JPS6238454A - 放射線感応性混合物、放射線感応性記録材料及びレリーフ像の製法 - Google Patents
放射線感応性混合物、放射線感応性記録材料及びレリーフ像の製法Info
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- JPS6238454A JPS6238454A JP61187951A JP18795186A JPS6238454A JP S6238454 A JPS6238454 A JP S6238454A JP 61187951 A JP61187951 A JP 61187951A JP 18795186 A JP18795186 A JP 18795186A JP S6238454 A JPS6238454 A JP S6238454A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は放射線感能性混合物、放射線感能性記録材料及
びレリーフ像の製法に関する。
びレリーフ像の製法に関する。
本発明は、特にフォトレジストステンシル及び印刷版の
製造のために好適な放射線感能性混合物に関する。
製造のために好適な放射線感能性混合物に関する。
本発明は、特に、光分解的に活性化可能な酸供与体と酸
分解可能な化合物及び水に不溶で゛、アルカリ水溶液中
に可溶なバインダ（ｂｉｎａｅｒ）との組合せを基礎と
するボジチデ作用放射線感能性又は感光性混合物を提供
する。
分解可能な化合物及び水に不溶で゛、アルカリ水溶液中
に可溶なバインダ（ｂｉｎａｅｒ）との組合せを基礎と
するボジチデ作用放射線感能性又は感光性混合物を提供
する。
従来の技術
ボジチデ作用感光性混合物即ち、その複写層が記載成分
の露光領域で可溶性になる混合物は公知である。
の露光領域で可溶性になる混合物は公知である。
これら混合物は、アルカリ可溶性バインダとして、多（
の場合に、フェノール−ホルムアルデヒド縮合生成物殊
にノボラック（Ｎｏｖｏｌ、ａｋｓ）を含有する。文献
記載の更に可能なアルカリ可溶性バインダは、無水マレ
イン酸とスチレンとの、酢酸ビニルとクロトン酸との、
メタクリル酸アルキル、ブタジェンとメタクリル酸との
コポリマー（西ドイツ特許公開ＤＥ−Ａ第６１０７５２
６号）及びビニルフェノールのポリマー（西ドイツ特許
公開ＤＥ−Ａ第３３０９２２２号）である。これらのポ
リマーは、明らかに有利ではない。従って、実際に、す
べての公知の市販製品は、ノボラック全含有している。
の場合に、フェノール−ホルムアルデヒド縮合生成物殊
にノボラック（Ｎｏｖｏｌ、ａｋｓ）を含有する。文献
記載の更に可能なアルカリ可溶性バインダは、無水マレ
イン酸とスチレンとの、酢酸ビニルとクロトン酸との、
メタクリル酸アルキル、ブタジェンとメタクリル酸との
コポリマー（西ドイツ特許公開ＤＥ−Ａ第６１０７５２
６号）及びビニルフェノールのポリマー（西ドイツ特許
公開ＤＥ−Ａ第３３０９２２２号）である。これらのポ
リマーは、明らかに有利ではない。従って、実際に、す
べての公知の市販製品は、ノボラック全含有している。
バインダとして使用されているノボラックは、特定の目
的にとっては欠点を有する。
的にとっては欠点を有する。
ドライレジストコーティング中でのバインダとして使用
するために、ノボラックは、その低分子量に基づき脆す
ぎ、その鳩は処理工程で、例えはマスクを用いる接触露
光の工程で、又は基板材料表面上へのドライレゾストと
しての積層の工程で屡々破れる。ドライレジスト材料に
とって好適な高い層厚の場合に特に注目すべきこの特性
は、複数の撤回に基づく： 第１に、主鎖中への芳香性基の導入は、それ目体高いガ
ラス転移温度と低い柔軟性を示す主鎖の易動性に高い制
限効果を有する。第２に、酸性条件下でのフェノール又
はクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合（これは通常
ノボラツの多官能性に基づき、低分芋反は高い分枝又は
又又結合度を有する生成物を生じる。
するために、ノボラックは、その低分子量に基づき脆す
ぎ、その鳩は処理工程で、例えはマスクを用いる接触露
光の工程で、又は基板材料表面上へのドライレゾストと
しての積層の工程で屡々破れる。ドライレジスト材料に
とって好適な高い層厚の場合に特に注目すべきこの特性
は、複数の撤回に基づく： 第１に、主鎖中への芳香性基の導入は、それ目体高いガ
ラス転移温度と低い柔軟性を示す主鎖の易動性に高い制
限効果を有する。第２に、酸性条件下でのフェノール又
はクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合（これは通常
ノボラツの多官能性に基づき、低分芋反は高い分枝又は
又又結合度を有する生成物を生じる。
これらのノボラック特異社の利点の結果として、フィル
ム形成能及びこのような化合物の柔軟性は、低すぎて、
）曽の破辰なしに又は基板フイルムから核種フィルムへ
のレジストのはね返りなしにロールで申し分なく加工処
理することのできるげライレジストフィルムを製造する
感光性系と組合せて使用することができない。
ム形成能及びこのような化合物の柔軟性は、低すぎて、
）曽の破辰なしに又は基板フイルムから核種フィルムへ
のレジストのはね返りなしにロールで申し分なく加工処
理することのできるげライレジストフィルムを製造する
感光性系と組合せて使用することができない。
このノボラックのこの脆性も、このバインダをマイクロ
電子工学で使用する際の加工処理問題に関する理由であ
る。マスクと緊密に接触して露光する際に、これは、層
中に破れ又は割れを生じさせ易い。
電子工学で使用する際の加工処理問題に関する理由であ
る。マスクと緊密に接触して露光する際に、これは、層
中に破れ又は割れを生じさせ易い。
欧州特ト公開（ＥＰ−Ａ）第００４２５６２号明細誓中
には、層の柔軟性を筒め、他の特性を改良するために、
アルカリ可溶性ノボラックに加えて、更にポリマー例え
はポリウレタン、ポリビニルアルキルエーテル、ポリア
ルキルアクリレート又は水素化されたコロホニイ誘導体
を含有する相応する感光性混合物が記載されている。し
かしながら、ノボラックとは異なる溶解度特性を南する
これら樹脂の添加は、他の特性例えＶ正現像性、像ステ
ンシルの酸又はアルカリ抵抗に対する逆の作用をも有す
る。
には、層の柔軟性を筒め、他の特性を改良するために、
アルカリ可溶性ノボラックに加えて、更にポリマー例え
はポリウレタン、ポリビニルアルキルエーテル、ポリア
ルキルアクリレート又は水素化されたコロホニイ誘導体
を含有する相応する感光性混合物が記載されている。し
かしながら、ノボラックとは異なる溶解度特性を南する
これら樹脂の添加は、他の特性例えＶ正現像性、像ステ
ンシルの酸又はアルカリ抵抗に対する逆の作用をも有す
る。
従って、過去において、ボジチグ作用層中でのノボラッ
クを他のアルカリ可溶性バインダに代える種々の提案が
なされている。
クを他のアルカリ可溶性バインダに代える種々の提案が
なされている。
西ｒイッ特ト（ＤＥ−Ｃ）第２３２２２３０号明細曹中
では、０−キノンジアジドを含有する増巾のノボラック
代替物としてポリビニルフェノールが提案されている。
では、０−キノンジアジドを含有する増巾のノボラック
代替物としてポリビニルフェノールが提案されている。
プラズマ抵抗及びシリコン表面上への付着性が基本的に
ノざラックと匹敵しつるが、このポリマーを基礎とする
禾露光フォトレジスト層は、親像の工程で著るしく腐蝕
される。分子量の増加に伴ない、腐蝕の度合は低下する
が、最良の場合（分子量＝２５０００）でも、これは、
ノボラックペース層の場合よジも約１００の係数だけな
お鳥い（Ｔ、Ｒ。
ノざラックと匹敵しつるが、このポリマーを基礎とする
禾露光フォトレジスト層は、親像の工程で著るしく腐蝕
される。分子量の増加に伴ない、腐蝕の度合は低下する
が、最良の場合（分子量＝２５０００）でも、これは、
ノボラックペース層の場合よジも約１００の係数だけな
お鳥い（Ｔ、Ｒ。
パムパロン（ＰａｍＰａ１ｏｎｅ ）のソリッド・ステ
ート・チクノロシイ、（５ｏｌｉｄ ５ｔａｔｅ Ｔｅ
ｃｈｎｏｌｏｇｙン、１９８４年６月１１９頁参照〕。
ート・チクノロシイ、（５ｏｌｉｄ ５ｔａｔｅ Ｔｅ
ｃｈｎｏｌｏｇｙン、１９８４年６月１１９頁参照〕。
もう１つの欠点は、調製的に高価な合成及びビニルフェ
ノールモノマーの低い１合傾向である。
ノールモノマーの低い１合傾向である。
特開昭（ＪＰ−Ａ）５１−３６１２９号明Ｍ誉には、ナ
フトキノンジアジド層に対するバインダとしてのヒドロ
キノンモノメタクリレート及びジヒドロキシナフタリン
モノメタクリレートを基礎とするポリマーが記載されて
いる。
フトキノンジアジド層に対するバインダとしてのヒドロ
キノンモノメタクリレート及びジヒドロキシナフタリン
モノメタクリレートを基礎とするポリマーが記載されて
いる。
感光性化合物としての。−キノンジアジドを有するこれ
らのすべての混合物は、最初に記載の酸分解可能な化合
物を有する混合物と比べて、明らかに低い感光性の欠点
を有する。これは例えはドライレジスト処理工程で高い
層厚を要求される所での使用時に特に明白である。
らのすべての混合物は、最初に記載の酸分解可能な化合
物を有する混合物と比べて、明らかに低い感光性の欠点
を有する。これは例えはドライレジスト処理工程で高い
層厚を要求される所での使用時に特に明白である。
発明が解決しようとする問題点
従って、本発明の目的は、前記の一般的な型のメジチプ
作用混合物を提供することであり、これは、アルカリ水
溶液で現像でき、公知混合物と比べて増大された感光性
及び柔軟性及び現像剤及び他の処理媒体に対する高い抵
抗を有する感光層を形成する。
作用混合物を提供することであり、これは、アルカリ水
溶液で現像でき、公知混合物と比べて増大された感光性
及び柔軟性及び現像剤及び他の処理媒体に対する高い抵
抗を有する感光層を形成する。
問題点を解決するための手段
本発明は、主成分として、
Ａ）アルカリ水溶液中に可溶であり、フェノール性ヒド
ロキシル側鎖基を有する水に不溶なポリマー性バインダ
及び Ｂ） ａ） 化学線の作用下に強酸を形成する化合物
及び ｂ） 少なくとも１個の酸分解性Ｃ−０−Ｃ結合を有し
、現像剤中でのその溶解性が酸の作用により増大される
化合物 の組合せ 全含有する、放射線感能性混合物を提供する。
ロキシル側鎖基を有する水に不溶なポリマー性バインダ
及び Ｂ） ａ） 化学線の作用下に強酸を形成する化合物
及び ｂ） 少なくとも１個の酸分解性Ｃ−０−Ｃ結合を有し
、現像剤中でのその溶解性が酸の作用により増大される
化合物 の組合せ 全含有する、放射線感能性混合物を提供する。
本発明による混合物中でバインダは１式：％式％
〔式中Ｒは水素又はハロゲン原子、シアニド基又は炭素
原子数１〜４のアルキル基であυ、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３
は同−又は異なるもので、水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アシル、
アリールオキシ、アロイル又はアラルキル基であり％Ｒ
’は水素原子又は、１式のもう１つの単位に分子間又は
分子内結合している２価の有機基であシ、平均して、１
式の単位の少なくとも８０モルチ内でＲ４は水素であり
、Ｘは酸素原子又は基ＮＲ８，０ＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２
０ＣＯ、０ＣＨ２Ｃ１（２０及びＯＣＨ，ＣＨｇ０ＣＯ
（ここでＲ８は水素原子、アルキル又はアリール基であ
る）の１つを表わし、Ａは、単環又は２環の炭素環式又
はヘテロ環式芳香環系を完成するのに必要な原子を表わ
す〕の繰返し単位を有するポリマーである。
原子数１〜４のアルキル基であυ、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３
は同−又は異なるもので、水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アシル、
アリールオキシ、アロイル又はアラルキル基であり％Ｒ
’は水素原子又は、１式のもう１つの単位に分子間又は
分子内結合している２価の有機基であシ、平均して、１
式の単位の少なくとも８０モルチ内でＲ４は水素であり
、Ｘは酸素原子又は基ＮＲ８，０ＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２
０ＣＯ、０ＣＨ２Ｃ１（２０及びＯＣＨ，ＣＨｇ０ＣＯ
（ここでＲ８は水素原子、アルキル又はアリール基であ
る）の１つを表わし、Ａは、単環又は２環の炭素環式又
はヘテロ環式芳香環系を完成するのに必要な原子を表わ
す〕の繰返し単位を有するポリマーである。
本発明によるこのポリマーは、ホモポリマー又は１式の
単位に付加的に共重合可能なエチレン性不飽和モノマー
から銹導゛された他の単位を有するコ？リマーであって
よい。このコモノマーは一般にモノビニル化合物である
。これらは、触媒使用下に又は熱的に交叉結合していて
よい交叉結合しうる基を含有していてもよい。この交叉
結合は、埃像後に像ステンシルを硬化するために、有利
に加熱により実施することができる。
単位に付加的に共重合可能なエチレン性不飽和モノマー
から銹導゛された他の単位を有するコ？リマーであって
よい。このコモノマーは一般にモノビニル化合物である
。これらは、触媒使用下に又は熱的に交叉結合していて
よい交叉結合しうる基を含有していてもよい。この交叉
結合は、埃像後に像ステンシルを硬化するために、有利
に加熱により実施することができる。
式Ｉ中のＲがアルキル基である場合に、これは、一般に
、炭素原子１〜６有利に１個又は２個を含有する。Ｒ−
Ｈ又はメチルを有する化合物が特に有利である。
、炭素原子１〜６有利に１個又は２個を含有する。Ｒ−
Ｈ又はメチルを有する化合物が特に有利である。
置換分Ｒ１％ Ｒ２及びＲ３のうち、少なくとも１個が
水素原子である、特にそれらの少なくとも２個が水素原
子であるのが有利である。これらの基がアルキル又はア
ルコキシ基である場合、これらは、炭素原子１〜６特に
１〜６個を有するのが有利である。
水素原子である、特にそれらの少なくとも２個が水素原
子であるのが有利である。これらの基がアルキル又はア
ルコキシ基である場合、これらは、炭素原子１〜６特に
１〜６個を有するのが有利である。
一般に、ここでアルキル基とは、分校及び非分枝の、飽
和及び不飽和の基で、ハロゲン原子、ヒドロキシル基で
置換されていてよいか又はエーテル又はケト基ヲ有して
いてよい塊状及び開放鎖を有するものであると解される
。特に炭素原子数１〜３個を有する飽和炭化水素基が有
利である。
和及び不飽和の基で、ハロゲン原子、ヒドロキシル基で
置換されていてよいか又はエーテル又はケト基ヲ有して
いてよい塊状及び開放鎖を有するものであると解される
。特に炭素原子数１〜３個を有する飽和炭化水素基が有
利である。
芳香環系Ａかへテロ環式である場合、これは、例えばピ
リジン、ピリミジン、ピラジン、キノリン、イソキノリ
ン、キノキサジン、インドール又はチオフェン系であっ
てよい。好適な芳香環系は、ベンゼン、ナフタリン及び
ビフェニルであシ、特にベンゼン環が有利である。
リジン、ピリミジン、ピラジン、キノリン、イソキノリ
ン、キノキサジン、インドール又はチオフェン系であっ
てよい。好適な芳香環系は、ベンゼン、ナフタリン及び
ビフェニルであシ、特にベンゼン環が有利である。
ＯＲ’基の位ｔは、限定されず、調製上の認容性に依シ
決まる。
決まる。
基Ｈ１，Ｒ２及びＲ３の位置は、ＯＲ’基の位置に依り
決まる。
決まる。
Ｒ４が２価の基である場合、これは、生成物の溶解度を
損なわないような量でポリマー中に存在する。一般に、
１式の単位の２０モルＳｔ−越えず、有利に１０モルチ
より少なく、Ｒ４がＨとは異なる基ＯＲ”ｉ含有する。
損なわないような量でポリマー中に存在する。一般に、
１式の単位の２０モルＳｔ−越えず、有利に１０モルチ
より少なく、Ｒ４がＨとは異なる基ＯＲ”ｉ含有する。
この場合、Ｒ４は、有利に炭素原子２〜１ｓｔ−有する
芳香族又は脂肪族基であってよく、例えば、ジエボキシ
ド又はジインシアネートとＯＨ基との反応によシ形成さ
れている。有利な反応成分はジイソシアネートである。
芳香族又は脂肪族基であってよく、例えば、ジエボキシ
ド又はジインシアネートとＯＨ基との反応によシ形成さ
れている。有利な反応成分はジイソシアネートである。
好適なジイソシアネートの例は、トリレン、ヘキサメチ
レン、２，２゜４−トリメチルへキサメチレン、リジン
、イソホロン及びジフェニルメタンジイソシアネートで
ある。
レン、２，２゜４−トリメチルへキサメチレン、リジン
、イソホロン及びジフェニルメタンジイソシアネートで
ある。
本発明による好適な１式の単位の例は、ヒドロキノンの
、ビロカテロールの、レゾルシノールの、メチルレゾル
シノールの、クロルレゾルシノールの、エチルヒドロキ
ノンの、２．３−ジヒドロキシナフタリンの、４．４’
−ジヒドロキシビフェニルの、２．２−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル〕プロパンの、５．８−ジヒドロキシ
キノリンの、β−ヒドロキシエチルサリチレートの、β
−ヒドロキシエチル２−ヒドロキシ−６−ナフドエート
の、２，３−ジヒドロキシプロピル−４−クロル−又は
４−ブロム−サリチレートの、４．４’−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンの又は２．４−ジヒドロキシアセトフェ
ノンのモノアクリレート又はモノメタクリレ−トのもの
である。 − 他の例は、ｏ−ｌｍ−文はｐ−アミンフェノール文は１
−アミノ−７−ナフトールの（メタ）アクリルアミドの
単位である。
、ビロカテロールの、レゾルシノールの、メチルレゾル
シノールの、クロルレゾルシノールの、エチルヒドロキ
ノンの、２．３−ジヒドロキシナフタリンの、４．４’
−ジヒドロキシビフェニルの、２．２−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル〕プロパンの、５．８−ジヒドロキシ
キノリンの、β−ヒドロキシエチルサリチレートの、β
−ヒドロキシエチル２−ヒドロキシ−６−ナフドエート
の、２，３−ジヒドロキシプロピル−４−クロル−又は
４−ブロム−サリチレートの、４．４’−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンの又は２．４−ジヒドロキシアセトフェ
ノンのモノアクリレート又はモノメタクリレ−トのもの
である。 − 他の例は、ｏ−ｌｍ−文はｐ−アミンフェノール文は１
−アミノ−７−ナフトールの（メタ）アクリルアミドの
単位である。
１式に適合する型のモノマーは、例えは、置換又は非置
換のヒドロ安息香酸とヒドロキシアルキルアクリレート
又はメタクリレートとメタクリレートのグリシジルアク
リレートとの反応によるか又は、アクリル酸又はメタク
リル酸を適当に置換されたフェノールを用いるエステル
化又はアミド化することにより製造することができる。
換のヒドロ安息香酸とヒドロキシアルキルアクリレート
又はメタクリレートとメタクリレートのグリシジルアク
リレートとの反応によるか又は、アクリル酸又はメタク
リル酸を適当に置換されたフェノールを用いるエステル
化又はアミド化することにより製造することができる。
これらモノマーのホモ重合又はこれらと他のモノマーと
の共重合は、慣用法で、例えば、重合開始剤例えばアゾ
ビスイソブチロニトリルの存在で、有機溶剤例えはブタ
ノン又はエタノール中での、高めた温度で１〜２時間以
内に実施することができる。しかしながら、付加的に、
放射線、熱又はイオン性開始剤により開始されうるＭ濁
−、エマルション−又は塊状−１合を実施することもで
きる。
の共重合は、慣用法で、例えば、重合開始剤例えばアゾ
ビスイソブチロニトリルの存在で、有機溶剤例えはブタ
ノン又はエタノール中での、高めた温度で１〜２時間以
内に実施することができる。しかしながら、付加的に、
放射線、熱又はイオン性開始剤により開始されうるＭ濁
−、エマルション−又は塊状−１合を実施することもで
きる。
１式の単位のポリマーは、１式の構造単位だけ′ｆｔｍ
するホモポリマー又は１式によるモノマーと１個以上の
ビニルモノマー（適当な場合はフェノール基を有するも
のを包含）とのコポリマーであってよい。
するホモポリマー又は１式によるモノマーと１個以上の
ビニルモノマー（適当な場合はフェノール基を有するも
のを包含）とのコポリマーであってよい。
１式による種々のモノマーと他のもの及び適当な場合に
は、もう１つのビニルモノマーとを共１合することもで
きる。
は、もう１つのビニルモノマーとを共１合することもで
きる。
これらホモポリマー及びコポリマーの分子量は、広範囲
に変化してよ＜、Ｍｎ−，１０００〜２０００００％に
Ｍｎ ＝ ５０００〜１０００００を有するポリマーが
有利である。ヒドロキシル数は一般に、１００〜約４５
０有利に２００〜６５０内にある。
に変化してよ＜、Ｍｎ−，１０００〜２０００００％に
Ｍｎ ＝ ５０００〜１０００００を有するポリマーが
有利である。ヒドロキシル数は一般に、１００〜約４５
０有利に２００〜６５０内にある。
好適なホモポリマー及びコポリマーの選択は、所望目的
に応じた個々の場合に依ジ、かつ放射線−又は光−感能
性混合物の他の成分の特性ｌ／ｃ依り決まる。例えは、
感光性混合物のバインダの親水性が、感光性、椀像時間
及び現像液抵抗にとって重要である。従って、親水性は
特定の感光性系に適合させるべきである。
に応じた個々の場合に依ジ、かつ放射線−又は光−感能
性混合物の他の成分の特性ｌ／ｃ依り決まる。例えは、
感光性混合物のバインダの親水性が、感光性、椀像時間
及び現像液抵抗にとって重要である。従って、親水性は
特定の感光性系に適合させるべきである。
感光性混合物の使用特性は、更に、その軟化温度（これ
は主としてバインダのそれで測定される）により調節さ
れる。これは、芳香環上の置換分の選択により、特にコ
モノマーの選択により影響されうる、 １合して１式の単位を生じる化合物を得るための有利な
コモノマーは次の一般式の化合物である： 書 〔式中Ｒ５は水素、ハロゲン原子又はアルキル基でｉ、
Ｒ’はアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、
アシル、アシロキシ、アリール、ホルミル、シアニド、
カルボキシル、ヒドロキシル又はアミノカルボニル基で
あり、Ｒ７は水素原子又はＲ６がカルボキシル基である
場合にＲ６に結合して、酸無水物全形成することのでき
るカルボキシル基である〕。
は主としてバインダのそれで測定される）により調節さ
れる。これは、芳香環上の置換分の選択により、特にコ
モノマーの選択により影響されうる、 １合して１式の単位を生じる化合物を得るための有利な
コモノマーは次の一般式の化合物である： 書 〔式中Ｒ５は水素、ハロゲン原子又はアルキル基でｉ、
Ｒ’はアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、
アシル、アシロキシ、アリール、ホルミル、シアニド、
カルボキシル、ヒドロキシル又はアミノカルボニル基で
あり、Ｒ７は水素原子又はＲ６がカルボキシル基である
場合にＲ６に結合して、酸無水物全形成することのでき
るカルボキシル基である〕。
Ｒ５又はＲ６がアルキル基である場合に、これらは、一
般に、１〜４個の炭素原子を有し、Ｒ６の好適なものは
、炭素原子１〜８を有するアルコキシ基、炭素原子２〜
１６を有するアルキルオキシカルボニル基、炭素原子２
〜２０に有するアシル基及び炭素原子２〜１８を有する
アシロキシ基及び炭素原子６〜１０金有するアリール基
である。アミノカルボニル基は炭素原子１〜８を有する
アルキル基１個又は２個で置換されていてよい。アルキ
ル基は前記のもの金表わす。
般に、１〜４個の炭素原子を有し、Ｒ６の好適なものは
、炭素原子１〜８を有するアルコキシ基、炭素原子２〜
１６を有するアルキルオキシカルボニル基、炭素原子２
〜２０に有するアシル基及び炭素原子２〜１８を有する
アシロキシ基及び炭素原子６〜１０金有するアリール基
である。アミノカルボニル基は炭素原子１〜８を有する
アルキル基１個又は２個で置換されていてよい。アルキ
ル基は前記のもの金表わす。
このような化合物の例は、スチレン、α−クロルスチレ
ン、α−メチルスチレン、２−１６−又Ｈ４−クロルメ
チルスチレン、４−ブロムスチレン、メチルビニルエー
テル、エチルビニルエーテル、フロビルビニルエーテル
、フチルビニルエーテル、アクリロニトリル、アクロレ
イン、ブタジェン、アクリル酸、メタクリル酸、これら
の酸のメチル−、エチル−、プロピル−、ブチル−、ペ
ンチル−、ヘキシル−、テシルー、ｐデシル−１２−エ
チルへキシル−、フェニル−、ベンジル−、ビフェニリ
ル−及びナフル ヂーステル、メタクリルアミド、アクリルアミド、酢酸
ビニル、ビニルイソブチルケトン及び無水マレイン酸で
ある。
ン、α−メチルスチレン、２−１６−又Ｈ４−クロルメ
チルスチレン、４−ブロムスチレン、メチルビニルエー
テル、エチルビニルエーテル、フロビルビニルエーテル
、フチルビニルエーテル、アクリロニトリル、アクロレ
イン、ブタジェン、アクリル酸、メタクリル酸、これら
の酸のメチル−、エチル−、プロピル−、ブチル−、ペ
ンチル−、ヘキシル−、テシルー、ｐデシル−１２−エ
チルへキシル−、フェニル−、ベンジル−、ビフェニリ
ル−及びナフル ヂーステル、メタクリルアミド、アクリルアミド、酢酸
ビニル、ビニルイソブチルケトン及び無水マレイン酸で
ある。
コポリマー中の１式の単位の含分は、混合物の他の成分
及び用途に依り決まる。一般に、本発明による混合物中
で使用されるポリマーは、１式の単位２０〜１００モル
チ有利に４０〜１００モル％を含有する。
及び用途に依り決まる。一般に、本発明による混合物中
で使用されるポリマーは、１式の単位２０〜１００モル
チ有利に４０〜１００モル％を含有する。
本発明による混合物を調製するために、記載のバインダ
を放射線感能性の光分解性酸供与体とアルカリ現像剤水
溶液中の溶解度が光又は高エネルギー放射線への露呈時
に増大する、酸分解性化合物との組成物と一緒にする。
を放射線感能性の光分解性酸供与体とアルカリ現像剤水
溶液中の溶解度が光又は高エネルギー放射線への露呈時
に増大する、酸分解性化合物との組成物と一緒にする。
酸分解性化合物の有利なものは主として次のものである
： ａ）少な（とも１個のオルトカルボン酸エステ・ル及び
／又はカルボン酸アミドアセタール基を有するもので、
この化合物は、ポリマー性を有することも可能であり、
かつ前記の基が主鎖中に結合要素として又は側鎖置換分
として出現することができる。
： ａ）少な（とも１個のオルトカルボン酸エステ・ル及び
／又はカルボン酸アミドアセタール基を有するもので、
この化合物は、ポリマー性を有することも可能であり、
かつ前記の基が主鎖中に結合要素として又は側鎖置換分
として出現することができる。
ｂ）主鎖中に反後性アセタール及び／又はケタール基全
有するオリゴマー又はポリマー化合物及び Ｃ）少な（とも１個のエノール性エーテル又はＮ−アシ
ル−イミノカルボネート基を有する化合物。
有するオリゴマー又はポリマー化合物及び Ｃ）少な（とも１個のエノール性エーテル又はＮ−アシ
ル−イミノカルボネート基を有する化合物。
放射線感能性混合物の成分としてのａ）型の酸分解可能
な化合物は、詳細には欧州特許（ＥＰ−Ａ）第００２２
５７ｉ号明ｍ豊中に記載されており、ｂ）型の化合物金
含有する混合物は西ドイツ特許（ＤＥ−Ｃ）第２３０６
２４８号、同第２７１８２５４号明細書中に記載されて
おシ、Ｃ）型の化合物は欧州特許（ＥＰ−Ａ）第０００
６６２６号及び同第０００６６２７号明細書に記載され
ている。
な化合物は、詳細には欧州特許（ＥＰ−Ａ）第００２２
５７ｉ号明ｍ豊中に記載されており、ｂ）型の化合物金
含有する混合物は西ドイツ特許（ＤＥ−Ｃ）第２３０６
２４８号、同第２７１８２５４号明細書中に記載されて
おシ、Ｃ）型の化合物は欧州特許（ＥＰ−Ａ）第０００
６６２６号及び同第０００６６２７号明細書に記載され
ている。
バインダ及び分解可能な化合物の量は、用途に応じて変
動してよ（、バインダ含有率は３０〜９０Ｘ量多殊に５
５〜８５重量％が有利である。分解可能な化合物の量は
、５〜７０］Ｌｆｋ％の間で変動可能であυ、５〜４０
］Ｌ量慢の範囲が有利である。
動してよ（、バインダ含有率は３０〜９０Ｘ量多殊に５
５〜８５重量％が有利である。分解可能な化合物の量は
、５〜７０］Ｌｆｋ％の間で変動可能であυ、５〜４０
］Ｌ量慢の範囲が有利である。
付加的に、他の多くのオリゴマー又はポリマー例えばノ
ヴラツク型のフェノール性樹脂又はビニルポリマー例え
は〆す♂ニルアセタール、ポリメタクリレート、メリア
クリレート、ポリビニルエーテル及びポリビニルピロリ
ドンを包含することも可能であ夛、これらはそれ自体コ
モノマーで変性されていてよい。
ヴラツク型のフェノール性樹脂又はビニルポリマー例え
は〆す♂ニルアセタール、ポリメタクリレート、メリア
クリレート、ポリビニルエーテル及びポリビニルピロリ
ドンを包含することも可能であ夛、これらはそれ自体コ
モノマーで変性されていてよい。
これら添加物の最も好適な量は、使用要件及び現像時の
その作用に依夛、一般に１式の単位含有するポリマーの
６０％より少ない。柔軟性、付着性、光沢等の特別な要
件に対して、この感光性層は、付加的に、少量の物質例
えば、ボＩＪ りＩＪコール、セルロースエーテル、例
１；Ｊ：エチルセルロース、湿潤剤流動調整剤、染料及
び微細星砕された顔料を含有していてよい。
その作用に依夛、一般に１式の単位含有するポリマーの
６０％より少ない。柔軟性、付着性、光沢等の特別な要
件に対して、この感光性層は、付加的に、少量の物質例
えば、ボＩＪ りＩＪコール、セルロースエーテル、例
１；Ｊ：エチルセルロース、湿潤剤流動調整剤、染料及
び微細星砕された顔料を含有していてよい。
照射時に有利に強酸全形成又は放出する好適な放射線感
能性成分は、多くの公知化合物及び混合物例えばシアゾ
ニウム、ホスホニウム、スルホニウム及ヒヨードニウム
塩、ハロダン化合物、０−キノンジアジドスルホクロリ
ド及び有機金属−有機ハロゲン組合せである。
能性成分は、多くの公知化合物及び混合物例えばシアゾ
ニウム、ホスホニウム、スルホニウム及ヒヨードニウム
塩、ハロダン化合物、０−キノンジアジドスルホクロリ
ド及び有機金属−有機ハロゲン組合せである。
前記のジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム及び
ヨードニウム化合物は、一般に、有機溶剤中に可溶な塩
の形で、通常錯体酸（ｃｏｍ−ｐｌｅｘ ａｃｉｄｓ
）例えば硼弗化水素酸、ヘキサフルオロ燐酸、ヘキサフ
ルオロアンチモン酸及ヒヘキサフルオロ砒酸との沈殿生
成物として使用される。
ヨードニウム化合物は、一般に、有機溶剤中に可溶な塩
の形で、通常錯体酸（ｃｏｍ−ｐｌｅｘ ａｃｉｄｓ
）例えば硼弗化水素酸、ヘキサフルオロ燐酸、ヘキサフ
ルオロアンチモン酸及ヒヘキサフルオロ砒酸との沈殿生
成物として使用される。
原則的には、使用されるハロゲン化水素酸を形成するハ
ロゲン含有放射線感能性化合物は任意の有機ハロゲン化
合物であってよく、即ち、光化学的な遊離のラジカル開
始剤として公知でもあり、例えに炭素原子又は芳香環上
に１個以上のハロゲン原子を有するものであってよい。
ロゲン含有放射線感能性化合物は任意の有機ハロゲン化
合物であってよく、即ち、光化学的な遊離のラジカル開
始剤として公知でもあり、例えに炭素原子又は芳香環上
に１個以上のハロゲン原子を有するものであってよい。
その例は、米国特許（ＵＳ−Ａ）第３５１５５５２号、
同第３５３６４８９号、同第３７７９７７８号、西ドイ
ツ特許（ＤＥ−Ｃ）第２６１０８４２号、同第２２４３
６２１号、同第２７１８２５９号及び同第３３３７０２
４号明Ｍ書に記載されている。これらの化合物のうち、
トリアジン環内に２個のハロダンメチル基殊にトリクロ
ロメチル基を有し、トリアジン核中に芳香性又は不飽和
の置換分を有するＳ −） ＩＪアジン誘導体が有利で
ある〔これらは西ドイツ特許（ＤＥ−Ａ）第２７１８２
５９号、同第３３３７０２４号明細書中に記載〕。これ
らのハロダン含有化合物の作用は、分光的に影響され、
公知増感剤で増強されつる。
同第３５３６４８９号、同第３７７９７７８号、西ドイ
ツ特許（ＤＥ−Ｃ）第２６１０８４２号、同第２２４３
６２１号、同第２７１８２５９号及び同第３３３７０２
４号明Ｍ書に記載されている。これらの化合物のうち、
トリアジン環内に２個のハロダンメチル基殊にトリクロ
ロメチル基を有し、トリアジン核中に芳香性又は不飽和
の置換分を有するＳ −） ＩＪアジン誘導体が有利で
ある〔これらは西ドイツ特許（ＤＥ−Ａ）第２７１８２
５９号、同第３３３７０２４号明細書中に記載〕。これ
らのハロダン含有化合物の作用は、分光的に影響され、
公知増感剤で増強されつる。
好適な開始剤の例は次のものである＝４−（ジ−ｎ−プ
ロピルアミノ）−ベンゼンジアゾニウムテトラフルオロ
ボレート、４−ｐ−）ＩＪルメルカプト−２，５−ジェ
トキシベンゼンジアゾニウムへキサフルオロホスフェ−
、ト及びテトラフルオロボレート、ジフェニルアミン−
４−ジアゾニウムスルフェート、４−メチル−６−ドリ
クロルメチルー２−ピロン、４−（３，４，５−トリメ
トキシスチリル）−６−ドリクロルメチルー２−ピロン
、４−（４−メトキシスチリル）−６−（３，３，３−
トリクロルプロペニル）−２−ピロン、２−）リクロル
メチルーベンズイミダデール、２−トリブロモメチルキ
ノリン、２．４−ジメチル−１−トリブロモアセチルベ
ンゼン、６−ニトロ−１−トＩＪ ７”ロモアセチルベ
ンゼン、４−ジブロモアセチル安息香酸、１．４−ビス
−ジブロモメチルベンゼン、トリス−ジブロモメチル−
５−）リアシン、２−（６−メドキシナフチー２−イル
）−１２−（ナフチ−１−イル）−１２−（ナフチ−２
−イル）−１２−（４−エトキシ−エチルナフチ−１−
イル）−１２−ベンゾビラン−６−イル）−１２−（４
−メトキシアントラシー１−イル）−１２−（４−スチ
リルフェニル）−１２−（フエナントリー９−イル）−
４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−）リアジン及び
例中に記載の化合物。
ロピルアミノ）−ベンゼンジアゾニウムテトラフルオロ
ボレート、４−ｐ−）ＩＪルメルカプト−２，５−ジェ
トキシベンゼンジアゾニウムへキサフルオロホスフェ−
、ト及びテトラフルオロボレート、ジフェニルアミン−
４−ジアゾニウムスルフェート、４−メチル−６−ドリ
クロルメチルー２−ピロン、４−（３，４，５−トリメ
トキシスチリル）−６−ドリクロルメチルー２−ピロン
、４−（４−メトキシスチリル）−６−（３，３，３−
トリクロルプロペニル）−２−ピロン、２−）リクロル
メチルーベンズイミダデール、２−トリブロモメチルキ
ノリン、２．４−ジメチル−１−トリブロモアセチルベ
ンゼン、６−ニトロ−１−トＩＪ ７”ロモアセチルベ
ンゼン、４−ジブロモアセチル安息香酸、１．４−ビス
−ジブロモメチルベンゼン、トリス−ジブロモメチル−
５−）リアシン、２−（６−メドキシナフチー２−イル
）−１２−（ナフチ−１−イル）−１２−（ナフチ−２
−イル）−１２−（４−エトキシ−エチルナフチ−１−
イル）−１２−ベンゾビラン−６−イル）−１２−（４
−メトキシアントラシー１−イル）−１２−（４−スチ
リルフェニル）−１２−（フエナントリー９−イル）−
４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−）リアジン及び
例中に記載の化合物。
開始剤の童は、同様に、その化学的特性に依り、かつ混
合物の組成に依シ非常に広範に変動することができる。
合物の組成に依シ非常に広範に変動することができる。
好適な結果は、総固体に対して約０．１〜１０重量粂有
利に０．２〜５％で得られる。殊に、１０μｍより厚い
複写Ｉ−の場合に、比較的少ない醗供与体を使用するこ
とが推奨される。
利に０．２〜５％で得られる。殊に、１０μｍより厚い
複写Ｉ−の場合に、比較的少ない醗供与体を使用するこ
とが推奨される。
最後に、感光性混合物は、それに、使用目的に応じて、
それに可溶性又は微細に分配された分散性染料及びＵＶ
吸収剤をも添加されていてよい。好適な染料は特にその
カルビノール塩基の形のトリフェニルメタン染料である
。これら成分の最も好適な混合割合は、個々の場合に、
予備実験により容易に決定することができる。
それに可溶性又は微細に分配された分散性染料及びＵＶ
吸収剤をも添加されていてよい。好適な染料は特にその
カルビノール塩基の形のトリフェニルメタン染料である
。これら成分の最も好適な混合割合は、個々の場合に、
予備実験により容易に決定することができる。
感光性混合物を得るための好適な基板材料は、複写法で
通常使用されているすべての材料である。挙げられうる
例は、プラスチックフィルム、銅層を有する絶縁シート
、機械的又は電気化学的に粗面化され、場合により陽極
酸化されたアルミニウム、スクリーン印刷ステンシル支
持体、木材、セラミックス、ガラス及び表面が化学的に
変えられた例えは窒化珪素又は二酸化珪素に変えられて
いてよいシリコンである。
通常使用されているすべての材料である。挙げられうる
例は、プラスチックフィルム、銅層を有する絶縁シート
、機械的又は電気化学的に粗面化され、場合により陽極
酸化されたアルミニウム、スクリーン印刷ステンシル支
持体、木材、セラミックス、ガラス及び表面が化学的に
変えられた例えは窒化珪素又は二酸化珪素に変えられて
いてよいシリコンである。
１０−より厚い層を得るために好適な基板材料は、プラ
スチックフィルムであシ、これは、転再層を得るための
仮の基板材料としても役立つ。このため及びカラーフィ
ルムを得るためには、ポリエステルフィルム例えはポリ
エチレンテレフタレートが有利である。しかしながら、
ポリプロピレンのようなポリオレフィンフィルムも同様
に好適である。
スチックフィルムであシ、これは、転再層を得るための
仮の基板材料としても役立つ。このため及びカラーフィ
ルムを得るためには、ポリエステルフィルム例えはポリ
エチレンテレフタレートが有利である。しかしながら、
ポリプロピレンのようなポリオレフィンフィルムも同様
に好適である。
約１０μｍより薄い層を得るために使用される基板材料
は、通常は金属である。オフセット印刷版の場合には、
機械的又は化学的に粗面化され場合により陽極酸化され
たアルミニウム（これは付加的に例えはポリビニルホス
ホン酸、珪酸塩又は燐酸塩で化学的に前処理されていて
もよい）を使用することができる。
は、通常は金属である。オフセット印刷版の場合には、
機械的又は化学的に粗面化され場合により陽極酸化され
たアルミニウム（これは付加的に例えはポリビニルホス
ホン酸、珪酸塩又は燐酸塩で化学的に前処理されていて
もよい）を使用することができる。
最後に、コーティングは、直接又は仮の基板材料からの
転写により、片面又は両面上の銅層を有する絶縁板よジ
なる回路板材料上に、粘着化前処理がされていてよいガ
ラス又はセラミック材料に、及びシリコンディスク上へ
施こすことができる。木材、繊維材料及び映写及びアル
カリ現像剤の作用への抵抗により有利に画像化される多
くの材料の表面をコーティングすることも可能である。
転写により、片面又は両面上の銅層を有する絶縁板よジ
なる回路板材料上に、粘着化前処理がされていてよいガ
ラス又はセラミック材料に、及びシリコンディスク上へ
施こすことができる。木材、繊維材料及び映写及びアル
カリ現像剤の作用への抵抗により有利に画像化される多
くの材料の表面をコーティングすることも可能である。
コーティングの後の乾燥のために、慣用の装置及び条件
全採択することができ、１００°Ｃ付近の、かつ短時間
では、１２０℃までの温度には、放射線感能性を失なわ
ずに耐えられる。
全採択することができ、１００°Ｃ付近の、かつ短時間
では、１２０℃までの温度には、放射線感能性を失なわ
ずに耐えられる。
露光は慣用の光源例えば蛍光灯、キセノンパルス灯、ノ
・ログン化金属配合水銀蒸気高圧灯及び炭素アーク灯を
用いて実施できる。
・ログン化金属配合水銀蒸気高圧灯及び炭素アーク灯を
用いて実施できる。
この明細書中で、照射とは、約５０ Ｏｎ！Ｉｌｌよジ
低い成長領域での電磁性化学照射線の作用である。この
波長領域で放射するすべての照射源は原則的に好適であ
る。
低い成長領域での電磁性化学照射線の作用である。この
波長領域で放射するすべての照射源は原則的に好適であ
る。
殊に自動処理系中では、照射源としてアルゴンイオンレ
ーず−を有するレーず一照射装置を使用するのが有利で
ある。
ーず−を有するレーず一照射装置を使用するのが有利で
ある。
照射は電子ビームを用いて実施することもできる。この
場合に、常識で、可溶化反応の開始剤としての感光性酸
を形成しない化合物例えは、ハロダン化され九芳香族化
合物又はハロダン化されたポリマー炭化水素を使用する
こともできる。Ｘ−線又はイオン線は、像出現のために
同様に使用することができる。
場合に、常識で、可溶化反応の開始剤としての感光性酸
を形成しない化合物例えは、ハロダン化され九芳香族化
合物又はハロダン化されたポリマー炭化水素を使用する
こともできる。Ｘ−線又はイオン線は、像出現のために
同様に使用することができる。
画像に応じて露光されたか又は照射された層は、公知方
法で、市場で入手しうるす７トキノンゾアジド層及びフ
ォトレジストヲ得るのに公知の現像剤で除去することが
でき、この新規材料は、それらの複写特性において、有
利に、公知の助剤例えは現像剤、及びゾログラムされた
スプレー現像装置に適合させることができる。
法で、市場で入手しうるす７トキノンゾアジド層及びフ
ォトレジストヲ得るのに公知の現像剤で除去することが
でき、この新規材料は、それらの複写特性において、有
利に、公知の助剤例えは現像剤、及びゾログラムされた
スプレー現像装置に適合させることができる。
現像剤水溶液は、例えはアルカリ余塵燐酸塩、珪鈑塩又
は水酸化物及び湿潤剤並びに所望の場合には少葉の有機
浴剤を含有していてよい。特定の場合には、溶剤−水混
合物さえも現像剤として使用できる。最も好適な現像剤
の選択は、使用される特定の層上での実験により決定す
ることができる。必要な場合には現像を機械的に促進す
ることもできる。
は水酸化物及び湿潤剤並びに所望の場合には少葉の有機
浴剤を含有していてよい。特定の場合には、溶剤−水混
合物さえも現像剤として使用できる。最も好適な現像剤
の選択は、使用される特定の層上での実験により決定す
ることができる。必要な場合には現像を機械的に促進す
ることもできる。
印刷版として使用する場合には、この現像された版を、
印刷時の耐久性及び洗浄剤、修正剤及びＵＶ−硬化性印
刷インキに対する抵抗を高めるために、英国特許（Ｃ）
Ｂ−Ａ）第１１５４７４９号からのジアゾ鳩に公知のよ
うに、高めた温度に短時間加熱することができる。
印刷時の耐久性及び洗浄剤、修正剤及びＵＶ−硬化性印
刷インキに対する抵抗を高めるために、英国特許（Ｃ）
Ｂ−Ａ）第１１５４７４９号からのジアゾ鳩に公知のよ
うに、高めた温度に短時間加熱することができる。
本発明は、基板及び記録層より成る放射線感能性記録材
料を、画像に応じて照射することによるレリーフ像の製
法を提供しており、これは、先に定義された放射線感応
性混合物を、アルカリ現像剤水溶液中のこのＩ−の溶解
性が増大し、この層の照射された部分がアルカリ現像剤
水溶液を用いて除去されるような量で、化学線に露呈す
ることよりなり、ここで、記録層はバインダとして一般
式ｌの単位のポリマーを含有する。
料を、画像に応じて照射することによるレリーフ像の製
法を提供しており、これは、先に定義された放射線感応
性混合物を、アルカリ現像剤水溶液中のこのＩ−の溶解
性が増大し、この層の照射された部分がアルカリ現像剤
水溶液を用いて除去されるような量で、化学線に露呈す
ることよりなり、ここで、記録層はバインダとして一般
式ｌの単位のポリマーを含有する。
本発明は、用途に応じてその特性が適当に調節可能であ
るボジチブ層金得ることを可能にする。本発明によるこ
のバインダの好適な選択により、例えは、基板材料に対
する優れた付着性及び優れた温度、腐蝕及び磨耗安定性
を有する薄Ｊｍで使用するだめのボジチプ層を得ること
が可能である。
るボジチブ層金得ることを可能にする。本発明によるこ
のバインダの好適な選択により、例えは、基板材料に対
する優れた付着性及び優れた温度、腐蝕及び磨耗安定性
を有する薄Ｊｍで使用するだめのボジチプ層を得ること
が可能である。
他方、ここで提供されるバインダは、約１５μｍ〜１０
０μｍ又はそれ以上の厚さの高い層厚で、例えはドライ
レジストとして使用するためのボジチブ層を得るために
使用することもできる。これらの乾燥フィルムは高い感
光性及び優れた柔軟性を有し、ロールで申し分なく加工
処理されうる。この乾燥転写の後に、これらは、金属基
板材料に良好に付着し、高いＪｍ厚の場合にも、層内の
亀裂又は破れは現われない。特に、その切断時に、ノ曽
の一部分の裂断が々い。
０μｍ又はそれ以上の厚さの高い層厚で、例えはドライ
レジストとして使用するためのボジチブ層を得るために
使用することもできる。これらの乾燥フィルムは高い感
光性及び優れた柔軟性を有し、ロールで申し分なく加工
処理されうる。この乾燥転写の後に、これらは、金属基
板材料に良好に付着し、高いＪｍ厚の場合にも、層内の
亀裂又は破れは現われない。特に、その切断時に、ノ曽
の一部分の裂断が々い。
実施例
次の実施例で、本発明による方法を実施し、本発明によ
る混合物中のバインダの製造及び使用の可能性を示す。
る混合物中のバインダの製造及び使用の可能性を示す。
１％」及び「部」はことわりのないかぎり「１量チ」及
び「１ｉ部」である。重量部（ｐｂｗ）は Ｉに、容量
部（ｐｂｙ）は罰に関連する。
び「１ｉ部」である。重量部（ｐｂｗ）は Ｉに、容量
部（ｐｂｙ）は罰に関連する。
種々の使用可能性に対して次のコーティング溶液が製造
される： コーティング溶液Ａ： ブタノン １１０重量部中の 結合剤 、 ４０ｘ量部トリエチ
レングリコールとブチ ルアルデヒドとの〆リアセター ル １
０ １２−（４−エトキシナフチ−１ −イル）−４，６−ビス−トリ クロルメチルー８−トリアジン ０．５１クリスタルバ
イオレツト塩基 ０．０５ １コーティング溶液Ｂ： ブタノン ８０ｋｆ部及び エタノール ２０重量部中の 結合剤 ４０ 〃オルトヤ酸
トリメチルと４−オ キサ−６，６−ピスーヒドロキ ジメチル−オクタンー１−オー ルの縮合により製造したポリマ ー性オルトエステル ８ 〃２−（４−ス
チリルフェニル） −４，６−ピスートリクロロメ チルー５−トリアジン ０．５〃クリスタルバ
イオレツト塩基 ０．０５ Ｉｆコーティング溶液
Ｃ： ブタノン ９０重量部中の 結合剤 １０１Ｌ量部２−ブ
チル−２−エチルゾロパ ンゾオールのビス−（５−ブチ ル−５−エチル−１，６−シオ キサンー２−イル）エーテル ６ 〃２−（アセナ
フチ−５−イル） −４，６−ピスートリクロルメ チル−ｓ−）リアジン ０．２５重量部コーテ
ィング溶液Ｄ＝ １−メトキシプロパン−２−オ ール、酢酸ブチル及びキシレン の溶剤混合物（８：１：１） ７０重量部中の 結合剤 ２０ｍ１１部軟化範囲
１０５〜１２０°Ｃを有 スルクレゾール−ホルムアルデ ヒト−ノボラック ６．５Ｎコーテイング
溶液Ａのポリアセ タール ３．５１２−（４−エ
トキシ−ナフチ− １−イル）−４，６−ピスート ジクロロメチル−β−トリアジ ン
０．５ Ｎコーティング溶液Ｅ： １−メトキシ−２−ゾロパノー ル ・ ８０重量部及び 酢酸ブチル ２０ 〃中の 結合剤 ８重量部コーティン
グ溶液Ａのポリアセ タール １ 〃２−（４−
スチリルフェニル） −４，６−ピスートリクロロメ チル−ｓ−）リアジン ０．５〃クリスタルバ
イオレツト塩基 ０．０５ ５例１〜４ オフセット印刷版を製造するために、次のバインダをコ
ーティング溶液Ｅに関する指示に従って、そこに記載の
成分と混合する： ａ）ピロカテコールモノメタクリレートとメチルメタク
リレートとのコポリマー（９０：１０モル％ 、Ｒ８Ｖ
イ直ニジメチルホルムアミド中０．４３８ ｄｔ／ｊ
９ ）、 ｂ）ヒドロキノンモノメタクリレートとメタクリル酸デ
チルとのコポリマー（７０：３０モル％％Ｒ８Ｖ価値ニ
ジメチルホルムアミド中、６６５ｄｔ／９）、 Ｃ）メタクリル酸メチルとメタクリル酸ヒドロキシエチ
ルとサリチル酸との反応生成物とのコポリ−ｒ−（８０
： ２０モｈｌ Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中の
０．５１１ ａｔ／９ ）、ｄ）ｐ−ヒドロキシフェニ
ルメタクリルアミドとメタクリル酸ヘキシルとのコポリ
マー（５５：４５モル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムア
ミド中肌４４３ｄｔ／、！ｉり。
される： コーティング溶液Ａ： ブタノン １１０重量部中の 結合剤 、 ４０ｘ量部トリエチ
レングリコールとブチ ルアルデヒドとの〆リアセター ル １
０ １２−（４−エトキシナフチ−１ −イル）−４，６−ビス−トリ クロルメチルー８−トリアジン ０．５１クリスタルバ
イオレツト塩基 ０．０５ １コーティング溶液Ｂ： ブタノン ８０ｋｆ部及び エタノール ２０重量部中の 結合剤 ４０ 〃オルトヤ酸
トリメチルと４−オ キサ−６，６−ピスーヒドロキ ジメチル−オクタンー１−オー ルの縮合により製造したポリマ ー性オルトエステル ８ 〃２−（４−ス
チリルフェニル） −４，６−ピスートリクロロメ チルー５−トリアジン ０．５〃クリスタルバ
イオレツト塩基 ０．０５ Ｉｆコーティング溶液
Ｃ： ブタノン ９０重量部中の 結合剤 １０１Ｌ量部２−ブ
チル−２−エチルゾロパ ンゾオールのビス−（５−ブチ ル−５−エチル−１，６−シオ キサンー２−イル）エーテル ６ 〃２−（アセナ
フチ−５−イル） −４，６−ピスートリクロルメ チル−ｓ−）リアジン ０．２５重量部コーテ
ィング溶液Ｄ＝ １−メトキシプロパン−２−オ ール、酢酸ブチル及びキシレン の溶剤混合物（８：１：１） ７０重量部中の 結合剤 ２０ｍ１１部軟化範囲
１０５〜１２０°Ｃを有 スルクレゾール−ホルムアルデ ヒト−ノボラック ６．５Ｎコーテイング
溶液Ａのポリアセ タール ３．５１２−（４−エ
トキシ−ナフチ− １−イル）−４，６−ピスート ジクロロメチル−β−トリアジ ン
０．５ Ｎコーティング溶液Ｅ： １−メトキシ−２−ゾロパノー ル ・ ８０重量部及び 酢酸ブチル ２０ 〃中の 結合剤 ８重量部コーティン
グ溶液Ａのポリアセ タール １ 〃２−（４−
スチリルフェニル） −４，６−ピスートリクロロメ チル−ｓ−）リアジン ０．５〃クリスタルバ
イオレツト塩基 ０．０５ ５例１〜４ オフセット印刷版を製造するために、次のバインダをコ
ーティング溶液Ｅに関する指示に従って、そこに記載の
成分と混合する： ａ）ピロカテコールモノメタクリレートとメチルメタク
リレートとのコポリマー（９０：１０モル％ 、Ｒ８Ｖ
イ直ニジメチルホルムアミド中０．４３８ ｄｔ／ｊ
９ ）、 ｂ）ヒドロキノンモノメタクリレートとメタクリル酸デ
チルとのコポリマー（７０：３０モル％％Ｒ８Ｖ価値ニ
ジメチルホルムアミド中、６６５ｄｔ／９）、 Ｃ）メタクリル酸メチルとメタクリル酸ヒドロキシエチ
ルとサリチル酸との反応生成物とのコポリ−ｒ−（８０
： ２０モｈｌ Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中の
０．５１１ ａｔ／９ ）、ｄ）ｐ−ヒドロキシフェニ
ルメタクリルアミドとメタクリル酸ヘキシルとのコポリ
マー（５５：４５モル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムア
ミド中肌４４３ｄｔ／、！ｉり。
比較例Ｃ１：
比較のために、コポリマーｂ）ヲ次の処方で調合する：
１−メトキシ−２−プロパツール ５ｏｘｉ部及び
酢酸ブチル ２０ Ｎ中の
コポリマーｂ）８Ｉ
２．３．４−トリヒドロキシベン
ゾフェノン１モルとナフト−１゜
２−キノン−２−ジアジド−５−
スルホニルクロリド３（−ルトノエ
ステル化生成物 １重量部クリスタ
ルバイオレット塩基 ０００１ Ｎこの溶液を、
先にポリビニルホスホン酸の水溶液で処理した電気的に
粗面化され、陽極酸化されたアルミニウム版上にホアラ
ー（Ｗｈ ｉ ｒ １ｅ ｒ ）コーティングする。こ
のホアラーの回転速度の調節によシ、層厚（乾燥）をす
べての版に対して約１．５μｍとする。
ルバイオレット塩基 ０００１ Ｎこの溶液を、
先にポリビニルホスホン酸の水溶液で処理した電気的に
粗面化され、陽極酸化されたアルミニウム版上にホアラ
ー（Ｗｈ ｉ ｒ １ｅ ｒ ）コーティングする。こ
のホアラーの回転速度の調節によシ、層厚（乾燥）をす
べての版に対して約１．５μｍとする。
次いでこの版を循環通過キャビネット中、１００℃で１
０分間乾燥させる。
０分間乾燥させる。
１１０αの距離で５ＫＷハロゲン化金属灯の下で露光し
、１０分間の待期時間の後に、この版を次の溶液： 水 ９１．Ｏｍ
′！！に部中の メタ珪酸ナトリウムＸ９Ｈ２０５，３Ｎ燐酸三ナトリウ
ムＸ１２Ｈ２０３，４１及び 燐酸二水素ナトリウム（無水 物） ０．５Ｉ量部中で現
像させると、光により影響されている複写層の部分は除
去され、未露光の像部分は、後に版上に残っている。
、１０分間の待期時間の後に、この版を次の溶液： 水 ９１．Ｏｍ
′！！に部中の メタ珪酸ナトリウムＸ９Ｈ２０５，３Ｎ燐酸三ナトリウ
ムＸ１２Ｈ２０３，４１及び 燐酸二水素ナトリウム（無水 物） ０．５Ｉ量部中で現
像させると、光により影響されている複写層の部分は除
去され、未露光の像部分は、後に版上に残っている。
第１表は、バインダとして使用されているコポリマー及
び個々の層に対する露光及び現儂時間を示している。
び個々の層に対する露光及び現儂時間を示している。
第１表
例 コポリマー 露光時間（８） 現像時間
（５１）１ ａ ３０
８０２ ｔ） １０
３０６ｃ ４０
６０４ ｄ １０
７０Ｃ１１） １００ ９
０この第１表は、明らかに、感光性に関する新規混合物
゛の利点を示している。すべての場合へ感光性は、ナフ
トキノンジアジドを有する慣用の場合におけるよりも約
２〜５の係数だけ高いことを示している。
（５１）１ ａ ３０
８０２ ｔ） １０
３０６ｃ ４０
６０４ ｄ １０
７０Ｃ１１） １００ ９
０この第１表は、明らかに、感光性に関する新規混合物
゛の利点を示している。すべての場合へ感光性は、ナフ
トキノンジアジドを有する慣用の場合におけるよりも約
２〜５の係数だけ高いことを示している。
親油性印刷インキを用いる墨入れの後に、こうして得た
印刷版はオフセット印刷機中で１０００００枚の申し分
のない印刷を得るために使用することができる。
印刷版はオフセット印刷機中で１０００００枚の申し分
のない印刷を得るために使用することができる。
例５〜８
ボジチデドライレジストヲ製造するために、次のバイン
ダを、コーティング溶液Ａ及びＢに関する指示に従って
他の成分（第２表参照）と混合する。
ダを、コーティング溶液Ａ及びＢに関する指示に従って
他の成分（第２表参照）と混合する。
ｅ）レゾルシノールモノメタクリレートと２−エチルへ
キシルメタクリレートとのコポリマー （６８： ３２
モ＃％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中の０．５８
９ ｄｔｌ＆ ）ｆ）ヒドロキノンモノアクリレートと
メタクリル酸デチルとのコポリマー（ｔ５５：３５モル
チ、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．３２３ｄｔ
／９） ｇ）ヒドロキノンモノメタクリレート、メタクリル酸ヘ
キシル及びアクリル酸ブチルとのコポリマー（６５：２
５：１０モル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０
．５５４ｄ２／、９）、 ｈ） ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、メ
タクリル酸ヘキシル及び１．１，２．２−テトラヒドロ
ペルフルオロデシルアクリレートとのコポリマー（５５
：４０：５０モル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド
中の０．４４８ｄ１／９）。
キシルメタクリレートとのコポリマー （６８： ３２
モ＃％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中の０．５８
９ ｄｔｌ＆ ）ｆ）ヒドロキノンモノアクリレートと
メタクリル酸デチルとのコポリマー（ｔ５５：３５モル
チ、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．３２３ｄｔ
／９） ｇ）ヒドロキノンモノメタクリレート、メタクリル酸ヘ
キシル及びアクリル酸ブチルとのコポリマー（６５：２
５：１０モル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０
．５５４ｄ２／、９）、 ｈ） ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、メ
タクリル酸ヘキシル及び１．１，２．２−テトラヒドロ
ペルフルオロデシルアクリレートとのコポリマー（５５
：４０：５０モル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド
中の０．４４８ｄ１／９）。
比較例Ｃ２
比較のために、コポリマーｇ）ヲ次の処方で調合した：
ブタノン ８０重量部及び
エタノール ２Ｉ中の
コポリマーｇ） ４０ｍ１ｔ部２．
３．４−）リヒドロキシベ゛ ンゾフエノン１モルとナフト− １，２−キノン−２−ジアジド− ５−スルホニルクロリド３モルと のエステル化生成物 ８Ｎ量部及び クリスタルバイオレット塩基 ０．０５ １例５〜８
及び比較例Ｃ２の溶液を、各々の場合に、厚さ２６μｍ
％２軸延伸され熱硬化されたポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にホアラーコーティングし、引続き、循環
通過キャビネット中で１００００で１０分間乾燥させる
。
３．４−）リヒドロキシベ゛ ンゾフエノン１モルとナフト− １，２−キノン−２−ジアジド− ５−スルホニルクロリド３モルと のエステル化生成物 ８Ｎ量部及び クリスタルバイオレット塩基 ０．０５ １例５〜８
及び比較例Ｃ２の溶液を、各々の場合に、厚さ２６μｍ
％２軸延伸され熱硬化されたポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にホアラーコーティングし、引続き、循環
通過キャビネット中で１００００で１０分間乾燥させる
。
このホアラーの速度を、約２５声の層厚を得るように調
節する。はこジ及び引掻きに対する保獲として、ポリエ
チレンフィルムを付加的にその上に積ノ曽する。
節する。はこジ及び引掻きに対する保獲として、ポリエ
チレンフィルムを付加的にその上に積ノ曽する。
本発明による混合物を有するドライレジストは、ナフト
キノンジアジドを有するドライレジストに比べて明らか
に改良された柔軟性を示す。後者は切断時に容易に破れ
るか又は砕けるが、これらの欠点は本発明によるドライ
レジストの場合には起こらない。
キノンジアジドを有するドライレジストに比べて明らか
に改良された柔軟性を示す。後者は切断時に容易に破れ
るか又は砕けるが、これらの欠点は本発明によるドライ
レジストの場合には起こらない。
回路板を製造するために、このドライレジストヲ、被覆
フィルムを引きはがした後に、市場で入手しつるラミネ
ータで、厚さ３５μｍの銅層を有する絶縁板よフなる浄
化され、予備加熱された基板上にラミネートする。基板
フィルムの除去及び可能な引続く加熱に引続き、マスタ
ーの下で、５ｆｆハロｒン化金属灯に、１１０αの距離
で露光し、１０分の時期時間の後に、例１〜４に詳述し
た現像剤中で現像する。
フィルムを引きはがした後に、市場で入手しつるラミネ
ータで、厚さ３５μｍの銅層を有する絶縁板よフなる浄
化され、予備加熱された基板上にラミネートする。基板
フィルムの除去及び可能な引続く加熱に引続き、マスタ
ーの下で、５ｆｆハロｒン化金属灯に、１１０αの距離
で露光し、１０分の時期時間の後に、例１〜４に詳述し
た現像剤中で現像する。
第２表は、必要である典型的な露光及び現像時間を示し
ている。
ている。
第２表
５ ６ Ｂ １０ ７０６
ｆ Ａ １０ ５０７
ｇ Ａ １０ ８０８ｈ
Ｂ １５７０ Ｃ２ｇ ” １００ ８０これらの例
は、同様に、ナフトキノンジアジド層と比べた新規混合
物の増大した感光性を示している。
ｆ Ａ １０ ５０７
ｇ Ａ １０ ８０８ｈ
Ｂ １５７０ Ｃ２ｇ ” １００ ８０これらの例
は、同様に、ナフトキノンジアジド層と比べた新規混合
物の増大した感光性を示している。
こうして製造したレジストステンシルは、特に銅及びＰ
ｂ／Ｓｂ合金との電気メツキ付着の場合に優れた電気メ
ツキ抵抗を有する。
ｂ／Ｓｂ合金との電気メツキ付着の場合に優れた電気メ
ツキ抵抗を有する。
このように処理された板は引続き、新たに露光及び現像
することができる。この工程で、第１の工程でＰｂ／Ｓ
ｎランドをドリル穴の所で電気メッキし、第２の露光
及び現像工程で導電性回路像はスチール感光性（５ｔｉ
ｌｌ ｌｉｇｈｔ−ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ）レジストステ
ンシルに転写することができる。裸銅をアンモニア性塩
化銅（ｎ）溶液でエツチングすると、銅工学的に回路板
が生じる。即ち、Ｐｂ／８ｎ合金は、引続くはんだ付は
工程で要求される場所だけに付着する。
することができる。この工程で、第１の工程でＰｂ／Ｓ
ｎランドをドリル穴の所で電気メッキし、第２の露光
及び現像工程で導電性回路像はスチール感光性（５ｔｉ
ｌｌ ｌｉｇｈｔ−ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ）レジストステ
ンシルに転写することができる。裸銅をアンモニア性塩
化銅（ｎ）溶液でエツチングすると、銅工学的に回路板
が生じる。即ち、Ｐｂ／８ｎ合金は、引続くはんだ付は
工程で要求される場所だけに付着する。
例９〜１６
高集積のマイクロ電子工学回路要素を製造するために、
コーティング溶液Ｃ及びＤに関する指示に従って次のバ
インダをそこに記載（第３表〕の他の成分と混合する： ｈ） ３−ヒドロキシナフチ−２−イルメタクリレー
トとスチレンとのコポリマー（８６：１４モル％、Ｒ８
Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．２１３ ａｔｌ＆
）、 １）２−ヒドロキシ−６−（２−ヒドロキシ−６−ナフ
チルオキシ）−ゾロビルメタクリレートとスチレンとの
コポリマー（６０：４０モル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホ
ルムアミド中０．３８８ ｄｔ、＃ ）、 ｋ）ピロカテコールモノメタクリレートのホそポリマー
（Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．４６０ ｄｔ
／ｉ ）、 ｔ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレートと６−メ
チルサリチル酸との反応生成物のホモポリマー（Ｒ８Ｖ
値ニジメチルホルムアミド中０．３３９ ｄｔ／９ ）
、 ｍ）ヒドロキノンモノメタクリレートとビフェニル−４
−イルメタクリレートとのコポリマ（９０： １０モル
％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．４７６ ｄ
ｔ／９ ）。
コーティング溶液Ｃ及びＤに関する指示に従って次のバ
インダをそこに記載（第３表〕の他の成分と混合する： ｈ） ３−ヒドロキシナフチ−２−イルメタクリレー
トとスチレンとのコポリマー（８６：１４モル％、Ｒ８
Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．２１３ ａｔｌ＆
）、 １）２−ヒドロキシ−６−（２−ヒドロキシ−６−ナフ
チルオキシ）−ゾロビルメタクリレートとスチレンとの
コポリマー（６０：４０モル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホ
ルムアミド中０．３８８ ｄｔ、＃ ）、 ｋ）ピロカテコールモノメタクリレートのホそポリマー
（Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．４６０ ｄｔ
／ｉ ）、 ｔ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレートと６−メ
チルサリチル酸との反応生成物のホモポリマー（Ｒ８Ｖ
値ニジメチルホルムアミド中０．３３９ ｄｔ／９ ）
、 ｍ）ヒドロキノンモノメタクリレートとビフェニル−４
−イルメタクリレートとのコポリマ（９０： １０モル
％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．４７６ ｄ
ｔ／９ ）。
第６表
例 ポリマー コーティング溶液９
ｈ Ｃ１０ｉ
Ｄ ｌｌ ｋ ｃ１２
Ｌ Ｄ１３
ｍ ｃ孔径０．２岬
を有するフィルター（ｍ１ｌｌｉｐｏｒｅ）を通す濾過
の後に、フォトレジスト溶液を、酸化により０．２μｍ
厚さのｓｉｏ□層を設け、慣用法で研磨した市販のシリ
コンディスク上にホアラーコーティングする。回転速度
の変化により、１厚を約０．９μ７１１〜１．２μｍに
調節する。
ｈ Ｃ１０ｉ
Ｄ ｌｌ ｋ ｃ１２
Ｌ Ｄ１３
ｍ ｃ孔径０．２岬
を有するフィルター（ｍ１ｌｌｉｐｏｒｅ）を通す濾過
の後に、フォトレジスト溶液を、酸化により０．２μｍ
厚さのｓｉｏ□層を設け、慣用法で研磨した市販のシリ
コンディスク上にホアラーコーティングする。回転速度
の変化により、１厚を約０．９μ７１１〜１．２μｍに
調節する。
このようにコーティングされたディスクを９０°Ｃで６
０分間乾燥させる。冷却及び２６°Ｃ及び相対湿度４０
〜５０％の規定雰囲気中でのコンディショニングの後に
、ウェファを市場で入手しつるマスクの下で、接触露光
装置中で約１秒間露光する。
０分間乾燥させる。冷却及び２６°Ｃ及び相対湿度４０
〜５０％の規定雰囲気中でのコンディショニングの後に
、ウェファを市場で入手しつるマスクの下で、接触露光
装置中で約１秒間露光する。
完全脱鉱質水 ９４．４５チ中に溶
かした メタ珪酸ナトリウムｘ ９ Ｈ２Ｏ２−６７Ｔ。
かした メタ珪酸ナトリウムｘ ９ Ｈ２Ｏ２−６７Ｔ。
燐酸三ナトリウムｘ１２Ｈ２０１，７チ燐酸二水素す）
ＩＪウム（無水） ０．１７％よりなる運動現
像液中で、２５℃で、露光するこのバインダの良好なフ
ィルム形成特性に基づき、その付着性及びＮＨ，Ｆ−緩
衝弗化水素酸でのエツチング時の耐エツチング性は明確
に改良される。
ＩＪウム（無水） ０．１７％よりなる運動現
像液中で、２５℃で、露光するこのバインダの良好なフ
ィルム形成特性に基づき、その付着性及びＮＨ，Ｆ−緩
衝弗化水素酸でのエツチング時の耐エツチング性は明確
に改良される。
本発明によジ挙げられている混合物で構成されたパター
ンの解像度は１〜２μｍである。
ンの解像度は１〜２μｍである。
例１４及び１５
電気化学的に粗面化され、陽極酸化され、ポリビニルホ
スホン酸で前処理されたアルミニウム板に、コーティン
グ溶液Ａに相応する厚さ２．５μｍの／ｍｋコーティン
グする。各場合に使用されるバインダは次のとおりであ
る：ｎ）レゾルシノールモノメタクリレ−）、！＝２−
エチルへキシルメタクリレートとのコポリマー（６８：
３２％ル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．４
７８ ｄｔ／Ｉ ）、０）ヒドロキノンモノメタクリレ
ートとへキシルメタクリレートとのコポリマー（７２：
２８そル１ｎｓｖ値ニジメチルホルムアミド中０．４６
１ ｄｔ／ｇ）。
スホン酸で前処理されたアルミニウム板に、コーティン
グ溶液Ａに相応する厚さ２．５μｍの／ｍｋコーティン
グする。各場合に使用されるバインダは次のとおりであ
る：ｎ）レゾルシノールモノメタクリレ−）、！＝２−
エチルへキシルメタクリレートとのコポリマー（６８：
３２％ル％、Ｒ８Ｖ値ニジメチルホルムアミド中０．４
７８ ｄｔ／Ｉ ）、０）ヒドロキノンモノメタクリレ
ートとへキシルメタクリレートとのコポリマー（７２：
２８そル１ｎｓｖ値ニジメチルホルムアミド中０．４６
１ ｄｔ／ｇ）。
これらの層を、アルゴンイオンレーザ−を有する市販の
レーザー発生装置中で、１０ ｍＪ ／ｃＩＩＬ２で画
像に応じて照射する。この層の照射部分を引続き例１〜
４の現像液を用いて９０秒以内に除去する。
レーザー発生装置中で、１０ ｍＪ ／ｃＩＩＬ２で画
像に応じて照射する。この層の照射部分を引続き例１〜
４の現像液を用いて９０秒以内に除去する。
非照射領域に親油性インキでの墨入れの後に、結果とし
て、ナフトキノンジアジド層に比べて良好なコーテイン
グ品質及びインク受理性を有する印刷版が得られる。
て、ナフトキノンジアジド層に比べて良好なコーテイン
グ品質及びインク受理性を有する印刷版が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、主成分としての Ａ）アルカリ水溶液中に可溶であり、フェノール性ヒド
ロキシル側鎖基を有する水に不 溶なポリマー性バインダ及び Ｂ）ａ）化学線の作用下に強酸を形成する化合物及び ｂ）少なくとも１個の酸−分解性Ｃ−Ｏ−Ｃ結合を有し
、現像液中のその溶解性が 酸の作用により増大される化合物 の組合せ を含有し、該バインダは、 I 式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中Ｒは水素又はハロゲン原子、シアニド基又は炭素
原子数１〜４のアルキル基であり、Ｒ＾１、Ｒ＾２及び
Ｒ＾３は同一又は異なるもので、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ア
シル、アリールオキシ、アロイル又はアラルキル基であ
り、Ｒ＾４は水素原子又は、 I 式のもう１つの単位に
分子間又は分子内結合している２価の有機基であり、平
均して I 式の単位の少なくとも８０％内でＲ＾４は水
素原子であり、Ｘは酸素原子又は基ＮＲ＾８、ＯＣＨ＿
２ＣＨＯＨＣＨ＿２ＯＣＯ、ＯＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ及び
ＯＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＣＯ（ここでＲ＾８は水素原子、
アルキル又はアリール基である）の１つを表わし、Ａは
、単環又は２環の炭素環式又はヘテロ環式芳香環系を完
成するのに必要である原子を表わす〕の繰り返し単位の
ポリマーであることを特徴とする、放射線感能性混合物
。 ２、バインダは付加的にII式： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中Ｒ＾５は水素又はハロゲン原子又はアルキル基で
あり、Ｒ＾６はアルキル、アルコキシ、アルコキシカル
ボニル、アシル、アシロキシ、アリール、ホルミル、シ
アニド、カルボキシル、ヒドロキシル又はアミノカルボ
ニル基であり、Ｒ＾７は水素原子又はＲ＾６がカルボニ
ルである場合にＲ＾６に結合して酸無水物を形成するこ
とができるカルボキシル基である〕の単位を有する特許
請求の範囲第１項記載の放射線感能性混合物。 ３、式中のＡはベンゼン環を完成するために必要な炭素
原子を表わす、特許請求の範囲第１項記載の放射線感能
性混合物。 ４、バインダは分子量＠Ｍ＠１０００〜２０００００を
有する、特許請求の範囲第１項記載の 放射線感能性混合物。 ５、バインダは、 I 式の単位２０〜１００モル％を含
有する、特許請求の範囲第１項記載の放射線感能性混合
物。 ６、基板材料及び主成分としての Ａ）アルカリ水溶液中に可溶であり、フェノール性ヒド
ロキシル側鎖基を有する水に不 溶なポリマー性バインダ及び Ｂ）ａ）化学線の作用下に強酸を形成する化合物及び ｂ）少なくとも１個の酸−分解性Ｃ−Ｏ−Ｃ結合を有し
、現像液中の溶解性が酸の 作用により増大される化合物 の組合せ を含有する放射線感能性記録層よりなり、該バインダは
I 式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中Ｒは水素又はハロゲン原子、シアニド基又は炭素
原子数１〜４のアルキル基であり、Ｒ＾１、Ｒ＾２及び
Ｒ＾３は同一又は異なるもので、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ア
シル、アリールオキシ、アロイル又はアラルキル基であ
り、Ｒ＾４は水素原子又は、 I 式のもう１つの単位に
分子間又は分子内結合している２価の有機基であり、平
均して I 式の単位の少なくとも８０モル％内でＲ＾４
は水素原子であり、Ｘは酸素原子又は基ＮＲ＾８、ＯＣ
Ｈ＿２ＣＨＯＨＣＨ＿２ＯＣＯ、ＯＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ
及びＯＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＣＯ（ここでＲ＾８は水素原
子、アルキル又はアリール基である）を表わし、Ａは、
単環又は２環の炭素環式又はヘテロ環式芳香環系を完成
するのに必要である原子を表わす〕の繰り返し単位のポ
リマーであることを特徴とする、放射線感能性記録材料
。 ７、レリーフ像を得るために、基板材料及び主成分とし
ての Ａ）アルカリ水溶液中に可溶であり、フェノール性ヒド
ロキシル側鎖基を有する水に不 溶なポリマー性バインダ及び Ｂ）ａ）化学線の作用下に強酸を形成する化合物及び ｂ）少なくとも１個の酸−分解性Ｃ−Ｏ−Ｃ結合を有し
、現像液中の溶解性が酸の 作用により増大される化合物 の組合せ を含有する放射線感応性記録層よりなり、該バインダは
I 式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中Ｒは水素又はハロゲン原子、シアニド基又は炭素
原子数１〜４のアルキル基であり、Ｒ＾１、Ｒ＾２及び
Ｒ＾３は同一又は異なるもので、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ア
シル、アリールオキシ、アロイル又はアラルキル基であ
り、Ｒ＾４は水素原子又は、 I 式のもう１つの単位に
分子間又は分子内結合している２価の有機基であり、平
均して I 式のもう１つの単位の少なくとも８０モル％
内のＲ＾４は水素原子であり、Ｘは酸素原子又は基ＮＲ
＾８、 ＯＣＨ＿２ＣＨＯＨＣＨ＿２ＯＣＯ、ＯＣＨ＿２ＣＨ＿
２Ｏ及びＯＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＣＯ（ここでＲ＾８は水
素原子、アルキル又はアリール基である）の１つを表わ
し、Ａは、単環又は２環の炭素環式又はヘテロ環式芳香
環系を完成するのに必要である原子を表わす〕の繰り返
し単位のポリマーである、放射線感能性記録材料に、ア
ルカリ現像剤水溶液中の記録材料の溶解度が増大するよ
うな量で画像に応じて化学線を照射し、この層の照射さ
れた部分をアルカリ現像剤水溶液を用いて洗浄すること
を特徴とする、レリーフ像の製法。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04212961A (ja) * | 1990-01-27 | 1992-08-04 | Hoechst Ag | 照射感応性混合物およびこれから製造する照射感応性記録材料 |
| JPH04213459A (ja) * | 1990-02-02 | 1992-08-04 | Hoechst Ag | 照射感応性混合物、その混合物を使用して製造する照射感応性記録材料およびレリーフ複写の製作方法 |
| JP2007033518A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Showa Highpolymer Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0291537B1 (en) * | 1986-11-26 | 1993-09-08 | Mitsubishi Kasei Corporation | Colored image-forming material and process for forming colored image |
| DE3731439A1 (de) * | 1987-09-18 | 1989-03-30 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes kopiermaterial |
| DE3820699A1 (de) * | 1988-06-18 | 1989-12-21 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
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| JP2632066B2 (ja) * | 1990-04-06 | 1997-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ画像の形成方法 |
| US5252427A (en) * | 1990-04-10 | 1993-10-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Positive photoresist compositions |
| US5326674A (en) * | 1991-04-30 | 1994-07-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for processing photosensitive copying materials |
| DE4120172A1 (de) * | 1991-06-19 | 1992-12-24 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch, das als bindemittel neue polymere mit einheiten aus amiden von (alpha),(beta)-ungesaettigten carbonsaeuren enthaelt |
| DE19507618A1 (de) * | 1995-03-04 | 1996-09-05 | Hoechst Ag | Polymere und diese enthaltendes lichtempfindliches Gemisch |
| JP3506817B2 (ja) * | 1995-07-26 | 2004-03-15 | クラリアント インターナショナル リミテッド | 放射線感応性組成物 |
| US7129016B2 (en) * | 2004-11-12 | 2006-10-31 | International Business Machines Corporation | Positive resist containing naphthol functionality |
| JP4697443B2 (ja) * | 2005-09-21 | 2011-06-08 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 |
| DE102009005302B4 (de) * | 2009-01-16 | 2022-01-05 | Sennheiser Electronic Gmbh & Co. Kg | Schutzhelm und Vorrichtung zur aktiven Störschallunterdrückung |
| JP6663677B2 (ja) * | 2015-10-06 | 2020-03-13 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸拡散制御剤 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4711208U (ja) * | 1971-03-08 | 1972-10-11 | ||
| JPS4711210U (ja) * | 1971-03-04 | 1972-10-11 | ||
| JPS5228401A (en) * | 1975-08-29 | 1977-03-03 | Koken Boring Machine Co | Hydraulic percussion device |
| JPS57100427A (en) * | 1980-10-13 | 1982-06-22 | Hoechst Ag | Making of relief copy |
| JPS57111529A (en) * | 1980-10-23 | 1982-07-12 | Hoechst Ag | Photosensitive mixture, photosensitive copying material manufactured from said mixture and manufacture of printing block from said copying material |
| JPS59113435A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-30 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 感光性組成物 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3409589A (en) * | 1964-09-02 | 1968-11-05 | Rohm & Haas | Addition copolymers of alkoxy-substituted phenyl esters of acrylic or methacrylic acid |
| GB1375461A (ja) * | 1972-05-05 | 1974-11-27 | ||
| JPS5136129A (en) * | 1974-09-20 | 1976-03-26 | Konishiroku Photo Ind | Kankoseisoseibutsu |
| JPS51109194A (en) * | 1975-03-05 | 1976-09-27 | Tipton Mfg Co | Gishishono juseisenkaishikikenmahoho |
| US4025710A (en) * | 1975-07-16 | 1977-05-24 | Xerox Corporation | Intrachain charge transfer complexes |
| GB1572441A (en) * | 1975-12-23 | 1980-07-30 | Vickers Ltd | Photopolymerisable polymers with free carboxyl groups and printing plates therefrom |
| JPS56122031A (en) * | 1980-03-01 | 1981-09-25 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Positive type photosensitive resin composition |
| DE3023201A1 (de) * | 1980-06-21 | 1982-01-07 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch |
| JPS57192952A (en) * | 1981-05-25 | 1982-11-27 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Composition of developing solution |
| DE3144480A1 (de) * | 1981-11-09 | 1983-05-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
| DE3151078A1 (de) * | 1981-12-23 | 1983-07-28 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von reliefbildern |
| US4439516A (en) * | 1982-03-15 | 1984-03-27 | Shipley Company Inc. | High temperature positive diazo photoresist processing using polyvinyl phenol |
| DE3329443A1 (de) * | 1983-08-16 | 1985-03-07 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial |
| DE3406927A1 (de) * | 1984-02-25 | 1985-08-29 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren verbindungen |
| DE3442756A1 (de) * | 1984-11-23 | 1986-05-28 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von waermebestaendigen reliefaufzeichnungen |
| DE3504658A1 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
-
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Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4711210U (ja) * | 1971-03-04 | 1972-10-11 | ||
| JPS4711208U (ja) * | 1971-03-08 | 1972-10-11 | ||
| JPS5228401A (en) * | 1975-08-29 | 1977-03-03 | Koken Boring Machine Co | Hydraulic percussion device |
| JPS57100427A (en) * | 1980-10-13 | 1982-06-22 | Hoechst Ag | Making of relief copy |
| JPS57111529A (en) * | 1980-10-23 | 1982-07-12 | Hoechst Ag | Photosensitive mixture, photosensitive copying material manufactured from said mixture and manufacture of printing block from said copying material |
| JPS59113435A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-30 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 感光性組成物 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04212961A (ja) * | 1990-01-27 | 1992-08-04 | Hoechst Ag | 照射感応性混合物およびこれから製造する照射感応性記録材料 |
| JPH04213459A (ja) * | 1990-02-02 | 1992-08-04 | Hoechst Ag | 照射感応性混合物、その混合物を使用して製造する照射感応性記録材料およびレリーフ複写の製作方法 |
| JP2007033518A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Showa Highpolymer Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JP4644857B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2011-03-09 | 昭和電工株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| DE3528929A1 (de) | 1987-02-26 |
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