JPS6240307B2 - - Google Patents
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- JPS6240307B2 JPS6240307B2 JP56027429A JP2742981A JPS6240307B2 JP S6240307 B2 JPS6240307 B2 JP S6240307B2 JP 56027429 A JP56027429 A JP 56027429A JP 2742981 A JP2742981 A JP 2742981A JP S6240307 B2 JPS6240307 B2 JP S6240307B2
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面に熱線或は可視光線を反射する金
属酸化物被膜を形成した帯状ガラスを連続的に製
造する装置に関し、特に金属化合物溶液を噴霧す
るスプレー空間における廃ガスを、効率よく排気
するようにした金属酸化物被膜を有する帯状ガラ
スの製造装置に関する。
属酸化物被膜を形成した帯状ガラスを連続的に製
造する装置に関し、特に金属化合物溶液を噴霧す
るスプレー空間における廃ガスを、効率よく排気
するようにした金属酸化物被膜を有する帯状ガラ
スの製造装置に関する。
帯状ガラスを連続的に製造する装置として第5
図に示す如き装置が提案されている。
図に示す如き装置が提案されている。
斯る装置はスズ等の溶融金属浴槽101に溶融
したガラスを流し出し、この溶融ガラスを浴槽1
01の出口近傍に配したピツクアツプロール10
2で帯状に引き上げ、引き上げた帯状ガラス10
3をコンベアロール104……で徐冷窯105ま
で移送するようにしたものである。
したガラスを流し出し、この溶融ガラスを浴槽1
01の出口近傍に配したピツクアツプロール10
2で帯状に引き上げ、引き上げた帯状ガラス10
3をコンベアロール104……で徐冷窯105ま
で移送するようにしたものである。
そして帯状ガラス103の表面に金属酸化物の
被膜を形成すべく、浴槽101と徐冷窯105と
の中間部に帯状ガラス103の幅方向に移動しつ
つ金属化合物溶液を噴霧するスプレーガン106
を設け、このスプレーガン106の上流側及び下
流側に排気装置107,107を配設し、この排
気装置107,107間に形成されるスプレー空
間Sにおいて発生する廃ガスを除去するようにし
ている。
被膜を形成すべく、浴槽101と徐冷窯105と
の中間部に帯状ガラス103の幅方向に移動しつ
つ金属化合物溶液を噴霧するスプレーガン106
を設け、このスプレーガン106の上流側及び下
流側に排気装置107,107を配設し、この排
気装置107,107間に形成されるスプレー空
間Sにおいて発生する廃ガスを除去するようにし
ている。
斯る従来の排気装置107はスプレー空間Sの
上部に排風機に連結する排気管108を配し、こ
の排気管108の下面から廃ガス導入板109,
109を垂設し、この導入板によつて帯状ガラス
103の表面近傍に下部の廃ガス吸引口110を
形成するようにしたものである。
上部に排風機に連結する排気管108を配し、こ
の排気管108の下面から廃ガス導入板109,
109を垂設し、この導入板によつて帯状ガラス
103の表面近傍に下部の廃ガス吸引口110を
形成するようにしたものである。
そして上記下部吸引口110からスプレー空間
S内の廃ガスを吸引し、排気管108を通じて外
部に排出するのであるが、吸引し得る廃ガスはス
プレー空間Sの下部に存在するものに限られ、吸
引しきれなかつた廃ガスは図中矢印で示す如く上
部に舞い上り旋回する。すると旋回している廃ガ
スは排気管108、廃ガス導入板109或はスプ
レーガン106に接触し、廃ガス中の未分解物が
これらの表面に付着する。そしてこの付着した未
分解物が、振動や温度変化によつて帯状ガラス表
面に落下し、ピンホール欠点を発生する。
S内の廃ガスを吸引し、排気管108を通じて外
部に排出するのであるが、吸引し得る廃ガスはス
プレー空間Sの下部に存在するものに限られ、吸
引しきれなかつた廃ガスは図中矢印で示す如く上
部に舞い上り旋回する。すると旋回している廃ガ
スは排気管108、廃ガス導入板109或はスプ
レーガン106に接触し、廃ガス中の未分解物が
これらの表面に付着する。そしてこの付着した未
分解物が、振動や温度変化によつて帯状ガラス表
面に落下し、ピンホール欠点を発生する。
このような不利を解消するには排風機を強力な
ものにして、廃ガスを全て排気することも考えら
れるが、排風機自体非常に大型のものを用いなけ
ればならず、また大型の排風機を用いるとスプレ
ー空間に冷たい外気が入り込み、ガラス温度が下
り、着色効率及び被膜の耐久性の低下を招き、更
にガラス自体が割れる虞れもある。したがつて排
風機を強力にすることによつては上記問題を解決
できない。
ものにして、廃ガスを全て排気することも考えら
れるが、排風機自体非常に大型のものを用いなけ
ればならず、また大型の排風機を用いるとスプレ
ー空間に冷たい外気が入り込み、ガラス温度が下
り、着色効率及び被膜の耐久性の低下を招き、更
にガラス自体が割れる虞れもある。したがつて排
風機を強力にすることによつては上記問題を解決
できない。
本発明者は上述の如き問題点に鑑みこれを有効
に解決すべく本発明を成したものであり、その目
的とする処はスプレー空間において廃ガス中の未
分解物を排気装置やスプレーガンに付着させず、
帯状ガラス表面にピンホール欠点が発生すること
を未然に防止した金属酸化物被膜を有する帯状ガ
ラスの製造装置を提供するにある。
に解決すべく本発明を成したものであり、その目
的とする処はスプレー空間において廃ガス中の未
分解物を排気装置やスプレーガンに付着させず、
帯状ガラス表面にピンホール欠点が発生すること
を未然に防止した金属酸化物被膜を有する帯状ガ
ラスの製造装置を提供するにある。
斯る目的を達成すべく本発明は、帯状ガラス表
面に金属化合物溶液を噴霧するスプレーガンの上
流側及び下流側に下部吸引口を備えた排気装置を
配設した帯状ガラスの製造装置において、上記排
気装置によつて区画されるスプレー空間の上部
で、且つスプレーガンの近傍に熱分解により生じ
る分解ガス及び該溶液の未分解物を含む廃ガスを
吸引する上部吸引部を設けたことをその要旨とし
ている。
面に金属化合物溶液を噴霧するスプレーガンの上
流側及び下流側に下部吸引口を備えた排気装置を
配設した帯状ガラスの製造装置において、上記排
気装置によつて区画されるスプレー空間の上部
で、且つスプレーガンの近傍に熱分解により生じ
る分解ガス及び該溶液の未分解物を含む廃ガスを
吸引する上部吸引部を設けたことをその要旨とし
ている。
以下に本発明の好適な実施例を添付図面に従つ
て詳述する。
て詳述する。
第1図及び第2図は本発明の第1実施例を示す
ものであり、1はガラス成形室である溶融金属浴
槽から徐冷窯に向つて図中矢印イ方向に移送され
る帯状ガラスであり、この帯状ガラス1表面に金
属化合物溶液を噴霧するスプレーガン2を帯状ガ
ラス1との間に所定の間隔をもつて配設してい
る。
ものであり、1はガラス成形室である溶融金属浴
槽から徐冷窯に向つて図中矢印イ方向に移送され
る帯状ガラスであり、この帯状ガラス1表面に金
属化合物溶液を噴霧するスプレーガン2を帯状ガ
ラス1との間に所定の間隔をもつて配設してい
る。
このスプレーガン2は図示しないレール部材を
介して帯状ガラス1の移送方向と直交する方向、
即ち幅方向に移動可能とされており、このスプレ
ーガン2の上流側と下流側に夫々排気装置3,3
を配設し、排気装置3,3によつてスプレー空間
Sを区画している。
介して帯状ガラス1の移送方向と直交する方向、
即ち幅方向に移動可能とされており、このスプレ
ーガン2の上流側と下流側に夫々排気装置3,3
を配設し、排気装置3,3によつてスプレー空間
Sを区画している。
上記排気装置3はスプレー空間Sの上部側方に
位置し且つ排風機の連結する排気管4と、この排
気管4に溶接された多数のフイン5……とからな
る。即ち排気管4はスプレー空間Sの上部中央の
スプレーガン2の近傍に迫り出した延出部4a
と、帯状ガラス1の表面近傍まで伸びる垂下部4
bとを備え、延出部4aの下面及び垂下部4bの
両面に約3cm程の径をもつ多数の吸引用孔6……
を穿設している。そして吸引用孔6……を穿設し
た面の幅方向に多数のフイン5……を廃ガスの流
れと平行となる角度で溶接している。
位置し且つ排風機の連結する排気管4と、この排
気管4に溶接された多数のフイン5……とからな
る。即ち排気管4はスプレー空間Sの上部中央の
スプレーガン2の近傍に迫り出した延出部4a
と、帯状ガラス1の表面近傍まで伸びる垂下部4
bとを備え、延出部4aの下面及び垂下部4bの
両面に約3cm程の径をもつ多数の吸引用孔6……
を穿設している。そして吸引用孔6……を穿設し
た面の幅方向に多数のフイン5……を廃ガスの流
れと平行となる角度で溶接している。
而して、帯状ガラス表面に金属化合物を噴霧す
ると、その一部は帯状ガラス表面に金属酸化物の
被膜を形成し、他は分解ガス及び未分解物として
スプレー空間内に残るが、これら分解ガス及び未
分解物は廃ガスとしてフイン5……の間に形成さ
れた吸引口7……から吸引され外部に排出され
る。このとき下部の吸引口から吸引されず上方に
舞い上つた廃ガスは上部の吸引口から吸引される
のでスプレー空間S内において廃ガスが旋回する
ことがない。
ると、その一部は帯状ガラス表面に金属酸化物の
被膜を形成し、他は分解ガス及び未分解物として
スプレー空間内に残るが、これら分解ガス及び未
分解物は廃ガスとしてフイン5……の間に形成さ
れた吸引口7……から吸引され外部に排出され
る。このとき下部の吸引口から吸引されず上方に
舞い上つた廃ガスは上部の吸引口から吸引される
のでスプレー空間S内において廃ガスが旋回する
ことがない。
第3図は参考例を示すものであり、円筒状の排
気管8の下半部に吸引用の多数の孔を形成すると
ともに、排気管8の幅方向両端部に支持板9を固
着し、これら支持板間に多数のフイン10……を
架設している。
気管8の下半部に吸引用の多数の孔を形成すると
ともに、排気管8の幅方向両端部に支持板9を固
着し、これら支持板間に多数のフイン10……を
架設している。
即ち、支持板9はスプレー空間の中央上部に迫
り出す延出部9aと下方に伸びる垂下部9bとを
備え、且つ支持板間に架設したフイン10……は
廃ガスを吸引し易くするため舞い上つた廃ガスの
流れと略々平行となる角度で溶接している。
り出す延出部9aと下方に伸びる垂下部9bとを
備え、且つ支持板間に架設したフイン10……は
廃ガスを吸引し易くするため舞い上つた廃ガスの
流れと略々平行となる角度で溶接している。
而して、この実施例による場合もスプレー空間
内で舞い上つた廃ガスはフイン10……間の吸引
口11から吸引されて排出されるので廃ガスはス
プレー空間において旋回することがない。
内で舞い上つた廃ガスはフイン10……間の吸引
口11から吸引されて排出されるので廃ガスはス
プレー空間において旋回することがない。
第4図は他の参考例を示すものであり、帯状ガ
ラス1の表面に金属化合物溶液を噴霧するスプレ
ーガン2の上流及び下流側に円筒状排気管12,
12を配設し、この排気管12の下面から廃ガス
導入板13……を垂設し、これら導入板13……
によつて帯状ガラス表面近傍に開口する下部吸引
口14を形成している。
ラス1の表面に金属化合物溶液を噴霧するスプレ
ーガン2の上流及び下流側に円筒状排気管12,
12を配設し、この排気管12の下面から廃ガス
導入板13……を垂設し、これら導入板13……
によつて帯状ガラス表面近傍に開口する下部吸引
口14を形成している。
そして夫々の排気管12,12とスプレーガン
2との間で、且つスプレー空間Sの上部位置には
幅方向に開口する廃ガス吸引用フード15,15
を介設し、更にフード15,15とスプレーガン
2との間にはホツトエアーの吹出し装置16,1
6を臨ませている。
2との間で、且つスプレー空間Sの上部位置には
幅方向に開口する廃ガス吸引用フード15,15
を介設し、更にフード15,15とスプレーガン
2との間にはホツトエアーの吹出し装置16,1
6を臨ませている。
以上において、吸引用フード15と連結する排
風機を作動せしめれば下部の吸引口14及びフー
ド15の双方によつて廃ガスを吸引するので、図
中点線の矢印で示す如き廃ガスの旋回は生じるこ
とがなく、廃ガス中の未分解物がスプレーガン等
に付着することがない。
風機を作動せしめれば下部の吸引口14及びフー
ド15の双方によつて廃ガスを吸引するので、図
中点線の矢印で示す如き廃ガスの旋回は生じるこ
とがなく、廃ガス中の未分解物がスプレーガン等
に付着することがない。
尚、以上は本発明の単なる実施例を述べたに過
ぎず、本発明は上記に限られるものではない。例
えば排気管をスプレーガンを囲繞する如きリング
状としたものでもよく、更に吸引口内に抵抗を設
けることで、上部の吸引口と下部の吸引口の廃ガ
ス吸引量に差をつけることができる。例えば下部
からの吸引量を従来並みに保ち、上部からの吸引
量を少なくすれば、コーテイング条件を変えずに
廃ガスの排出量を向上することができる。
ぎず、本発明は上記に限られるものではない。例
えば排気管をスプレーガンを囲繞する如きリング
状としたものでもよく、更に吸引口内に抵抗を設
けることで、上部の吸引口と下部の吸引口の廃ガ
ス吸引量に差をつけることができる。例えば下部
からの吸引量を従来並みに保ち、上部からの吸引
量を少なくすれば、コーテイング条件を変えずに
廃ガスの排出量を向上することができる。
以上の説明で明らかな如く本発明によれば、帯
状ガラス表面に金属化合物溶液を噴霧するスプレ
ーガンの上流及び下流側に排気装置を配設してス
プレー空間を形成し、このスプレー空間の上部に
舞い上つた廃ガスの吸引部を設けたので、スプレ
ー空間内での廃ガスの旋回を防止でき、且つガラ
ス表面の温度低下等を招かずに廃ガスの排出量を
大巾に増大せしめることができる。そのため廃ガ
ス中の未分解物が排気管、或はスプレーガン等に
付着することを確実に阻止し得、帯状ガラス表面
に未分解物が落下してピンホール欠点を生じるこ
とを未然に防止できる。したがつて良質な金属酸
化被膜を形成することができ、製品歩留りの大巾
な向上が期待できる。特に帯状ガラスの移送速度
アツプに伴なう噴霧量の増加、或はピンホールの
発生しやすい薬液を採用した場合等には頗る有効
である等多大の利点を発揮する。
状ガラス表面に金属化合物溶液を噴霧するスプレ
ーガンの上流及び下流側に排気装置を配設してス
プレー空間を形成し、このスプレー空間の上部に
舞い上つた廃ガスの吸引部を設けたので、スプレ
ー空間内での廃ガスの旋回を防止でき、且つガラ
ス表面の温度低下等を招かずに廃ガスの排出量を
大巾に増大せしめることができる。そのため廃ガ
ス中の未分解物が排気管、或はスプレーガン等に
付着することを確実に阻止し得、帯状ガラス表面
に未分解物が落下してピンホール欠点を生じるこ
とを未然に防止できる。したがつて良質な金属酸
化被膜を形成することができ、製品歩留りの大巾
な向上が期待できる。特に帯状ガラスの移送速度
アツプに伴なう噴霧量の増加、或はピンホールの
発生しやすい薬液を採用した場合等には頗る有効
である等多大の利点を発揮する。
図面は本発明の好適な実施例を示すものであ
り、第1図は本発明の第1実施例の要部を示す斜
視図、第2図は同実施例の排気装置を分解して示
した斜視図、第3図は参考例を示す側面図、第4
図は他の参考例を示す斜視図、第5図は従来装置
の側面図である。 尚、図面中1は帯状ガラス、2はスプレーガ
ン、3は排気装置、5,10,15は吸引部であ
る。
り、第1図は本発明の第1実施例の要部を示す斜
視図、第2図は同実施例の排気装置を分解して示
した斜視図、第3図は参考例を示す側面図、第4
図は他の参考例を示す斜視図、第5図は従来装置
の側面図である。 尚、図面中1は帯状ガラス、2はスプレーガ
ン、3は排気装置、5,10,15は吸引部であ
る。
Claims (1)
- 1 ガラス成形室から徐冷窯に移送される帯状ガ
ラス表面に金属化合物溶液を噴霧するスプレーガ
ンと、このスプレーガンの上流側及び下流側に配
設され帯状ガラス表面近傍の廃ガスを吸引する下
部吸引部を有する排気装置とを備える帯状ガラス
の製造装置において、上記上流側及び下流側に配
設される排気装置によつて区画形成されるスプレ
ー空間の上部で、且つスプレーガンの近傍に、金
属化合物溶液の熱分解により生じる分解ガス及び
該溶液の未分解物を含む廃ガスを吸引する上部吸
引部を設け、該上部吸引部はスプレー空間の上部
まで一部が延出された排気管と、この排気管に廃
ガスを導く該廃ガスの流れと略平行にスプレー空
間の下部から側方乃至上方にわたつて該スプレー
空間を覆う如く配設された多数のフインとによつ
て構成したことを特徴とする金属酸化物被膜を有
する帯状ガラスの製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2742981A JPS57145053A (en) | 1981-02-26 | 1981-02-26 | Apparatus for manufacturing long glass strip having metal oxide covering layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2742981A JPS57145053A (en) | 1981-02-26 | 1981-02-26 | Apparatus for manufacturing long glass strip having metal oxide covering layer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57145053A JPS57145053A (en) | 1982-09-07 |
JPS6240307B2 true JPS6240307B2 (ja) | 1987-08-27 |
Family
ID=12220864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2742981A Granted JPS57145053A (en) | 1981-02-26 | 1981-02-26 | Apparatus for manufacturing long glass strip having metal oxide covering layer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS57145053A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4698939B2 (ja) * | 2003-09-10 | 2011-06-08 | 株式会社フジクラ | 透明電極用基板の製造装置 |
JP4509900B2 (ja) * | 2005-09-13 | 2010-07-21 | 株式会社フジクラ | 成膜装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4921403A (ja) * | 1972-06-20 | 1974-02-25 | ||
JPS548488A (en) * | 1977-06-22 | 1979-01-22 | Fujitsu Ltd | Semiconductor photo detector |
-
1981
- 1981-02-26 JP JP2742981A patent/JPS57145053A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4921403A (ja) * | 1972-06-20 | 1974-02-25 | ||
JPS548488A (en) * | 1977-06-22 | 1979-01-22 | Fujitsu Ltd | Semiconductor photo detector |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57145053A (en) | 1982-09-07 |
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