JPS6232573B2 - - Google Patents
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- JPS6232573B2 JPS6232573B2 JP55097441A JP9744180A JPS6232573B2 JP S6232573 B2 JPS6232573 B2 JP S6232573B2 JP 55097441 A JP55097441 A JP 55097441A JP 9744180 A JP9744180 A JP 9744180A JP S6232573 B2 JPS6232573 B2 JP S6232573B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
- H01J35/108—Substrates for and bonding of emissive target, e.g. composite structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/08—Targets (anodes) and X-ray converters
- H01J2235/083—Bonding or fixing with the support or substrate
- H01J2235/084—Target-substrate interlayers or structures, e.g. to control or prevent diffusion or improve adhesion
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は炭素製の支持部と、重金属製のターゲ
ツト層と、数個の個別の副層により構成したレニ
ウムを含有する中間層とを設け、この中間層を前
記支持部と前記ターゲツト層との間に配置したX
線管用回転陽極に関するものである。
ツト層と、数個の個別の副層により構成したレニ
ウムを含有する中間層とを設け、この中間層を前
記支持部と前記ターゲツト層との間に配置したX
線管用回転陽極に関するものである。
回転陽極の支持部は例えば黒鉛、特に電気黒
鉛、または熱分解黒鉛、またはドイツ国特許公開
第2453204号および第2648900号に記載されている
ように発泡炭素により構成する。代案としてこれ
らの物質、例えば電気黒鉛または熱分解黒鉛の代
替元素により構成することもできる。
鉛、または熱分解黒鉛、またはドイツ国特許公開
第2453204号および第2648900号に記載されている
ように発泡炭素により構成する。代案としてこれ
らの物質、例えば電気黒鉛または熱分解黒鉛の代
替元素により構成することもできる。
文献によつてターゲツト層は電子衝撃領域、X
線活性層、対陰極層、またはシリコン電極層とも
称される。このターゲツト層は例えばタングステ
ン、モリブデン、タンタル、またはこれらの金属
間の合金あるいはこれらの金属とレニウムとの合
金により構成する。
線活性層、対陰極層、またはシリコン電極層とも
称される。このターゲツト層は例えばタングステ
ン、モリブデン、タンタル、またはこれらの金属
間の合金あるいはこれらの金属とレニウムとの合
金により構成する。
AT―PS第281215号にはレニウム中間層を黒鉛
支持部とタングステン製またはタングステン合金
製のターゲツト層との間に配置した回転陽極につ
いて記載されている。タングステン合金は例えば
タングステン―オスミウムまたはタングステン―
イリジウム合金とすることができる。黒鉛のター
ゲツト層への拡散は中間層によつてほとんど完全
に阻止することができる。しかし研究によつて
1500K以上の場合所要の拡散阻止効果が十分長い
間得られるのはレニウム中間層の厚さが数十μm
のときのみであることがわかつた。しかしこのよ
うな層は極めて高価である。
支持部とタングステン製またはタングステン合金
製のターゲツト層との間に配置した回転陽極につ
いて記載されている。タングステン合金は例えば
タングステン―オスミウムまたはタングステン―
イリジウム合金とすることができる。黒鉛のター
ゲツト層への拡散は中間層によつてほとんど完全
に阻止することができる。しかし研究によつて
1500K以上の場合所要の拡散阻止効果が十分長い
間得られるのはレニウム中間層の厚さが数十μm
のときのみであることがわかつた。しかしこのよ
うな層は極めて高価である。
ドイツ国特許公開第2748566号に記載の回転陽
極においてはレニウムおよびモリブデンを含有す
る中間層を黒鉛製の支持部とタングステン製また
はタングステン合金製のターゲツト層との間に介
在させている。この中間層を2個の副層、即ち支
持部に接触し、多量のレニウム、例えば重量の60
〜90%をレニウムとするレニウム含有副層と、タ
ーゲツト層に接触し、多量のモリブデンを含有す
る副層とにより構成する。モリブデン含有の中間
層は極めて良好な粘着性を有する。しかし、
1500K以上の温度ではモリブデンは支持部の黒鉛
と化合して熱伝導性のあまり良くない炭化モリブ
デンを形成し、また更に例えばタングステンによ
り構成したターゲツト層と黒鉛製支持部との接着
力に影響し、長時間にわたり電子ビームの衝撃を
与えるとターゲツト層は支持部から完全に解離し
てしまう。
極においてはレニウムおよびモリブデンを含有す
る中間層を黒鉛製の支持部とタングステン製また
はタングステン合金製のターゲツト層との間に介
在させている。この中間層を2個の副層、即ち支
持部に接触し、多量のレニウム、例えば重量の60
〜90%をレニウムとするレニウム含有副層と、タ
ーゲツト層に接触し、多量のモリブデンを含有す
る副層とにより構成する。モリブデン含有の中間
層は極めて良好な粘着性を有する。しかし、
1500K以上の温度ではモリブデンは支持部の黒鉛
と化合して熱伝導性のあまり良くない炭化モリブ
デンを形成し、また更に例えばタングステンによ
り構成したターゲツト層と黒鉛製支持部との接着
力に影響し、長時間にわたり電子ビームの衝撃を
与えるとターゲツト層は支持部から完全に解離し
てしまう。
本発明の目的はターゲツト層の下部に炭素の拡
散を阻止する遮蔽層を設け、この遮蔽層の金属の
熱伝導特性がよく、1500K以上の温度でも炭素が
ターゲツト層に貫入するのを適切に阻止すること
ができるX線管用回転陽極を得るにある。
散を阻止する遮蔽層を設け、この遮蔽層の金属の
熱伝導特性がよく、1500K以上の温度でも炭素が
ターゲツト層に貫入するのを適切に阻止すること
ができるX線管用回転陽極を得るにある。
この目的を達成するため本発明は前記支持部に
接触する中間層の副層ならびに前記ターゲツト層
に接触する中間層の副層をそれぞれ純粋のレニウ
ムにより形成し、また更に少なくとも1種類の炭
化物形成金属を含有するレニウム合金製の副層を
前記2個の副層間に介在させることを特徴とす
る。
接触する中間層の副層ならびに前記ターゲツト層
に接触する中間層の副層をそれぞれ純粋のレニウ
ムにより形成し、また更に少なくとも1種類の炭
化物形成金属を含有するレニウム合金製の副層を
前記2個の副層間に介在させることを特徴とす
る。
レニウム合金には合計して1〜25モル%の炭化
物形成金属を含有させるとよい。
物形成金属を含有させるとよい。
炭化物形成金属としてはニツケルおよび鉄(ド
イツ国特許第896234号参照)とともに例えばチタ
ニウム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
ム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タ
ングステン、および希土類金属(米国特許第
2979813号参照)がある。
イツ国特許第896234号参照)とともに例えばチタ
ニウム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
ム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タ
ングステン、および希土類金属(米国特許第
2979813号参照)がある。
好適なレニウム合金としては1〜25モル%のタ
ングステン、または1〜5モル%のタンタルまた
は1〜3モル%のハフニウムを含有するレニウム
合金がある。
ングステン、または1〜5モル%のタンタルまた
は1〜3モル%のハフニウムを含有するレニウム
合金がある。
支持部に接触する純粋のレニウムによる副層の
厚さを1〜5μm、特に4μmとするとよい。レ
ニウム合金製の副層の厚さは1〜5μm、特に4
μmとするとよい。ターゲツト層に接触する純粋
のレニウム製の副層の厚さは1〜3μm、特に2
μmとするとよい。
厚さを1〜5μm、特に4μmとするとよい。レ
ニウム合金製の副層の厚さは1〜5μm、特に4
μmとするとよい。ターゲツト層に接触する純粋
のレニウム製の副層の厚さは1〜3μm、特に2
μmとするとよい。
中間層の個別の副層は例えばガス相から蒸着し
て形成する。純粋のレニウム副層はハロゲン化レ
ニウムを水素により還元することにより形成する
とよい。レニウム合金製の副層を蒸着するときハ
ロゲン化レニウムと所要の金属のハロゲン化物と
のガス状混合物を水素で還元する。
て形成する。純粋のレニウム副層はハロゲン化レ
ニウムを水素により還元することにより形成する
とよい。レニウム合金製の副層を蒸着するときハ
ロゲン化レニウムと所要の金属のハロゲン化物と
のガス状混合物を水素で還元する。
本発明による多層構造によれば中間層の温度が
1500K以下のとき(回転陽極では負荷期間の約80
%がこの状態)、支持部に接触する純粋レニウム
副層の拡散阻止効果は十分であり、炭素原子が中
間層を通過して拡散するのを防止する。1500K以
上の温度(即ち負荷期間の約20%にわたる)では
上述の副層を経て拡散する炭素原子は炭化物形成
金属により引き止められる。中間層の合金副層中
の炭化物形成金属の濃度が低いためこの層におい
て炭化物が形成されても熱伝導性または粘着性に
も悪影響を与えない。最後にターゲツト層層に隣
接するレニウム副層により中間層の炭化物とター
ゲツト層の金属、例えばタングステンとの間の炭
素転移の防止を極めて良好に確実に行う。
1500K以下のとき(回転陽極では負荷期間の約80
%がこの状態)、支持部に接触する純粋レニウム
副層の拡散阻止効果は十分であり、炭素原子が中
間層を通過して拡散するのを防止する。1500K以
上の温度(即ち負荷期間の約20%にわたる)では
上述の副層を経て拡散する炭素原子は炭化物形成
金属により引き止められる。中間層の合金副層中
の炭化物形成金属の濃度が低いためこの層におい
て炭化物が形成されても熱伝導性または粘着性に
も悪影響を与えない。最後にターゲツト層層に隣
接するレニウム副層により中間層の炭化物とター
ゲツト層の金属、例えばタングステンとの間の炭
素転移の防止を極めて良好に確実に行う。
拡散遮蔽層として作用し、両外側に純粋のレニ
ウム製の副層を有する中間層を具える本発明によ
る構造によればレニウム中間層の既知の良好な機
械的特性を維持することができる。多副層による
中間層の効率は副層の中間部において徐々に炭化
物が形成されて平均拡散係数が減少する点で更に
一層向上し、従つて陽極の有効寿命が伸びる。
ウム製の副層を有する中間層を具える本発明によ
る構造によればレニウム中間層の既知の良好な機
械的特性を維持することができる。多副層による
中間層の効率は副層の中間部において徐々に炭化
物が形成されて平均拡散係数が減少する点で更に
一層向上し、従つて陽極の有効寿命が伸びる。
図面につき本発明の実施例を説明する。
支持部1を電気黒鉛により構成する。金属副層
2〜5を回転陽極の支持部の面取領域にガス相か
ら蒸着させる。レニウム副層2を5μmの厚さと
する。5モル%のタンタルを混合したレニウムに
より形成した副層3の厚さを4μmとする。純粋
のレニウムにより形成した副層4の厚さを2μm
とし、タングステンにより形成したターゲツト層
5の厚さを200μmとする。
2〜5を回転陽極の支持部の面取領域にガス相か
ら蒸着させる。レニウム副層2を5μmの厚さと
する。5モル%のタンタルを混合したレニウムに
より形成した副層3の厚さを4μmとする。純粋
のレニウムにより形成した副層4の厚さを2μm
とし、タングステンにより形成したターゲツト層
5の厚さを200μmとする。
第1図は回転陽極の縦断面図、第2図は拡散遮
蔽部材として使用する順次の副層の拡大部分断面
図である。 1…支持部、2,3,4,5…金属副層。
蔽部材として使用する順次の副層の拡大部分断面
図である。 1…支持部、2,3,4,5…金属副層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 炭素製の支持部と、重金属製のターゲツト層
と、数個の個別の副層により構成したレニウムを
含有する中間層とを設け、この中間層を前記支持
部と前記ターゲツト層との間に配置したX線管用
回転陽極において、前記支持部1に接触する中間
層の副層2ならびに前記ターゲツト層5に接触す
る中間層の副層4をそれぞれ純粋のレニウムによ
り形成し、また更に少なくとも1種類の炭化物形
成金属を含有するレニウム合金製の副層3を前記
2個の副層間に介在させることを特徴とするX線
管用回転陽極。 2 前記副層3を構成する合金に合計して1〜25
モル%の炭化物形成金属を含有させることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載のX線管用回
転陽極。 3 前記副層3を構成する合金に1〜25モル%の
タングステン、または1〜5モル%のタンタル、
または1〜3モル%のハフニウムを含有させるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載のX
線管用回転陽極。 4 前記支持部1に接触する純粋のレニウムによ
り形成した前記副層2の厚さを1〜5μmとする
ことを特徴とする特許請求の範囲第1ないし3項
のうちのいずれか一項に記載のX線管用回転陽
極。 5 前記レニウム合金製の副層3の厚さを1〜5
μmとすることを特徴とする特許請求の範囲第1
ないし4項のうちのいずれか一項に記載のX線管
用回転陽極。 6 前記ターゲツト層5に接触する純粋のレニウ
ムにより形成した前記副層4の厚さを1〜3μm
とすることを特徴とする特許請求の範囲第1ない
し5項のうちのいずれか一項に記載のX線管用回
転陽極。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19792929136 DE2929136A1 (de) | 1979-07-19 | 1979-07-19 | Drehanode fuer roentgenroehren |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5618356A JPS5618356A (en) | 1981-02-21 |
JPS6232573B2 true JPS6232573B2 (ja) | 1987-07-15 |
Family
ID=6076091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9744180A Granted JPS5618356A (en) | 1979-07-19 | 1980-07-16 | Xxray tube rotary anode |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4352041A (ja) |
EP (1) | EP0023065B1 (ja) |
JP (1) | JPS5618356A (ja) |
AT (1) | ATE3600T1 (ja) |
DE (2) | DE2929136A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0037956B1 (en) * | 1980-04-11 | 1984-02-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | A rotary anode for an x-ray tube and a method for manufacturing the same |
NL8101697A (nl) * | 1981-04-07 | 1982-11-01 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een anode en zo verkregen anode. |
AT376064B (de) * | 1982-02-18 | 1984-10-10 | Plansee Metallwerk | Roentgenroehren-drehanode |
JPS598252A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-17 | Hitachi Ltd | X線管用回転ターゲットの製造法 |
US4573185A (en) * | 1984-06-27 | 1986-02-25 | General Electric Company | X-Ray tube with low off-focal spot radiation |
US4641334A (en) * | 1985-02-15 | 1987-02-03 | General Electric Company | Composite rotary anode for X-ray tube and process for preparing the composite |
US4700882A (en) * | 1985-02-15 | 1987-10-20 | General Electric Company | Composite rotary anode for X-ray tube and process for preparing the composite |
FR2593324B1 (fr) * | 1986-01-17 | 1988-03-25 | Thomson Cgr | Anode tournante avec graphite pour tube radiogene |
US4978051A (en) * | 1986-12-31 | 1990-12-18 | General Electric Co. | X-ray tube target |
JPH0731993B2 (ja) * | 1987-03-18 | 1995-04-10 | 株式会社日立製作所 | X線管用ターゲット及びそれを用いたx線管 |
AT392760B (de) * | 1989-05-26 | 1991-06-10 | Plansee Metallwerk | Verbundkoerper aus graphit und hochschmelzendem metall |
FR2655191A1 (fr) * | 1989-11-28 | 1991-05-31 | Genral Electric Cgr Sa | Anode pour tube a rayons x. |
US5204891A (en) * | 1991-10-30 | 1993-04-20 | General Electric Company | Focal track structures for X-ray anodes and method of preparation thereof |
US5148463A (en) * | 1991-11-04 | 1992-09-15 | General Electric Company | Adherent focal track structures for X-ray target anodes having diffusion barrier film therein and method of preparation thereof |
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