JPS6240366A - 電子ビ−ム蒸着装置 - Google Patents
電子ビ−ム蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6240366A JPS6240366A JP17915085A JP17915085A JPS6240366A JP S6240366 A JPS6240366 A JP S6240366A JP 17915085 A JP17915085 A JP 17915085A JP 17915085 A JP17915085 A JP 17915085A JP S6240366 A JPS6240366 A JP S6240366A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- water
- electron beam
- substrate
- temp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、半導体基板への電極形成、光学レンズのコー
ティングなどに用いられる電子ビーム蒸着装置に関する
。
ティングなどに用いられる電子ビーム蒸着装置に関する
。
電子ビーム蒸着装置は、水冷された蒸着ソースハース中
の蒸着材料に電子ビームを照射して加熱し蒸発させ、被
蒸着体に付着させるものである。 この場合、蒸着膜質の制御は基板の加熱温度によって行
なうが、基板の加熱温度により限界があり、所望の膜質
が精度よく得られない欠点があった。
の蒸着材料に電子ビームを照射して加熱し蒸発させ、被
蒸着体に付着させるものである。 この場合、蒸着膜質の制御は基板の加熱温度によって行
なうが、基板の加熱温度により限界があり、所望の膜質
が精度よく得られない欠点があった。
本発明は、上述の欠点を除いて基板加熱温度を高めるこ
となく蒸着膜質を精度よく制御することができる電子ビ
ーム蒸着装置を提供することを目的とする。
となく蒸着膜質を精度よく制御することができる電子ビ
ーム蒸着装置を提供することを目的とする。
本発明は、電子ビーム蒸着装置の蒸着ソースハースの温
度が蒸着膜質に大きな影響を及ぼすことに着目したもの
で、蒸着ソースハース冷却水の水ａｍｍ平手段備えるこ
とにより、蒸着膜質を制御して上記の目的を達成する。
度が蒸着膜質に大きな影響を及ぼすことに着目したもの
で、蒸着ソースハース冷却水の水ａｍｍ平手段備えるこ
とにより、蒸着膜質を制御して上記の目的を達成する。
第１図は本発明の一実施例を示す。蒸着室１は真空ポン
プ２により真空排気可能であり、天井面に備えられた電
子銃３に対向して蒸着ソースハース４が配置されている
。蒸着ソースハース４に収容された蒸着材料５は電子銃
３からの電子ビームにより蒸発し、支持体６に取り付け
られた基板７上に蒸着膜を形成する。基板７は下方に配
置された加熱ヒータ８により加熱される。蒸着ソースハ
ース４は刷あるいはステンレス鋼からなり、電子ビーム
により蒸発しないように水槽９からの水１０により水冷
されている。水槽９には本発明により水温調整器１１が
備えられ、冷媒を用いての強制冷却あるいはヒータによ
る加熱により水１０の温度を調整することができる。冷
却水１０の温度を下げることにより基板７の加熱温度を
下げることができる・例えばモリブデンを半専体基板上
に蒸着してシッノトキーバリアダイオードを製造する際
、従来は基板加熱温度によって障壁高さを制御していた
。すなわち、障壁高さを高くするためには基板温度を上
げ、低くするためには基板温度を下げる。 しかし水１０の温度を２℃下げることにより基板７の温
度を約５０℃下げて同等の障壁高さを有するショットキ
ーバリアを得ることができる。この結果、従来３５０〜
４００℃であった基板加熱温度を低くできることにより
、蒸＠装置１例えばパフキング等の寿命が長くなり、省
エネルギーともなって経済的効果が得られる。また蒸着
室ｌを開いて大気にさらす場合には、水１０の温度を上
げ、蒸着ソースハース４へ露が結ぶことを防ぎ、次の真
空排気時間の短縮あるいは蒸着雰囲気中への水蒸気の混
入を阻止することができる。なお水温の調整は冷却水１
０の水量を変化させることによっても行うことができる
。
プ２により真空排気可能であり、天井面に備えられた電
子銃３に対向して蒸着ソースハース４が配置されている
。蒸着ソースハース４に収容された蒸着材料５は電子銃
３からの電子ビームにより蒸発し、支持体６に取り付け
られた基板７上に蒸着膜を形成する。基板７は下方に配
置された加熱ヒータ８により加熱される。蒸着ソースハ
ース４は刷あるいはステンレス鋼からなり、電子ビーム
により蒸発しないように水槽９からの水１０により水冷
されている。水槽９には本発明により水温調整器１１が
備えられ、冷媒を用いての強制冷却あるいはヒータによ
る加熱により水１０の温度を調整することができる。冷
却水１０の温度を下げることにより基板７の加熱温度を
下げることができる・例えばモリブデンを半専体基板上
に蒸着してシッノトキーバリアダイオードを製造する際
、従来は基板加熱温度によって障壁高さを制御していた
。すなわち、障壁高さを高くするためには基板温度を上
げ、低くするためには基板温度を下げる。 しかし水１０の温度を２℃下げることにより基板７の温
度を約５０℃下げて同等の障壁高さを有するショットキ
ーバリアを得ることができる。この結果、従来３５０〜
４００℃であった基板加熱温度を低くできることにより
、蒸＠装置１例えばパフキング等の寿命が長くなり、省
エネルギーともなって経済的効果が得られる。また蒸着
室ｌを開いて大気にさらす場合には、水１０の温度を上
げ、蒸着ソースハース４へ露が結ぶことを防ぎ、次の真
空排気時間の短縮あるいは蒸着雰囲気中への水蒸気の混
入を阻止することができる。なお水温の調整は冷却水１
０の水量を変化させることによっても行うことができる
。
本発明は、電子ビーム蒸石装置のＭ−着ソースハースの
冷却水温度を調整可能にすることにより、蒸着膜質を被
蒸着基板の加熱温度の調整によらないで制御することが
でき、膜質の精度のよい制御ができるほか、蒸着室開放
時の露のソースハースへの付着を防止でき、また蒸着装
置の寿命の延長。 省エネルギーなど得られる効果は極めて大きい。
冷却水温度を調整可能にすることにより、蒸着膜質を被
蒸着基板の加熱温度の調整によらないで制御することが
でき、膜質の精度のよい制御ができるほか、蒸着室開放
時の露のソースハースへの付着を防止でき、また蒸着装
置の寿命の延長。 省エネルギーなど得られる効果は極めて大きい。
第１図は本発明の一実施例の断面図である。
１：蒸着室、 ２：真空ポンプ、３ニアｉ１子銃、４
：蒸着ソースハース、５：蒸着材料、７：被蒸着基板、
９：水槽、ｌＯ：冷却水、１１：水温調整器。 ７、“、１ ／Ｔ・−・′。
：蒸着ソースハース、５：蒸着材料、７：被蒸着基板、
９：水槽、ｌＯ：冷却水、１１：水温調整器。 ７、“、１ ／Ｔ・−・′。
Claims (1)
- １）蒸着ソースハースの冷却水の水温調整手段を備えた
ことを特徴とする電子ビーム蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17915085A JPS6240366A (ja) | 1985-08-14 | 1985-08-14 | 電子ビ−ム蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17915085A JPS6240366A (ja) | 1985-08-14 | 1985-08-14 | 電子ビ−ム蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6240366A true JPS6240366A (ja) | 1987-02-21 |
| JPH0322464B2 JPH0322464B2 (ja) | 1991-03-26 |
Family
ID=16060835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17915085A Granted JPS6240366A (ja) | 1985-08-14 | 1985-08-14 | 電子ビ−ム蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6240366A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5199890A (en) * | 1991-06-27 | 1993-04-06 | Yamaichi Electric Co., Ltd. | IC socket |
-
1985
- 1985-08-14 JP JP17915085A patent/JPS6240366A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5199890A (en) * | 1991-06-27 | 1993-04-06 | Yamaichi Electric Co., Ltd. | IC socket |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0322464B2 (ja) | 1991-03-26 |
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