JPS6238244A - 含酸素有機化合物製造時の触媒液の制御方法 - Google Patents
含酸素有機化合物製造時の触媒液の制御方法Info
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- JPS6238244A JPS6238244A JP60177183A JP17718385A JPS6238244A JP S6238244 A JPS6238244 A JP S6238244A JP 60177183 A JP60177183 A JP 60177183A JP 17718385 A JP17718385 A JP 17718385A JP S6238244 A JPS6238244 A JP S6238244A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、含酸素有機化合物製造時の触媒液の制ff1
1方法に関し、特に触媒液中の水濃度をコントロールす
ることにより、高効率で含酸素有機化合物を合成する方
法に関するものである。
1方法に関し、特に触媒液中の水濃度をコントロールす
ることにより、高効率で含酸素有機化合物を合成する方
法に関するものである。
(従来の技術)
従来、不飽和炭化水素、例えばオレフィン類を酸化する
プロセスとしてはエチレン酸化によるアセトアルデヒド
合成、プロピレン酸化によるアセトン合成、ブテン酸化
によるメチルエチルケトン等が代表例として挙げられる
。いずれも生成物の沸点は100°C以下であるため、
温和な条件で酸化しないと生成物が分解する恐れがある
。したがって多くのプロセスでは、液相で酸化反応が実
施されている。以下代表例としてアセトン製造に関する
プロセスを引用して説明する。
プロセスとしてはエチレン酸化によるアセトアルデヒド
合成、プロピレン酸化によるアセトン合成、ブテン酸化
によるメチルエチルケトン等が代表例として挙げられる
。いずれも生成物の沸点は100°C以下であるため、
温和な条件で酸化しないと生成物が分解する恐れがある
。したがって多くのプロセスでは、液相で酸化反応が実
施されている。以下代表例としてアセトン製造に関する
プロセスを引用して説明する。
アセトンは代表的な脂肪族ケトンであり、アセチルセル
ロース、ニトロセルロース等の溶剤として工業的に多量
に用いられる他、医薬方面でも脂肪、樹脂、ショウノウ
等の溶剤となり、さらに多くの中間製品、たとえばメチ
ルイソブチルケトン、メタクリル酸メチル等の合成原料
となるなど、化学工業において重要な位置を占めている
。
ロース、ニトロセルロース等の溶剤として工業的に多量
に用いられる他、医薬方面でも脂肪、樹脂、ショウノウ
等の溶剤となり、さらに多くの中間製品、たとえばメチ
ルイソブチルケトン、メタクリル酸メチル等の合成原料
となるなど、化学工業において重要な位置を占めている
。
アセトンの工業的な合成法は、(1)イソプロパツール
の脱水素法、(2)クメン法によるフェノールとの併産
法、および(3)プロピレンの酸化法の3つに大別され
る。
の脱水素法、(2)クメン法によるフェノールとの併産
法、および(3)プロピレンの酸化法の3つに大別され
る。
この中で、インプロパツールの脱水素法はZnOまたは
Cu等を脱水素触媒として、300〜500℃、3at
mという苛酷な条件下で操業されているため、選択率は
90%と低い。また、クメン法は常圧、120°Cの液
相でクメンをCu、’CO塩等を触媒として酸素酸化し
、クメンヒドロパーオキシドを合成し、これを60〜6
5℃で0.1〜2%のH2SO4により分解し、フェノ
ールとアセトンを併産するものである。この方法は、強
酸性下での反応であるため、クメンの選択率は90%程
度であり、製品中フェノールが60%、アセトンが40
%を占める。
Cu等を脱水素触媒として、300〜500℃、3at
mという苛酷な条件下で操業されているため、選択率は
90%と低い。また、クメン法は常圧、120°Cの液
相でクメンをCu、’CO塩等を触媒として酸素酸化し
、クメンヒドロパーオキシドを合成し、これを60〜6
5℃で0.1〜2%のH2SO4により分解し、フェノ
ールとアセトンを併産するものである。この方法は、強
酸性下での反応であるため、クメンの選択率は90%程
度であり、製品中フェノールが60%、アセトンが40
%を占める。
またプロピレン酸化法(ワン方法)はプロピレンをP
d Cj! 2 、Cu Cl−2を触媒として液相中
で酸化して製造する方法である。この触媒液では濃度の
高いHC4水溶液を用いるため、耐食性材料の選択が必
要であり、また反応条件は140℃、14a Lmのよ
うに厳しいものとなっている。このような条件のためア
セトンの選択率は92%であり、プロピオンアルデヒド
等の多くの副生物が生成するとされている。
d Cj! 2 、Cu Cl−2を触媒として液相中
で酸化して製造する方法である。この触媒液では濃度の
高いHC4水溶液を用いるため、耐食性材料の選択が必
要であり、また反応条件は140℃、14a Lmのよ
うに厳しいものとなっている。このような条件のためア
セトンの選択率は92%であり、プロピオンアルデヒド
等の多くの副生物が生成するとされている。
これに対して本発明者らは、新しい均一系触媒液を用い
てより温和な条件で、より選択率の高いアセトン合成方
法を提案した(特願昭60−113854等)。この方
法は、代表的な触媒液組成としてCu CE / P
d C(12/スルホラン/PhCN(ベンゾニトリル
)/H20を用い、不飽和炭化水素、例えばプロピレン
をPdC,12で酸化して対応する酸化物(アセトン)
を合成し、一方、還元されたPd (0)をCu CI
! / O□錯体により酸化してPdC7!2を再生す
るものである。
てより温和な条件で、より選択率の高いアセトン合成方
法を提案した(特願昭60−113854等)。この方
法は、代表的な触媒液組成としてCu CE / P
d C(12/スルホラン/PhCN(ベンゾニトリル
)/H20を用い、不飽和炭化水素、例えばプロピレン
をPdC,12で酸化して対応する酸化物(アセトン)
を合成し、一方、還元されたPd (0)をCu CI
! / O□錯体により酸化してPdC7!2を再生す
るものである。
第6図は、上記の新しい触媒液を用いたアセトン合成装
置のフローを示す図である。0□吸収塔1の下部から空
気5が供給され、一方、02吸収塔1の下部からは循環
触媒液15が循環ポンプ11により導入される。ここで
C2錯体触媒液14に吸収された02はC2錯体となり
、塔底から抜き出され、プロピレン6と共にアセトン合
成塔2に入り、プロピレンは触媒液に吸収されてプロピ
レン錯体となる。アセトン合成塔2では、0□錯体、プ
ロピレン錯体、およびプロピレンを酸化する白金属に屈
する遷移金属の混合溶液が存在し、次式に示すようにプ
ロピレンの酸化が行われる。
置のフローを示す図である。0□吸収塔1の下部から空
気5が供給され、一方、02吸収塔1の下部からは循環
触媒液15が循環ポンプ11により導入される。ここで
C2錯体触媒液14に吸収された02はC2錯体となり
、塔底から抜き出され、プロピレン6と共にアセトン合
成塔2に入り、プロピレンは触媒液に吸収されてプロピ
レン錯体となる。アセトン合成塔2では、0□錯体、プ
ロピレン錯体、およびプロピレンを酸化する白金属に屈
する遷移金属の混合溶液が存在し、次式に示すようにプ
ロピレンの酸化が行われる。
C3Ht + 1/20□−c3Hg O合成塔2で生
成したアセトンは触媒液と共にストリッパ3に入り、こ
こで触媒液はりボイラ12により加熱され、生成したア
セトンは蒸気となって塔頂からa縮器13に入り、触媒
液から分離される。同時に未反応プロピレン8も触媒液
から分離され、アセトン合成塔2に循環して再利用され
る。凝縮器13で凝縮した粗アセトンはリフラックス1
0として一部ストリッパ3に戻され、残りはアセトン精
留塔4に送られ、ここでアセトンは精留されて精製アセ
トン7となり、系外に抜出される。なお、図において2
0はメークアップ用の補給水ラインである。
成したアセトンは触媒液と共にストリッパ3に入り、こ
こで触媒液はりボイラ12により加熱され、生成したア
セトンは蒸気となって塔頂からa縮器13に入り、触媒
液から分離される。同時に未反応プロピレン8も触媒液
から分離され、アセトン合成塔2に循環して再利用され
る。凝縮器13で凝縮した粗アセトンはリフラックス1
0として一部ストリッパ3に戻され、残りはアセトン精
留塔4に送られ、ここでアセトンは精留されて精製アセ
トン7となり、系外に抜出される。なお、図において2
0はメークアップ用の補給水ラインである。
(発明が解決しようとする問題点)
このプロセスで循環使用される触媒液は有機溶媒系であ
るため、プロピレンの溶解度が大きく選択率が高い特徴
を持っている。しかし、この触媒液には水が含まれてお
り、02吸収塔1で0□錯体を形成する条件やアセトン
合成塔2の合成条件には重要な役割を持っている。従っ
てこの触媒液を用いてプロピレン等のオレフィンを酸化
するプロセスでは、いかに循環液中の水濃度を制御する
かが大きな課題となっている。
るため、プロピレンの溶解度が大きく選択率が高い特徴
を持っている。しかし、この触媒液には水が含まれてお
り、02吸収塔1で0□錯体を形成する条件やアセトン
合成塔2の合成条件には重要な役割を持っている。従っ
てこの触媒液を用いてプロピレン等のオレフィンを酸化
するプロセスでは、いかに循環液中の水濃度を制御する
かが大きな課題となっている。
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、触媒液
中の水濃度をコントロールすることにより、効率良くオ
レフィン類の酸化物を合成する方法を提供することにあ
る。
中の水濃度をコントロールすることにより、効率良くオ
レフィン類の酸化物を合成する方法を提供することにあ
る。
(問題点を解決するための手段)
要するに本発明は、循環触媒液中の水濃度をストリンパ
のリボイラ温度(またその代替指標)および/または精
留塔のリボイラ温度(またはその代替指標)をコントロ
ールすることにより制御し、最適な0□吸収条件および
/または合成反応条件を維持するようにしたものである
。すなわち、本発明は、金属錯体触媒として、V素と配
位結合することにより酸素錯体を形成し得る錯体(M
m Xn−Ljりと、前記不飽和炭化水素と配位結合し
、該不飽和炭化水素と錯体を形成し得る錯体触媒(M’
m’Xn’ ・L’ l’) とを含む複合錯体およ
び水を含有する触媒液(ここで、Mは周期律第1族、第
IV〜VII族または第1族の鉄族に属する遷移金属、
Xはハロゲン等の陰イオン(Lは有機リン化合物、M′
は周期律第■族の白金族、L′は二I−IJシル類有機
フン素化合物または有機リン化合物、m、m′、n、n
’は、前記遷移金属および陰イオンの原子価により定ま
る数、1,1’は配位数)を酸素吸収塔、合成塔、スト
リンパおよび精留塔に循環させる間に、不飽和炭化水素
を酸素酸化して対応する含酸素有機化合物を得る含酸素
有機化合物の製法において、酸素吸収塔および/または
合成塔にそれぞれ供給される触媒液中の水分濃度を検出
し、該水分濃度が所定値になるようにストリッパおよび
/または精留塔の温度、圧力またはりフラックス量を調
整することを特徴とする。
のリボイラ温度(またその代替指標)および/または精
留塔のリボイラ温度(またはその代替指標)をコントロ
ールすることにより制御し、最適な0□吸収条件および
/または合成反応条件を維持するようにしたものである
。すなわち、本発明は、金属錯体触媒として、V素と配
位結合することにより酸素錯体を形成し得る錯体(M
m Xn−Ljりと、前記不飽和炭化水素と配位結合し
、該不飽和炭化水素と錯体を形成し得る錯体触媒(M’
m’Xn’ ・L’ l’) とを含む複合錯体およ
び水を含有する触媒液(ここで、Mは周期律第1族、第
IV〜VII族または第1族の鉄族に属する遷移金属、
Xはハロゲン等の陰イオン(Lは有機リン化合物、M′
は周期律第■族の白金族、L′は二I−IJシル類有機
フン素化合物または有機リン化合物、m、m′、n、n
’は、前記遷移金属および陰イオンの原子価により定ま
る数、1,1’は配位数)を酸素吸収塔、合成塔、スト
リンパおよび精留塔に循環させる間に、不飽和炭化水素
を酸素酸化して対応する含酸素有機化合物を得る含酸素
有機化合物の製法において、酸素吸収塔および/または
合成塔にそれぞれ供給される触媒液中の水分濃度を検出
し、該水分濃度が所定値になるようにストリッパおよび
/または精留塔の温度、圧力またはりフラックス量を調
整することを特徴とする。
本発明に用いる不飽和炭化水素としては、エチレン、プ
ロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン等の
直鎖状不飽和炭化水素、シクロヘキセン、シクロペンテ
ン等の環状不飽和炭化水素等が挙げられる。
ロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン等の
直鎖状不飽和炭化水素、シクロヘキセン、シクロペンテ
ン等の環状不飽和炭化水素等が挙げられる。
本発明の複合触媒系において酸素錯体を形成し得る錯体
触媒としてのMmXn−Lj!におけるMとしては、周
期律第1族のCu、Ag、第■族のTi、第V族の■、
第■族のMO%第■族のM n %第1族のFe、Co
等の遷移金属が好ましく、Cu (1) 、Ti (
3) 、V (3)がより好ましい。
触媒としてのMmXn−Lj!におけるMとしては、周
期律第1族のCu、Ag、第■族のTi、第V族の■、
第■族のMO%第■族のM n %第1族のFe、Co
等の遷移金属が好ましく、Cu (1) 、Ti (
3) 、V (3)がより好ましい。
また、XとしてはCρ−1B r−1■−のハロゲン、
BF4−− PF(、−、CH3COO−、SO4”
−等の陰イオンが好ましく、Cl −−、B r−1I
−がより好ましい。
BF4−− PF(、−、CH3COO−、SO4”
−等の陰イオンが好ましく、Cl −−、B r−1I
−がより好ましい。
配位孔としては、リン酸の誘導体であるトリフェニルホ
スフィンオキシト、ヘキサメチルホスホルアミドおよび
リン酸とメタノール、エタノール笠の反応からできるモ
ノ、ジ、トリエステル、さらにはメチルホスフィン酸ジ
メチル、ジメチルホスフィン酸メチル、さらに亜リン酸
の誘導体である亜リン酸とメタノール、エタノール等の
反応からできるモノ、ジ、トリエステル、およびフェニ
ル亜ホスホン酸エステル、ジメチルホスフィン酸エステ
ル、トリエチルホスフィン、トリフェニルフォスフイン
等で代表される有機リン化合物が好ましく、特にヘキサ
メチルホスホルアミド(hmpa)が好ましい。
スフィンオキシト、ヘキサメチルホスホルアミドおよび
リン酸とメタノール、エタノール笠の反応からできるモ
ノ、ジ、トリエステル、さらにはメチルホスフィン酸ジ
メチル、ジメチルホスフィン酸メチル、さらに亜リン酸
の誘導体である亜リン酸とメタノール、エタノール等の
反応からできるモノ、ジ、トリエステル、およびフェニ
ル亜ホスホン酸エステル、ジメチルホスフィン酸エステ
ル、トリエチルホスフィン、トリフェニルフォスフイン
等で代表される有機リン化合物が好ましく、特にヘキサ
メチルホスホルアミド(hmpa)が好ましい。
一方、不飽和炭化水素錯体を形成し得る錯体触媒(M’
m’Xn’ −L、’ J’)におけるM′としては、
周期律第■族の白金族に属する遷移金属のうちPd、P
Lが好ましい。配位子L′としては、アセトニトリル、
プロピオニトリル、ベンゾニトリルが挙げられる。
m’Xn’ −L、’ J’)におけるM′としては、
周期律第■族の白金族に属する遷移金属のうちPd、P
Lが好ましい。配位子L′としては、アセトニトリル、
プロピオニトリル、ベンゾニトリルが挙げられる。
なお、反応系の溶媒としては、複合錯体を熔かすととも
に、生成する含酸素有機化合物(例えばアセトン: b
、p、56.5℃/760鶴Hg、MEK:b、p、7
9.5℃/760+uHg)との分離が容易であり、か
つ、触媒溶液の粘度を下げ、物質移動を促進するものが
好ましく、例えば、ヘプタノ、トルエン、メチルシクロ
ヘキサン、ジオキサン、プロピレンカーボネート、クロ
ロベンゼン、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラ
ン、およびエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエー
テル類、ヘキサメチルホスホルアミド(hmp a)等
から選ばれた少なくとも1種の溶媒が用いられるが、さ
らには配位子を溶媒として兼用することもできる。
に、生成する含酸素有機化合物(例えばアセトン: b
、p、56.5℃/760鶴Hg、MEK:b、p、7
9.5℃/760+uHg)との分離が容易であり、か
つ、触媒溶液の粘度を下げ、物質移動を促進するものが
好ましく、例えば、ヘプタノ、トルエン、メチルシクロ
ヘキサン、ジオキサン、プロピレンカーボネート、クロ
ロベンゼン、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラ
ン、およびエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエー
テル類、ヘキサメチルホスホルアミド(hmp a)等
から選ばれた少なくとも1種の溶媒が用いられるが、さ
らには配位子を溶媒として兼用することもできる。
また、反応の選択率および収率を高めるためには、スル
ホラン、ジメチルスルホラン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、トリメチルメタン、ジメチルス
ルホン等の塩基性(電子供与性化合物)を反応系に共存
させることが望ましい。
ホラン、ジメチルスルホラン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、トリメチルメタン、ジメチルス
ルホン等の塩基性(電子供与性化合物)を反応系に共存
させることが望ましい。
以下、本発明をプロピレンからアセトンを合成するプロ
セスを代表例として図面によりさらに詳細に説明する。
セスを代表例として図面によりさらに詳細に説明する。
先ず本発明の基礎となる触媒液中の水濃度についての実
験結果について説明する。
験結果について説明する。
第2図は、触媒液として、Cu C12/ P d C
l 2/ h m p a /スルホラン/PhCN/
水を用いた場合の触媒液の02吸収速度と該触媒液中の
水濃度との関係を示す図である。なお、実験装置として
は、内径50φ、高さ700關のガラス製反応器を用い
た。o22吸収速は水濃度が2mol/1以上では非常
に低い値を示しているが、水濃度がl m o l /
e以下になると急激に向上することがわかる。したが
って、高い0□吸収速度を保持するためには、触媒液中
の水濃度をl m o l / 1以下にする必要があ
る。また、第3図は、ストリッパ温度と循環触媒液中の
水濃度との関係を示すが、ストリッパの温度により水濃
度を制御することが可能であることがわかる。これらの
ことより、循環触媒液中の水濃度を検出し、ストリッパ
の温度をリボイラのスチーム量で制御することにより、
触媒液中の水濃度を1. m o 1 /β以下にし、
02吸収速度を高めることが可能である。
l 2/ h m p a /スルホラン/PhCN/
水を用いた場合の触媒液の02吸収速度と該触媒液中の
水濃度との関係を示す図である。なお、実験装置として
は、内径50φ、高さ700關のガラス製反応器を用い
た。o22吸収速は水濃度が2mol/1以上では非常
に低い値を示しているが、水濃度がl m o l /
e以下になると急激に向上することがわかる。したが
って、高い0□吸収速度を保持するためには、触媒液中
の水濃度をl m o l / 1以下にする必要があ
る。また、第3図は、ストリッパ温度と循環触媒液中の
水濃度との関係を示すが、ストリッパの温度により水濃
度を制御することが可能であることがわかる。これらの
ことより、循環触媒液中の水濃度を検出し、ストリッパ
の温度をリボイラのスチーム量で制御することにより、
触媒液中の水濃度を1. m o 1 /β以下にし、
02吸収速度を高めることが可能である。
次に、アセトン合成速度に対する触媒液中の水濃度の影
響を第4図に示す。アセトン合成速度に対しては、水濃
度は最適範囲があり、2〜5 m 。
響を第4図に示す。アセトン合成速度に対しては、水濃
度は最適範囲があり、2〜5 m 。
1/I!、好ましくは4〜5 m o 17 lに保持
することが重要となる。したがって、アセトン合成塔2
に触媒液を循環させるアセトン精留塔4の出口ライン1
7の温度を精留塔のリボイラ12により制御することに
より、アセトン合成塔2に送り込まれる触媒液中の水濃
度の最適化を図ることができる。
することが重要となる。したがって、アセトン合成塔2
に触媒液を循環させるアセトン精留塔4の出口ライン1
7の温度を精留塔のリボイラ12により制御することに
より、アセトン合成塔2に送り込まれる触媒液中の水濃
度の最適化を図ることができる。
第1図は、上記実験結果をもとに構成した、本発明によ
るアセトン合成法のフローを示す図である。第6図の装
置と異なる点は、ストリッパ3の出口ラインに水濃度検
出器16Aを設け、これにより02吸収塔1に供給され
る循環触媒液15中の水分濃度を検出し、該水分濃度が
所定値になるようにストリッパ3のリボイラ12Aの温
度を制御するようにし、さらにアセトン精留塔4の出口
ラインにも水濃度検出器16Bを設置し、循環水17中
の水分濃度を検出し、該水分濃度が所定値になるように
アセトン精留塔4のリボイラ12Bの温度を制御するよ
うにしたことである。このように02吸収塔1およびア
セトン合成塔2に入る触媒液中の水分濃度をそれぞれス
l−IJツバ3およびアセトン精留塔4のリボイラ12
Aおよび12Bにより最適値に制御することにより、0
□吸収塔1およびアセトン合成塔2の効率をともに向上
させることができる。
るアセトン合成法のフローを示す図である。第6図の装
置と異なる点は、ストリッパ3の出口ラインに水濃度検
出器16Aを設け、これにより02吸収塔1に供給され
る循環触媒液15中の水分濃度を検出し、該水分濃度が
所定値になるようにストリッパ3のリボイラ12Aの温
度を制御するようにし、さらにアセトン精留塔4の出口
ラインにも水濃度検出器16Bを設置し、循環水17中
の水分濃度を検出し、該水分濃度が所定値になるように
アセトン精留塔4のリボイラ12Bの温度を制御するよ
うにしたことである。このように02吸収塔1およびア
セトン合成塔2に入る触媒液中の水分濃度をそれぞれス
l−IJツバ3およびアセトン精留塔4のリボイラ12
Aおよび12Bにより最適値に制御することにより、0
□吸収塔1およびアセトン合成塔2の効率をともに向上
させることができる。
第5図は、第1図に示した本発明の装置と第6図の装置
を用い、それぞれアセトンを合成した場合の経過時間に
対するアセトン合成速度を示すものであ乞。第6図の場
合(B)は、ストリッパおよびアセトン精留塔の温度を
一定にしていたため、0□吸収およびアセトン合成に必
要な最適水濃度にすることができず、アセトン合成速度
は時間の経過と共に低下する。これに対して本発明(第
1図)の場合(A)は、ストリッパおよびアセトン精留
塔の温度を制御し、02吸収塔およびアセトン合成塔に
供給される触媒液の水分温度を最適値に調整したことに
より、長時間、高いアセトン合成速度を維持することが
できる。
を用い、それぞれアセトンを合成した場合の経過時間に
対するアセトン合成速度を示すものであ乞。第6図の場
合(B)は、ストリッパおよびアセトン精留塔の温度を
一定にしていたため、0□吸収およびアセトン合成に必
要な最適水濃度にすることができず、アセトン合成速度
は時間の経過と共に低下する。これに対して本発明(第
1図)の場合(A)は、ストリッパおよびアセトン精留
塔の温度を制御し、02吸収塔およびアセトン合成塔に
供給される触媒液の水分温度を最適値に調整したことに
より、長時間、高いアセトン合成速度を維持することが
できる。
第1図の実施例は、0□吸収塔1およびアセトン合成塔
2の両方に循環させる触媒液中の水分濃度の最適化を図
ったものであるが、02吸収塔1に供給される触媒液の
水分濃度を一定とし、アセトン合成塔2に供給される触
媒液のみを最適化してもよい。
2の両方に循環させる触媒液中の水分濃度の最適化を図
ったものであるが、02吸収塔1に供給される触媒液の
水分濃度を一定とし、アセトン合成塔2に供給される触
媒液のみを最適化してもよい。
また触媒液中の水分濃度は、リポイラ温度の調整により
制御する以外に、ストリッパまたは精留塔の圧力もしく
はりフラックス量によって制御してもよい。
制御する以外に、ストリッパまたは精留塔の圧力もしく
はりフラックス量によって制御してもよい。
本発明は、アセトンの合成以外に、他の不飽和炭化水素
、特に芳香族系化合物の酸化反応に利用することができ
る。
、特に芳香族系化合物の酸化反応に利用することができ
る。
(発明の効果)
本発明によれば、循環触媒液中の水濃度を制御し、最適
な0□吸収条件および合成反応条件に維持してオレフィ
ン類の酸化物を高効率で合成することができる。
な0□吸収条件および合成反応条件に維持してオレフィ
ン類の酸化物を高効率で合成することができる。
第1図は、本発明の一実施例を示すアセトン合成のフロ
ーを示す図、第2図、第3図、第4図および第5図は、
本発明の実験結果を示す図で、第2図は、水濃度と02
吸収速度の関係図、第3図は、温度と水濃度の関係図、
第4図は、水分濃度とアセトン合成速度の関係図、第5
図は運転時間とアセトン合成速度の関係図、第6図は、
比較のために示した、触媒液の水分濃度制御のないアセ
トン合成のフローを示す図である。 1・・・0゜吸収塔、2・・・アセトン合成塔、3・・
・ストリッパ、4・・・アセトン精留塔、5・・・空気
、6・・・プ□ロピレン、7・・・精製アセトン、8・
・・未反応プロピレン、9・・・未反応空気、12A、
12B・・・リボイラ、14・・・0□錯体触媒液、1
5・・・循環触媒液、16A、16B・・・水濃度検出
器、17・・・循環液。 代理人 弁理士 川 北 武 長 第3図 第4図 水分濃度(mol /j) 第6図
ーを示す図、第2図、第3図、第4図および第5図は、
本発明の実験結果を示す図で、第2図は、水濃度と02
吸収速度の関係図、第3図は、温度と水濃度の関係図、
第4図は、水分濃度とアセトン合成速度の関係図、第5
図は運転時間とアセトン合成速度の関係図、第6図は、
比較のために示した、触媒液の水分濃度制御のないアセ
トン合成のフローを示す図である。 1・・・0゜吸収塔、2・・・アセトン合成塔、3・・
・ストリッパ、4・・・アセトン精留塔、5・・・空気
、6・・・プ□ロピレン、7・・・精製アセトン、8・
・・未反応プロピレン、9・・・未反応空気、12A、
12B・・・リボイラ、14・・・0□錯体触媒液、1
5・・・循環触媒液、16A、16B・・・水濃度検出
器、17・・・循環液。 代理人 弁理士 川 北 武 長 第3図 第4図 水分濃度(mol /j) 第6図
Claims (3)
- (1)金属錯体触媒として、酸素と配位結合することに
より酸素錯体を形成し得る錯体(MmXn・Ll)と、
前記不飽和炭化水素と配位結合し、該不飽和炭化水素と
錯体を形成し得る錯体触媒(M′m′Xn′・L′l′
)とを含む複合錯体および水を含有する触媒液(ここで
、Mは周期律第 I 族、第IV〜VII族または第VIII族の鉄
族に属する遷移金属、Xはハロゲン等の陰イオン、Lは
有機リン化合物、M′は周期律第VIII族の白金族、L′
はニトリル類、有機フッ素化合物または有機リン化合物
、m、m′、n、n′は、前記遷移金属および陰イオン
の原子価により定まる数、l、l′は配位数)を酸素吸
収塔、合成塔、ストリッパおよび精留塔に循環させる間
に、不飽和炭化水素を酸素酸化して対応する含酸素有機
化合物を得る含酸素有機化合物の製法において、酸素吸
収塔および/または合成塔にそれぞれ供給される触媒液
中の水分濃度を検出し、該水分濃度が所定値になるよう
にストリッパおよび/または精留塔の温度、圧力または
リフラックス量を調整することを特徴とする含酸素有機
化合物製造時の触媒液の制御方法。 - (2)特許請求の範囲第1項において、酸素吸収塔へ循
環する触媒液中の水分濃度を1mol/l以下、合成塔
へ循環する触媒液中の水分濃度を2〜6mol/lに調
整することを特徴とする含酸素有機化合物製造時の触媒
液の制御方法。 - (3)特許請求の範囲第1項において、前記不飽和炭化
水素は、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘ
キサン、オクテン、シクロヘキセンおよびシクロペンテ
ンから選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする
含酸素有機化合物製造時の触媒液の制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60177183A JPS6238244A (ja) | 1985-08-12 | 1985-08-12 | 含酸素有機化合物製造時の触媒液の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60177183A JPS6238244A (ja) | 1985-08-12 | 1985-08-12 | 含酸素有機化合物製造時の触媒液の制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6238244A true JPS6238244A (ja) | 1987-02-19 |
Family
ID=16026629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60177183A Pending JPS6238244A (ja) | 1985-08-12 | 1985-08-12 | 含酸素有機化合物製造時の触媒液の制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6238244A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013249309A (ja) * | 2007-02-14 | 2013-12-12 | Saudi Basic Industries Corp | イソブテンの部分酸化による気相生成物においてメタクリル酸からメタクロレインを分離する方法 |
-
1985
- 1985-08-12 JP JP60177183A patent/JPS6238244A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013249309A (ja) * | 2007-02-14 | 2013-12-12 | Saudi Basic Industries Corp | イソブテンの部分酸化による気相生成物においてメタクリル酸からメタクロレインを分離する方法 |
JP2016145251A (ja) * | 2007-02-14 | 2016-08-12 | サウディ ベーシック インダストリーズ コーポレイション | イソブテンの部分酸化による気相生成物においてメタクリル酸からメタクロレインを分離する方法 |
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