JPS6233527A - 排ガス処理方法 - Google Patents

排ガス処理方法

Info

Publication number
JPS6233527A
JPS6233527A JP60172072A JP17207285A JPS6233527A JP S6233527 A JPS6233527 A JP S6233527A JP 60172072 A JP60172072 A JP 60172072A JP 17207285 A JP17207285 A JP 17207285A JP S6233527 A JPS6233527 A JP S6233527A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
catalyst
zone
exhaust gas
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60172072A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Tanaka
俊夫 田中
Yasuaki Nagashima
長島 康明
Masato Kadoya
角屋 正人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinryo Air Conditioning Co Ltd
Original Assignee
Shinryo Air Conditioning Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinryo Air Conditioning Co Ltd filed Critical Shinryo Air Conditioning Co Ltd
Priority to JP60172072A priority Critical patent/JPS6233527A/ja
Priority to US06/859,344 priority patent/US4780277A/en
Priority to GB8611223A priority patent/GB2177020B/en
Priority to FR868606706A priority patent/FR2581565B1/fr
Priority to DE19863615670 priority patent/DE3615670A1/de
Publication of JPS6233527A publication Critical patent/JPS6233527A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は工場等にて発生る、排ガスの処理方法に関し、
さらに詳しくは排ガス中の有害成分の接触酸化処理法に
関る、。
従来技術とその問題点 従来、排ガス中の被処理成分の緒特性により種々の排ガ
ス処理法が提案されかつ実施されている。
下水処理場等にて発生る、硫化水素、メルカプタン等を
含む空気は吸収法、吸着法、酸化法あるいはマスキング
法等により処理されている。このなかでも、i金−アル
ミナ触媒を用いる接触酸化法は除去効率が高いため好適
な処理法と言われている。
石油化学工場あるいは印刷工場等において発生る、有機
溶剤含有ガスは、有機溶剤濃度が数パーセントと高い場
合は活性炭吸着−水蒸気再生による有機溶剤の回収が行
なわれているが、この濃度が数百ppmと低い場合には
接触酸化処理が行なわれている。
また、ボイラー等から発生る、亜硫酸ガス含有排ガスは
、炭酸カルシウムを用いた湿式吸収法にかわって、バナ
ジウム触媒等を用いた接触酸化により硫酸を回収る、方
法が提案されている。
このように排ガス処理法として接触酸化法が採用されつ
つある。接触酸化法は直接酸化法と比較して反応温度を
低下できるという利点はあるが、それでも200ないし
400°C程度に反応温度を維持しなければならない。
このため、被処理ガスの加温に必要なエネルギーコスト
が嵩むのみならず、触媒寿命にも悪影響を及ぼし、この
ため従来の接触酸化法における触媒寿命は1ないし2年
程度と言われている。
発明の目的 本発明は前記従来技術の欠点を解消る、ものであって、
常温、常圧でもって排ガスの接触酸化を行う方法を提供
る、ことを目的とる、。
発明の要点 本発明は排ガス中に含まれる有害成分の酸化処理方法に
おいて 排ガスを放電帯域に導入してプラズマ含有ガス
を形成し、次いでこのプラズマ含有ガスを触媒反応帯域
に導いて常温で前記有害成分の接触酸化反応を起させる
ことからなる、排ガス処理方法である。
発明の好ましい態様 添付る、第1図を参照しつつ、本発明の詳細な説明る、
。図は本発明の方法を示す概略系統図であり、主として
放電帯域1と触媒反応帯域2とからなる。
排ガスはライン3を経て放電帯域1に流入し、ここで排
ガス中での放電により後記る、プラズマが形成される。
プラズマ含有ガスは次いで触媒反応帯域に流入し、ここ
で排ガス中の有害成分は接触酸化され、酸化生成物はガ
スとして系外にライン4から排出される。
本発明の方法によれば、従来接触酸化処理されてきたあ
らゆる排ガスの処理が可能である。本発明の方法により
処理できる排ガスは、硫化水素。
メチルメルカプタン等のメルカプタン類、アンモニア、
およびトリメチルアミン等のアミン類などの悪臭成分;
ベンゼン、キシレン、トルエン、ブチルセロソルブ、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノー
ル、インアミルアルコール、フェノール、イソプロピル
アルコール、トリクロルエチレン、アセトン、テトラク
ロルエチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、
ノルマルヘキサンなどの有機溶剤;および、酸化窒素類
(NOx)、酸化硫黄類(SOx)、−酸化炭素(Co
)などのガス状無機酸化物;を含む排ガスである。
上記の成分(以下、「有害成分」という)を含む排ガス
を放電帯域1に導入る、。この帯域には尖端が相対向る
、電極5が所定の間隔でもって配置されている。これら
の電極には電源6から所定交流または直流の電圧が印加
されている。
放電帯域1において好適に用いることのできる放電装置
を第2図に示す。この放電装置は、電圧が印加されかつ
相対向る、ように配置された印加電極21と、前記両印
加電極21の放電部を結ぶ線上に位置しかつこれら電極
の間にこれら電極から開票をもって配置された中間電極
22とからなる。電極支持枠24には左側および右側に
それぞれ印加電極21が4本づつ並列に配置されて℃・
る。
同一水平面上に位置る、印加電極21はその尖端部が対
向る、ように配置され、これら尖端部を結ぶ線上には中
間電極22を設置る、とともに、印加電極21と中間電
極22並びに各中間電極22は所定の間隔をおいて隔て
られている。
印加電極21は好ましくは針状電極であるが、その地平
板電極、棒状電極をも用いることができる。針状電極で
は尖端部を、平板電極では端部な、棒状電極では長さ方
向を互いに対向して配置る、。
印加電極2°1の材料は鉄、アルミニウム、タングステ
ンなど従来周知の導電性材料を用いることができる。
中間電極22も前記と同様に種々の形状、材料を用いる
ことができるが、好ましくは針状電極である。この中間
電極により各放電ギャップにおいて均等に放電させるこ
とができる。ここで放電ギャップ長とは、左側の印加電
極21の尖端から右側の印加電極21の尖端までの長さ
から中間電極22の長さを引いた値である。すなわち、
放電ギャップ長lは、 1=l、十12+i。
(式中、11.、 /2. #、はそれぞれ図に示す通
り電極間の距離を示す)である。従来の装置においては
両印加電極間の長さがlに相当る、が、本発明に係る装
置においてはlを中間電極22を介在させて分割る、。
図においてはeは三分されている。
一般的に言えば同一水平線上に位置る、中間電極の数を
nとすれば、lはn+1に分割される。孔。
lt、 X、は等距離であっても異なっていてもよい。
しかしながら1.=l、=l、のときに最も安定しかつ
均一な放電が形成される。中間電極22の長さは適宜選
定できる。中間電極22は支持枠24に左右に移動可能
な状態にして、l、、 12.13の微調整を行うよう
にできるのが好ましい。
放電帯域1にて形成る、放電形式はコロナ放電あるいは
グロー放電であるが、好ましくはグロー放電である。グ
ロー放電とは、火花放電からアーク放電に移るまでの安
定した自続放電である。放電条件としては、例えば電界
の強さ数千ないし数万ボルト/cIrL1放電電流数鮎
ないし数十蝋程度である。印加電圧は直流負電圧が好ま
し℃・。放電帯域lにおいて、有害成分のグラズマ化に
十分な時間排ガスを滞留させる。放電帯域にて必要な空
塔速度(SV)は約1000ないし約60,000hr
−1である。
放電帯域1にて形成したプラズマを含有る、排ガスを触
媒反応帯域2に導入し、有害成分を常温で接触酸化させ
る。本発明において用いることのできる触媒は、合成ゼ
オライトおよびシリカ−アルミナ触媒などの固体酸触媒
、活性炭、あるいは鉛、銅、亜鉛、ニッケルなどの金属
担持触媒などである。活性炭は特にSOxの処理に好適
に用いられ、この活性炭は酸化生成物である硫酸の吸着
剤としても機能る、。イオン化した有害成分は触媒表面
上で排ガス中の酸素(これもイオン化されていると考え
られる)と反応し酸化生成物が形成される。
以上の説明においては排ガス中の主成分が空気などの酸
素含有ガスを用いた場合について説明してきたが、排ガ
ス中に酸素が含まれていない場合は、排ガスに酸素ある
いはオゾンを添加してから放電帯域に導入る、こともで
きる。特に有害成分が高濃度の場合あるいは有害成分の
接触酸化反応が遅い場合には、オゾンを好適に用いるこ
とかできる。
作    用 本発明の作用・原理は十分には解明されていないが、S
02の処理を例として説明る、と次の反応が進行る、も
のと考えられる。
1)  So、含有空気は放電帯域においてグロー放電
電場あるいはコロナ放電電場からエネルギーを受けて各
成分は励起してプラズマを形成る、: S01工≧SO2”W)→802”(a)Ot    
 O2”C9)→O□′(α)ここで記号(!i’)は
気体を意味し、記号(α)は吸着されていることを示す
2)このプラズマを触媒反応帯域に導入る、と、励起分
子である5CX5+)、 o2”η)は反応性に富むた
め、触媒表面上で常温で以下の反応が進む: SO2”(α)+−0□*(α)→S0゜生成したSO
3は空気中の水分と反応して硫酸となり触媒表面上に吸
着される。
本発明によれば、接触反応を常温で行うことができるた
め、従来の被処理ガスの加温に要る、エネルギーコスト
を削減できる。また、触媒反応帯域が常温であるため触
媒が劣化し難く、触媒寿命を飛躍的に増大できるという
利点もある。また、従来法において貴金属である白金触
媒を用いていたため経済的に不利であったが、本発明に
おいてはゼオライトあるいはシリカ−アルミナ触媒など
の非貴金属触媒をmmいることができるためイニシャル
コストの大幅な低下を図ることができる。
さらに本発明によれば、放電帯域における放電電力の簡
単な制御により、排ガス中の有害成分の大幅な濃度変動
に対してすみやかに応答できるという利点もある。
実施例1 本例においては量02含有空気の処理を行った。
SO2700ppmを含み絶対湿度0.005 kg/
kg’ ノ空気271/mjn  を第1図に示す方法
により以下の条件で処理した。
放電条件: 印加電圧ニー9kv(直流) 放電電流:200μA コロナ放電を形成 触媒反応条件: 触 媒 :活性炭 S  V  : 36.ODD hr−1温度=25°
C その結果、流出空気中のSO2濃度は466 Ppmで
あり30w除去率は33.3%  であった。
一方、放電を行わなかったことを除き上記と同様に処理
した結果、流出空気中のSO2濃度は576ppmであ
りS02除去率は18.1%であった。
本例においてはトルエンおよびプチルセロンルブを含む
空気の処理について検討した。実験条件および結果を以
下に示す。
放電条件: 処理流fa: : 10 m/ h 印加電圧: −10kv(直流) 放電電流:2mA グロー放電を形成 触媒反応条件: 触媒:モレキュラーシープス1ろX (リンデ社の商品名) S  V  : 55,000 hr 湿温度25°C 実施例4および比較例4αおよび4b 本tHJ&cおいてはメチルメルカプタンの処理につい
て検討した。実験条件および結果を以下に示す。
放電条件: 処理流量=5ぜ/h 印加電圧ニー10kv(直流) 放電電流:1.8mA 触媒反応条件: 触 媒 :モレキュラーシージス13X(リンデ社の商
品名) S  V  : 55,000 hr”温度:25℃
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法を示す概略系統図であり、第2図
は放電帯域にて使用できる放電装置の構成図である。 1・・・放電帯域     2・・・触媒反応帯域21
・・・印加電極    22・・・中間電極特許出願人
 新菱冷熱工業株式会社 (外5名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)排ガス中に含まれる有害成分の酸化処理方法におい
    て、排ガスを放電帯域に導入してプラズマ含有ガスを形
    成し、次いでこのプラズマ含有ガスを触媒反応帯域に導
    いて常温で前記有害成分の接触酸化反応を起させること
    からなる、排ガス処理方法。 2)前記有害成分は、悪臭成分、有機溶剤あるいはガス
    状無機酸化物である、特許請求の範囲第1項記載の方法
    。 3)前記悪臭成分はメルカプタン、硫化水素、アンモニ
    ア、およびトリメチルアミンからなる群から選ばれる少
    なくとも1種類の成分である、特許請求の範囲第2項記
    載の方法。 4)前記有機溶剤はベンゼン、トルエン、キシレン、ブ
    チルセロソルブ、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
    ルケトンからなる群から選ばれる少なくとも1種類の成
    分である、特許請求の範囲第2項記載の方法。 5)前記ガス状無機酸化物は、NO_x、SO_xおよ
    びCOからなる群から選ばれる少なくとも1種類の成分
    である、特許請求の範囲第2項記載の方法。 6)前記放電帯域にてグロー放電あるいはコロナ放電を
    形成する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 7)前記触媒反応帯域にて用いる触媒は、ゼオライト;
    シリカ−アルミナ触媒;活性炭;および、鉛、亜鉛、銅
    またはニッケル担持触媒;からなる群から選ばれる、特
    許請求の範囲第1項記載の方法。 8)前記排ガスにオゾンを添加する、特許請求の範囲第
    1項記載の方法。
JP60172072A 1985-05-10 1985-08-05 排ガス処理方法 Pending JPS6233527A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60172072A JPS6233527A (ja) 1985-08-05 1985-08-05 排ガス処理方法
US06/859,344 US4780277A (en) 1985-05-10 1986-05-05 Method and apparatus for subjecting gases to discharge treatment
GB8611223A GB2177020B (en) 1985-05-10 1986-05-08 Method and apparatus for sterilizing a gas containing microorganisms
FR868606706A FR2581565B1 (fr) 1985-05-10 1986-05-09 Procede et appareil pour le traitement de gaz par decharge electrique
DE19863615670 DE3615670A1 (de) 1985-05-10 1986-05-09 Verfahren und vorrichtung zur behandlung von gasen mittels entladung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60172072A JPS6233527A (ja) 1985-08-05 1985-08-05 排ガス処理方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6233527A true JPS6233527A (ja) 1987-02-13

Family

ID=15935020

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60172072A Pending JPS6233527A (ja) 1985-05-10 1985-08-05 排ガス処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6233527A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01100419A (ja) * 1987-09-17 1989-04-18 Sperry Marine Inc 180xおよび90xコンパスシンクロデータのためのステップデータ変換装置
JPH01212314A (ja) * 1988-02-19 1989-08-25 Mitsutoyo Corp インクリメント型測定装置の信号処理回路
JPH01126567U (ja) * 1988-02-19 1989-08-29
JPH02131116A (ja) * 1988-11-10 1990-05-18 Agency Of Ind Science & Technol 有機ハロゲン化合物の分解方法
US5474747A (en) * 1992-11-27 1995-12-12 Fujitsu Ltd. Gas purifier using plasma and catalyst
KR20020003890A (ko) * 2000-06-21 2002-01-16 황해웅 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스처리방법
KR20020005185A (ko) * 2000-06-21 2002-01-17 황해웅 알칼리 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스처리방법
CN113877607A (zh) * 2021-09-13 2022-01-04 浙江师范大学 一种固体酸负载铂的低碳烷烃氧化催化剂、制备方法及其应用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5845718A (ja) * 1981-09-10 1983-03-17 Shin Meiwa Ind Co Ltd 排ガス処理装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5845718A (ja) * 1981-09-10 1983-03-17 Shin Meiwa Ind Co Ltd 排ガス処理装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01100419A (ja) * 1987-09-17 1989-04-18 Sperry Marine Inc 180xおよび90xコンパスシンクロデータのためのステップデータ変換装置
JPH01212314A (ja) * 1988-02-19 1989-08-25 Mitsutoyo Corp インクリメント型測定装置の信号処理回路
JPH01126567U (ja) * 1988-02-19 1989-08-29
JPH02131116A (ja) * 1988-11-10 1990-05-18 Agency Of Ind Science & Technol 有機ハロゲン化合物の分解方法
US5474747A (en) * 1992-11-27 1995-12-12 Fujitsu Ltd. Gas purifier using plasma and catalyst
KR20020003890A (ko) * 2000-06-21 2002-01-16 황해웅 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스처리방법
KR20020005185A (ko) * 2000-06-21 2002-01-17 황해웅 알칼리 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스처리방법
CN113877607A (zh) * 2021-09-13 2022-01-04 浙江师范大学 一种固体酸负载铂的低碳烷烃氧化催化剂、制备方法及其应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Vercammen et al. Non-thermal plasma techniques for the reduction of volatile organic compounds in air streams: A critical review
JPS6233527A (ja) 排ガス処理方法
JP4411432B2 (ja) 低温プラズマを用いる排ガスの浄化方法及びその浄化装置
CN109414647B (zh) 一种用于低温气体清洁的方法和用于该方法的催化剂
US4925639A (en) Removal of nitric oxide from waste gases and recovery as nitric acid
US20010038813A1 (en) Method for removing nitrogen oxides from an oxygen-containing flue gas stream
US6395144B1 (en) Method for treating toxic compounds-containing gas by non-thermal plasma
KR101817907B1 (ko) 유해 및 악취가스 제거장치
JP2000117049A (ja) 窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置
JPS62106824A (ja) 排ガス処理方法
JPH04171022A (ja) 排ガスの清浄化方法
JP2001162134A (ja) 排気ガス浄化法及び排気ガス浄化装置
SU1271554A1 (ru) Способ очистки газов от вредных газообразных примесей
JPH11114351A (ja) 非熱プラズマによる脱着・再生方法及びその装置
WO2016034153A2 (zh) 采用电浆的废气处理装置
KR102059265B1 (ko) 반도체 제조 공정으로부터 오염물질 처리 장치
JPH0699030A (ja) 低濃度no含有ガスの脱硝方法
JPS63126525A (ja) 脱臭装置
CN1275425A (zh) 一种含nox废气的净化方法
JP4828056B2 (ja) 還元装置および脱硝装置
KR100347649B1 (ko) 플라즈마반응을이용한배가스의집진효율향상방법
RU2057062C1 (ru) Способ производства серной кислоты
KR100402021B1 (ko) 촉매와 플라즈마를 이용한 배가스 처리장치
ATE434476T1 (de) Katalytisches schwefelrückgewinnungssystem mit kurzer verweilzeit zur entfernung von h2s aus einem abgasstrom
CN1332030A (zh) 一种从气流中去除NOx的方法