JPS6233395A - ジョセフソン記憶回路 - Google Patents

ジョセフソン記憶回路

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JPS6233395A
JPS6233395A JP60172519A JP17251985A JPS6233395A JP S6233395 A JPS6233395 A JP S6233395A JP 60172519 A JP60172519 A JP 60172519A JP 17251985 A JP17251985 A JP 17251985A JP S6233395 A JPS6233395 A JP S6233395A
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Shuichi Tawara
修一 田原
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Agency of Industrial Science and Technology
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はジョセフソン記憶回路、より詳しくはジョセフ
ソン効果を用いた非破壊読み出しランダムアクセスメモ
リに関する。
(従来技術とその問題点) る。ジョセフソン記憶回路では、ジョセフソン素子を含
む超伝導ループに貯えられた1個ないしは数個の磁束量
子Φ。を記憶媒体とする。記憶された情報は超伝導電流
により保存され情報保持のためのエネルギーを必要とし
ないという利点を持つ。該記憶回路を高速化するために
、記憶ループ内に貯えられる磁束量子の数をできるだけ
小さくする事が必要である。さらに配線インダクタンス
を減らすため回路を小型化する事が望ましい。回路の小
型化は、プロセス上、歩留まりの向上という点からも重
要である。
第10図はジョセフソンゲート回路を用いたジョセフソ
ン記憶回路の従来例を説明するための図である。図中7
1.72は、それぞれ3個、2個のジョセフソン接合と
インダクタンスよりなるジョセフソンゲート回路でそれ
ぞれ3接合インターフェロメター・ゲート、2接合イン
ター7エロメター・ゲートと呼ばれる。73.74は超
伝導線路、75はワード線、76はビット線、77は補
助のワード線、78はセンス線、79は発振防止用のダ
ンピング抵抗である。第11図い値特性である。第11
図(a)において、81.82はジョセフソン接合、8
3はインダクタンス、84はゲート電流路、85は該イ
ンダクタンスと電磁的に結合する入力線である。第11
図の2接合インターフェロメター・ゲートにおいてはジ
ョセフソン接合81.82の臨界電流値は同一値Ioに
設定される。第12図(a)において91.92.93
はそれぞれ臨界電流値Io、 2Io、 Ioのジョセ
フソン接合94.95は同一のインダクタンス値りをも
つインダクタンス、96はゲート電流路、97゜98は
該インダクタンスと電磁的に結合する入゛力線である。
第11図(b)、第12図(b)のしきい値特性におパ
いて横軸は入力電流、縦軸はゲート電流を、また斜線部
は該ゲート回路が電圧状態にある事を示す。
本記憶回路に2進数NO9+ 41111を書き込み、
また読み出す動作の詳細については文献アイ・イー・イ
ー・イージャーナル・オプ・ソリッド・ステート・サー
キット誌(IEEE Journal of 5oli
d 5tate C1rcuits)Vol、5C−1
4(5)pp、794〜796に述べられているのでこ
こではその概略につき述べるにとどめる。
2進数の”1″を書き込むにはワード線75、補助のる
。この後、先にビット線76、補助のワード線77の電
流を切り、その後ワード線75の電流を切ると、該記憶
回路内に時計回りの向きの循環電流が該記憶回路内の循
環電流の有無を2進数110t+ 11151に対応さ
せる。
読み出しを行うにはワード線75、センス線78に電流
を流す。′″1″1″状態込まれている記憶回路ではワ
ード線75より注入される電流が循環電流に重畳される
ので、2接合インターフェロメター・ゲート72が電圧
状態にスイッチし、N1jl状態が読み出せる。″′0
″状態が書き込まれている記憶回路では循環電流が流れ
ていないので、インターフェロメタ−・ゲート72はス
イッチせず、″′0″状態が読み出せる。
本ジョセフソン記憶回路では高速のスイッチング特性を
有するインターフェロメタ−・ゲートを用いるので、高
速の動作が可能、書き込まれている内容を保持するのに
電力を要しない、非破壊読み出しが可能等の長所をもつ
。しかしながら、本記憶回路は、超伝導線路74が2接
合インターフェロメター・ゲート72と電磁的に結合す
るような配置となるため、超伝導線路74のインダクタ
ンス値を小さくする事が難しく、記憶情報となる磁束量
子の数を小さくする事が困難である。そのため高速化の
定せねばならず、高速化、低消費電力化をならって臨界
電流値Ioを下げようとすると、Lが大きくなり、集積
回路チップ上に大きな面積を要するという欠点を有する
。さらに本記憶回路をアレイ状に配列した場合、半選択
状態の記憶回路が存在する。即ち、書き込みの時、ビッ
ト線76もしくは補助のワード線77いずれかに電流が
流れている状態、また読み出しの時ワード線75の電流
もしくは循環電流のいずれかが流れでいる状態が存在す
る。この事は、インターフェロメタ−・ゲート71゜7
2が2人力ANDゲートとして動作する事を意味してお
り、各インター7エロメター、ゲートが持つ本来の動作
マージン全体を使う事ができず動作マージンの低下を招
いている。例えば3接合インターフェロメター・ゲート
においてL=2.07pH,Io=0.1mA k選び
、ワード線75、ビット線76、補助のワード線77そ
れぞれに流れる電流の動作マージンを等しくとるとした
時、書き込みの動作マージンは約±27%である。(た
だし、各パラメータの製造時におけるバラツキは無視し
た。)さらに上述した如く、+1191の書き込みに対
しワード線75に流れる電流よりもビット線76、補助
のワード線77に流れる電流を先に切らねばならず、そ
のタイミングの安全性を確保する必要から高速動作に対
する制限となる。
(発明の目的) 本発明の目的はかかる欠点を除去し、高速、高集積化の
可能な非破壊読み出し記憶回路を提供する事である。
(発明の構成) 本発明によれば、第1の超伝導線路と、第1のジョセフ
ソン接合を含む第2の超伝導線路とを接続して第1のル
ープとなし、該第1のループと第3の超伝導線路を直列
接続して直列線路となし、該直列線路と、第2のジョセ
フソン接合を含む第4の超伝導線路とを並列に接続して
第2のループとなし、該第2のループの第1の接続点に
はワード線電流の流入端子、該第1の接続点にはワード
線電流の流出端子を設け、前記第3及び第4の超伝導線
路と電磁的結合を生じるようにビット線を配置し、該第
2の超伝導線路の両者と、または前記第1の超伝導線路
と電磁的結合を生じるように配置されたジョセフソン接
合を用いたゲート向路を含む、 センス線を設けた事を特徴とするジョセフソン記憶回路
が、および第1の超伝導線路と、第1のジョセフソン接
合を含む第2の超伝導線路とを接続して第1のループと
なし、該第1のループと第3の超伝導線路を直列接続し
て直列線路となし、該直列線路と、第2のジョセフソン
接合を含む第4の超伝導線路とを並列に接続して第2の
ループとなし、該第2のループの第1の接続点にはワー
ド線電流の流入端子、該第1の接続点にはワード線電流
の流出端子を設け、前記第3及び第4の超伝導線路と電
磁的結合を生じるようにビット線及び第5の超伝導線路
を配置し、該第2の超伝導線路の両者と、または前記第
1の超伝導線路と電磁的結合を生じるように配置された
ジョセフソン接合を用いたゲート回路を含む、センス線
を設けた事を特徴とするジョセフソン記憶回路が、およ
び第1の超伝導線路と、第1のジョセフソン接合を含む
第2の超伝導線路とを接続して第1のループとなし、該
第1のループと第3の超伝導線路を直列接続して直列線
路となし、該直列線路と、第2のジョセフソン接合を含
む第4の超伝導線路とを並列に接続して第2のループと
なし、該第2のループの第1の接続点にはワード線電流
の流入端子、該第1の接続点にはワード線電流の流出端
子を設け、前記第3及び第4の超伝導線路と電磁的結合
を生じるようにビット線を配置し、該第2の超伝導線路
の両者と、または前記第1の超伝導線路と電磁的結合を
生じるように配置、かつ第5の超伝導線路と電磁的結合
を生じるように配置されたジョセフソン接合を用いたゲ
ート回路を含む、センス線を設けた事を該第1のループ
と第3の超伝導線路を直列接続して直列線路となし、該
直列線路と、第2のジョセフソン接合を含む第4の超伝
導線路とを並列に接続して第2のループとなし、該第2
のループの第1の接続点にはワード線電流の流入端子、
該第1の接続点にはワード線電流の流出端子を設け、前
記第3及び第4の超伝導線路と電磁的結5合を生じるよ
うにビット線及び第7の超伝導線路を配置し、該第2の
超伝導線路の両者と、または前記第1の超伝導線路と電
磁的結合を生じるように配置され、かつ第8の超伝導線
路と電磁的結合を生じるように配置されたジョセフソン
接合を用σまたゲート回路を含む、センス線を設けた事
を特徴とするジョセフソン記憶回路が、および第1の超
伝導線路と、第1のジョセフソン接合を含む第2の超伝
導線路とを接続して第1のループとなし、該第1のルー
プと第3の超伝導線路を直列接続して直列線路となし、
該直列線路と、第2のジョセフソン接合を含む第4の超
伝導線路とを並列に接続して第2のループとなし、該第
2のループの第1の接続点にはワード線電流の流入端子
、該第1の接続点にはワード線電流の流入端子を設け、
前記第3及び第4の超伝導線路と電磁的結合を生じるよ
うにビット線を配置し、該第2の超伝導線路の両者と、
または前記第1の超伝導線路と電磁的結合を生じるよう
に配置され、かつ前記ビット線と電磁的結合を生じるよ
うに配置されたジョセフソン接合を用いたゲート回路を
含む、センス線を設けた事を特徴とするジョセフソン記
憶回路が、および第1の超伝導線路と、セフソン記憶回
路が、および第1の超伝導線路と、第1のジョセフソン
接合を含む第2の超伝導線路とを接続して第1のループ
となし、該第1のループと第3の超伝導線路を直列接続
して直列線路となし、該直列線路と、第2のジョセフソ
ン接合を含む第4の超伝導線路とを並列に接続して第2
のループとなし、該第2のループの第1の接続点にはワ
ード線電流の流入端子、該第1の接続点にはワード線電
流の流出端子を設け、前記第3及び第4の超伝導線路と
電磁的結合を生じるようにビット線及び第9の超伝導線
路を配置し、該第2の超伝導線路の両者と、または前記
第1の超伝導線路と電磁的結合を生じるように配置され
、かつ前記ビット線もしくは第5の超伝導線路と電磁的
結合を生じるように配置されたジョセフソン接合を用い
たゲート回路を含む、センス線を設けた事を特徴とする
ジョセフソン記憶回路が得られる。
7、: 1′;(発明の構成の詳細な説明) 1j°: 二1 本記憶回路は、ジョセフソン接合とインダクタ二
! ンスよりなる二つのループA、Bにより、情報を記憶す
る部分を構成する。書き込みの時にはワード線、と・2
)線に電流を流し、2進数ellll elo“の情報
は電流の向きを変えることで与える。また読み出しの時
は、ワード線、ビット線、センス線に電流を流す。今、
A、Bそれぞれのループに貯えられる磁束量子の数を%
、 nBとし、記憶回路の磁束の状態を(nA、nB)
であられす。2進数“1″の状態は(o、o)に対応さ
せ、′0”′の状態は(1,0)に対応させる。読み出
しの際には(0,0)から(0,1)の状態へループB
の磁束を変化させ、その変化を例えば2接合インター7
エロメターゲートなどでセンスする。この時ワード線、
ビット線の電流を切った時には再び(0,0)の状態へ
戻るように、また記憶回路が(1,0)の状態の時には
、ワード線、°ビット線に電流を流しても、その状態が
かわらないようにパラメータを決める。
従って非破壊読み出しの可能なランダムアクセスメモリ
を実現できる。
以下、本発明について実施例を示す図面を参照にして説
明する。
(実施例1) 第1図は第1の発明の詳細な説明するための図で、本発
明の回路図を示す。1,2はそれぞれ臨界電流値11.
工2のジョセフソン接合、3.4.5.6はそれぞれ第
1.第2.第3.第4の超伝導線路で電気的にはインダ
クタンス値LL L2. La、 L4のインダクタン
スとして表わす事ができる。7は読み出しのためのゲー
トで、2接合インターフェロメターゲートで前記第1.
憤2の超伝導線路3,4と電磁的に結合している。8は
前記第3.第4の超伝導線路5,6と電磁的に結合し、
ビット電流よりの流れるビット線、9はワード電流Iw
の流れるワード線、10はセンス電流Isの流れるセン
ス線である。11は適当な制動条件を与えるダンピング
抵抗である。ジョセフソン接合1と第1.第3゜第4の
超伝導線路3.5.6よりなるループAと、ジョセフソ
ン接合2と第1.第2の超伝導線路3,4よりなるルー
プBとビット線8とワード線9とから構成される記憶セ
ルのしきい値特性を第2図に示す。ただし、この時各パ
ラメータの値はLx;L2;Ls;Ls;= 1pH;
7pH;4pH;5pH,II;I2; = 0.2m
A;0.1mAとする横軸はビット電流Ib縦軸はワー
ド電流Iwを示す。ループA、ループBに貯えられる磁
束量子の数をnA、 nBとし、記憶セル内の磁束量子
の状態を(nA、 nB)であられす。ただし、穐、 
nBの正負はループA、Bの循環電流の向きに依存し、
今、時計回りを正とする。21.22.23はそれぞれ
(0,O)、 (1,0)、 (0,1)の状態の時の
しきい値曲線である。本記憶セルにはビット線8を通じ
て常」芋、直流電流を流しておく。その時の動作点はノ
′むには該記憶セルの磁束量子状態を(1,0)にする
即ち選択された記憶セルにワード線9よりワード電流i
wを注入する。同時にビット線8より直流電流に加えて
ビット電流ibを印加する。ただしiw、ibの大きさ
は 1iW1+ < iw < IIW2+       
(liwil = Hiw21)1ibl−ibol<
ib<l1b2−ibol   (Iibl−ibo1
=+−1ib2−ibol)に設定する。電流値iwL
 1w2+ ibL ib2+ iboの示す意味は第
2図に示されている。本記憶セルの磁束の状態が(0,
0)であった時には、ワード電流iw、ビット電流ib
が注入されることにより、その動作点は25へ移り(0
,0)のしきい値開線から(1,0)のしきい値曲線内
へはいる。従って本記憶セルの磁束の状態は(1,0)
となり0″が書き込まれる。一方、本記憶セルの磁束の
状態が(1,0)であった時には動作点は24から25
へ移動するが、いずれの点も(1,0)のしきい値曲線
内であり、磁束量子の状態の変化はない。続いてビット
電流ib、ワード電流iwを切ることにより動作点は2
4へ移り、その時の磁束量子の状態は(1,0)のまま
保持され、0″の書き込みが終了する。
次に2進数+1111の書き込みは上述したnonの書
き込みの説明の中で、iw、ibを一1Wl−1bに、
またiwl、1w2゜ibL ’b2+を1w3t 1
w41b3+ 1b4にまた動作点25を動作点26に
置き換え、さらに(0,0)と(1,0)を互いに置き
換える事により、全く同様に説明する事ができる。
該第1図のしきい値開線は3つの状態の場合を示しであ
るが、より詳しくは例えば(2,0)、 (0,2)な
どの状態も存在し、それらを計算すると、上述した動作
点25.26では複数の安定点が存在する事が明らかと
なった。しかし動作点24から蔀また24から26への
移動経路に対応する外部駆動電流値に対して等ポテンシ
ャル平面を計算した結果、(0,0)状態からは(LO
)状態への転移の(1,0)状態からは(0,0)状態
への転移の確率が最も大きいことが明らかとなった。こ
の転移をより確実にするようにダンピング抵抗11の値
を選ぶ事ができる。
記憶アレイ中の半選択のセルではビット電流、ワード電
流のうちいずれか一方のみしか印加されず動作点は第2
図中の28.29.30のいずれかに移動する。即ち第
2図中の斜線部より外に動作点が移動する事はなく、磁
束状態の変化はない。従ってワード電流あるいはビット
電流が切れるともとの安定状態に戻り、′0′′あるい
は′1″のあらたな書き込みは行われない。
本実施例の記憶回路における読み出しはセンス線10に
電流を流し、前記記憶セルの磁束状態の変化を読み出し
ゲート7により読み出す事で実現する。etl++状態
にある記憶セルにワード電流−1W、ビット電流ibを
それぞれ印加すると動作点は24から27へと移り磁束
転移が生じる。この時iw、 ibの大きさは liwaドiw< 11w41 1ibx −1bol < ib < +ib2−1b
ol     に設定する。
該動作点27では複数の安定点が存在するが、動作点2
4から27への移動経路に対応する外部駆動電流値に対
して等ポテンシャル平面を計算した結果、(0,0)状
態からは(0,1)状態への転移の確率が最も大きいこ
とが明らかとなった。この転移をより確実にするように
ダンピング抵抗11の値を選ぶことができる。記憶セル
が″′0″状態即ち(1,0)状態にあった時は、TI
状態と同様にワード電流、ビット電流を印加し、動作点
を動作点27に移動させても(LO)状態のしきい値開
線をこえる事はなく、(1,0)状態は変化しない。従
って町″状態ではループB内の磁束が変化しゞ゛0′′
0′′状態しない事になる。このループB内の磁束変化
を読み出し用のインターフェロメタ−により読み取る。
今、ジョセフソン接合2のオーダーパラメータの位相差
をθ、ループBに注入、注出される電流値をIa、超伝
導線5,6のインダクタンス値をLa、 Lbとすると
、それぞれの間には次のような関係が成り立つ。
φ。
La・Ia=(Lα+Lb)11□5tno+プただし
Φ。は自然定数で2.07mApHの値を持つ。第3図
(a)はIaとθとの関係を示す。また第3図(b)は
2接合インターフェロメタ−7のしきい値特性で2個の
接合の臨界電流値はそれぞれの0.1mA、 O−2m
A超伝導線路5,6と磁気結合するインダクタンスの値
は3゜45pHとする。図中溝軸は入力磁束Φlnq縦
軸はセンス電流Isである。前記記憶セルの動作点が、
第2図中に示された動作点24((1,0)状態の時)
、24((0,O)状態の時)27((0,O)状態の
時)、27((1,O)状態の時)、ジョセフソン接合
2の位相は、第3図(a)中に示される31.32.3
3.34の状態にある。この時、ループBに生じる磁束
はそれぞれ φ。  φ。  巾0 φ。
iolo−27L01 ’ −27L’2’ 2z’3
゜である。(ジョセフソン接合2の位相差の値θ1.θ
2゜θ3の示す意味は第3図(a)に示されている。)
さらにループBとセンスゲート7の結合係数を0.5と
仮定し、センス電流の大きさをiSに設定すると、第3
図(a)の動作点31.32.33.34に対応して2
接合インター7エロメター7の動作点は第3図(b)中
の35.36.37゜38の各点になる。即ち2進数″
″1″の時の読み出しにおいて、2接合インターフェロ
メタ−7の動作点は第3図(b)において36から37
へと移動し、該インターフェロメタ−は電圧状態に遷移
し、“1″が読み出される。また゛′0″状態の時には
2接合インターフェロメターの動作点は35から38へ
移動するだけで超伝導状態のままであり、91011が
読み出される。一方、読み出し終了の際、ワード線電流
、ビット線電流を切った場合を考える。(0,1)の状
態の動作点27から動作点24へ、動作点を移動した場
合、動作点24では複数の安定点が存在するが、動作点
27から24への移動経路に対応する外部駆動電流値に
対して等ポテンシャル平面を計算した結果(0,1)状
態から(1゜O)状態へ転移する確率が最も大きいこと
が明らかとなった。この転移をより確実にするようにダ
ンピング抵抗11の値を選ぶ事ができる。また(、1.
’0)状態の時には、動作点が27から24に移動して
も(1,0)状態に変化はない。このように読み出しが
終了した時にはもとの状態に復帰する事になり非破壊読
み・出しが実現できる。
本記憶回路において、パラメータの製作上のバラツキが
ないと仮定した場合、書き込みの時、ワード電流、ビッ
ト電流の動作マージンは第2図及び第3図より約±33
%となり、読み出しの時には、ワード電流、ビット電流
の動作マージンは約±33%、センス電流の動作マージ
ンは約±37%(ただしセンス電流の動作マージンはワ
ード電流、ビット電流の電流値を動作領域の中心値に固
定した場合)となる。
以上述べた通り、本発明のジョセフソン記憶回路により
、非破壊読み出しのランダム・アクセス・メモリが実現
できる。本記憶回路の記憶媒体は1個の磁束量子であり
、回路の高速化をはかることができる。さらに従来例に
比べ書き込み用の3接合インターフェロメターゲートが
不要となりチップの占有面積が著しく小さくなる。しか
も読み出し、書き込みのために流すワード電流、ビット
電流、センス電流等の間にタイミングを取る必要もなく
極めて2高遠のアクセスが可能である。さらに上述した
如〈従来例に比べ動作マージンの点で改善をはかる事が
できる。そのため設計、プロセスの許容範囲が大きくな
り高密度化、高集積化に向く。
(実施例2) 第4図は第2の発明の詳細な説明するための図である。
本実施例は、第1図に示された実施例におけるビット線
8を、第5の超伝導線路12とビット線8に置きかえた
ものである。本実施例では第1図に示された実施例で説
明したビット線に流す直流電流を第5の超伝導線路12
を通じて注入する。第4図に示す第5の超伝導線路12
とビット線8の他の構成要素は第1図に示されたものと
同一である。従って本実施例の第1.第2.第3.第4
の超伝導線路3.4.5゜6とジョセフソン接合1,2
とワード線9、ビット線8、第5の超伝導線路12より
構成される記憶セルのしきい値特性は、第2図と同様で
ある。第5の超伝導線路12に常時直流電流を加える。
その時、本記憶セルの動作点は第2図中24の点にある
。以下、2進数′°1′”0″の書き込み読み出しの動
作は、第1図に示された実施例と同一である。従って本
実施例は第1図に示された実施例と同様の効果を有する
さらに本実施例固有の効果として、本実施例では常時流
される直流電流がセル選択のためのビット線8と独立に
流されるので、ビット線を選択するデコーダの設計が容
易になるという効果がある。
(実施例3) 第5図は第3の発明の詳細な説明するための図である。
本実施例は第1図に示された実施例における読み出しゲ
ート7に電磁的に結合する第6の超伝導線路13を加え
たものである。第5図に示す、第6の超伝導線路13の
他の構成要素は第1図に示されたものと同一である。該
第6の超伝導線路には直流電流を常時流しておく。従っ
て第5図中の読み出しゲート7において、その動作点は
直流電流により誘起された磁束Φ。分だけシフトする事
になる。本実施例の書き込み、読み出しの動作は第1図
に示された実施例と読み出しゲート7の動作点ΦDCだ
けシフ□  トする事を除いて同一である。本実施例の
読み出しゲートのしきい値特性と、その動作点を第6図
に示す。第6図中の番号は第3図(b)中に示す番号と
同一の意味をもつ。本実施例は第1図に示された実施例
を同様の効果を有する。さらに本実施例固有の効果とし
て、第6図に示されるように読み出しの際、第6の超伝
導線路13に印加した直流電流により誘起された磁束Φ
DC分だけ動作点がシフトして、センス電流Isの動作
マージンが広がるという効果がある。
(実施例4) 第7図は第4の発明の詳細な説明するための図である。
本実施例は第1図に示された実施例におけiるビット線
8を、第7の超伝導線路14とビット線8に:置き換え
て、さらに読み出しゲート7に電磁的に結゛合する第8
の超伝導線路15を加えたものである。第:6図に示す
、第7.第8の超伝導線路14.15、ビット線8の他
の構成要素は第1図に示されたものと同一である。本実
施例では第1図に示された実施例で説明したビット線に
流す直流電流を第7の超伝導線路14を通じて注入し、
また該第8の超伝導線路15にも直流電流を常時流して
おく。従って第7図中の読み出しゲート7において、そ
の動作点は直流電流により誘起された磁束ΦDC分だけ
シフトすることになる。本実施例の第1.第2.第3.
第4の超伝導線路3,4゜5.6とジョセフソン接合1
,2とワード線9、ビット線8、第7の超伝導線路14
より構成される記憶セルのしきい値特性は、第2図と同
様である。第7の超伝導線路14に常時直流電流を加え
ることにより、本記憶セルの動作点は第2図中24の点
にある。
以下、本実施例の書き込み、読み出しの動作は第1図に
示された実施例と読み出しゲート7の動作点がΦDCだ
けシフトする事を除いて同一である。本実施例の読み出
しゲートのしきい値特性と、その動作点を第6図に示す
。第6図中の番号は第3図(b)中に示す番号と同一の
意味をもつ。本実施例は第1図に示された実施例を同様
の効果を有する。
さらに本実施例では常時流される直流電流がセル選択の
ためのビット線8と独立に流されるので、ビット線を選
択するデコーダの設計が容易になるという効果がある。
また第6図に示されるように読み出しの際、第8の超伝
導線路15に印加した直流電流により誘起された磁束Φ
DC分だけ動作点がシフトしてセンス電流Isの動作マ
ージンが広がるという効果がある。
(実施例5) 第8図は第5の発明の詳細な説明するための図゛である
。本実施例は第5図に示された実施例におけるビット線
8、第6の超伝導線路13を共通のビット線16で置き
換えたものである。第8図に示すビット線16の他の構
成要素は笹1図に示されたものと同一である。ビット線
にビット線電流を流した時、第8図の読み出しゲート7
において、その動作点はビット線電流により誘起された
磁束φbit分だけシフトする事になる。本実施例の書
き込み、読み出しの動作は第1図に示された実施例と、
読み出しゲート7の動作点がΦbitだけシフトする事
を除いて、同一である。本実施例の読み出しゲートのし
きい値特性と、その動作点は第6図に示されたΦDCを
φbitで置き換える事であられす事ができる。本実施
例は第1図に示された実施例と同様の効果を有する。さ
らに本実施例固有の効果として第6図に示されるように
読み出しの際、ビット線16に印加したビット線電流に
より誘起された磁束Φ晶分だけ動作点がシフトして、セ
ンス電流Isの動作マージンが広がるという効果がある
。さらに第5図に示された実施例に比べ、線路の数を一
本減らす事ができ、回路の簡素化を図る効果がある。
(実施例6) 第9図は第6の発明の詳細な説明するための図である。
本実施例は、第7図に示された第7の超伝導線路14と
第8の超伝導線路15を、共通の第9の超伝導線路17
で置き換えたものである。第7図に示す、第9の超伝導
線路17、ビット線8の他の構成要素は第1図に示され
たものと同一である。本実施例では第1図に示された実
施例で説明した、ビット線に流す直流電流を第9の超伝
導線路を通じて注入する。従って、第9図中の読み出し
ゲート7において、その動作点は直流電流により誘起さ
れた磁束ΦDCだけシフトする事になる。本実施例の第
1.第2゜第3.第4の超伝導線路3.4.5.6とジ
ョセフソン接合1゜2とワード線9.ビット線8.第5
の超伝導線路12より構成される記憶セルのしきい値特
性は、第2図と同様である。第5の超伝導線路12に常
時直流電流を加えることにより本記憶セルの動作点は第
2図中24の点にある。本実施例の書き込み、読み出し
の動作は第1図に示された実施例と読み出しゲート7の
動作点がΦDCだけシフトする事を除いて同一である。
本実施例の読み出しゲートのしきい値特性と、そ。
の動作点を第6図に示す。第6図中の番号は第3図(b
)中に示す番号と同一の意味をもつ。本実施例は第1図
に示された実施例と同様の効果を有する。さら・鴇来が
ある。また第6図に示されるように読み出しの際第9の
超伝導線路17に印加した直流電流により誘起された磁
束ΦDC分だけ動作点がシフトしてセンス電流Isの動
作マージンが広がるとε1う効果がある。さらに、第7
図に示された実施例に比べ超伝導線路の数が一本減り回
路の簡素化が図れる効果がある。
(発明の効果) 本発明のジョセフソン記憶回路により、非破壊読み出し
のランダム・アクセス・メモリが実現できる。本記憶回
路の記憶媒体は1個の磁束量子であり、回路の高速化は
かることができる。さらに従来例に比べ書き込み用の3
接合インターフェロメターゲートが不要となりチップの
占有面積が著しく小さくなる。しかも読み出し、書き込
みのために流すワード電流、ビット電流、センス電流等
の間にタイミングを取る必要もなく極めて高速のアクセ
スが可能である。さらに上述した如く、従来例に比べ動
作マージンの点で改讐をはかる事ができる。そのため設
計、プロセスのトレランスが大きくなり高密度化・高集
積化がはかれる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第4図、第5図、第7図、第8図、第9図はそ
れぞれジョセフソン記憶回路の第1.第2.第3.第4
.第5゜第6の実施例を説明するための回路図である。 第2図は、本発明の記憶セルのしきい値特性で、第3図
(a)は第1図に示すジョセフソン接合2の位相と、該
ジョセフソン接合と、超伝導線路3,4より構成される
ループに注入される電流との関係を示したもので、また
第3図(b)は読み取り用ゲートのしきい値特性で、い
ずれも第1の実施例を説明するためのものである。第6
図は、第3の実施例の読み取り用ゲートのし、きい値特
性である。第10図は本発明の詳細な説明するための回
路図で、第11図(a)、第12図(a)は従来例の中
の読み取り用の2接合インターフェロメターゲート及び
書き込み用の3接合インターフェロメターゲートの回路
図、また、第11図(b)、第12図(b)はそのしき
い値特性である。 図において、 1、2.81.82.91.92.93・・・ジョセフ
ソン接合3、4.5.6.12.13.14.15.1
7・・・第1.第2.第3.第4.第5゜第6.第7.
第8.第9の超伝導線路 7・・・読み出しゲート 8、16.76−・・ビット線    9,75・・・
ワード線77・・・補助のワード線   10.78−
・・センス線11、79・・・ダンピング抵抗 84.
96ゲート電流路85、97.98・・・入力線 83、94.95・・・インダクタンス24.25,2
6,27,28,29,30,31.sx、33,34
.35,36,37゜38・・・動作点 21、22.23・・・しきい値曲線を示す5、亭3の
超イ云II痣呂b  り、ワード駈駿半   2   
図 W 亭   3   図 (a) q、ワードギ撃 q、ワーFギ駿 q、ワードぞ緊 q、ワーF°課 3.芋1−避伝簿碌発 婆   10    図 フェロメq−ケート       ノエロメターゲート
多   11    図 (o) (b) 亭  12   口 (a) (b)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1の超伝導線路と、第1のジョセフソン接合を含
    む第2の超伝導線路とを接続して第1のループとなし、
    該第1のループと第3の超伝導線路を直列接続して直列
    線路となし、該直列線路と、第2のジョセフソン接合を
    含む第4の超伝導線路とを並列に接続して第2のループ
    となし、該第2のループの第1の接続点にはワード線電
    流の流入端子、また第2の接続点にはワード線電流の流
    出端子を設け、前記第3及び第4の超伝導線路と電磁的
    結合を生じるようにビット線を配置し、前記第1及び第
    2の超伝導線路の両者と、または前記第1の超伝導線路
    と電磁的結合を生じるように配置されたジョセフソン接
    合を用いたゲート回路を含む、センス線を設けた事を特
    徴とするジョセフソン記憶回路。 2、第1の超伝導線路と、第1のジョセフソン接合を含
    む第2の超伝導線路とを接続して第1のループとなし、
    該第1のループと第3の超伝導線路を直列接続して直列
    線路となし、該直列線路と、第2のジョセフソン接合を
    含む第4の超伝導線路と並列に接続して第2のループと
    なし、該第2のループの第1の接続点にはワード線電流
    の流入端子、また第2の接続点にはワード線電流の流出
    端子を設け、前記第3及び第4の超伝導線路と電磁的結
    合を生じるようにビット線及び第5の超伝導線路を配置
    し、前記第1及び第2の超伝導線路の両者と、または前
    記第1の超伝導線路と電磁的結合を生じるように配置さ
    れたジョセフソン接合を用いたゲート回路を含む、セン
    ス線を設けた事を特徴とするジョセフソン記憶回路。 3、第1の超伝導線路と、第1のジョセフソン接合を含
    む第2の超伝導線路とを接続して第1のループとなし、
    該第1のループと第3の超伝導線路を直列接続して直列
    線路となし、該直列線路と、第2のジョセフソン接合を
    含む第4の超伝導線路とを並列に接続して第2のループ
    となし、該第2のループの第1の接続点にはワード線電
    流の流入端子、また第2の接続点にはワード線電流の流
    出端子を設け、前記第3及び第4の超伝導線路と電磁的
    結合を生じるようにビット線を配置し、前記第1及び第
    2の超伝導線路の両者と、または前記第1の超伝導線路
    と電磁的結合を生じるように配置され、かつ、第6の超
    伝導線路と電磁的結合を生じるように配置されたジョセ
    フソン接合を用いたゲート回路を含む、センス線を設け
    た事を特徴とするジョセフソン記憶回路。 4、第1の超伝導線路と、第1のジョセフソン接合を含
    む第2の超伝導線路とを接続して第1のループとなし、
    該第1のループと第3の超伝導線路を直列接続して直列
    線路となし、該直列線路と、第2のジョセフソン接合を
    含む第4の超伝導線路とを並列に接続して第2のループ
    となし、該第2のループの第1の接続点にはワード線電
    流の流入端子、また第2の接続点にはワード線電流の流
    出端子を設け、前記第3及び第4の超伝導線路と電磁的
    結合を生じるようにビット線及び第7の超伝導線路を配
    置し、前記第1及び第2の超伝導線路の両者と、または
    前記第1の超伝導線路と電磁的結合を生じるように配置
    され、かつ第8の超伝導線路と電磁的結合を生じるよう
    に配置されたジョセフソン接合を用いたゲート回路を含
    む、センス線を設けた事を特徴とするジョセフソン記憶
    回路。 5、第1の超伝導線路と、第1のジョセフソン接合を含
    む第2の超伝導線路とを接続して第1のループとなし、
    該第1のループと第3の超伝導線路を直列接続して直列
    線路となし、該直列線路と、第2のジョセフソン接合を
    含む第4の超伝導線路とを並列に接続して第2のループ
    となし、該第2のループの第1の接続点にはワード線電
    流の流入端子、また第ようにビット線を配置し、前記第
    1及び第2の超伝導線路の両者と、または前記第1の超
    伝導線路と電磁的結合を生じるように配置され、かつ前
    記ビット線と電磁的結合を生じるように配置されたジョ
    セフソン接合を用いたゲート回路を含む、センス線を設
    けた事を特徴とするジョセフソン記憶回路。 6、第1の超伝導線路と、第1のジョセフソン接合を含
    む第2の超伝導線路とを接続して第1のループとなし、
    該第1のループと第3の超伝導線路を直列接続して直列
    線路となし、該直列線路と、第2のジョセフソン接合を
    含む第4の超伝導線路とを並列に接続して第2のループ
    となし、該第2のループの第1の接続点にはワード線電
    流の流入端子、また第2の接続点にはワード線電流の流
    出端子を設け、前記第3及び第4の超伝導線路と電磁的
    結合を生じるようにビット線及び第9の超伝導線路を配
    置し、前記第1及び第2の超伝導線路の両者と、または
    前記第1の超伝導線路と電磁的結合を生じるように配置
    され、かつ前記ビット線もしくは第5の超伝導線路と電
    磁的結合を生じるように配置されたジョセフソン接合を
    用いたゲート回路を含む、センス線を設けた事を特徴と
    するジョセフソン記憶回路。
JP60172519A 1985-08-07 1985-08-07 ジョセフソン記憶回路 Granted JPS6233395A (ja)

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JPH0413799B2 JPH0413799B2 (ja) 1992-03-10

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007027636A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Nec Corp 超伝導記憶セル

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007027636A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Nec Corp 超伝導記憶セル

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