は、特に歯磨きにおける清浄剤、摩
耗剤及び磨き剤としての本発明のシリカゲルの使
用に関する。本発明の他の目的及び利点は以下の
説明から当業者には明らかであろう。 Ullmann′s Encyklopadie der Technischen
Chemie、第３版、1964、第15巻、179頁に従え
ば、ヒドロゲルを異なつたPH値で洗浄することに
よつて異なつたシリカゲルを得ることができる。
600〜800m2／ｇの比表面積及び約0.3cm3／ｇの細
孔容積を有するミクロ細孔ゲル（mieroporous
gel）と250m2／ｇの比表面積及び約0.8cm3／ｇの
細孔容積を有するマクロ細孔シリカゲル
（macroporous silicagel）との間では区別され
る。中位細孔シリカゲル（medium pored silica
gel）は上記の値の間の値を有する。従来技術に
従えば洗浄期間中異なつたPH値及び異なつた洗浄
温度を使用することによつて細孔容積が低下する
と共に比表面積が上昇する連続した範囲のシリカ
ゲルを製造することができる。 これに対して、本発明に従つて製造され且つほ
ぼ一定の数学的細孔径Ｄ＝４ＰＶ／ＯＦ・103＝1.5〜 2.5nm、特に1.8〜2.2nm（PV＝cm3／ｇの細孔容
積、OF＝m2／ｇの表面積）及び≦300、特に≦
240のOF×PVの積により特徴づけられているシ
リカゲルは公知のシリカゲルの関連した群
（Correlation group）に属さず、その代わりに別
の部類を形成する。明らかに細孔容積はBET表
面積と相関関係があるが、反対に、即ち細孔容積
はBET表面積が減少すると共に減少する。これ
らの結果も又、比表面積のみではシリカゲルを特
徴づけるのに十分ではなく、その代わりに本発明
に従つて得られたシリカゲルを明確に説明するた
めに細孔容積を更に考慮しなければならないとい
うことも示している。 形成されたシリカゲルは６より低いPHで洗浄さ
れる。故に、出発洗浄液及び流出洗浄液は６より
低いPHの酸である。好ましくは、シリカゲルは
99.9重量％SiO2の純度、特に96〜99.7重量％SiO2
の純度が得られるまで低いPH値、特に３より低い
PH値で且つ約０〜70℃、特に０〜60℃の低い温度
で洗浄される。除去される主要な不純物は硫酸ナ
トリウムより成る。シリカゲルが十分に分散した
シリカゲルから成長するとき、ゲル化期間中のそ
のコロイド粒子は約6000という非常に低い分子量
を未だ有しており、更に一層の成長の制御のため
の重要な役割は温度及び洗浄速度によつて演じら
れる。所定のPH値の場合に、これらのパラメータ
は、乾燥後に一般に減少する比表面積により認め
られるところの重合度の意味における更に進んだ
段階にSiO2ゲル構造が到達するように低分子量
シリカが重縮合して高分子量となるための時間を
決定する。本発明に従う方法においては、特に早
期の成長段階がこの意味において探索される。何
故ならば、非常に“未熟な”（young）シリカゲ
ルが製造されるべきであるからである。故に低い
PH値及び全く完全ではない純度の他に、低い処理
温度が必要とされ、処理期間全体は余りに長過ぎ
てはいけない。たとえば20℃での非常に長い処理
期間はシリカゲルの成長段階に関してたとえば75
℃におけるはるかに短い処理に相当し得る。 かくして、常に低いPH値及び非常に低い処理温
度では最大処理期間は約48時間であろう。もちろ
んより高いPH値及び／又はより高い処理温度では
はるかに短い処理期間が必要である。 従つて300より低い比表面積及び細孔容積の必
要な低い積を得るためには、本発明に従えばシリ
カヒドロゲルの洗浄期間中エージングを防止する
ことが重要であり、これは処理温度の対応する減
少又は処理の短縮により達成することができる。
好ましくは、４より低い、特に３より低いPH値が
使用される。 本発明に従うシリカゲルに対しては、m2／ｇで
表わされた比表面積とcm3／ｇで表わされた比細孔
容積の積は300より小さく、好ましくは200より小
さい。典型的な値は108（450m2／ｇの比表面積及
び0.24cm3／ｇの細孔容積）又は52（326m2／ｇの
比表面積、0.16cm3／ｇの細孔容積）である。上記
積の値が低ければ低い程シリカゲルの摩耗性は大
きい。更に、摩耗性は粒径と共に上昇する。 本発明に従えば、好ましくは、シリカヒドロゲ
ルは、対応する放置時間の後洗浄水が置換される
ような方法で半連続的に洗浄される。流体エネル
ギーミル、特にスチームジエツトミルはシリカゲ
ルを粉砕するのに顕著に適している。たとえば西
ドイツ特許第1036220号に記載されている如き部
分的又は実質的に完全な乾燥と粉砕を組合わせる
ことが可能である。本発明に従つて製造されるシ
リカゲルの水含有率は好ましくは25重量％より低
い。通常は、それは少なくとも0.1重量％であ
り、好ましい範囲は0.1〜15重量％である。 25重量％より低い水含有率に乾燥することはで
きる限り速く行なうべきであり、最大乾燥期間は
約２時間であるがガスジエツトミル特にスチーム
ジエツトミルにおける好ましい乾燥は数秒続くに
すぎない。たとえば循環空気による緩慢な乾燥又
は緩慢な乾燥と定義することもできる24時間より
多くの時間の室温での貯蔵による緩慢な乾燥では
本発明のシリカゲルは得られない。実施例に示さ
れた通り、好適な乾燥温度は、たとえば140〜180
℃（熱風の入口温度）であるが、たとえば100℃
より低い他の温度を使用することもできる。 本発明の成功に対する完全な説明を明白に与え
ることは未だできない。しかしながら、シリカゲ
ルの成長段階が未熟であれば未熟である程より低
い表面積値が得られる。何故ならばその構造は、
僅かにしか架橋していない容易に変形可能なシリ
カ単位より成るからである。従つて乾燥期間中に
生じる張力は、完全な構造を圧潰しそしてもとも
と存在している比表面積の相当な部分が失なわれ
るように特に顕著な効果を有する。この解釈は細
孔容積も又成長段階が未熟であれば減少するとい
う事実により支持される。所定の成長段階（重縮
合及び架橋水準）からゲルは、極端な収縮が更に
は起こらず且つかかる詰まつた構造を得ることが
できないような安定性に明らかに到達する。 本発明の方法により製造されたシリカゲルは多
数の重要な利点を有する。 １ 歯磨きに対する清浄剤及び磨き剤の歯摩耗作
用は、シリカゲルの実際の製造期間中実際に有
利である範囲で自由に調節することができる。
従つて本発明に従う剤を使用すれば、現存の保
証された配合において摩耗剤濃度及び粒径は変
える必要はない。歯磨きの歯摩耗作用は、対応
するプロセスパラメータによつて得られる好適
なRDA値を選ぶことによつて調節される。 ２ 清浄剤及び磨き剤として、本発明に従うシリ
カゲルは200〜300及びそれ以上の範囲のRDA
値により示される如く格段に高い清浄作用を有
する。所望ならば、歯磨きにおける濃度は減少
させることができる。 更に、これまでに可能なよりもはるかに高い
歯摩耗作用を有する半透明の歯磨きを製造する
ことができる。 ３ 本発明に従えば、摩耗作用を損失することな
く約25重量％までの残留水含有率を有するシリ
カゲルを製造することができる。これはより低
い固体含有率を有する配合を可能とし、このこ
とは経験の示す通り香味の良好な充満及び香味
のより速い発生をもたらす。 ４ 場合により水を含有していてもよい本発明に
従うシリカゲルは非常に良好な貯蔵安定性及び
フツ化物との相溶性により特徴づけられた歯磨
きの製造を可能とする。 下記実施例により更に示される通り、本発明の
方法は、実際には、予め決められた摩耗値を有す
るシリカゲルの製造を可能とする。結果として歯
磨き製造者がたとえば他の同時に伴なう特徴と共
に高い摩耗性及び低い摩耗性を有するシリカゲル
を供給することができるということは歯磨きにお
ける使用のために特に有利であり、その結果該製
造業者は２種のみのシリカゲルの対応する組合わ
せによつて、歯磨き配合に何ら他の変化を必要と
することなく所望の摩耗値を設定することができ
る。 所望の歯磨きコンシステンシーを得るために、
低い粒径を有する他のシリカゲルを本発明に従う
シリカゲルと混合することができ、その場合該追
加のシリカゲルは良好な増粘作用（thickening
action）を有するが実質的に摩耗作用は有さな
い。 更に本発明を実施例により説明する。 歯の摩耗は、ピロリン酸カルシウムに対する
100という参照標準（J.J.Hefferen in J.Dental
Research 55、563〜573、1976及び“Procedure
for dentifrice analysis”of the Missouri
Analytical Laboratories，St.Louis，U.S.A）に
対して西ドイツ公告公報第2028866号に記載の方
法により決定されたRDA値（放射線歯摩耗）と
して常に定義される。本出願人においては“比表
面積”はm2／ｇで与えられるブルナウワー
（Brunauer）、エメツト（Emmet）及びテラー
（Teller）の方法（BET法）に従つて決定された
表面を意味するものと常に理解される。“比細孔
容積”は窒素法に従つて決定されるcm3／ｇで与え
られる。これは、N2飽和圧96.7％で窒素により測
定したケルビン（Kelvin）の式に従う≦600Åの
細孔径範囲の細孔容積を意味する（E.P.Barrett
他、J.Am.Chem.Soc，73，373，1951参照）。 実施例 １ 18重量％のSiO2含有率を有するゲル化したば
かりのシリカゲルの微粉砕した試料及び0.425の
規定度に対応する過剰の硫酸を種々の高いPH値に
到達するまで又は得られる純度に対する目安とし
て所定の伝導度に到達するまで50〜65℃の温度に
おける水交換によつてただちに洗浄した。次いで
シリカゲルを140℃〜180℃の熱風で処理すること
によつて開口スクリーン（perforated screen）
上３重量％より低い水含有率になるようにただち
に乾燥し、続いてインパクトプレートミル中で極
微細に粉砕してクルターカウンター（Coulter
counter）で測定して約14μｍ（メデイアン容
積）の平均粒径とした。PH値、細孔容積、比表面
積等の如き得られたゲルの特性は微粉砕前に決定
された。 シリカゲルに対して得られたデータは表１に与
えられる。
【表】
比較試験１〜３においては145〜166にすぎない
RAD値が得られたが、本発明に従う方法は275ま
でのRDA値を有する生成物をもたらす。 RAD値は比表面積及び細孔容積の積に反比例
して増加すること明らかである。 実施例 ２ 更に一連の試験においては、同じ方法で速いシ
ーケンスでの水交換によつてシリカゲルを種々の
純度に洗浄し、又は低いPHで種々の伝導度に洗浄
し、しかしただちに引き続く微粉砕をスチームジ
エツトミルで行なつた。シリカゲルは60％より高
い水含有率を有するヒドロゲルの形態でミルに部
分的に供給され、その結果、対応する試料におい
ては、乾燥は粉砕と同時に行なわれた。しかしな
がら、実施例１に従つて、試料の一部を最初キセ
ロゲルとなるように乾燥し、次いでスチームジエ
ツトミル中で超微粉砕した。試験全体にわたり、
クルターカウンターで測定して約４μｍの粒径を
求めた。最終的に得られた超微粉砕物の水含有率
は7.1重量％乃至24.8重量％間であつた。スチー
ムジエツトの粉砕期間中キセロゲルが再び水分を
吸収して水含有率がその後13.8重量％となる場合
及びヒドロゲルが完全に乾燥せず最終生成物が
21.6又は24.8重量％の水含有率を依然として有す
る場合があつた。すべての試料のRDA値を測定
した。試料に対して得られたデータは表２に与え
られている。
RAD値が得られたが、本発明に従う方法は275ま
でのRDA値を有する生成物をもたらす。 RAD値は比表面積及び細孔容積の積に反比例
して増加すること明らかである。 実施例 ２ 更に一連の試験においては、同じ方法で速いシ
ーケンスでの水交換によつてシリカゲルを種々の
純度に洗浄し、又は低いPHで種々の伝導度に洗浄
し、しかしただちに引き続く微粉砕をスチームジ
エツトミルで行なつた。シリカゲルは60％より高
い水含有率を有するヒドロゲルの形態でミルに部
分的に供給され、その結果、対応する試料におい
ては、乾燥は粉砕と同時に行なわれた。しかしな
がら、実施例１に従つて、試料の一部を最初キセ
ロゲルとなるように乾燥し、次いでスチームジエ
ツトミル中で超微粉砕した。試験全体にわたり、
クルターカウンターで測定して約４μｍの粒径を
求めた。最終的に得られた超微粉砕物の水含有率
は7.1重量％乃至24.8重量％間であつた。スチー
ムジエツトの粉砕期間中キセロゲルが再び水分を
吸収して水含有率がその後13.8重量％となる場合
及びヒドロゲルが完全に乾燥せず最終生成物が
21.6又は24.8重量％の水含有率を依然として有す
る場合があつた。すべての試料のRDA値を測定
した。試料に対して得られたデータは表２に与え
られている。
【表】
この実施例は、比表面積と細孔容積の積に反比
例してRDA値が増加すること、即ち、歯摩耗作
用はゲルのこの性質により制約されることをも示
している。実施例１及び２も又、従来技術に基づ
いては予期されなかつた非常に高いRDA値
（275，316，363）が得られ得ることも示す。これ
らの二つの実施例は、実施例１及び２を比較する
ことによつて強調されるように粒径は歯摩耗作用
に対する有義な影響を有することも示す。特に実
施例２は、少なくとも、比表面積と細孔容積の低
い積を有する本発明に従うシリカゲルに対して
は、たとえ平均粒径が2.3μｍという低いもので
あつても歯の摩耗に対する相当な値が得られるこ
とを示す。従来技術に従えば、２〜20μｍの範囲
の平均粒径を有する水和シリカ（hydrated
silica）が推奨される故にかかる顕著な歯摩耗作
用はかかる低い粒径に対しては予期されなかつ
た。 実施例２の超微粉砕されたシリカゲルが相当な
且つ部分的に高い水含有率を有するという事実が
歯摩耗作用を減じないことは明らかである。最後
に、両試料において最も高いRDA値を有するこ
れらの清浄剤及び磨き剤は最も小さい比表面積を
持つことは非常に驚くべきことである。 実施例 ３ 実施例１の方法に従つて、シリカヒドロゲルを
製造するが、試料の半分のみを洗浄後ただちに乾
燥し、他方残りの半分を６又は７日間周囲の温度
でおおいをして貯蔵した。これらの試料は、この
期間貯蔵されて後にのみ乾燥した。得られたデー
タは表３に与えられている。
例してRDA値が増加すること、即ち、歯摩耗作
用はゲルのこの性質により制約されることをも示
している。実施例１及び２も又、従来技術に基づ
いては予期されなかつた非常に高いRDA値
（275，316，363）が得られ得ることも示す。これ
らの二つの実施例は、実施例１及び２を比較する
ことによつて強調されるように粒径は歯摩耗作用
に対する有義な影響を有することも示す。特に実
施例２は、少なくとも、比表面積と細孔容積の低
い積を有する本発明に従うシリカゲルに対して
は、たとえ平均粒径が2.3μｍという低いもので
あつても歯の摩耗に対する相当な値が得られるこ
とを示す。従来技術に従えば、２〜20μｍの範囲
の平均粒径を有する水和シリカ（hydrated
silica）が推奨される故にかかる顕著な歯摩耗作
用はかかる低い粒径に対しては予期されなかつ
た。 実施例２の超微粉砕されたシリカゲルが相当な
且つ部分的に高い水含有率を有するという事実が
歯摩耗作用を減じないことは明らかである。最後
に、両試料において最も高いRDA値を有するこ
れらの清浄剤及び磨き剤は最も小さい比表面積を
持つことは非常に驚くべきことである。 実施例 ３ 実施例１の方法に従つて、シリカヒドロゲルを
製造するが、試料の半分のみを洗浄後ただちに乾
燥し、他方残りの半分を６又は７日間周囲の温度
でおおいをして貯蔵した。これらの試料は、この
期間貯蔵されて後にのみ乾燥した。得られたデー
タは表３に与えられている。
【表】
貯蔵後に乾燥した試料17は従来技術に従う公知
のシリカゲルの種類に属し、これに対し、本発明
に従うシリカゲル16はエージングを伴なうことな
く得られた。未熟なヒドロゲルのエージング期間
中最初に高い比表面積であつたということは特に
興味深く、これは１つの種類から他の種類への移
行に相当する。従来技術に従うシリカゲルに関す
る一般的経験に従えば、より高い比表面積は、も
し対応して有効な処理がより強力になされるか又
は延長されるならばより低い比表面積に移る。 最後に、より高い水蒸気飽和雰囲気での乾燥は
シリカゲルの小さな収縮を生じることは知られて
いる。試料18はかかる周囲の条件（密閉条件下の
再循環空気）下に乾燥された。本発明に従うシリ
カゲルの形成は乾燥がただちになされたにもかか
わらず妨げられた。６日間の貯蔵は更に同じ方向
に作用した（試料19）。シリカヒドロゲルは試料
16及び17と完全に同じ方法で製造された。 実施例 ４ 実施例１に従つてシリカゲルを製造したが、洗
浄はアンモニアを添加して種々の高い温度で行な
い、その結果400〜約650m2／ｇの範囲の比表面積
及び0.75cm3／ｇより高い細孔容積を有する従来技
術のゲルが得られた。実施例１に従う乾燥後、得
られるキセロゲルをスチームジエツトミル中で粉
砕して約５μｍの平均粒径とした。最後に、得ら
れた超微粉砕物の歯摩耗作用を測定した。得られ
たデータは表４に与えられる。
のシリカゲルの種類に属し、これに対し、本発明
に従うシリカゲル16はエージングを伴なうことな
く得られた。未熟なヒドロゲルのエージング期間
中最初に高い比表面積であつたということは特に
興味深く、これは１つの種類から他の種類への移
行に相当する。従来技術に従うシリカゲルに関す
る一般的経験に従えば、より高い比表面積は、も
し対応して有効な処理がより強力になされるか又
は延長されるならばより低い比表面積に移る。 最後に、より高い水蒸気飽和雰囲気での乾燥は
シリカゲルの小さな収縮を生じることは知られて
いる。試料18はかかる周囲の条件（密閉条件下の
再循環空気）下に乾燥された。本発明に従うシリ
カゲルの形成は乾燥がただちになされたにもかか
わらず妨げられた。６日間の貯蔵は更に同じ方向
に作用した（試料19）。シリカヒドロゲルは試料
16及び17と完全に同じ方法で製造された。 実施例 ４ 実施例１に従つてシリカゲルを製造したが、洗
浄はアンモニアを添加して種々の高い温度で行な
い、その結果400〜約650m2／ｇの範囲の比表面積
及び0.75cm3／ｇより高い細孔容積を有する従来技
術のゲルが得られた。実施例１に従う乾燥後、得
られるキセロゲルをスチームジエツトミル中で粉
砕して約５μｍの平均粒径とした。最後に、得ら
れた超微粉砕物の歯摩耗作用を測定した。得られ
たデータは表４に与えられる。
【表】
510又は633m2／ｇの比表面積にもかかわらず、
これら従来技術の超微粉砕されたシリカゲルはそ
れらが“未熟な”シリカゲルではない故に低い
RDA値（19，47）しか与えないことは明らかで
ある。 実施例 ５ 実施例２の試験10の本発明に従つて製造された
シリカゲルを使用して、下記の配合に従う歯磨き
を製造した： 表 ５ 重量％ 実施例２、試験10のシリカゲル 10 市販のシリカ充填剤（50％水）＊ 10 市販のエーロゲル＊ 6.5 70％リルビトール 35 サツカリン 0.2 二酸化チタン顔料 1.0 ラウリル硫酸ナトリウム 1.5 ナトリウムカルボキシメチルセルロース 1.6 50％NaOH 0.5 ペパミントフレーバー 1.0 水 32.7 ＊歯摩耗作用なし 良好なコンシステンシーを有する歯磨きが得ら
れ、これは６ケ月より長く貯蔵しても非常に好ま
しい評価を得た。それは7.8のPH値及び1.25ｇ／
cm3の密度を有していた。３個の測定の平均値とし
て、ペーストのRDA値は143であつた。 10％水含有清浄剤及び磨き剤の濃度では、得ら
れる歯摩耗作用は非常に高いと評価された。この
点に関して比較するために、10種類の異なつた市
販の生成物を1977年に調査した。この摩耗剤の化
学的組成及びこれらのペーストにおいて見出され
るRAD値は下記表に与えられる。これらの市販
の生成物の或るもののいくつかの試料があつた。
これら従来技術の超微粉砕されたシリカゲルはそ
れらが“未熟な”シリカゲルではない故に低い
RDA値（19，47）しか与えないことは明らかで
ある。 実施例 ５ 実施例２の試験10の本発明に従つて製造された
シリカゲルを使用して、下記の配合に従う歯磨き
を製造した： 表 ５ 重量％ 実施例２、試験10のシリカゲル 10 市販のシリカ充填剤（50％水）＊ 10 市販のエーロゲル＊ 6.5 70％リルビトール 35 サツカリン 0.2 二酸化チタン顔料 1.0 ラウリル硫酸ナトリウム 1.5 ナトリウムカルボキシメチルセルロース 1.6 50％NaOH 0.5 ペパミントフレーバー 1.0 水 32.7 ＊歯摩耗作用なし 良好なコンシステンシーを有する歯磨きが得ら
れ、これは６ケ月より長く貯蔵しても非常に好ま
しい評価を得た。それは7.8のPH値及び1.25ｇ／
cm3の密度を有していた。３個の測定の平均値とし
て、ペーストのRDA値は143であつた。 10％水含有清浄剤及び磨き剤の濃度では、得ら
れる歯摩耗作用は非常に高いと評価された。この
点に関して比較するために、10種類の異なつた市
販の生成物を1977年に調査した。この摩耗剤の化
学的組成及びこれらのペーストにおいて見出され
るRAD値は下記表に与えられる。これらの市販
の生成物の或るもののいくつかの試料があつた。
【表】
【表】
本発明に従うシリカゲルを有する歯磨きにおい
ては、摩耗剤含有率は9.3％（乾燥物質）であ
り、市場で見出された最も高いRDA値が設定さ
れる。実験は、商業的に入手可能な生成物がより
高い及び部分的に有義により高い摩耗剤含有率を
有することを示した。
ては、摩耗剤含有率は9.3％（乾燥物質）であ
り、市場で見出された最も高いRDA値が設定さ
れる。実験は、商業的に入手可能な生成物がより
高い及び部分的に有義により高い摩耗剤含有率を
有することを示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ １〜30ミクロンの平均粒径を有し、そして ａ １〜600m2／ｇの比表面積、 ｂ 0.05〜0.5cm3／ｇの細孔容積、 ｃ 240より小さいか又は240に等しい比表面積
（m2／ｇ）×細孔容積（cm3／ｇ）の積、 ｄ 1.5〜2.5nmの数学的細孔径及び ｅ 25重量％より小さい水含有率、 を有するシリカゲル。 ２ 比表面積×細孔容積の積が200より小さいか
又は200に等しい特許請求の範囲第１項記載のシ
リカゲル。 ３ 比表面積×細孔容積の積が50に等しいか又は
50より大きい特許請求の範囲第１項又は２項記載
のシリカゲル。 ４ 水含有率が0.1〜15重量％である特許請求の
範囲第１〜３項の何れかに記載のシリカゲル。 ５ 数学的細孔径が1.8〜2.2である特許請求の範
囲第１〜４項の何れかに記載のシリカゲル。 ６ 水性ケイ酸塩溶液をゲル化してシリカヒドロ
ゲルを形成し、該シリカヒドロゲルを６より低い
PH値で且つ約０℃〜70℃の温度で約90〜99重量％
のSiO2（か焼損失のない物質を基準として）と
なるように洗浄し、該洗浄したヒドロゲルを迅速
に乾燥すること及びそれを粉砕することを何れか
の順序で又は同時に行い、該乾燥は洗浄後又は粉
砕後ただちに行い、それによりエージングを防止
し、エージングを防止する該洗浄及び乾燥条件
は、シリカゲル生成物が１〜600m2／ｇの比表面
積、0.05〜0.5cm3／ｇの細孔容積、240より小さい
か又は240に等しい比表面積（m2／ｇ）×細孔容積
（cm3／ｇ）の積、1.5〜2.5nmの数学的細孔径及び
25重量％より小さい水含有率、を有するように設
定することより成る、１〜30ミクロンの平均粒径
を有するシリカゲルの製造方法。 ７ 洗浄条件は該シリカゲルが600m2／ｇまでの
比表面積及び0.4cm3／ｇまでの細孔容積を有する
ように選ばれる特許請求の範囲第６項記載の方
法。 ８ 該シリカヒドロゲルを半連続的に洗浄する特
許請求の範囲第６又は７項記載の方法。 ９ 該シリカヒドロゲルを３より低いPH値及び０
〜60℃の温度で洗浄する特許請求の範囲第６〜８
項の何れかに記載の方法。 １０ 粉砕及び乾燥を流体エネルギーミルで行う
特許請求の範囲第６〜９項の何れかに記載の方
法。 １１ 該流体エネルギーミルがスチームジエツト
ミルである特許請求の範囲第１０項記載の方法。 １２ 粉砕を乾燥前に行い、粉砕の後ただちに連
続乾燥を行う特許請求の範囲第６〜１１項の何れ
かに記載の方法。 １３ シリカゲルを25重量％より低い水含有率と
なるように乾燥する特許請求の範囲第６〜１２項
の何れかに記載の方法。 １４ 摩耗材及び磨き剤として、１〜30ミクロン
の平均粒径を有し、そして ａ １〜600m2／ｇの比表面積、 ｂ 0.05〜0.5cm3／ｇの細孔容積、 ｃ 240より小さいか又は240に等しい比表面積
（m2／ｇ）×細孔容積（cm3／ｇ）の積、 ｄ 1.5〜2.5nmの数学的細孔径及び ｅ 25重量％より小さい水含有率、 を有するシリカゲルを含有する歯磨き。 １５ 保湿剤を含有する特許請求の範囲第１４項
記載の歯磨き。 １６ 該シリカゲルが少なくとも200のRDA値を
有する特許請求の範囲第１４又は１５項記載の歯
磨き。 １７ 異なつた比表面積及び／又は細孔容積を有
する二つのシリカゲルを含有する特許請求の範囲
第１４〜１６項の何れかに記載の歯磨き。 １８ １〜10ミクロンの平均粒径のシリカエーロ
ゲルも含有する特許請求の範囲第１４〜１７項の
何れかに記載の歯磨き。 １９ 清浄剤、摩耗剤又は磨き剤としての、１〜
30ミクロンの平均粒径を有し、そして ａ １〜600m2／ｇの比表面積、 ｂ 0.05〜0.5cm3／ｇの細孔容積、 ｃ 240より小さいか又は240に等しい比表面積
（m2／ｇ）×細孔容積（cm3／ｇ）の積、 ｄ 1.5〜2.5nmの数学的細孔径及び ｅ 25重量％より小さい水含有率、 を有するシリカゲルの使用。 ２０ 歯磨きのための特許請求の範囲第１９項記
載の使用。 ２１ 水性ケイ酸塩溶液をゲル化し、ついで洗
浄、乾燥し、そして所望の粒径に粉砕することに
よつて１〜30μｍの平均粒径を有するシリカゲル
の製造方法において、形成されたシリカヒドロゲ
ルを６より低いPH値及び約０℃〜70℃の温度で約
90〜99重量％SiO2（か焼損失のない物質を基準
として）の純度に洗浄し、次いでただちに乾燥
し、それによりエージングを防止し、該洗浄及び
乾燥条件は該シリカゲルが１〜600m2／ｇの比表
面積、0.05〜0.5cm3／ｇの細孔容積、240より小さ
いか又は240に等しい比表面積（m2／ｇ）×細孔容
積（cm3／ｇ）の積、1.5〜2.5nmの数学的細孔径
及び25重量％より小さい水含有率、を有するよう
に設定することを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2853647A DE2853647B2 (de) | 1978-12-13 | 1978-12-13 | Verfahren zur Herstellung von Kieselsäuregelen sowie deren Verwendung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55104911A JPS55104911A (en) | 1980-08-11 |
| JPS6242848B2 true JPS6242848B2 (ja) | 1987-09-10 |
Family
ID=6056941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16042879A Granted JPS55104911A (en) | 1978-12-13 | 1979-12-12 | Cilicagel and method of producing same |
Country Status (19)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55104911A (ja) |
| AT (1) | ATA784279A (ja) |
| AU (1) | AU534199B2 (ja) |
| BE (1) | BE880583A (ja) |
| BR (1) | BR7908104A (ja) |
| CH (1) | CH650754A5 (ja) |
| DE (1) | DE2853647B2 (ja) |
| DK (1) | DK528979A (ja) |
| ES (1) | ES487399A1 (ja) |
| FR (1) | FR2444004A1 (ja) |
| GB (1) | GB2038303B (ja) |
| IE (1) | IE49319B1 (ja) |
| IT (1) | IT1126543B (ja) |
| MY (1) | MY8400226A (ja) |
| NL (1) | NL7908956A (ja) |
| PH (1) | PH16359A (ja) |
| PT (1) | PT70577A (ja) |
| SE (1) | SE439296B (ja) |
| ZA (1) | ZA796752B (ja) |
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| JPS63100055U (ja) * | 1986-12-20 | 1988-06-29 | ||
| JPH0187763U (ja) * | 1987-12-02 | 1989-06-09 | ||
| JPH0242010U (ja) * | 1988-06-24 | 1990-03-23 | ||
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- 1978-12-13 DE DE2853647A patent/DE2853647B2/de active Granted
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- 1979-12-07 IT IT27961/79A patent/IT1126543B/it active
- 1979-12-11 SE SE7910212A patent/SE439296B/sv not_active IP Right Cessation
- 1979-12-12 GB GB7942821A patent/GB2038303B/en not_active Expired
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- 1979-12-12 IE IE2408/79A patent/IE49319B1/en not_active IP Right Cessation
- 1979-12-12 JP JP16042879A patent/JPS55104911A/ja active Granted
- 1979-12-12 FR FR7930458A patent/FR2444004A1/fr active Granted
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